JP4206388B2 - 平板ディスプレイ装置 - Google Patents
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Description
本発明は、平板ディスプレイ装置に係り、更に詳細には、画面開口率を増大させ、ディスプレイ領域の電圧降下による輝度不均一を防止する技術に関する。
画像の表示には、多種のディスプレイ装置が使用されるが、昨今においては従来のブラウン管、即ち陰極線管（Cathode Ray Tube；ＣＲＴ）を代替する多様な平板ディスプレイ装置が使用される。このような平板ディスプレイ装置は、発光形態により自発光型と非自発光型とに分類される。
自発光型ディスプレイ装置には、平面ブラウン管、プラズマディスプレイ装置、真空蛍光表示装置、電界放出ディスプレイ装置、無機／有機電界発光ディスプレイ素子等があり、非自発光型ディスプレイ装置には液晶ディスプレイ装置がある。その中でも、有機電界発光素子は、バックライトのような別途の発光装置が必要ない自発光型素子であって、低電力及び高効率作動が可能であり、青色発光が可能な近来に脚光を浴びている平面ディスプレイ素子である。
有機電界発光ディスプレイ素子は、有機物薄膜に陰極と陽極を通じて注入された電子と正孔とが再結合して励起子を形成し、形成された励起子からのエネルギーにより特定波長の光が発生する現象を利用する自発光型ディスプレイ装置である。有機電界発光ディスプレイ装置は、低電圧で駆動でき、軽薄型であり、視野角が広く、且つ応答速度も速いという長所がある。
そのような有機電界発光ディスプレイ素子の有機電界発光部は、基板上に積層式で形成される陽極としての第１電極と、有機発光部及び陰極としての第２電極とより構成される。有機発光部は、有機発光層（Emitting Layer：以下、ＥＭＬ）を備えるが、そのＥＭＬで正孔と電子とが再結合して励起子を形成し、光が発生する。発光効率を更に高めるには、正孔と電子とをＥＭＬに更に円滑に輸送しなければならなく、そのために、陰極とＥＭＬとの間には電子輸送層（Electron Transport Layer：以下、ＥＴＬ）が配置され、陽極とＥＭＬとの間には正孔輸送層（Hole Transport Layer：以下、ＨＴＬ）が配置され、また陽極とＨＴＬとの間に正孔注入層（Hole Injection Layer：以下、ＨＩＬ）が配置され、陰極とＥＴＬとの間に電子注入層（Electron Injction Layer：以下、ＥＩＬ）が配置されることもある。
一方、有機電界発光ディスプレイ素子は、駆動方式により受動駆動方式のパッシブマトリックス（Passive Matrix：以下、ＰＭ）型と、能動駆動方式のアクティブマトリックス（Active Matrix：以下、ＡＭ）型とに区分される。前記ＰＭ型は、単に陽極と陰極とがそれぞれカラム（列）とロー（行）とに配列されて、陰極にはロー駆動回路からスキャニング信号が供給され、そのとき、複数のローのうち１つのローのみが選択される。また、カラム駆動回路には、各画素にデータ信号が入力される。一方、前記ＡＭ型は、薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：以下、ＴＦＴ）を利用して、各画素当り入力される信号を制御するものであって、膨大な量の信号を処理するに適し、動画を具現するためのディスプレイ装置として多用されている。
ところが、有機／無機電界発光ディスプレイ装置、特にＡＭ型有機／無機電界発光装置において、画素に割り当てられる回路部、及び配線などのレイアウト上の問題によって、実質的に光が出射される領域の割合、即ち画素開口率が低下するという問題点がある。
図１には、通常使用されるＡＭ型有機電界発光ディスプレイ装置の平面図が示されており、図２には、図１に示した符号“Ａ”の部分についての拡大図が示されている。
