JP4177395B2 - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関する。

磁気記録媒体には磁気テープや磁気ディスク、磁気カード等がある。その一つである磁気テープの用途には、オーディオ用、ビデオ用、コンピュータ用等、種々の用途がある。コンピュータ用のデータバックアップ用テープについては、バックアップの対象となるハードディスクの大容量化にともない、磁気テープ１巻当たりの記録容量が数百ＧＢの磁気テープが商品化されている。しかし、ハードディスクのさらなる大容量化にともない、１ＴＢを超える大容量バックアップテープが要望されることは必至であり、よって、磁気テープのさらなる大容量化は不可欠である。

大容量化の方法には、記録再生装置からのアプローチと記録媒体からのアプローチがある。

記録再生装置からのアプローチは、例えば，記録信号の短波長化やトラックピッチの狭幅化である。この場合、磁気テープからの漏れ磁束が小さくなるため、再生ヘッドには、微小磁束でも高い出力が得られるＭＲヘッドが使用される場合が多い。

媒体からのアプローチは、磁性粉末の微粒子化と、磁性粉末の磁気特性の改善である。

従来、コンピュータ用のデータバックアップ用テープを構成する磁気粉末には、オーディオ用のテープや家庭用ビデオテープに使用されていた磁性粉末（例えば、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、酸化クロム等の磁性粉末）と同様の磁性粉末が用いられていた。現在では、粒子径が２５ｎｍ〜６５ｎｍ程度の針状の強磁性鉄系金属粉末を用いることが提案されている。

針状の磁性粉末は、その形状磁気異方性により磁気特性を発現させているため、粒子径が減少すると保磁力（Ｈｃ）が低下し短波長記録特性が低下する傾向がある。しかし、粒子径が５ｎｍ〜３０ｎｍ程度と小さくても結晶磁気異方性により磁気特性を発現する、板状や粒状の、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末や窒化鉄磁性粉末等（微粒子磁性粉末）については、磁気記録媒体の材料として用いることが提案されている。

しかし、上記針状や粒状や板状等のいずれの磁性粉末を使用する場合でも、磁性層中の空隙を小さくして磁性層の充填性を高くしなければ、十分な大容量化は実現できない。同時に、前述した記録再生装置からのアプローチであるＭＲヘッドの使用に適応させるには、磁性層表面の粗度を小さくし平滑にする必要がある。そのため、製造技術からのアプローチとして、溶媒が除去されることにより磁性層となる磁性塗膜の乾燥方法が種々提案されている（例えば特許文献１〜４等）。

特許文献１には、配向用のマグネットとドライヤとを備えた配向装置を複数台備えた磁気記録媒体製造装置が開示されている。この製造装置では、各ドライヤから供給される温風の風速や温度を、配向装置毎にコントロールできる。そして、この製造装置では、複数の配向装置から供給される温風の風速が、非磁性支持体の進行方向に沿って順次増加するように設定されている。

特許文献２には、乾燥ゾーンを２以上含む乾燥装置が開示されている。この乾燥装置では、最も上流に低温乾燥ゾーンが配置されており、この低温乾燥ゾーンより下流側に高温乾燥ゾーンが配置されている。低温乾燥ゾーンには、低温かつ低湿のガスを吹出し可能とする低温ガス吹出ノズルが配置されており、高温乾燥ゾーンには、上記低温ガス吹出ノズルから吹出されるガスよりも高温のガスを吹出可能とする高温ガス吹出ノズルが配置されている。

特許文献３には、磁気記録媒体の製造方法の一例が開示されている。この製造方法では、磁性塗料に含まれる溶媒の沸点を１３０℃以下とする。そして、恒率乾燥過程と減率乾燥過程とを含む乾燥処理中において、減率乾燥過程以後の雰囲気温度を４０℃〜乃至８０℃としている。また、同文献において、恒率乾燥過程における雰囲気温度は、通常、減率乾燥過程におけるそれよりも高い。よって、同文献に記載の磁気記録媒体の製造方法では、乾燥速度（溶媒の単位時間当たりの除去量）が一定になる瞬間はあるものの、積極的な恒率乾燥は行なわれていない。なお、恒率乾燥過程では、乾燥速度が一定であるのに対して、減率乾燥過程では、塗膜中の溶媒減少に伴い乾燥速度も低下している。

特許文献４には、磁気記録媒体およびその製造方法が開示されている。この磁気記録媒体の磁性層に含まれる残存溶媒量は５ｍｇ／ｍ²である。特許文献４には、乾燥処理中において、恒率乾燥過程における乾燥速度を１〜２０ｋｇ／ｍ²・ｈｒとすることが開示されている。この乾燥速度では恒率乾燥期間は０．１秒以下となるが、このように短時間では、恒率乾燥を積極的に行うことはできない。

以上のとおり、特許文献１〜４に開示された製造装置や製造方法等では、いずれも、比較的長い恒率乾燥過程を経ることなく減率乾燥過程へと移行している。その理由は、恒率乾燥過程を長くすると、乾燥設備および配向設備の大型化や、生産速度低下等の不利益を伴うからである。
特開平１０−１２４８６６号公報 特開２００４−１９９５８号公報 特開昭６３−４２０３０号公報 特開平４−２２９４１５号公報

しかし、これらの文献に記載の方法では、磁性層における磁性粉末の充填率を十分に高くできないし、平滑性も不十分となる。

そこで、本発明は、上記状況に鑑み、磁性層における磁性粉末の充填率が高く、かつ平滑性が高い磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。

