JP2003288998A

JP2003288998A - 極端紫外光源

Info

Publication number: JP2003288998A
Application number: JP2002087925A
Authority: JP
Inventors: Mitsuru Ikeuchi; 満池内
Original assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Current assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Priority date: 2002-03-27
Filing date: 2002-03-27
Publication date: 2003-10-10
Also published as: US20030183787A1; US6677600B2

Abstract

(57)【要約】【課題】デブリの発生を抑え、大出力の極端紫外光を
放射することができる極端紫外光源を提供すること。【解決手段】高圧側電極の貫通孔１１１、絶縁板２２
の貫通孔２２１、接地側電極の貫通孔１２１はすべて共
通の軸上（放電軸ｃ）になるように配置されている。キ
ャピラリ構造体２１は円板状で、その円周に沿って等間
隔にキャピラリ２１１を複数有する。キャピラリ構造体
２１は回転駆動され、ある一つのキャピラリ２１１が放
電軸ｃ上に位置したときに高圧側電極１１と接地側電極
１２との間にパルス電圧を印加する。空間Ｓａから作動
ガスが貫通孔１１１，２２１，１２１，キャピラリ２１
１に供給されており、上記パルス電圧によりガス放電が
生じ、高温プラズマが形成される。これにより極端紫外
光が発生し、発生した極端紫外光は接地側電極１２の貫
通孔１２１を通って、空間Ｓｂへ放出される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光用装置
の光源に利用される極端紫外光源に関する。

【０００２】

【従来の技術】微細なパターンを有する半導体集積回路
などを製造する方法として縮小露光装置がある。従来か
ら、Ｘ線縮小露光装置が用いられており、例えば、特開
平９−１１５８１３号公報には、Ｘ線発生装置を用いた
露光装置が開示されている。上記露光装置は、Ｘ線発生
源、照明光学系、マスク、ウエハ等の全体を真空容器に
収納して真空に保ち、Ｘ線発生源から回路パターンが形
成されたマスクにＸ線を照射して、マスクの像をウエハ
に縮小投影し、その表面のレジストを露光してパターン
を転写するものである。近年の半導体集積回路の微細化
に伴ない、より短波長の光が必要とされており、光源と
して、ＫｒＦレーザー（２４８ｎｍ）からＡｒＦレーザ
ー（１９３ｎｍ）と短波長光源の開発がなされている。
そして、Ｓｉデバイスの最後のリソグラフィといわれる
５０ｎｍ技術のＥＵＶリソグラフィの技術が開発されて
いる。

【０００３】このＥＵＶリソグラフィに用いられる光源
としては、波長が１０〜１３ｎｍ程度の極端紫外光を放
射するものである。このような、波長が１０ｎｍ〜１３
ｎｍ程度の極端紫外光を発生させる方式の一つとして、
放電プラズマを利用したものが知られている。その一つ
として、特開２００１−４２０９８号公報にはプラズマ
フォーカス式の極端紫外光源が記載されており、また、
他の技術として米国特許第６１８８０７６号明細書、Ｗ
Ｏ０１／９７５７５明細書にはキャピラリ放電を利用し
た極端紫外光源が開示されている。これらはいずれも、
放電によって高温高密度のプラズマを生成することによ
って極端紫外光を発生させるものである。

【０００４】上記極端紫外光源を用いた半導体露光装置
は、図６の概略図に示すように、キャピラリ放電等を利
用した極端紫外光源１、反射面に多層膜が設けられた集
光鏡２、反射型マスク３、投影光学系４、ウエハ５等を
真空容器中に収納したものであり、極端紫外光源１から
放出される極端紫外光を集光鏡２で集光して、反射型マ
スク３に照射し、マスク３の反射光を投影光学系４を介
して、ウエハ５の表面に縮小投影する。