図１に示されたＡＭ型有機電界発光ディスプレイ装置は、透明な絶縁基板１１上に、有機電界発光素子を含む所定のディスプレイ領域２０を有し、メタルキャップのような密封部材（図示せず）は、ディスプレイ領域２０を密封するように密封部８０により密封される。ディスプレイ領域２０は、ＴＦＴを含んだ有機電界発光素子を通じて複数の画素より構成され、ディスプレイ領域２０には複数の駆動ライン（ＶＤＤ）３１が配設される。この駆動ライン３１は、ディスプレイ領域２０の外側の駆動電源配線部３０を通じて端子領域７０と接続されて、ディスプレイ領域２０に駆動電源を供給する。
図２は、図１のに示す符号“Ａ”で表示された一画素の部分拡大図である。ここで、駆動ライン３１は、ディスプレイ領域２０の全体領域にかけて駆動電源供給時に発生できる電圧降下を防止するために、十分な厚さ及び線幅を備えなければならないが、これによりそれぞれの画素に対する光の出射領域面積比を示す開口率が低いため、窮極的に全体ディスプレイ領域に対するデッドスペースの割合が増大して、画面品質を低下させるという問題点を伴うこともある。
また、特開２００３−３０８０３１号公報（特許文献１）には、開口率を向上させて輝度を改善するために、パワーラインとゲートラインとを平行に配置する技術が開示されており、更にそれらを横方向に配置する構造の有機電界発光ディスプレイ装置が開示されている。
しかしながら、上記の特許文献１では、それぞれの画素に対する開口率において、パワーラインの線幅が占める割合については全く言及されておらず、画面の大面積化による駆動電源供給時に発生できるパワーラインでの電圧降下問題を解決するための手法については何らの開示もされていない。
特開２００３−３０８０３１号公報
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、画素の開口率を増大させることができ、大面積化に係る電圧降下による輝度の減少、及び不均一を解消した構造の平板ディスプレイ装置を提供することが目的である。
上記目的を達成するため、本発明に係る平板ディスプレイ装置は、少なくとも１つの薄膜トランジスタと、少なくとも１つの画素と、前記薄膜トランジスタと前記画素の間に設けられた絶縁体の保護層と、を備えたディスプレイ領域を有する平板ディスプレイ装置において、前記ディスプレイ領域に駆動電源を供給するための駆動ラインと、前記駆動ラインと異なる層に設けられ、前記駆動ラインと電気的な疎通をなす少なくとも１つの補助駆動ラインと、を備え、前記薄膜トランジスタ（ＴＦＴ２）はソース電極及びドレイン電極を有し、前記画素は前記保護層を貫通して前記ソース電極、または前記ドレイン電極のうちの一方と接続される第１電極層を有し、前記駆動ラインは、前記ソース電極及び前記ドレイン電極と同一の層に設けられ、前記補助駆動ラインは、前記第１電極層と同一の層に設けられることを特徴とする。
本発明によれば、ディスプレイ領域に駆動電源を供給する駆動ライン以外に、１つ以上の層より構成される補助駆動ラインを備えることで、駆動ライン線幅を大幅に低減させることができるため、画素の開口率を増大させ、その結果として画面品質を改善することができる。
また、２つ以上の補助駆動ラインを導入することで、駆動電源の供給において発生できる画面位置による駆動電源の電圧降下を減らして、画面品質を改善することができる。
更に、多様な形態の補助駆動ラインレイアウトを可能とすることで、設計仕様による適切な形態の補助駆動ラインを備える平板ディスプレイ装置を提供することができる。
以下、添付図面を参照して、本発明を詳細に説明する。図３には、本発明の一実施例に係る平板ディスプレイ装置の一例である有機電界発光ディスプレイ装置の平面図が概略的に図示されている。
図３に示したように、基板１１０の一面上には、有機電界発光ディスプレイ素子のような発光素子が配置されたディスプレイ領域２００と、ディスプレイ領域２００の外側に沿って塗布されて、基板１１０と封止基板（図４参照）を密封する密封部８００と、各種端子が配置された端子領域７００とが備えられる。
