JP4275291B2 - 液滴吐出ヘッド及びインクジェット記録装置並びにマイクロアクチュエータ、画像形成装置、液滴を吐出する装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は液滴吐出ヘッド及びインクジェット記録装置並びにマイクロアクチュエータ、画像形成装置、液滴を吐出する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、プリンタ、ファクシミリ、複写装置、プロッタ等の画像記録装置(画像形成装置)として用いるインクジェット記録装置において使用する液滴吐出ヘッドの1つであるインクジェットヘッドとして、インク滴を吐出するノズルと、このノズルが連通する液室(インク流路、加圧室、吐出室、圧力室、加圧液室等とも称される。)と、この液室の壁面を形成する振動板と、この振動板に対向する電極を有し、振動板と電極との間に電圧を印加することで発生する静電気力により振動板を変形させて、液室内の圧力/体積を変化させることによりノズルからインク滴を吐出させる静電型インクジェットヘッドがある。
【0003】
従来の静電型インクジェットヘッドとしては、特開平2−289351号公報に記載されているように、振動板が電極に当接する(実際には電極表面の保護膜である絶縁膜に当接する)まで変形変位させる当接駆動方式と、振動板が電極に当接しない位置まで変形変位させる非当接駆動方式とがある。このうち、電極に当接するまで変形変位させる当接駆動方式の方が振動板の変形量(変位量)を一定にすることができるので、低電圧化及びインク滴吐出量の均一化を図ることができて優れている。
【0004】
この当接駆動方式で駆動した場合、振動板に残留電荷が発生して振動板の変位が不安定になることから、従来、特開平9−136413号公報に記載されているように、極性の異なる駆動電圧を交互に印加することで残留電荷を消去するようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のインクジェットヘッドのように極性の異なる駆動電圧を交互に印加するためには、特別な駆動方式と逆極性の電源が必要になるという課題がある。
【0006】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、簡単な構成で安定した振動板変位が得られる液滴吐出ヘッド及びこのヘッドを搭載したインクジェット記録装置、画像形成装置、液滴を吐出する装置並びに簡単な構成で安定した振動板変位が得られるマイクロアクチュエータを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明に係る液滴吐出ヘッドは、振動板の電極側表面に凸部が形成され、振動板に対向する側には、平坦な基板面に、電極と同じ高さで、振動板の凸部が当接する当接部が設けられ、当接部は、基板面上に形成された電極と電極上に形成された絶縁膜との層に絶縁膜とともに電極を除いて形成された溝により、電極に対して電気的に絶縁されて形成されている構成としたものである。
【0008】
ここで、電極は絶縁膜で全面が覆われていることが好ましい。
【0009】
さらに、振動板には複数の凸部を格子状或いは千鳥状に配置することが好ましい。また、振動板の面積に対する凸部の底面積の占める割合が1/2を越えないことが好ましい。また、振動板の表面からの凸部の高さが0.01μm以上であることが好ましい。
【0010】
本発明に係るインクジェットヘッド記録装置は、インクジェットヘッドとして本発明に係る液滴吐出ヘッドを備えたものである。
本発明に係る画像形成装置及び本発明に係る液滴を吐出する装置は、本発明に係る液滴吐出ヘッドを備えたものである。
【0011】
また、本発明に係るマイクロアクチュエータは、振動板の電極側表面に凸部を設けたものである。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。図1は本発明を適用した液滴吐出ヘッドとしての静電型インクジェットヘッドの振動板長辺方向の模式的断面説明図、図2は同ヘッドの振動板短辺方向の模式的拡大断面説明図、図3は同ヘッドの振動板の平面図、図4は同ヘッドの電極基板の要部平面図である。
【0013】