【０００５】図７は上記キャピラリ放電を利用した従来
の極端紫外光源の構成例を示す図であり、同図は極端紫
外光源から放出される極端紫外光の光軸を通る平面で切
った断面図を示している。同図に示すように、例えばタ
ングステン製の第１の電極１１（高圧側電極）第２の電
極（接地側電極）１２の間に、キャピラリー構造体２１
が設けられる。キャピラリ構造体２１は例えば窒化ケイ
素からなる円柱状の絶縁体であり、中心に直径３ｍｍの
キャピラリ２１１を有する。第１，２の電極１１，１２
には、電気導入線３１，３２を介して電源（図示せず）
が電気的に接続され、該電源から第１、第２の電極１
１，１２間にパルス的に高電圧が印加される。第２の電
極は、通常接地され、第１の電極にパルス的に例えば負
の高電圧を印加する。以下では、第１の電極を高圧側電
極、第２の電極を接地側電極という。上記高圧側電極、
接地側電極１１，１２は、それぞれ貫通孔１１１，１２
１を備え、これらの貫通孔１１１，１２１と、前記キャ
ピラリ構造体２１のキャピラリ２１１は同軸上に配置さ
れ連通している。

【０００６】上記接地側電極１１には絶縁板７３に取り
付けられ、絶縁板７３は仕切り円筒７１に固定され、さ
らに仕切り円筒７１は底板７２に固定されており、接地
側電極１１および絶縁板７３、仕切り円筒７１、底板７
２により閉空間Ｓａを構成する。上記底板７２には、上
記電気導入線３１，３２が貫通する貫通孔、および上記
閉空間Ｓａにガスを導入するガス導入口４１、排気口４
２が設けられ、ガス導入口４１から作動ガス、例えばキ
セノン（Ｘｅ）ガスを導入し、排気口４２から排出する
ことにより、上記閉空間Ｓａ内の圧力が適当な値になる
ように制御される。また、上記底板７２は、外囲円筒８
１と気密に接合され、外部と遮断した空間Ｓｂを形成し
ている。外囲円筒８１には排気口８２が設けられる。空
間Ｓａ内の作動ガスは、電極１１，１２に形成された貫
通孔１１１，１２１、キャピラリ２１１を介して空間Ｓ
ｂに流出し、上記排気口８２から排気される。上記排気
口８２からの排気量を充分に大きくすることにより、空
間Ｓｂ内は高真空状態に保たれる。

【０００７】図７において、上記貫通孔１１１，１２
１、キャピラリ２１１に作動ガスを流しながら、接地側
電極１１、高圧側電極１２にパルス的に高電圧を印加す
ると、キャピラリ２１１内部でガス放電が生じ、高温プ
ラズマが形成される。これにより、波長が１０〜１３ｎ
ｍの極端紫外光が発生し、この極端紫外光は、真空に保
持された空間Ｓｂへ放射される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】極端紫外光源は、上記
のようにパルス的に印加される高電圧により生ずるガス
放電により極端紫外光を発生するものであり、１回のパ
ルスあたりの電気入力エネルギーを１０Ｊとすると、１
秒間に１０００回（１０００Ｈｚ）パルスを印加する
と、１００００Ｗになる。つまり、極端紫外光源から放
射される光のパワーを大きくするには、１回のパルスあ
たりの電気入力エネルギーを大きくするか、単位時間あ
たりのパルス回数を大きくする必要がある。そして、光
源から放射される極端紫外光のパワーが大きいほど、露
光工程のスループットを向上させるのに有利になる。