ディスプレイ領域２００と密封部８００との間には、ディスプレイ領域２００に駆動電源を供給するための駆動電源供給ライン３００が配置される。図３は、本発明の一例として示しており、駆動電源供給ラインの配置がこの構成に限定されるものではない。但し、ディスプレイ領域の全体にかけて均一な駆動電源を供給することで、輝度不均一を改善させ得るという点で、駆動電源供給ライン３００は、ディスプレイ領域を囲むように形成されることが好ましい。
駆動電源供給ライン３００は、駆動ライン３１０と接続される。また、駆動ライン３１０は、ディスプレイ領域２００を横切って配置され、保護層（図５参照）１８０の下部に配置されたソース電極（図５参照）１７０ａと電気的に疎通される。
また、ディスプレイ領域２００の外側には、垂直／水平駆動回路部５００、６００が配置される。垂直駆動回路部５００は、ディスプレイ領域２００にスキャン信号を印加するスキャン駆動回路部として用いることもあり、水平駆動回路部６００は、ディスプレイ領域２００にデータ信号を印加するデータ駆動回路部として用いることもあり、これらは場合によって、外装ＩＣやＣＯＧ状に密封領域の外部に配置されることもある。
一方、ディスプレイ領域２００の外側には、ディスプレイ領域２００に電極電源を供給する電極電源供給ライン４１０が配置される。そして、この電極電源供給ライン４１０は、ディスプレイ領域２００の上部に例えば全面形成された第２電極層と、それらの間に形成された絶縁層などのビアホール４３０などを介して電気的な疎通をなす。
駆動電源供給ライン３００、電極電源供給ライン４１０、水平／垂直駆動回路部５００、６００などは配線などを介して、それらのそれぞれの構成要素に対する端子３２０、４２０、５２０、６２０より構成され、密封領域の外側に配置される端子部７００と電気的な疎通をなす。
ディスプレイ領域２００を構成する有機電界発光素子を、図４及び図５を参照して説明する。なお、説明の明確化のために密封基板及び密封薄膜層は省略した。図４には、図３の符号Ｂで示すディスプレイ領域の一画素が概略的に示される。図４には、２つのトップゲート型ＴＦＴと１つのキャパシタとを備える構造の一画素を示している。なお、これは本発明の説明のための一例であり、本発明がこれに限定されるものではない。
図４において、画素の選択を決定する第１ＴＦＴ（ＴＦＴ１）のゲート電極５５は、スキャン信号を印加するスキャンラインから延びる。スキャンラインにスキャン信号のような電気的信号が印加される場合、データラインを介して入力されるデータ信号が、第１ＴＦＴ（ＴＦＴ１）のソース電極５７ａから、第１ＴＦＴ（ＴＦＴ１）の半導体活性層５３を介して第１ＴＦＴ（ＴＦＴ１）のドレイン電極５７ｂに伝達される。
第１ＴＦＴ（ＴＦＴ１）のドレイン電極５７ｂの延長部５７ｃは、キャパシタの第１電極５８ａと接続され、キャパシタの第１電極の他端は、駆動ＴＦＴとしての第２ＴＦＴ（ＴＦＴ２）のゲート電極１５０を形成し、キャパシタの第２電極５８ｂは駆動ライン（図３参照）３１０と電気的に接続される。
一方、図５は、図４に示した線II−IIに沿って切断した部分断面図である。線II−IIの（ａ）〜（ｅ）で表示した部分は、駆動ＴＦＴが配置された部分の断面を示し、（ｅ）〜（ｆ）部分は画素開口部１９４を示し、（ｇ）〜（ｈ）部分は駆動ラインの断面を示す。
第２ＴＦＴ（ＴＦＴ２）の場合、図５に示したように、基板１１０の一面上に形成されたバッファ層１２０の上部に、第２ＴＦＴ（ＴＦＴ２）の半導体活性層１３０が形成される。半導体活性層１３０は、非晶質シリコン層より構成されるか、または多結晶シリコン層より構成されることもある。図面では詳細に示していないが、半導体活性層１３０は、Ｎ＋型またはＰ＋型のドーパントによりドープされるソース及びドレイン領域とチャンネル領域とより構成される。更には、該半導体活性層１３０は、有機半導体からなり得るなど、多様な構成が可能である。
半導体活性層１３０の上部には、第２ＴＦＴ（ＴＦＴ２）のゲート電極１５０が配置される。該ゲート電極１５０は、隣接層との密着性、積層される層の表面平坦性、そして加工性などを考慮して、例えばＭｏＷ、Ａｌ／Ｃｕなどのような物質より形成されることが好ましい。但し、これに限定されるものではない。