この静電型インクジェットヘッドは、振動板基板1と、この振動板基板1の下面に接合した電極基板2と、振動板基板1の上面に接合したノズル板3とを備え、液滴であるインク滴を吐出するノズル5と、ノズル5に連通する液室6と、液室6に流体抵抗部7を介してインクを供給する共通液室8などを形成している。
【0014】
振動板基板1には、液室6及びこの液室6の壁面(底面)となる振動板10を形成する凹部と、流体抵抗部7を形成する溝及び共通液室8を形成する凹部を形成している。この振動板基板1は、シリコン基板を酸化膜を介して接合したSOI基板を用いて形成することができる。この場合、液室6となる凹部をKOH水溶液などのエッチング液を用いてエッチングすることにより、活性層をエッチストップ層として振動板10を高精度に形成できる。また、シリコン基板に高濃度P型不純物、例えばボロン拡散層を形成し、このボロン拡散層をエッチングストップ層としてエッチストップすることによっても振動板10を高精度に形成することができる。
【0015】
また、電極基板2にはシリコン基板を用いて熱酸化法などにより酸化膜層2aを形成し、この酸化膜層2aに凹部11を形成し、この凹部11の底面に振動板10に所定のギャップ14をおいて対向する電極13を形成している。これらの振動板10と電極13によって静電力で振動板10を変形変位させるマイクロアクチュエータ部を構成している。
【0016】
ここで、振動板10の電極側表面には振動板長手方向に沿って長い凸部16を2つ並列に間隔を置いて設けている。なお、凸部16の個数は1個又は3個以上でもよい。一方、電極基板2には振動板10の各凸部16に対向し、振動板10が変形変位したときに当接する当接部17、17を設けている。この当接部17は電極13との間に溝18を形成して電気的に分離絶縁して、振動板10との間には静電力が発生しないようにしている。なお、電極13の振動板10に対向する部分は当接部17により電極部分13a〜13cに分割されることになる。したがって、振動板10は図3に示すように接合領域10B及び凸部16を除く領域が静電力を受ける領域(これを「振動板有効領域10A」という。)になる。
【0017】
そして、この電極基板2の電極13(13a〜13cを含む)表面及び当接部17の表面には振動板10との接触による損傷などを防止するためにSiO2膜などの酸化膜系絶縁膜、Si3N4膜などの窒化膜系絶縁膜からなる保護膜(絶縁膜)19を成膜している。
【0018】
ノズル板3は、金属層、或いは金属層と高分子層とを直接接合した積層部材、樹脂部材、ニッケル電鋳などでノズル5を形成したものであり、ノズル面(吐出方向の表面:吐出面)には、インクとの撥水性を確保するため、メッキ被膜、あるいは撥水剤コーティングなどの周知の方法で撥水膜を形成している。また、ノズル板3には共通液室8に外部からインクを供給するためのインク供給穴20を形成している。
【0019】
このように構成したインクジェットヘッドにおいては、振動板10を共通電極とし、電極13を個別電極として、振動板10と電極13との間に駆動電圧を印加することによって、振動板10の振動板有効領域10Aと電極13の電極部分13a〜13cとの間に発生する静電力によって振動板10が電極13側に変形変位し、この状態から振動板10と電極13間の電荷を放電させることによって振動板10が復帰変形して、液室6の内容積(体積)/圧力が変化することによって、ノズル5からインク滴が吐出される。
【0020】
すなわち、個別電極とする電極13にパルス電圧を印加すると、共通電極となる振動板10との間に電位差が生じて、個別電極13と振動板10の間に静電力が生じる。この結果、振動板10は印加した電圧の大きさに応じて変位する。その後、印加したパルス電圧を立ち下げることで、振動板10の変位が復元して、その復元力により液室6内の圧力が高くなり、ノズル5からインク滴が吐出される。
【0021】
この場合、振動板10と電極13との間に振動板10が電極13に当接する程度の変位が得られる駆動波形を印加した場合、図5に示すように、振動板10が電極13側に変形変位することにより、振動板10の凸部16が電極基板2側の当接部17(絶縁膜18上面)に当接するので、これ以上の振動板10の変形が制限される。
【0022】