課題を解決するための手段
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体の一方の主面側に磁性層が配置された磁気記録媒体の製造方法であって、前記非磁性支持体の一方の主面側に、磁性粉末と第１バインダ樹脂と第１溶媒とを含む磁性塗料を塗布して磁性塗膜を形成し、前記磁性塗膜から前記第１溶媒を除去する乾燥処理を所定の期間行いながら、前記磁性塗膜に含まれる磁性粉末を所定方向に磁場配向させる、磁性層形成工程を含み、前記磁性層形成工程において、前記乾燥処理は、前記磁性塗膜の表面温度の上昇が停止して略一定の温度に達するまで前記磁性塗膜を加熱する予熱過程と、前記予熱過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が略一定に保たれる恒率乾燥過程と、前記恒率乾燥過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が、前記恒率乾燥過程を行っている際のそれよりも高くなり、前記磁性塗膜を固化させる減率乾燥過程とからなり、前記恒率乾燥過程が行われる恒率乾燥期間は０．２秒以上であり、前記第１溶媒は１種の溶媒からなるか、または沸点の異なる２種以上の溶媒からなり、前記第１溶媒に含まれる溶媒のうちの沸点が最も低い溶媒の沸点Ｔ _b と、前記恒率乾燥期間中における前記磁性塗膜の表面温度Ｔ _s との差（Ｔ _b −Ｔ _s ）が、１℃〜５０℃であることを特徴とする。

本発明の磁気記録媒体は、上記本発明の磁気記録媒体の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする。

本発明では、磁性層形成工程において、磁性塗膜の表面温度が、０．２秒以上略一定となる、恒率乾燥が行なわれるので、磁性粉末の充填率が高く、かつ、表面の平滑性が優れた磁性層を形成できる。よって本発明では、より大容量化され高出力可能な磁気記録媒体およびその製造方法を提供できる。

本発明者らは、磁性塗料の塗布後に行なわれる、乾燥処理の条件や磁場配向の条件等について検討を重ねた結果、乾燥処理について従来は想定し得なかった条件を選択することにより、磁性粉末の充填性および表面の平滑性が優れた磁性層が得られることを見出した。本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する前に、先ず、図４を用いて従来の磁気記録媒体の製造方法における乾燥処理について説明する。

なお、図４において、実線からなる曲線は、塗膜中の溶媒の含有率の変化を示しており、点線からなる曲線は塗膜表面の温度変化を示している。

非磁性支持体の一方の主面側に磁性塗料を塗布することによって形成された磁性塗膜に対して、乾燥機内で乾燥処理が開始されると、図４に示すように、塗膜表面は、溶媒が急激に蒸発し始める温度に達するまで上昇する（予熱期間）。この予熱期間中における塗膜中の含溶媒率の減少は少ない。この期間を過ぎると、溶媒の蒸発が本格化する。従来例では、温度が比較的高く、かつ、風速が比較的大きい熱風を塗膜に供給している。そのため、塗膜から溶媒が蒸発することによって塗膜から奪われる蒸発潜熱よりも、塗膜が周囲から受け取る熱量の方が圧倒的に多い。よって、極めて短時間のうちに溶媒の蒸発が行われる。塗膜の表面温度Ｔｓについては急上昇し、塗膜の含溶媒率は急激に減少する。そのうちに、塗膜中の溶媒はほとんどなくなり、塗膜が固定化され、塗膜の表面温度Ｔｓは乾燥機内の雰囲気温度に近づく（減率乾燥期間）。なお、「固定化」とは、磁化容易軸が戻り配向しない状態となることを意味する。

塗膜に含まれる磁性粉末の磁化容易軸を揃える磁場配向については、従来、塗布終了後から減率乾燥期間が終了する前までの間に行われていた。磁場配向は塗膜に外部から磁界を印加して行う。図４に示した従来の磁気記録媒体の製造方法における乾燥処理では、比較的短時間で溶媒の除去（乾燥）が完了するので、塗布速度を大きくすることができ、乾燥機長も短くでき、磁場配向に必要な設備も小さくてすむ。そのため、このような乾燥処理を行う従来の磁気記録媒体の製造方法は、生産効率が良く、設備投資も少なくて済むという利点を有している。しかし、この製造方法は、高生産効率化およびコスト低減に有利である一方で、磁気記録媒体を構成する磁性層における磁性粉末のさらなる高充填率化および平滑化については不十分であった。

一方、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法では、磁性塗膜の表面温度Ｔｓについて、図１に示すような温度管理がなされた乾燥処理を経て、磁性層を得る。なお、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に直接磁性層が設けられた単層構造の磁気記録媒体のほか、非磁性支持体上に非磁性層を介して磁性層が設けられた重層構造の磁気記録媒体等にも適用される。

図１に示すように、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても従来の製造方法の場合と同様に、まず、磁性塗膜の表面の温度は、磁性塗膜中の第１溶媒が急激に蒸発し始める温度にまで上昇される（予熱期間）。その後、磁性塗膜の表面温度Ｔｓは、０．２秒以上（恒率乾燥期間）略一定に保たれる。恒率乾燥期間中は、磁性塗膜から第１溶媒が蒸発することによって磁性塗膜から奪われる蒸発潜熱と、磁性塗膜が周囲から受け取る熱量との釣合いがほぼ取れている。そのため、磁性塗膜の表面温度Ｔｓは略一定に保たれる。この間は、磁性塗膜の含溶媒率がほぼ定率で減少する。その後、磁性塗膜中の第１溶媒がほとんどなくなると、塗膜は固定化され、第１塗膜の表面温度Ｔｓは乾燥機内雰囲気の温度に近づいていく（減率乾燥期間）。