ゲート電極１５０と半導体活性層１３０との間には、それらを絶縁させるためのゲート絶縁層１４０が配設される。ゲート電極１５０及びゲート絶縁層１４０の上部には、絶縁層としての中間層１６０が単一層或いは複数層として形成され、その上部には、第２ＴＦＴ（ＴＦＴ２）のソース／ドレイン電極１７０ａ、１７０ｂが形成される。該ソース／ドレイン電極１７０ａ、１７０ｂは、ＭｏＷなどのような金属より形成され、半導体活性層１３０との更に円滑なオームコンタクト（ohmic contact）をなすために、以後に熱処理される。
ソース／ドレイン電極１７０ａ、１７０ｂの上部には、保護及び／または平坦化させるためのパッシベーション層及び／または平坦化層より構成されうる保護層１８０が形成され、その上部には第１電極層１９０が形成される。第１電極層１９０は、保護層１８０に形成されたビアホール１８１を介してソース／ドレイン電極１７０ａ、１７０ｂと電気的な疎通をなす。
ここで、本発明の説明を明確にするために、第１電極層１９０がアノード電極として作用する場合について記述する。なお、本発明がそれに限定されず、第１電極層がカソード電極として構成されうるなど、多様な構成が可能である。第１電極層１９０は、背面発光型である場合、ＩＴＯ膜（Indium Tin Oxide）などの透明電極より構成することができ、前面発光型である場合、Ａｌ／Ｃａの反射電極とＩＴＯなどの透明電極とより構成され得るなど、多様な変形例を備え得る。
一方、本発明の一実施例に係る保護層１８０は、多様な形態より構成され得るが、無機物または有機物より形成されることもあり、単層より形成されるか、または下部にＳｉＮｘ層を備え、上部に、例えばＢＣＢ（benzocyclobutene）またはアクリル（acryl）などのような有機物層を備える二重層より構成されることもあるなど、多様な構成が可能である。
保護層１８０の上部には、第１電極層１９０に対応する領域である画素開口部１９４を除いて、画素を定義するための画素定義層１９１が形成される。画素開口部１９４として第１電極層１９０の一面上には、発光層を含む有機電界発光部１９２が配置され、その上部には、第２電極層４００が全面形成される。
有機電界発光部１９２は、低分子または高分子有機膜より構成され得るが、低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層（Hole Injection Layer：ＨＩＬ）、ホール輸送層（Hole Transport Layer：ＨＴＬ）、ＥＭＬ、ＥＴＬ、ＥＩＬなどが単一あるいは複合構造で積層されて形成されることがあり、使用できる有機材料も銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などを始めとして多様な材料を適用できる。それらの低分子有機膜は、真空蒸着の方法より形成される。
高分子有機膜の場合には、ほぼＨＴＬ及びＥＭＬより備えられた構造を有し、その時、前記ＨＴＬとしてＰＥＤＯＴを使用し、発光層としてＰＰＶ（Poly-Phenylenevinylene）系及びポリフルオレン系などの高分子有機物質を使用し、それをスクリーン印刷やインクジェット印刷方法などより形成しても良いなど、多様な構成が可能である。
有機電界発光部１９２の一面上には、カソード電極としての第２電極層４００が全面蒸着される。また、第２電極層４００は、そのような全面蒸着形態に限定されるものではなく、また発光類型によりＡｌ／Ｃａ、ＩＴＯ、Ｍｇ−Ａｇのような材料より形成されることもあり、単一層でない複数層より形成されることもあり、ＬｉＦなどのようなアルカリまたはアルカリ土金属フッ素層が更に備えられることもあるなど、多様な類型より構成され得る。
一方、図４及び図５に示されたように、本発明に係る電界発光ディスプレイ装置は、駆動ライン３１０ａと層を異ならせるが、駆動ライン３１０ａと電気的な疎通をなす１つ以上の補助駆動ライン３１０ｂを更に備える。