したがって、振動板10表面が電極13(電極部分13a〜13c)に接触することがなくなり、振動板10と電極13との当接による残留電荷は殆ど発生しない。なお、振動板10に設けた凸部16と当接している当接部17は隣接する電極13とは電気的に独立しており、電圧が印加されていないので、凸部16に残留電荷が発生することがない。
【0023】
このように、振動板の電極側表面に凸部を設けることによって振動板と電極との接触を防止することができ、残留電荷の発生を低減することができて、安定した振動板の変位特性を得ることができる。
【0024】
ここで、振動板10に設ける凸部16に関して、先ず、振動板10の面積(接合領域を除く領域の面積であり、これを「振動板面積」という。)と凸部16の底面積(振動板表面側の面積)との関係について図6をも参照して説明する。
振動板面積(図3に示すL1×L2の面積)に占める凸部16の底面積の割合をあまり多くしすぎると、振動板面積の内の静電気力が働く面積(振動板有効領域の面積)が小さくなり、振動板10を変位させるために必要な電圧が上昇してしまうので、駆動電圧の低電圧化、消費電力の低減化から好ましくない。
【0025】
そこで、振動板10の有効面積が減少することで増加する電圧を求めてみると、図6に示すように簡易的なモデルにおいて、振動板10と電極13との間の距離をd、振動板有効面積をS、空気の誘電率をεとしたとき、振動板10と電極13との間に発生する静電気力Fは、次の(1)式で表される。
【0026】
【数1】
【0027】
ここで、振動板有効面積Sが半分に減ったとしたときに振動板10を従前と同じ変位量だけ変位させるために必要な電圧の上昇分を計算すると、駆動電圧Vは次の(2)式で表されるので、電圧の上昇分は約1.4倍となる。
【0028】
【数2】
【0029】
したがって、振動板10に設ける凸部11の面積比の割合は1/2以下が実用的である。例えば、L1=1000μm、L2=130μmとして、凸部16の底面積を1000μm×10μm×2とすると、凸部16が振動板面積(1000×130)占める割合は約1/6となり、振動板10を変位させるための静電気力の低下は非常に小さく、大幅な駆動電圧の上昇もなく、振動板10を変位させることができる。
【0030】
次に、振動板10の凸部16の振動板表面からの高さについて図7をも参照して説明する。
振動板10の凸部16が電極基板2の当接部17に当接しているとき、同図に示すように、凸部16、16間の距離をl、電極13の厚みをtd、絶縁膜(保護膜)19の厚みをtc、溝18の幅をlcとし、空気の誘電率をε、絶縁膜19の比誘電率をε0、振動板10のヤング率をE、振動板10の厚さをhとしたとき、振動板10表面と電極13上の絶縁膜19表面との距離cは、次の(3)式で表される。
【0031】
【数3】
【0032】
この(3)式で求められる振動板10表面と絶縁膜19との距離cが、駆動電圧Vcを印加しても振動板10が絶縁膜19に接触しない凸部11の最低高さになる。
【0033】
ただし、絶縁膜19の厚みtcが厚くて、次の(4)式が成立する場合には、新たに次の(5)式で求まる振動板10表面と絶縁膜19との距離cが、駆動電圧Vcを印加しても振動板10が絶縁膜19に接触しない凸部11の最低高さになる。
【0034】
【数4】
【0035】
【数5】
【0036】
したがって、振動板10の凸部16の高さは、上記各式で求められる振動板表面と絶縁膜19との距離c以上であればよいが、凸部16の高さを高くしすぎると、振動板有効領域10Aと電極13との距離が大きくなり、振動板10の凸部16を当接部17に当接させるために必要な変位量が得られる電圧(当接電圧)が高くなってしまう。
【0037】
そこで、(3)〜(5)式からもわかるとおり、凸部16の高さは、振動板10の厚さ、絶縁膜19の厚さ、溝18の幅などによって最適値があり、実用的な寸法としては0.01μm以上である。そして、振動板10が電極13上の絶縁膜19へ接触することを確実に避けるためには、さらに凸部16を高く形成する必要があることから、凸部16の高さとしては0.05μm以上とすることがより好ましい。
【0038】
このように、振動板の表面からの凸部の高さを0.01μm以上とすることにより、凸部が電極側の当接部と当接した後も振動板表面と電極との間に適度な距離を保つことができ、残留電荷の発生を低減し、安定した振動板の変位特性を得ることができる。
【0039】
次に、このヘッドの製造工程について図8以降をも参照して説明する。