このように、乾燥処理中に、０．２秒以上の恒率乾燥期間を設けると、第１溶媒を含む流動性のある磁性塗膜中で沸騰等に伴う激しい流動が生じたり、気泡が発生したりすることが抑制される。また、乾燥処理中に、恒率乾燥期間を積極的に設けることによって、磁性塗膜の含溶媒率がほぼ定率で減少する期間が長くなり、よって、第１溶媒の除去に伴って磁性塗膜中に発生し得る空隙も少なくなる。そのため、磁性層中に磁性粉末をより密に充填させることが可能となる。さらに、得られる磁性層の表面の平滑性も向上するので、磁気記録媒体の出力が向上する。

塗膜の厚さ（以下「ウエット厚さ」とも言う。）は乾燥すると、乾燥前の１／３〜１／８になる。磁気記録媒体が非磁性支持体上に直接磁性層が配置された単層構造の場合、磁性層の厚さ（以下「ドライ厚さ」ともいう。）は、好ましくは０．１μｍ〜３μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜２μｍである。よって、磁性塗料の塗布は、ウエット厚さが好ましくは０．３μｍ〜２４μｍ、より好ましくは１．５μｍ〜１６μｍ、となるように行なわれると好ましい。磁気記録媒体が非磁性支持体上に非磁性層を介して磁性層が設けられた重層構造の場合、磁性層の厚さと非磁性層の厚さの総和は、好ましくは０．１μｍ〜３μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜２．０μｍである。そのため、非磁性塗膜（乾燥後、非磁性層となる）の上に、ウエット・オン・ウエットで磁性塗膜が形成される場合には、磁性塗膜厚さと非磁性塗膜の厚さの総和は、好ましくは０．３μｍ〜２４μｍであり、より好ましくは１．５μｍ〜１６μｍである。この場合、磁性塗膜の厚さは、好ましくは０．０３μｍ〜１．６μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜０．８μｍであり、非磁性塗布膜の厚さは、好ましくは０．２７μｍ〜２２．４μｍ、より好ましくは１．４μｍ〜１５．２μｍである。

恒率乾燥期間は、０．２秒以上であることを要する。非磁性塗膜上に、ウエット・オン・ウエットで磁性塗膜が形成される場合も同様に、恒率乾燥期間は０．２秒以上であることを要する。恒率乾燥期間が短すぎると（換言すると、溶媒の除去速度が速すぎると）、乾燥中の磁性塗膜内で激しい対流が生じたり、気泡が発生したりする。そのため、得られる磁性層における磁性粉末の充填性や磁性層の平滑性が損なわれるからである。

恒率乾燥期間の上限について特に制限はないが、長すぎると、生産性が著しく低下する。また、固定化に時間がかかるため、配向磁石がたくさん必要になり、設備にコストがかかる。そのため、恒率乾燥期間の上限は１０秒以下であると好ましい。また、充填性、平滑性、および配向性をよりいっそう高める観点から、恒率乾燥期間は、１秒以上１０秒以下であるとより好ましい。

恒率乾燥期間中の、磁性塗膜の表面温度Ｔｓは、磁性塗膜に含まれる第１溶媒の沸点等に応じて異なる。第１溶媒は１種の溶媒からなるか、または、沸点の異なる２種以上の溶媒からなるが、第１溶媒に含まれる１種以上の溶媒のうちの沸点が最も低い溶媒の沸点Ｔ_bと磁性塗膜の表面温度Ｔｓと差（Ｔ_b−Ｔ_s）は、１℃〜５０℃である。具体的には、恒率乾燥期間中の磁性塗膜の表面温度Ｔｓは３０℃〜８０℃であると好ましいので、上記Ｔ_bは、この温度範囲のいずれかの温度よりも１℃〜５０℃高い。このような溶媒を選択することにより、恒率乾燥期間の制御がしやすくなる。

恒率乾燥中の磁性塗膜の表面温度Ｔｓの制御は、従来公知の方法を用いることができる。基本的には、磁性塗膜から第１溶媒が蒸発することによって磁性塗膜から奪われる蒸発潜熱と、磁性塗膜が周囲から受け取る熱量との釣合いがほぼ取れるようにすればよい。具体的には、加熱手段としてドライヤ等を用い、熱風の温度や風速、磁性塗膜と加熱手段との距離等を適宜調節すればよい。加熱手段として、遠赤外線ヒータを用いてもよい。これらの加熱手段はそれぞれ単独で用いてもよいし、両方を組み合わせて用いてもよい。

蒸発した第１溶媒を乾燥処理雰囲気外に排出させる方法についても、特に制限はなく、従来公知の方法を用いて行えばよい。例えば、蒸気の状態で上記雰囲気外に排出させてもよいし、凝縮手段によって一旦凝縮させてから上記雰囲気外に排出させてもよい。