ディスプレイ領域２００（図３参照）の周りに配置される駆動電源供給ライン３００から、ディスプレイ領域２００のそれぞれの画素に駆動電源を供給するための駆動ライン３１０ａは、ディスプレイ領域２００を横切って配置される。また、駆動ライン３１０ａは、例えばＭｏＷなどのようなソース／ドレイン電極１７０ａ、１７０ｂと同じ層であって、即ち、ソース／ドレイン電極１７０ａ、１７０ｂと同時に形成することができる。
図５に示された本発明の一実施例によれば、駆動ライン３１０ａの上部の補助駆動ライン３１０ｂには、第１電極層１９０と同じ層を含み得る。第１電極層１９０は、例えばスパッタリングなどの工程により形成された後、湿式エッチングなどの以後の工程によりパターン化される。その時、補助駆動ライン３１０ｂを形成しようとする部分に対する適切なマスキングにより、第１電極層１９０の形成と同時に補助駆動ライン３１０ｂを形成できる。
特に、電界発光ディスプレイ装置が前面発光型であり、第１電極層１９０がアノード電極として使用される場合、第１電極層１９０は２つ以上の層、即ち図６に示すように、第１電極層１９０は、基板側に向った光の反射のためのＭｇ：Ａｇ、Ａｌなどより構成される反射電極１９０’と、正孔導出が容易であるように適切な一関数を有するＩＴＯなどの透明電極１９０”とより構成され得る。その場合、例えば、Ａｌより構成される反射電極は、約１０００Å〜３０００Åの厚さを有し、ＩＴＯより構成される透明電極は、約１２５Å〜２５０Åの厚さを有する。
その時、補助駆動ライン３１０ｂは、２つ以上の導電層より構成される第１電極層の少なくとも一層と同じ層を含む構成とすることができる。ここで、断線のような製造工程上の問題点を引き起こさず、更に大きい導電性を確保できるように、補助駆動ライン３１０ｂは、図６に示されたように、第１電極層１９０と同じ層３１０ｂ’、３１０ｂ”をいずれも備えることが好ましい。
一方、図７に示された本発明の更に他の一実施例によれば、補助駆動ライン３１０ｃは、第１電極層１９０と同じ層の以外に他の導電層、即ち、半導体活性層１３０のような導電層より構成されることもある。それは、別途の追加的な工程を要さず、半導体活性層のパターン化工程と同時に行われ得るという点で好ましい。
また、図８に示されたように、本発明の更に他の一実施例によれば、補助駆動ライン３１０ｂ、３１０ｃは、２つ以上の層より構成されることもある。即ち、ソース／ドレイン電極と同じ層より形成された駆動ライン３１０ａを挟んで、第１電極層１９０と同じ層より形成される第１補助駆動ライン３１０ｂ、及び半導体活性層１３０と同じ層より形成される第２補助駆動ライン３１０ｃより構成されることもある。また、その時にも第１電極層１９０が複数の電極層を備える場合、第１電極層１９０と同じ層より形成される第１補助駆動ライン３１０ｂが、複数の導電層より構成されることもある。
また、駆動ライン３１０ａと補助駆動ライン３１０ｂ、３１０ｃとの間の電気的な疎通のために、それらの間に介された１つ以上の絶縁層にはビアホールが形成され得る。ビアホールは、駆動ライン及び補助駆動ラインのうち少なくとも２つのラインの間に形成される。即ち、ビアホールを介したラインの間の導通は、駆動ラインと補助駆動ラインとの間及び／または補助駆動ラインの間に行われることもある。また、それらのラインの間の導通のためのビアホールは、大面積化による輝度不均一を更に改善させるために、ディスプレイ領域に配置されることが好ましい。
一方、そのような補助駆動ラインの少なくとも一部は、駆動ラインと平行に配置されることもあり、垂直に交差されることもあるなど、多様な形態より形成され得る。
例えば、図９及び図１０に示されたように、補助駆動ライン３１０ｂは、ストライプ状に配置することができる。また、それらの補助駆動ライン３１０ｂは、駆動ライン３１０ａと平行するストライプ状であることもあり、補助駆動ライン３１０ｂは、駆動ライン３１０ａと交互に配置されることもある。