【０００９】上記のように、極端紫外光源から放射され
る光のパワーを大きくするには、１回のパルスあたりの
電気入力エネルギーを大きくするか、単位時間あたりの
パルス回数を大きくする必要があるが、どちらを採用し
たとしても、それに伴なって、図７に示した極端紫外光
源を構成する高圧側電極１１、接地側電極１２、キャピ
ラリ構造体２１の温度が上昇してしまう。この結果、最
も高温となる放電プラズマの中心に対向するキャピラリ
構造体２１の温度が異常に高くなり、キャピラリ構造体
２１の表面が蒸発し、有害塵（以下、デブリと記す）が
発生することになる。発生したデブリは極端紫外光の透
過を妨げたり、露光光学系の反射ミラーの表面に堆積し
てその反射率を低下させるなど、露光装置のパフォーマ
ンスの低下、あるいは信頼性の低下といった悪影響をも
たらす。なお、高圧側電極１１、接地側電極１２は例え
ばタングステン製であり、容易に蒸発するものではない
が、極めて高い温度に上昇すると、キャピラリ構造体２
１と同様に、蒸発が起こりデブリが発生することとな
る。本発明は上記従来技術の問題点を解決するためにな
されたものであって、本発明の目的は、デブリの発生を
抑え、大出力の極端紫外光を放射することができる極端
紫外光源を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明においては、上記
課題を次のようにして解決する。（１）絶縁体を挟むように第１、第２の電極が配置さ
れ、絶縁体と第１、第２の電極には、それぞれ貫通孔が
設けられ、該貫通孔に発光ガスを流入させ、上記第１、
第２の電極にパルス電圧を印加して、上記貫通孔内で発
生した極端紫外光を、上記第２の電極側から放射させる
極端紫外光源において、少なくとも前記絶縁体を移動可
能に構成し、前記絶縁体に複数の貫通孔を設ける。そし
て、前記第１、第２の電極の貫通孔および絶縁体の貫通
孔が同軸上に配置されたとき、上記第１、第２の電極に
パルス電圧を印加する。（２）上記（１）において、上記絶縁体を円板状とし、
該絶縁体に、一点を中心に同一円状に貫通孔を複数設け
る。そして、上記絶縁体を一点を中心に回転移動させ
る。（３）上記（１）（２）において、第１の電極と絶縁体
を一体的に構成し、第１の電極に上記絶縁体に設けられ
た複数の貫通孔と連通する複数の貫通孔を設ける。そし
て、一体的に構成された第１の電極と絶縁体の内部に冷
却体が流れる空間が形成し、冷却体を流すことにより冷
却する。本発明においては、上記のように、少なくとも
前記絶縁体を移動可能に構成し、前記絶縁体に複数の貫
通孔を設け、第１、第２の電極の貫通孔および絶縁体の
貫通孔が同軸上に配置されたとき、上記第１、第２の電
極にパルス電圧を印加するようにしたので、上記絶縁体
の貫通孔一つ当たりが受ける熱負荷を低減させることが
でき、上記絶縁体の温度上昇を抑えてデブリの発生を低
下させることができる。このため、極端紫外光源あるい
は露光装置の寿命信頼性を向上させることができる。ま
た、上記に比べ寿命信頼性が多少低下してもよいのであ
れば、その分だけ１パルス当たりの入力エネルギーを増
やしたり、繰り返し周波数を上げることができ、見かけ
上の極端紫外光の出力を増大させることができる。ま
た、第１の電極と絶縁体を一体的に構成し、一体的に構
成された第１の電極と絶縁体の内部に冷却体が流れる空
間が形成して、第１の電極と絶縁体を冷却することによ
り、一層、絶縁体の温度上昇を抑えてデブリの発生を低
下させることができ、極端紫外光源あるいは露光装置の
寿命信頼性をさらに向上させることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例の極
端紫外光源を示す図であり、同図は極端紫外光源から放
出される極端紫外光の光軸を通る平面で切った断面図を
示す。また、図２は図１のＡ−Ａ’断面図である。図
１、図２において、１１は高圧側電極、１２は接地側電
極、２１は絶縁体であるキャピラリ構造体、２２は絶縁
板である。高圧側電極１１、接地側電極１２は、前記し
たように、電気導入線３１および電気導入線３２によっ
て図示しない電源と電気的に接続され、パルス的に電圧
が印加される。本実施例のキャピラリ構造体２１は図２
に示すように円板状で、一体構造の中心軸５２を有し、
中心軸５２は軸受け６１によって回転自在に保持されて
いる。高圧側電極１１は例えば直径５０ｍｍの円板状
で、タングステンからなり中心部に直径３．５ｍｍの貫
通孔１１１を有する。なお、電極１１の材質としてはタ
ンタルを用いても良い。