先ず、振動板基板1の形成工程について図8を参照して説明する。ここでは、振動基板1を同図(a)に示すようなSOI基板(ウエハを用いる)31から形成している。このSOI基板31としては、振動板10となる活性層32の厚さ2μm、ベース33の厚さ400μm、活性層32とベース33との酸化膜層33の厚さ0.5μmのものを用いた。
【0040】
そして、同図(b)に示すように、このSOI基板31の活性層32側表面に厚さ500ÅでSiO2膜35を例えばLP−CVDにより堆積形成する。次いで、SiO2膜35表面にレジスト36をコーティングし、振動板10の凸部16を形成する部分だけパターニングによりレジストを残したパターンを形成し、同図(c)に示すように、ドライエッチングによりSiO2膜35を0.05μm深さまで掘り込み、Si面(活性層32表面)に達した時点でエッチングストップする。
【0041】
これにより、振動板10となる活性層32の表面にSiO2膜(絶縁膜)からなる凸部16、16が残存形成されるので、同図(d)に示すように、レジスト36を除去することにより、凸部16が形成されたSOI基板31を得る。
【0042】
次に、電極基板2の形成工程について図9及び図10をも参照して説明する。まず、電極基板2としてはシリコン基板を用いて、図9(a)に示すようにはSi基板41に熱酸化膜(酸化膜)41aを2μmの厚さで成膜する。そして、同図(b)に示すように、酸化膜41aに電極13を形成するため深さ0.3μmの凹部11をエッチングで形成する。
【0043】
次いで、同図(c)に示すように、この凹部11の底面に約0.1μmの厚みでTiNをスパッタしドライエッチングによりパターニングして、凹部11の底面積よりやや小さめのTiNパターン43を形成する。その後、同図(d)に示すように、TiNパターン43を含めてシリコン基板41の全面を覆うようにLP−CVDによりSiO2膜44を約0.1μmの厚さで成膜する。
【0044】
その後、図10(a)に示すように、SiO2膜44上にレジスト45をコーティングし、凸部16とほぼ同等の形状を残すように幅1μmの溝46を写真工程で形成したレジストパターンを得る。そして、ドライエッチングを行うことにより、同図(b)に示すように、レジスト45がない部分のSiO2膜44及びTiNパターン43を完全に除去して溝18で分割した電極部分13a〜13c、当接部17及びSiO2膜からなる絶縁膜19を形成して、同図(c)に示すようにレジスト45を除去し、電極基板2を得る。このとき、電極部分13a〜13c、当接部17は、TiNパターン43を溝18で分割しているので、平坦な基板41の表面からの高さは同じになる。
【0045】
次に、振動板基板1と電極基板2との接合工程について図11を参照して説明する。
先ず、同図(a)に示すように、電極基板2上に振動板基板1となるSOI基板31をIRアライナーなどを用いて高精度に位置合わせしたのちシリコン基板の直接接合を行う。この直接接合の条件は、温度500℃でプリボンドした後、温度900℃−2hで行った。その後、同図(b)に示すように、SOI基板31のベース33を機械研削によって厚さ100μmまで研磨する。
【0046】
次いで、SOI基板31のベース33上にLP−CVDによりSiN膜46を厚さ0.2μm被膜し、ドライエッチングにより液室となる部分のベース33を露出させる。そして、同図(c)に示すように、KOHによるウエットエッチングでSOI基板31のベース33及び酸化膜層34を除去して液室6となる凹部を形成する。その後、図示しないがノズル板3を振動板基板1上に接合してインクジェットヘッドを完成する。
【0047】
この場合、振動板10表面からの凸部16の高さは0.05μmとしているが、この高さに影響する寸法公差は凸部16を形成するエッチング工程のみであるので、非常に精度良く所定の高さに形成することができる。
【0048】
次に、振動板基板1の形成工程の他の例について図12を参照して説明する。ここでは、同図(a)に示すように前述したと同様なSOI基板31を用いて、同図(b)に示すように、SOI基板31の活性層32の表面に凸部16に対応するレジスト36及び電極基板2と接合する接合領域10Bに対応するレジスト37を残してパターニングした後、同図(c)に示すように振動板有効領域10Aに対応する部分をエッチングにより掘り込むことで、振動板10となる活性層32で凸部16を一体形成している。