磁性塗膜の形成に用いられる磁性塗料の全成分のうちの、第１溶媒を除く残りの成分（以下、「溶媒除外成分」ともいう。）の総濃度は、１０〜５０ｗｔ％が好ましく、２０〜３５ｗｔ％がより好ましい。磁性塗料中の溶媒除外成分濃度が低すぎると粘度が小さすぎて溶媒除外成分の分散性が低下し、磁性塗膜の均一性が低下するからである。一方、磁性塗料中の溶媒除外成分濃度が高すぎると粘度が大きくなりすぎて、磁性塗料の塗布適性が低下するからである。よって、塗料における第１溶媒の含有量は５０〜９０ｗｔ％が好ましく、６５〜８０ｗｔ％がより好ましい。

磁性塗料に含まれる第１溶媒は、従来公知の磁性層形成用の塗料に含まれる溶媒であれば特に制限はないが、例えば、メチルエチルケトン（沸点８０℃）、シクロヘキサノン（沸点１５６℃）、メチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン（沸点６６℃）、ジオキサン（沸点１０１℃）等のエーテル系溶媒、酢酸エチル（沸点７７℃）、酢酸ブチル（沸点１２７℃）等の酢酸エステル系溶媒、トルエン（沸点１１１℃）等が挙げられる。これらは、一種類だけで用いてもいいし、２種以上組み合せて用いてもよい。なかでも、第１バインダ樹脂に対する溶解性、磁性粉末に対する分散性、蒸発速度、およびコストの観点から、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、またはトルエン等が好ましい。

上記のとおり、磁気記録媒体が単層構造の場合、磁性塗膜の厚みは、０．３μｍ〜２４μｍであると好ましく、１．５μｍ〜１６μｍであるとより好ましい。また、磁気記録媒体が重層構造の場合、磁性塗膜の厚さは、０．０３μｍ〜１．６μｍであると好ましく、０．１μｍ〜０．８μｍであるとより好ましい。これらの範囲が好ましいのは、磁性塗膜の厚さが薄すぎると、均一な磁性塗膜の形成が困難となり、磁性塗膜の形成自体も困難となるからである。また、磁性塗膜の厚さが厚すぎると（すなわち磁性層の厚さが厚すぎると）、電磁変換特性が低下したり、コスト高になるからである。

乾燥処理と並行して行なわれる磁場配向は、磁気記録媒体の種類に応じて従来公知の方法で行える。具体的には、磁場配向には、例えば、磁場を発生させる、永久磁石やソレノイドコイル等を単独で、または組み合せて使用すればよい。

例えば、長尺な磁気テープを製造する製造ライン中、非磁性支持体の一方の主面側に磁性塗料が塗布される領域を塗布ゾーンとする。塗布ゾーンにて形成された磁性塗膜に対して乾燥処理を行う領域を乾燥ゾーンとする。乾燥ゾーンでは、磁性塗膜に対して、予熱、恒率乾燥、減率乾燥がこの順で行なわれる。この場合、塗布ゾーンと乾燥ゾーンとの間に永久磁石を配置し、乾燥ゾーンには、複数のソレノイドコイルを配置する。乾燥ゾーン中では、磁性塗膜に対してソレノイドコイルを用いた磁場配向を行って、磁場配向を完了させると好ましい。磁場配向が効率的にかつ確実に行えるからである。予熱中の磁性塗膜に対して、ソレノイドコイルを用いた磁場配向を行ってもよい。しかし、配向設備が大きくなりすぎて場所を取りコストが高くなるので、予熱中の磁性塗膜に対しては、必ずしも磁場配向を行う必要はない。

恒率乾燥によって磁性塗膜中の殆どの溶媒が除去される場合、少なくとも減率乾燥が開始される直前までは、磁性塗膜に対して、ソレノイドコイルを用いた磁場配向がなされると好ましい。溶媒除去中の磁性塗膜が磁場から開放されると、一方向に揃っていた磁化容易軸の配向性が損われるおそれがあるからである。

上記永久磁石により印加される外部磁場の強さは、５ｋＯｅ〜１５ｋＯｅが好ましい。ソレノイドコイルにより印加される外部磁場の強さは、１.５ｋＯｅ〜１０ｋＯｅが好ましい。

次ぎに、図２を用いて、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例についてより具体的に説明する。

まず、塗布ゾーンＡにて、帯状の非磁性支持体７の一方の主面側に磁性粉末を含む磁性塗料８を塗布して、磁性塗膜を形成する。次いで、非磁性支持体７と磁性塗膜とを含む帯状の積層体Ｔを、一対の永久磁石９間に形成された反発磁場中を通過させる。次いで、乾燥ゾーンＢに搬入する。

磁性塗料の塗布方法は、例えば、グラビアコート法、ダイコート法等の従来から公知の方法にて行う。搬送手段は、例えば、複数のガイドロール５等から構成されている。

乾燥ゾーンＢ内には、複数の熱風供給部１、ヒータ４、溶媒蒸気を含んだ熱風を排気する排気部２、複数のソレノイドコイル３が配置されている。複数のソレノイドコイル３は、例えば、製造ラインの進行方向に沿ってほぼ等間隔に配置されている。熱風供給部１は、例えば、熱風を吹出し可能なドライヤである。熱風供給部１や排気部２の数および位置等については、塗布速度、乾燥ゾーン長さ等を考慮して適切に決定される。

複数の熱風供給部１は、全ソレノイドコイル３よりも上流側に配置された第１熱風供給出部１ａと、各ソレノイドコイル３間に配置された第２熱風供給部１ｂと、全ソレノイドコイル３よりも下流側に配設された第３熱風供給部１ｃとを含む。ここで、「上流側」とは、積層体Ｔが搬送される方向において、塗布ゾーンＡに近い側をいい、「下流側」とは、塗布ゾーンＢから遠い側をいう。