また、図９及び図１０で、補助駆動ラインの間には１つの画素ラインが配置されたが、図１１に示されたように、それらの補助駆動ラインは、それらの間に２つ以上の画素ラインが配置されるように離れて配置されることもある。
本発明の更に他の一実施例によれば、ディスプレイ領域に対して更に円滑な駆動電源供給のために、補助駆動ライン３１０ｂの少なくとも一部は、図１２に示されたように、メッシュ状に配置されることもあり、その場合、製造工程を単純化させて工程設計が容易に行われるように、図１３に示されたように、メッシュ状の補助駆動ライン３１０ｂにより形成されるメッシュ領域内には、２つ以上の画素が配置されることもある。
一方、画素のレイアウトは、ストライプ状の以外の多様な形態に、例えば図１４に示されたように、千鳥状に構成されることもあるが、その時、補助駆動ライン３１０ｂも千鳥状に配置されることもある。
一方、補助駆動ラインのレイアウトに関する実施例で、補助駆動ラインは、１つの導電層より構成された場合について記述されたが、本発明は、それに限定されず、２つ以上の補助駆動ラインより構成されることもある。例えば、図１５に示されたように、半導体活性層と同じ第１補助駆動ライン３１０ｃと、第１電極層と同じ第２補助駆動ライン３１０ｂとが、それぞれの形態に対して適用され、第１補助駆動ライン３１０ｃと第２補助駆動ライン３１０ｂは、それぞれストライプ状に構成される。また、交互に配置されることもあり、またそれらの補助駆動ラインの間、または駆動ラインと補助駆動ラインとの間に、電気的な疎通のためのビアホールがディスプレイ領域に配置されることもあるなど、多様な構成が可能である。
前記した実施例は、本発明を説明するための一例であって、本発明がそれに限定されるものではない。即ち、前記実施例は、有機電界発光ディスプレイ装置について記述されたが、本発明の範囲内で無機電界発光ディスプレイ装置にも十分に適用され得るなど、補助駆動ラインを備える平板ディスプレイ装置についての思想を含む範囲で多様な変形を考慮できる。
本発明は、添付図面に示された一実施例に基づいて説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施例が可能であるということが理解できる。従って、本発明の真の保護範囲は、特許請求の範囲のみによって決まらねばならない。
本発明に係る平板ディスプレイ装置は、コンピュータモニタ、携帯電話、ＰＤＡのような多様な電子装置に適用することができる。
１１０ 基板
１２０ バッファ層
１３０ 半導体活性層
１４０ ゲート絶縁層
１５０ ゲート電極
１６０ 中間層
１７０ａ、１７０ｂ ソース／ドレイン電極
１８０ 保護層
１８１ ビアホール
１９０ 画素開口部
１９１ 画素定義層
１９２ 有機電界発光部
１９４ 画素開口部
３１０ａ 駆動ライン
３１０ｂ 補助駆動ライン
３１１ ビアホール
４００ 第２電極層
１２０ バッファ層
１３０ 半導体活性層
１４０ ゲート絶縁層
１５０ ゲート電極
１６０ 中間層
１７０ａ、１７０ｂ ソース／ドレイン電極
１８０ 保護層
１８１ ビアホール
１９０ 画素開口部
１９１ 画素定義層
１９２ 有機電界発光部
１９４ 画素開口部
３１０ａ 駆動ライン
３１０ｂ 補助駆動ライン
３１１ ビアホール
４００ 第２電極層
Claims (15)
- 少なくとも１つの薄膜トランジスタと、少なくとも１つの画素と、前記薄膜トランジスタと前記画素の間に設けられた絶縁体の保護層と、を備えたディスプレイ領域を有する平板ディスプレイ装置において、
前記ディスプレイ領域に駆動電源を供給するための駆動ラインと、
前記駆動ラインと異なる層に設けられ、前記駆動ラインと電気的な疎通をなす少なくとも１つの補助駆動ラインと、を備え、
前記薄膜トランジスタ（ＴＦＴ２）はソース電極及びドレイン電極を有し、
前記画素は前記保護層を貫通して前記ソース電極、または前記ドレイン電極のうちの一方と接続される第１電極層を有し、
前記駆動ラインは、前記ソース電極及び前記ドレイン電極と同一の層に設けられ、