【0049】
次に、振動板基板1の形成工程の更に他の例について図13を参照して説明する。
ここでは、同図(a)に示すように前述したと同様なSOI基板31を用いて、同図(b)に示すように、SOI基板31の活性層32の表面に凸部16に対応するレジスト36を残してパターニングした後、同図(c)に示すように振動板有効領域10A及び接合領域10Bに対応する部分をエッチングにより掘り込むことで、振動板10となる活性層32で凸部16を一体形成している。
【0050】
次に、電極基板3の形成工程の他の例について図14及び図15を参照して説明する。
ここでは、前述した例と同様にして、図14(a)に示すように、シリコン基板41の熱酸化膜41aに形成した凹部11の底面にTiNパターン43を形成する。そして、同図(b)に示すように、シリコン基板41上にTiNパターン43表面を含めてレジストをコーティングして、当接部17を電極13から分離する分離溝18に対応する部分が開口したレジスト47をパターニング形成した後、同図(c)に示すように、ドライエッチングを行ってTiNパターン43を当接部17と電極部分13a、13bとに分離する。
【0051】
次いで、図15(a)に示すようにLP−CVDによりSiO2膜48を全面に厚さ約0.1μmで成膜した後、同図(b)に示すようにSiO2膜48にレジストをコーティングし、電極部分15a、15b、当接部17よりも幅広のレジスト49をパターンニングする。そして、同図(c)に示すように、ドライエッチングを行ってレジスト49の開口に対応する部分のSiO2膜48を除去してレジスト49を除去することにより、電極部分15a、15b及び当接部17の全面がそれぞれ絶縁膜19で被覆された電極基板2を得る。
【0052】
このように当接部17を電気的に絶縁して、当接部17と、当接部17に隣接した電極部分15a、15bとをSiO2膜などの絶縁膜19で完全に覆うことにより、後工程において電極部分15a、15bが酸化され難く、安定した振動板10の変位特性を得ることができて、信頼性を向上させることができる。
【0053】
次に、振動板10に設ける凸部16及び電極基板2側に設ける当接部17の他の異なる配置パターン例について図16乃至図21を参照して説明する。
図16及び図17に示す例は、振動板10に平面形状が略四角形状の複数の凸部16を格子状に配置する一方、電極基板2にも各凸部16に対向する位置に平面形状が略四角形状の複数の当接部17を格子状に配置したものである。なお、凸部16と当接部17との平面形状は異なってもよく、また、四角形以外の多角形や円形でもよい。
【0054】
このように、振動板10に面積の小さな凸部16を複数配置させることによって振動板有効領域10Aを広くすることができ、凸部16を設けることによる静電力の低下を抑えることができる。
【0055】
図18及び図19に示す例は、振動板10に平面形状が略四角形状の複数の凸部16を千鳥状に配置する一方、電極基板2にも各凸部16に対向する位置に平明形状が略四角形状の複数の当接部17を千鳥状に配置したものである。なお、凸部16と当接部17との平面形状は異なってもよく、また、四角形以外の多角形や円形でもよい。
【0056】
このように振動板10に面積の小さな凸部16を複数配置させることによって振動板有効領域10Aを広くすることができ、凸部16を設けることによる静電力の低下を抑えることができるとともに、振動板有効領域10Aを均一に分布させることができるので、静電力を振動板10全体に均一に生じさせることができて、より安定した振動板10の変位特性を得ることができる。
【0057】
図20に示す例は、振動板10に平面形状が十文字状の複数の凸部16を格子状(或いは千鳥状でもよい。)に配置したものであり、電極基板2にも図示しないが十文字状の複数の当接部17を格子状(或いは千鳥状でもよい。)に配置したものである。このようにしても、図16及び図17の場合(格子状配置の例)と同様に、振動板有効領域10Aの減少を少なくすることができたり、図18及び図19の場合(千鳥状配置の場合)と同様に、振動板有効領域10Aの減少を少なくすることができるとともに、静電力を振動板10に均一に生じさせることができる。
【0058】