乾燥ゾーンＢに搬入された積層体Ｔは、先ず、複数の第１熱風供給部１ａから吹出された熱風により予熱される。第１熱風供給部１ａから供給される熱風の温度は比較的低く、風速も比較的遅いほうが好ましい。好ましい温度、好ましい風速は、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜に含まれる溶媒の種類（溶媒組成）、磁性塗料の塗布速度等により異なるが、通常、温度は３５〜９０℃が好ましく、風速は０．５〜１５ｍ／秒が好ましい。熱風の温度が低すぎ、および／または熱風の風速が遅すぎると、予熱が十分に行われず、恒率乾燥の開始も遅くなるからである。また、熱風の温度が高すぎ、および／または熱風の風速が速すぎると、恒率乾燥の際の磁性塗膜の表面温度Ｔｓが高くなりすぎ、恒率乾燥期間を好ましい範囲に制御することが困難になるからである。

第１熱風供給部１ａと積層体Ｔとの距離は１ｃｍ〜１００ｃｍが好ましい。上記距離が短すぎると、熱風が磁性塗膜に強く当り過ぎて、乾燥むらが発生したり、磁性塗膜内部の乾燥が不均一になるからである。また、上記距離が長すぎると、熱風が磁性塗膜の表面に十分に届かなくなって、乾燥が十分に行えなくなるからである。

ヒータ４は、例えば遠赤外線ヒータである。遠赤外線ヒータは、発熱体の面積がドライヤのそれより遥かに大きく、一度に広い面積を均一に加熱することができる。ヒータ４は、必ずしも必要ではないが、ヒータ４を設けておけば、積層体Ｔを構成する磁性塗膜をより均一に予熱でき、好ましい。

次ぎに、予熱された積層体Ｔは、第２熱風供給部１ｂから供給される熱風により、０．２秒以上、磁性塗膜の表面温度Ｔｓが略一定に保たれるように加熱される。上記「略一定」には、厳密に一定である場合のみならず、略一定の場合も含まれ、例えば、±１℃の範囲内にある場合も含まれる。

磁性塗膜の表面温度Ｔｓが略一定に保たれる恒率乾燥期間は、熱風の温度、風速等により制御できる。上記恒率乾燥期間は、０．２秒以上であることを要する。恒率乾燥期間が短すぎると（換言すると、溶媒の除去速度が速すぎると）、乾燥中の磁性塗膜内で激しい対流が生じたり、気泡が発生したりする。そのため、磁性層の充填性や平滑性が損なわれるからである。恒率乾燥期間の上限について特に制限はないが、長すぎると、恒率乾燥期間を設ける効果が飽和に達するばかりではなく、生産性が著しく低下したり、設備が大型化して生産コストが高くなる。そのため、恒率乾燥期間の上限は１０秒以下であると好ましい。充填性および平滑性のみならず、配向性をも高める観点から、恒率乾燥間は、１秒以上１０秒以下であるとより好ましい。

恒率乾燥中の磁性塗膜の表面温度Ｔｓは、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜中の溶媒組成、磁性塗料の塗布速度により異なるが、３０℃〜８０℃であると好ましく、４０℃〜７０℃であるとより好ましい。塗膜の表面温度Ｔｓをこれらの範囲に制御することにより、恒率乾燥期間を好ましい範囲に制御することができるからである。

第２熱風供給部１ｂから供給される熱風の、好ましい温度、好ましい風速は、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜中の溶媒組成、磁性塗料の塗布速度等により異なるが、温度は４０〜１００℃が好ましく、風速は０．５〜１５ｍ／秒が好ましい。熱風の温度が低すぎ、および／または熱風の風速が遅すぎると、恒率乾燥期間が長くなりすぎて生産効率が低下するからである。また、熱風の温度が高すぎ、および／または熱風の風速が速すぎると、恒率乾燥期間が短くなりすぎて、磁性粉末の磁性層における充填率が低くなり、磁性層表面の平滑性が劣化するからである。

第２熱風供給部１ｂと積層体Ｔとの距離は１ｃｍ〜１００ｃｍが好ましい。上記距離が短すぎると、熱風が磁性塗膜に強く当り過ぎて、乾燥むらが発生したり、磁性塗膜内部の乾燥が不均一になるからである。また、上記距離が長すぎると、熱風が磁性塗膜の表面に十分に届かなくなって、乾燥が十分に行えなくなるからである。

次に、第２熱風供給部１ｂ下を通過した積層体Ｔは、第３熱風供給部１ｃから吹出された熱風によりさらに加熱される。第３熱風供給部１ｃにより供給される熱風の温度は比較的高く、風速も比較的速いほうが好ましい。恒率乾燥時よりも、より多くの熱を磁性塗膜に供給することにより、磁性塗膜中に残った第１溶媒を比較的短時間でできるだけ除去して、減率乾燥期間を短縮化するためである。これにより、恒率乾燥を所定の期間行うことにより伴う設備の大型化を抑制できる。また、磁性塗膜中の最終残存溶媒量を少なくして、磁性層の走行耐久性を向上させることができる。ここで、磁性塗膜中の最終残存溶媒量とは、乾燥処理を経ても除去しきれなかった微量溶媒の残存量である。