【００１２】キャピラリ構造体２１は例えば直径３００
ｍｍの円板状で、窒化ケイ素からなり、その円周に沿っ
て等間隔に直径３ｍｍのキャピラリ２１１を複数有す
る。キャピラリ構造体２１の材質としては、窒化アルミ
ニウムやダイヤモンドを用いても良い。接地側電極１２
は例えば直径６０ｍｍの円板状で、タングステンからな
り、中心部に貫通孔１２１を有する。なお、電極１２の
材質としてはタンタルを用いても良い。絶縁板２２は例
えば直径４００ｍｍで、アルミナ等からなり、直径４ｍ
ｍの貫通孔２２１を有する。高圧側電極の貫通孔１１
１、絶縁板２２の貫通孔２２１、接地側電極の貫通孔１
２１はすべて共通の軸上になるように配置され、固定さ
れている。この共通の軸を以下、放電軸ｃと言う。

【００１３】絶縁板２２は仕切り円筒７１に固定され、
仕切り円筒７１が底板７２に固定されることにより、底
板７２、仕切り円筒７１および絶縁板２２によって一つ
の空間Ｓａが形成される。また、底板７２は外囲円筒８
１と気密に接合され、外部と遮断された空間Ｓｂが外囲
円筒８１の内部に形成される。外囲円筒８１には前記し
たように排気口８２が設けられ、排気口８２から空間Ｓ
ｂ内のガスを高速に排気することにより、空間Ｓｂは高
真空状態に保たれる。空間Ｓａおよび空間Ｓｂを予め排
気した後、空間Ｓａにガス導入口４１から放電に必要な
作動ガス、本実施例ではキセノンが導入される。ガス排
出孔４２からはガスが排気できるようになっており、空
間Ｓａ内の圧力は放電に適当な圧力、例えば数１０Ｐａ
になるように制御される。これは、ガス導入の流量を制
御するなどの周知の方法で可能である。

【００１４】キャピラリ構造体２１は中心軸５２に連結
されたモータ（図示せず）によって回転駆動される。キ
ャピラリ構造体２１の回転に伴って、複数個設けられて
いるキャピラリ２１１が順次、放電軸ｃ上にくるように
配置される。ある一つのキャピラリ２１１が放電軸ｃ上
に位置したときに高圧側電極１１と接地側電極１２との
間に電圧をパルス的に印加することにより、キャピラリ
２１１および絶縁板２２の貫通孔２２１の内部でガス放
電が生じ、高温プラズマが形成されることによって、前
記したように１０〜１３ｎｍの極端紫外光が発生し、１
回の放電が終了する。そして、キャピラリ構造体２１の
回転に伴って次のキャピラリ２１１が放電軸ｃ上に位置
したときに再び、電圧パルスを印加して極端紫外光を発
生させる。発生した極端紫外光は接地側電極１２の貫通
孔１２１を通って、空間Ｓｂへ放出される。また、接地
側電極貫通孔１２１から空間Ｓｂへ漏れてきた作動ガス
は、前記したように、排気口８２から高速に排気される
ため、空間Ｓｂは極端紫外光の透過に支障のない高真空
状態に維持される。

【００１５】ここで、例えば、キャピラリ２１１の個数
を１００ケ、キャピラリ構造体２１の回転速度を毎秒１
０回転とすれば、繰り返し周波数１０００Ｈｚとなり、
１秒間に１０００回パルスを印加することなり、１パル
スあたりの電気入力エネルギーを１０Ｊとすると、全体
では１０Ｊ×１０００Ｈｚ＝１００００Ｗのパワーが入
力されることになる。従来のように一つのキャピラリに
これだけのパワーを入力すると、具体的には、一つのキ
ャピラリで１秒間に１０００回パルスを打つと、キャピ
ラリ構造体２１や高圧側電極１１、接地側電極１２に熱
負荷がかかりデブリが発生し、光源あるいは露光装置の
寿命信頼性がかなり低下してしまう。しかし、本実施例
の場合、キャピラリ２１１を１００個有するのでキャピ
ラリ２１１一つ当たりが受け持つ入力パワーは１０Ｊ×
１０Ｈｚ＝１００Ｗですみ、具体的には、一つのキャピ
ラリで１秒間に１０回パルスを印加することになり、従
来と比べキャピラリ構造体２１や高圧側電極１１、接地
側電極１２の熱負荷を低減させることができる。逆に、
同じ寿命信頼性で良いのであれば、１パルスあたりの入
力エネルギーを増やしたり、繰り返し周波数を上げるこ
とによって、見かけの極端紫外光の出力を従来よりも大
きくし、光源のパフォーマンスを向上させることが可能
である。