図21に示す例は、振動板10に振動板短手方向に沿って長い凸部16を複数本(ここでは3本)間隔を置いて設けている。なお、電極基板2にも図示しないが凸部16に対向する当接部17を設ける。(凸部11を一つ又は複数設けてもよい)。
【0059】
次に、本発明に係る液滴を吐出する装置を含み、本発明に係る画像形成装置としてのインクジェット記録装置について図22及び図23を参照して簡単に説明する。なお、図22は同記録装置の機構部の概略斜視説明図、図23は同機構部の側面説明図である。
【0060】
このインクジェット記録装置は、記録装置本体61の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ、キャリッジに搭載した本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドからなる記録ヘッド、記録ヘッドへのインクを供給するインクカートリッジ等で構成される印字機構部62等を収納し、装置本体61の下方部には前方側から多数枚の用紙63を積載可能な給紙カセット(或いは給紙トレイでもよい。)64を抜き差し自在に装着することができ、また、用紙63を手差しで給紙するための手差しトレイ65を開倒することができ、給紙カセット64或いは手差しトレイ65から給送される用紙63を取り込み、印字機構部62によって所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ66に排紙する。
【0061】
印字機構部62は、図示しない左右の側板に横架したガイド部材である主ガイドロッド71と従ガイドロッド72とでキャリッジ73を主走査方向に摺動自在に保持し、このキャリッジ73にはイエロー(Y)、シアン(C)、マゼンタ(M)、ブラック(Bk)の各色のインク滴を吐出する本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドからなるヘッド74をインク滴吐出方向を下方に向けて装着し、キャリッジ73の上側にはヘッド74に各色のインクを供給するための各インクタンク(インクカートリッジ)75を交換可能に装着している。このインクカートリッジ75から前記インク供給穴20を介してインクをヘッド74内に供給する。
【0062】
ここで、キャリッジ73は後方側(用紙搬送方向下流側)を主ガイドロッド71に摺動自在に嵌装し、前方側(用紙搬送方向下流側)を従ガイドロッド72に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ73を主走査方向に移動走査するため、主走査モータ77で回転駆動される駆動プーリ78と従動プーリ79との間にタイミングベルト80を張装し、このタイミングベルト80をキャリッジ83に固定している。また、記録ヘッドとしてここでは各色のヘッド74を用いているが、各色のインク滴を吐出するノズルを有する1個のヘッドでもよい。
【0063】
一方、給紙カセット64にセットした用紙63をヘッド74の下方側に搬送するために、給紙カセット64から用紙63を分離給装する給紙ローラ81及びフリクションパッド82と、用紙63を案内するガイド部材83と、給紙された用紙63を反転させて搬送する搬送ローラ84と、この搬送ローラ84の周面に押し付けられる搬送コロ85及び搬送ローラ84からの用紙63の送り出し角度を規定する先端コロ86とを設けている。搬送ローラ84は副走査モータ87によってギヤ列を介して回転駆動される。
【0064】
そして、キャリッジ73の主走査方向の移動範囲に対応して搬送ローラ84から送り出された用紙63を記録ヘッド74の下方側で案内する用紙ガイド部材である印写受け部材89を設けている。この印写受け部材89の用紙搬送方向下流側には、用紙63を排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送コロ91、拍車92を設け、さらに用紙63を排紙トレイ66に送り出す排紙ローラ93及び拍車94と、排紙経路を形成するガイド部材95,96とを配設している。
【0065】
また、キャリッジ73の移動方向右端側にはヘッド74の信頼性を維持、回復するための信頼性維持回復機構(以下「サブシステム」という。)97を配置している。キャリッジ73は印字待機中にはこのサブシステム97側に移動されてキャッピング手段などでヘッド74をキャッピングされる。
【0066】