前記補助駆動ラインは、前記第１電極層と同一の層に設けられることを特徴とする平板ディスプレイ装置。 - 前記駆動ラインは、前記ソース電極及び前記ドレイン電極と同一の物質で形成されることを特徴とする請求項１に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記補助駆動ラインは、前記第１電極層と同一の物質で形成されることを特徴とする請求項１に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記第１電極層は、２つ以上の導電層を備え、前記補助駆動ラインには、前記第１電極層の少なくとも一層と同一の層が含まれることを特徴とする請求項１に記載の平板ディスプレイ装置。
- 少なくとも１つの薄膜トランジスタと、少なくとも１つの画素と、前記薄膜トランジスタと前記画素の間に設けられた絶縁体の保護層と、を備えたディスプレイ領域を有する平板ディスプレイ装置において、
前記ディスプレイ領域に駆動電源を供給するための駆動ラインと、
前記駆動ラインと異なる層に設けられ、前記駆動ラインと電気的な疎通をなす少なくとも１つの補助駆動ラインと、を備え、
前記薄膜トランジスタ（ＴＦＴ２）は、
半導体活性層と、
前記半導体活性層と異なる層に設けられ、該半導体活性層に接続されるソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記画素は、前記保護層を貫通して前記ソース電極、または前記ドレイン電極のうちの一方と接続される第１電極層を有し、
前記駆動ラインは、前記ソース電極及び前記ドレイン電極と同一の層に設けられ、
前記補助駆動ラインには、前記半導体活性層と同一の層に設けられることを特徴とする平板ディスプレイ装置。 - 前記第１電極層と同一の層に設けられる、もう１つの補助駆動ラインを備えることを特徴とする請求項５に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記補助駆動ラインの少なくとも一部は、前記駆動ラインと平行に配置されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記補助駆動ラインの少なくとも一部は、ストライプ状に配置されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記補助駆動ラインの少なくとも一部は、前記駆動ラインと平行していることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記補助駆動ラインの少なくとも一部は、前記駆動ラインと交互に配置されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記補助駆動ラインのうち少なくともいずれか１つの補助駆動ラインと、他の１つの補助駆動ラインとの間には、少なくとも１つ以上の駆動ラインが配置されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記補助駆動ラインの少なくとも一部は、メッシュ状に配置されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記補助駆動ラインによって形成されるメッシュ領域のうち少なくとも１つのメッシュ領域内には、１つ以上の画素が配置されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記補助駆動ラインの少なくとも一部は、千鳥状に配置されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置。
- 前記ディスプレイ領域の１つ以上の画素には、電界発光部が備えられることを特徴とする請求項１〜６のうちのいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置。
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