【００１６】以上のように、本実施例によれば、単位時
間あたり放射される極端紫外光源からの光を、複数のキ
ャピラリ２１１で分担させことができ、従来技術におい
て１つのキャピラリが受ける熱負荷を、本実施例では１
００個のキャピラリ２１１に分担させることができる。
このため、キャピラリ構造体２１の温度上昇を抑えてデ
ブリの発生を低下させることができ、従来のものに比
べ、極端紫外光の出力を増大させることができる。ま
た、極端紫外光源あるいは露光装置の寿命信頼性を向上
させることができる。

【００１７】図３は本発明の第２の実施例を示す図であ
り、同図は前記図１と同様、極端紫外光の光軸を通る平
面で切った断面図を示している。本実施例では、高圧側
電極１１がキャピラリ構造体２１とほぼ同じ径の円板状
であり、高圧側電極１１とキャピラリ構造体２１は一体
に接合されている。また、高圧側電極１１には貫通孔１
１１がキャピラリ２１１と同数設けられており、それぞ
れの貫通孔１１１とキャピラリ２１１が一対で共通の軸
上にあり、連通している。高圧側電極１１は中空の中心
軸５３と一体接合されており、中心軸５３の回転によっ
て高圧側電極１１とキャピラリ構造体２１が一体で回転
し、貫通孔１１１とキャピラリ２１１の一対が順次、放
電軸ｃに位置する。

【００１８】３３は給電ブラシであり、給電ブラシ３３
は電気導入線３１と電気的に接続されるとともに、高圧
側電極１１とも接触している。このため、回転する高圧
側電極１１へ給電ブラシ３３を介して給電が可能となっ
ている。一体接合された高圧側電極１１とキャピラリ構
造体２１の内部には冷却水を循環させるための空間が設
けられ、この空間は円板隔壁５５によって仕切られてい
る。５４は冷却水導入管で、中心軸５３とともに二重管
構造をなしている。冷却水導入管５４を通して冷却水を
導入し、中心軸５３の内部を通して冷却水を排出するこ
とによってキャピラリ構造体２１および高圧側電極１１
の冷却を行う。

【００１９】その他の構成は、前記図１、図２に示した
ものと同様であり、高圧側電極１１、キャピラリ構造体
２１は中心軸５３に連結されたモータ（図示せず）によ
って回転駆動される。高圧側電極１１とキャピラリ構造
体２１の回転に伴って、複数個設けられている貫通孔１
１１およびキャピラリ２１１が順次、放電軸ｃ上にく
る。ある一つの貫通孔１１１およびキャピラリ２１１が
放電軸ｃ上に位置したとき、前記したように高圧側電極
１１と接地側電極１２との間に電圧をパルス的に印加す
ることにより、キャピラリ２１１および絶縁板２２の貫
通孔２２１の内部でガス放電が生じ、高温プラズマが形
成されることによって、前記したように１０〜１３ｎｍ
の極端紫外光が発生し、１回の放電が終了する。そし
て、高圧側電極１１およびキャピラリ構造体２１の回転
に伴って次のキャピラリ２１１が放電軸ｃ上に位置した
ときに再び、電圧パルスを印加して極端紫外光を発生さ
せる。発生した極端紫外光は接地側電極１２の貫通孔１
２１を通って、空間Ｓｂへ放出される。