なお、上記各実施形態においては、本発明に係る液滴吐出ヘッド及びマイクロアクチュエータとして静電型インクジェットヘッドに適用した例で説明したが、これに限るものではなく、例えば、インク以外の液滴、例えば、パターニング用の液体レジストを吐出する液滴吐出ヘッドにも適用でき、或いはマイクロアクチュエータとしてはマイクロモータのアクチュエータ部などにも適用することができる。また、前述したようにプリンタ、ファクシミリ、プロッタ等の画像形成装置及び液滴を吐出する装置にも本発明に係る液滴吐出ヘッドを搭載することができる。
【0067】
また、液滴吐出ヘッドとして、振動板変位方向とノズル滴吐出方向が同じになるサイドシュータ方式で説明しているが、振動板変位方向とノズル滴吐出方向が直交するサイドシュータ方式にすることもできる。さらに、上記実施形態では振動板と電極が平行状態で配置される液滴吐出ヘッドに本発明を適用したが、振動板と電極の全体若しくは一部が非平行状態で配置される液滴吐出ヘッドにも適用することができる。
【0068】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る液滴吐出ヘッドによれば、振動板の電極側表面に凸部が形成され、振動板に対向する側には、平坦な基板面に、電極と同じ高さで、振動板の凸部が当接する当接部が設けられ、当接部は、基板面上に形成された電極と電極上に形成された絶縁膜との層に絶縁膜とともに電極を除いて形成された溝により、電極に対して電気的に絶縁されて形成されているので、簡単な構成で、確実に残留電荷が低減し、安定した振動板の変位が得られる。
【0069】
ここで、電極は絶縁膜で全面が覆われているようにすることで、酸化による電極の劣化を防止することができ、安定した振動板変位を長期間確保することができる。
【0070】
さらに、振動板には複数の凸部を格子状に配置することで、振動板の静電力を生じる領域が広くなり、駆動電圧の上昇を抑制することができる。また、振動板には凸部を千鳥状に配置することで、振動板の静電力を生じる領域が広くなり、駆動電圧の上昇を抑制することができるとともに、静電力を生じる領域が均一に分布して、振動板変位のバラツキを抑えることができる。
【0071】
また、振動板の面積に対する凸部の底面積の占める割合が1/2を超えないようにすることで、静電力の減少を最小限に抑えることができて、駆動電圧の上昇を抑制できる。さらに、振動板の表面からの凸部の高さが0.01μm以上にすることで、確実に振動板と電極との接触による残留電荷の発生を防止できる。
【0072】
本発明に係るインクジェットヘッド記録装置によれば、インク滴を吐出させるインクジェットヘッドが本発明に係る液滴吐出ヘッドであるので、安定した振動板変位が得られて、滴吐出特性が安定し、画像品質及び信頼性が向上する。また、本発明に係る画像形成装置、液滴を吐出する装置によれば、本発明に係る液滴吐出ヘッドを搭載しているので、安定した振動板変位が得られて、滴吐出特性が安定し、画像品質及び信頼性が向上する。
【0073】
本発明に係るマイクロアクチュエータによれば、振動板の電極側表面に凸部を設けたので、残留電荷が低減し、安定した振動板変位が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した静電型インクジェットヘッドの振動板長辺方向の模式的断面説明図
【図2】同ヘッドの振動板短辺方向の模式的拡大断面説明図
【図3】同ヘッドの振動板の平面図
【図4】同ヘッドの電極基板の要部平面図
【図5】同ヘッドの作用説明に供する説明図
【図6】同ヘッドの凸部の面積の説明に供する説明図
【図7】同ヘッドの凸部の高さの説明に供する説明図
【図8】図ヘッドの振動板基板の形成工程の説明に供する説明図
【図9】同ヘッドの電極基板の形成工程の説明に供する説明図
【図10】同ヘッドの電極基板の形成工程の続きの説明に供する説明図
【図11】同ヘッドの振動板基板と電極基板との接合工程の説明に供する説明図
【図12】振動板基板の形成工程の他の例の説明に供する説明図
【図13】振動板基板の形成工程の更に他の例の説明に供する説明図
【図14】電極基板の形成工程の他の例の説明に供する説明図
【図15】同電極基板の形成工程の続きの説明に供する説明図