第３熱風供給部１ｃから供給される熱風の好ましい温度、好ましい風速は、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜に含まれる溶媒の種類（溶媒組成）、磁性塗料の塗布速度等により異なるが、恒率乾燥時よりも、より多くの熱が磁性塗膜に供給されるべく、通常、温度は６０〜１２０℃が好ましく、風速は０．５〜３０ｍ／秒が好ましい。熱風の温度が低すぎ、および／または熱風の風速が遅すぎると、磁性塗膜中の最終残存溶媒量が多くなって、磁性層の走行耐久性が低下するからである。また、熱風の温度が高すぎ、および／または熱風の風速が速すぎると、非磁性支持体が熱変形する場合があるからである。

第３熱風供給部１ｃと積層体Ｔとの距離は１ｃｍ〜１００ｃｍが好ましい。上記距離が短すぎると、熱風が磁性塗膜に強く当り過ぎて、乾燥むらが発生したり、磁性塗膜内部の乾燥が不均一になるからである。また、上記距離が長すぎると、熱風が磁性塗膜の表面に十分に届かなくなって、乾燥が十分に行えなくなるからである。

必要に応じて、製造ラインの、第３熱風供給部１ｃよりさらに下流側に、ドライヤや遠赤外線ヒータ等の加熱手段を設けて、磁性塗膜中の微量の最終残存溶媒を少なくすれば、磁性層の耐久性を向上させることができる。

なお、図２を用いて説明した例では、熱風の供給方向は、積層体Ｔの進行方向と直交しているが、熱風の供給方向はこの例に限定されない。恒温乾燥期間を好ましい範囲に制御するために、例えば、熱風供給部１から供給される熱風が下流側から上流側へ流れるように、熱風供給部１を傾けてもよい。また、排気部２の位置および個数を適切に設定することで、恒温乾燥期間を所望の範囲に調整することもできる。

また、第１熱風供給部１ａ，第２熱風供給部１ｂ，第３熱風供給部１ｃから供給される熱風の温度および風速は、必ずしも相互に異なっている必要はなく、例えば、いずれも同じであってもよい。しかし、例えば、恒率乾燥期間を２秒以上確保しながら、第１熱風供給部１ａから供給される熱風、第２熱風供給部１ｂから供給される熱風、および第３熱風供給部１ｃから供給される熱風について、温度および風速を同じにすると、乾燥ゾーンのゾーン長さが長くなり、さらには、磁場配向を行なうために必要な設備も大きくなる。そのため、熱風供給部等の加熱手段によって供給される熱量は、第１熱風供給部１ａ、第２熱風供給部１ｂ，第３熱風供給部１ｃの順で大きいと好ましい。

以上、非磁性支持体の一方の主面上に直接磁性層が配置される単層構造の磁気記録媒体の製造方法を例に挙げて説明したが、非磁性支持体の一方の主面上に非磁性層を介して磁性層が配置される重層構造の磁気記録媒体においても、同様にして製造できる。

次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法によって製造される磁気記録媒体の一例について説明する。この磁気記録媒体の製造方法の一例によって製造される磁気記録媒体１０は、図３に示すように、非磁性支持体１１の一方の主面上に、非磁性層１２、磁性層１３がこの順に配置されている。そして、非磁性支持体１１の他方の主面上には、バックコート層１４が配置されている。しかし、非磁性層１２およびバックコート層１４は必ずしも必要ではなく、あってもなくてもよい。

なお、本願において、強磁性粉末の磁気特性は、いずれも外部磁場１２７３．３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）をかけたときに、試料振動形磁束計で測定した値である。

また、本願において、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて撮影した写真から１００個の粒子の最大径（針状粉では長軸径、板状粉では板径）をそれぞれ実測し、これらの値を平均した値（数平均粒子径である。

〈非磁性支持体〉
非磁性支持体１１の厚さは、磁気記録媒体の用途によって異なるが、通常、２μｍ〜８μｍであり、より好ましくは２．５μｍ〜６μｍである。非磁性支持体１１の厚さが薄すぎると磁性塗膜の形成や、非磁性塗料を用いて形成される非磁性塗膜の形成が難しく、磁気記録媒体の強度が小さくなるからである。また、非磁性支持体１１の厚さが厚すぎると、磁気記録媒体全厚が厚くなり、例えば磁気テープの場合１巻当りの記録容量が小さくなるからである。

非磁性支持体１１の長手方向のヤング率は６ＧＰａ（６１２ｋｇ／ｍｍ²）以上であると好ましく、８ＧＰａ（８１６ｋｇ／ｍｍ²）以上であるとより好ましい。上記ヤング率が小さすぎると、磁気テープの走行が不安定になるからである。また、ヘリキャルスキャン方式で情報が記録される磁気テープでは、長手方向（ＭＤ）のヤング率／幅方向（ＴＤ）のヤング率が、０．６０〜０．８０であると好ましく、０．６５〜０．７５であるとより好ましい。（ＭＤのヤング率／ＴＤのヤング率）が小さすぎたり大きすぎたりすると、メカニズムは現在のところ不明であるが、磁気ヘッドのトラックの入側と出側との間の出力のばらつき（フラットネス）が大きくなるためである。上記フラットネスは、（ＭＤのヤング率／ＴＤのヤング率）が０．７０付近のときに最小になる。リニアレコーディング方式により情報が記録される磁気テープでは、理由は明らかではないが、（ＭＤのヤング率／ＴＤのヤング率）が０．７０〜１．３０であると上記フラットネスを小さく抑えることができ、好ましい。これらの特性を満足する非磁性支持体１１には、例えば、二軸延伸された芳香族ポリアミドベースフィルム、二軸延伸された芳香族ポリイミドフィルム等が挙げられる。