【００２０】本実施例によれば、キャピラリ構造体２１
および高圧側電極１１を一体接合し、内部に冷却水を導
入して冷却するようにしたので、キャピラリ２１および
高圧側電極１１を効率よく冷却することができる。この
ため、キャピラリ構造体２１および高圧側電極１１の温
度上昇を抑えてデブリの発生を低下させることができ、
第１の実施例に示したものに比べ、さらに極端紫外光の
出力を増大させることができ、また、極端紫外光源およ
び露光装置の寿命信頼性がさらに向上させることができ
る。

【００２１】図４は本発明の第３の実施例を示す図であ
り、同図は前記図１と同様、極端紫外光の光軸を通る平
面で切った断面図を示している。本実施例は、前記第１
の実施例に示した極端紫外光源に紫外線レーザを追加
し、紫外線レーザ光により放電のための予備電離を行う
ようにしたものである。図４において、９１は紫外線レ
ーザ、９２は集光レンズ、９３は紫外線透過窓である。
紫外線レーザ９１から出たレーザ光は集光レンズ９２に
よって貫通孔１１１の内部に集光されるようになってい
る。その他の構成は図１、図２に示したものと同様であ
り、キャピラリ構造体２１が回転駆動され、この回転に
伴なって複数個設けられたキャピラリ２１１が放電軸ｃ
上に順次、配置される。ある一つのキャピラリ２１１が
放電軸ｃ上に位置したときに、紫外線レーザ９１をパル
ス発光させ、レーザ光を貫通孔１１１の内部に集光する
とともに、高圧側電極１１と接地側電極１２との間に高
電圧パルスを印加する。上記レーザ光によって高圧側電
極貫通孔１１１内部の作動ガスが電離され、電子が生成
されるので、確実な放電開始（絶縁破壊）が可能とな
る。

【００２２】図５に上記紫外線レーザ９１のパルスレー
ザ出力、高圧側電極１１、接地側電極間に流れる放電電
流、および、放電により生ずるプラズマ電子密度を示
す。同図に示すように、主放電のパルス電圧印加の約１
００ｎＳ前に、紫外線レーザ９１から約１００ｐｓ幅の
パルスレーザを照射する。これにより、キャピラリ２１
１内は、予め主放電のための火種となるプリプラズマが
生成される（予備電離）。上記プリプラズマが消えない
内に高圧側電極１１、接地側電極１２に高電圧パルスを
印加し主放電を開始させる。これにより、図５に示すよ
うに、主放電によるメインプラズマが発生し、極端紫外
光が発生する。

【００２３】本実施例においては、上記のように、紫外
線レーザ９１が出力するパルスレーザで生成したプリプ
ラズマが残存している状態、つまり、次の放電形成に必
要な電子が充分に存在して状態で、主放電を開始させる
ようにしているので、確実に放電プラズマを形成するこ
とができ、放電の開始遅れや、ミスファイアを無くすこ
とができる。このため、キャピラリ構造体２１が回転駆
動されていても、キャピラリ２１１が放電軸ｃ上に位置
したときに、確実に放電を開始させることができる。ま
た、プリプラズマが形成された部分は、電子密度が他の
部分より高く、主放電においてもより電子密度の高いプ
ラズマが形成されやすい。さらに、パルスレーザの照射
条件を一定にすれば、プリプラズマが形成される位置が
一定となり、さらに主放電のプラズマ形状も安定する。
その結果、極端紫外光の出力を安定させることもでき
る。

【００２４】上記第３の実施例では、第１の実施例の極
端紫外光源に、紫外線レーザを設けた場合について示し
たが、前記第２の実施例の極端紫外光源に紫外線レーザ
を設けて、上記のようにプリプラズマを発生させ、プリ
プラズマが消えない内に高圧側電極１１、接地側電極に
高電圧パルスを印加し主放電を開始させるようにしても
よい。また、上記第２の実施例では、円板状の高圧側電
極１１とキャピラリ構造体２１に複数の貫通孔およびキ
ャピラリを設けて一体に接合し、内部に冷却水を導入し
て冷却するとともに、これらを一体で回転させるように
したが、第２の実施例において、接地側電極１２を複数
の貫通孔を備えた円板状とし、高圧側電極１１とキャピ
ラリ構造体２１と共に、回転させるように構成してもよ
い。これにより、接地側電極１２の熱負荷を低減化する
ことができる。