【図16】振動板の凸部の他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図17】電極基板の当接部の他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図18】振動板の凸部の更に他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図19】電極基板の当接部の更に他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図20】振動板の凸部の更にまた他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図21】振動板の凸部の更にまた他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図22】本発明に係るインクジェット記録装置の機構部を示す概略斜視説明図
【図23】同記録装置の側断面説明図
【符号の説明】
1…振動板基板、2…電極基板、3…ノズル板、5…ノズル、6…液室、7…流体抵抗部、8…共通液室、10…振動板、11…凹部、13…電極、16…凸部、17…当接部、18…溝、19…絶縁膜。
Claims (10)
- 液滴を吐出するノズルに連通している液室の壁面を形成する振動板と、この振動板に対向する電極と、前記振動板を静電気力で変形変位させて前記ノズルから液滴を吐出させる液滴吐出ヘッドにおいて、
前記振動板の電極側表面に凸部が形成され、
前記振動板に対向する側には、平坦な基板面に、前記電極と同じ高さで、前記振動板の凸部が当接する当接部が設けられ、
前記当接部は、前記基板面上に形成された前記電極と前記電極上に形成された絶縁膜との層に前記絶縁膜とともに前記電極を除いて形成された溝により、前記電極に対して電気的に絶縁されて形成されている
ことを特徴とする液滴吐出ヘッド。 - 請求項1に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記電極は絶縁膜で全面が覆われていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- 請求項1又は2に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記振動板には複数の凸部を格子状に配置したことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- 請求項1又は2に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記凸部を千鳥状に配置したことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記振動板の面積に対する前記凸部の底面積の占める割合が1/2を越えないことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記振動板の表面からの前記凸部の高さが0.01μm以上であることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- インク滴を吐出するインクジェットヘッドを搭載したインクジェット記録装置において、前記インクジェットヘッドが前記請求項1乃至6のいずれかの液滴吐出ヘッドであることを特徴とするインクジェット記録装置。
- 振動板と、この振動板に対向する電極とを備えて、前記振動板を静電気力で変形変位させるマイクロアクチュエータにおいて、
前記振動板の電極側表面に凸部が形成され、
前記振動板に対向する側には、平坦な基板面に、前記電極と同じ高さで、前記振動板の凸部が当接する当接部が設けられ、
前記当接部は、前記電極を形成する部材から形成され、前記電極に対して電気的に絶縁されている
ことを特徴とするマイクロアクチュエータ。 - 液滴を吐出する液滴吐出ヘッドを搭載した画像形成装置において、前記液滴吐出ヘッドが前記請求項1ないし6のいずれかの液滴吐出ヘッドであることを特徴とする画像形成装置。
- 液滴吐出ヘッドを備えて液滴を吐出する装置において、前記液滴吐出ヘッドが前記請求項1ないし6のいずれかの液滴吐出ヘッドであることを特徴とする液滴を吐出する装置。
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