〈非磁性層〉
後述のとおり、厚さ損失を少なくし、または、短波長で情報を記録した際の分解能を大きくするためには、磁性層１３の厚さを０．２μｍ未満にすると好ましい。磁性層１３の厚さを０．２μｍ未満とする場合、磁性層１３の耐久性を確保し、かつ、形成過程において磁性塗料を均一性よく塗布可能とするために、非磁性支持体１１と磁性層１３との間に非磁性層１２を設けると好ましい。非磁性層１２は、例えば、非磁性粉末と第２バインダ樹脂等を含んでいる。非磁性層１２に含まれる第２バインダ樹脂には、例えば磁性層１３を構成する第１バインダ樹脂と同様のバインダ樹脂が用いられる。

非磁性層１２の厚さは、０．２μｍ以上２．０μｍ以下が好ましく、１．５μｍ以下がより好ましく、０．５μｍ以下がさらにより好ましい。非磁性層１２の厚さが薄すぎると、非磁性支持体の表面の凹凸の影響が磁性層１３にも及び、非磁性層１２を設けることによる磁性層１３の厚さむらの低減効果、耐久性の確保効果が小さくなるからである。また、非磁性層１２の厚さが厚すぎると、磁気テープの全厚が厚くなり過ぎ磁気テープ１巻当りの記録容量が小さくなるからである。なお、非磁性支持体の表面の凹凸は、磁性層の平滑性のレベルと比較するとかなり大きい。

非磁性粉末の成分としては、カーボンブラック、酸化チタン、酸化鉄、酸化アルミニウム等が挙げられ、通常は、カーボンブラックが単独で用いられるか、カーボンブラックと、酸化チタン、酸化鉄、酸化アルミニウム等の他の非磁性粉末とが混合して用いられる。厚さむらの少ない塗膜を形成して、平滑な非磁性層１２を形成するためには、粒度分布がシャープな非磁性粉末を用いると好ましい。非磁性粉末の平均粒子径は、非磁性層１２の均一性、表面平滑性、剛性の確保、および導電性確保の観点から、例えば１０ｎｍ〜１０００ｎｍであると好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍであるとより好ましい。

非磁性層１２を形成するための非磁性塗料に含まれる第２溶媒としては、例えば、磁性塗料に含まれる第１溶媒と同様のものを用いればよい。第２溶媒についても第１溶媒と同様、１種の溶媒からなるか、または、沸点の異なる２種以上の溶媒からなる。第１溶媒および第２溶媒に含まれる溶媒の内の沸点が最も低い溶媒の沸点ｔｂと、前述した恒率乾燥期間中における磁性塗膜の表面温度Ｔｓとの差（ｔｂ−Ｔｓ）は、１℃以上５０℃以下であると好ましい。このような溶媒を選択することにより、恒率乾燥期間が制御しやすくなる。

非磁性塗料中の溶媒除外成分濃度（第２溶媒を除く他の成分の総濃度）は、１０〜５０重量％が好ましく、２０〜３５重量％がより好ましい。非磁性塗料中の溶媒除外成分が低すぎると粘度が小さすぎて非磁性粉末の分散性が低下し、よって、磁性塗膜と非磁性塗膜との界面が凸凹になるからである。一方、非磁性塗料中の溶媒除外成分濃度が高すぎると、粘度が大きくなりすぎて、非磁性塗料の塗布適性が低下するからである。よって、非磁性塗料における第２溶媒の含有量は５０〜９０重量％が好ましく、６５〜８０重量％がより好ましい。

〈表面処理剤〉
非磁性層１２に含まれる非磁性粉末や、磁性層１３に含まれる磁性粉末や非磁性粉末には、分散性の向上のために、表面処理がなされていると好ましい。この表面処理に用いられる表面処理剤としては、リン酸系表面処理剤、カルボン酸系表面処理剤、アミン系表面処理剤、キレ―ト剤、各種シランカップリング剤等が好適である。

リン酸系表面処理剤としては、リン酸モノメチル、リン酸ジメチル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチル等のアルキルリン酸エステル類、フエニルホスホン酸、モノオクチルフエニルホスホン酸等の芳香族リン酸類等が挙げられる。市販品としては、東邦化学製の「ＧＡＲＦＡＣ ＲＳ４１０」、城北化学工業製の「ＪＰ−５０２」、「ＪＰ−５０４」、「ＪＰ−５０８」等を用いることができる。

カルボン酸系表面処理剤としては、安息香酸、フタル酸、テトラカルボキシルナフタレン、ジカルボキシルナフタレン、炭素数１２〜２２の脂肪酸等が挙げられる。

アミン系表面処理剤としては炭素数８〜２２の脂肪族アミン、芳香族アミン、アルカノールアミン、アルコキシアルキルアミン等が挙げられる。

キレ―ト剤としては、１，１０−フエナントロリン、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）、ジメチルグリオキシム、アセチルアセトン、グリシン、ジチアゾン、ニトリロ三酢酸等が挙げられる。