【００２５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、以下の効果を得ることができる。（１）少なくとも前記絶縁体を移動可能に構成し、前記
絶縁体に複数の貫通孔を設け、第１、第２の電極の貫通
孔および絶縁体の貫通孔が同軸上に配置されたとき、上
記第１、第２の電極にパルス電圧を印加するようにした
ので、上記絶縁体の貫通孔一つ当たりが受ける熱負荷を
低減させることができ、上記絶縁体の温度上昇を抑えて
デブリの発生を低下させることができる。このため、極
端紫外光源あるいは露光装置の寿命信頼性を向上させる
ことができる。また、上記に比べ寿命信頼性が多少低下
してもよいのであれば、その分だけ１パルス当たりの入
力エネルギーを増やしたり、繰り返し周波数を上げるこ
とができ、見かけ上の極端紫外光の出力を増大させるこ
とができる。（２）上記絶縁体を円板状とし、該絶縁体に、一点を中
心に同一円状に貫通孔を複数設け、該絶縁体を一点を中
心に回転移動させるようにしたので、比較的簡単な機構
を用いて、上記絶縁体を回転移動させることができる。（３）第１の電極と絶縁体を一体的に構成し、一体的に
構成された第１の電極と絶縁体の内部に冷却体が流れる
空間が形成して、第１の電極と絶縁体を冷却することに
より、一層、絶縁体の温度上昇を抑えてデブリの発生を
低下させることができる。このため、極端紫外光源ある
いは露光装置の寿命信頼性をさらに向上させることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例の極端紫外光源を示す図
である。

【図２】図１のＡ−Ａ’断面図である。

【図３】本発明の第２の実施例の極端紫外光源を示す図
である。

【図４】本発明の第３の実施例の極端紫外光源を示す図
である。

【図５】パルスレーザ出力、高圧側電極、接地側電極間
に流れる放電電流、および、放電により生ずるプラズマ
電子密度を示す図である。

【図６】極端紫外光源を用いた半導体露光装置の概略図
である。

【図７】キャピラリ放電を利用した従来の極端紫外光源
の構成例を示す図である。

【符号の説明】

１１高圧側電極１１１貫通孔１２１貫通孔１２接地側電極２１キャピラリ構造体２１１キャピラリ２２絶縁板２２１貫通孔３１，３２電気導入線３３給電ブラシ４１ガス導入口４２ガス排出孔５２中心軸５３中心軸５４冷却水導入管５５円板隔壁６１軸受け７１仕切り円筒７２底板８１外囲円筒８２排気口９１紫外線レーザ９２集光レンズ９３紫外線透過窓

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】絶縁体を挟むように第１、第２の電極が
配置され、絶縁体と第１、第２の電極には、それぞれ貫
通孔が設けられ、該貫通孔に発光ガスを流入させ、上記
第１、第２の電極にパルス電圧を印加して、上記貫通孔
内で発生した極端紫外光を、上記第２の電極側から放射
させる極端紫外光源であって、前記絶縁体には複数の貫通孔が設けられており、少なくとも前記絶縁体は移動可能に構成され、前記第
１、第２の電極の貫通孔および絶縁体の貫通孔が同軸上
に配置されたとき、上記第１、第２の電極にパルス電圧
を印加することを特徴とする極端紫外光源。
【請求項２】前記絶縁体は円板状であって、一点を中
心に回転移動し、上記絶縁体に形成された貫通孔は、一
点を中心に同一円状に複数設けられていることを特徴と
する請求項１の極端紫外光源。
【請求項３】前記第１の電極と絶縁体が一体的に構成
され、その内部に冷却体が流れる空間が形成され、第１
の電極には、上記絶縁体に設けられた複数の貫通孔と連
通する複数の貫通孔が設けられていることを特徴とする
請求項１または請求項２の極端紫外光源。