表面処理剤の使用量としては、磁性粉末１００重量部に対して、０．５〜５重量部であると好ましい。表面処理剤の分子量は、１０００以下が好ましく、さらには５００以下がより好ましい。これらの表面処理剤は、非磁性塗料の各成分や、磁性塗料の各成分を、混練する前、混練中、混練後溶媒への分散前、または溶媒への分散中に配合すると好ましい。

〈磁性層〉
磁性層１３の厚さは、非磁性支持体１１の上に直接形成される場合は、０．１μｍ〜３μｍが好ましく、０．５μｍ〜２μｍがより好ましい。非磁性層１２を介して非磁性支持体１１の上に形成される場合、磁性層１３の厚さは０．０１μｍ以上０．２μｍ未満が好ましく、０．０３以上０．１μｍ以下がより好ましい。これらの範囲が好ましいのは、厚さが薄すぎると、得られる出力が小さくなり、均一な磁性層１３の形成が困難となるからである。また厚さが厚すぎると、短波長記録に対する分解能特性が低下するためである。

磁性層１３に含まれる磁性粉末としては、強磁性鉄系金属磁性粉末、窒化鉄磁性粉末、または板状の六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末等が好ましい。

強磁性鉄系金属磁性粉末の平均粒子径は、１０ｎｍ〜６０ｎｍであると好ましく、１５ｎｍ〜４５ｎｍであるとより好ましい。平均粒子径が小さすぎると保磁力（Ｈｃ）が低下したり、粒子の表面エネルギーが大きくなって、磁性塗料中での分散が困難になるからである。また、平均粒子径が大きすぎると、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるからである。

強磁性鉄系金属磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍ（２０１０〜４０２０Ｏｅ）であると好ましく、２００〜３００ｋＡ／ｍ（２５１５〜３７７０Ｏｅ）であるとより好ましい。飽和磁化量は、６０〜２００Ａ・ｍ²／Ｋｇ（６０〜２００ｅｍｕ／ｇ）であると好ましく、８０〜１８０Ａ・ｍ²／Ｋｇ（８０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）であるとより好ましい。

磁気記録媒体の磁性粉末の配向性を示す指標の一つとして角型（Ｂｒ／Ｂｓ）が挙げられるが、（Ｂｒ／Ｂｓ）は０．８以上であると好ましく、０．８４以上であるとより好ましい。なお、Ｂｓは飽和磁束密度であり、Ｂｒは残存磁束密度である。

強磁性鉄系金属磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ²／ｇ以上が好ましく、４０ｍ²／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ² ／ｇ以上がよりいっそう好ましい。ＢＥＴ比表面積の上限については特に制限はないが、通常、１００ｍ²／ｇ以下である。

強磁性鉄系金属磁性粉末には、磁性粉末を構成する金属元素として、Ｍｎ 、Ｚｎ 、Ｎｉ 、Ｃｕ 、Ｃｏ等の遷移金属が含まれていてもよい。中でも、ＣｏまたはＮｉが含まれていると好ましく、これらのうち、Ｃｏは飽和磁化量を最も向上させることができる点において、特に好ましい。

上記遷移金属元素の含有量は、原子比で表すと、磁性粉末中のＦｅの含有量１００に対して、５〜５０であると好ましく、１０〜３０であるとより好ましい。

また、強磁性鉄系金属磁性粉末には、上記遷移金属元素に加え、磁性粉末を構成する他の金属元素として、イツトリウム、セリウム、イツテルビウム、セシウム、プラセオジウム、サマリウム、ランタン、ユ―ロピウム、ネオジム、テルビウム等から選ばれる少なくとも１種の希土類元素がさらに含まれていてもよい。中でも、セリウム、ネオジムとサマリウム、テルビウムおよびイツトリウムから選ばれる少なくとも１種が含まれていると、高い保磁力（Ｈｃ）が得られるので好ましい。上記希土類元素の含有量は、原子比で表すと、合金中のＦｅの含有量１００に対して、０．２〜２０であると好ましく、０．３〜１５であるとより好ましく、０．５〜１０であるとさらに好ましい。

窒化鉄磁性粉末には，公知のものを用いることができる。窒化鉄磁性粉末の形状は、針状の他に球状や、立方体形状等の不定形であってもよい。

窒化鉄磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍ（２０１０〜４０２０Ｏｅ）であると好ましく、２００〜３００ｋＡ／ｍ（２５１５〜３７７０Ｏｅ）であるとより好ましい。窒化鉄磁性粉末の飽和磁化量は、６０〜２００Ａ・ｍ²／Ｋｇ（６０〜２００ｅｍｕ／ｇ）であると好ましく、８０〜１８０Ａ・ｍ²／Ｋｇ（８０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）であるとより好ましい。

窒化鉄磁性粉末の平均粒子径としては、５〜２０ｎｍが好ましく、１０〜１７ｎｍがより好ましい。平均粒子径が小さすぎると保磁力が低下したり、粒子の表面エネルギーが増大するため磁性塗料中での分散が困難になるからである。また、平均粒子径が大きすぎると、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるからである。また、窒化鉄磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ²／ｇ以上が好ましく、４０ｍ²／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ²／ｇ以上がよりいっそう好ましい。上記ＢＥＴ比表面積の上限について特に制限はないが、通常、１００ｍ²／ｇ以下であると好ましい。

強磁性鉄系金属磁性粉末および／または窒化鉄磁性粉末は、Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｙ，Ｚｒまたはこれらの酸化物によって表面処理されていてもよい。耐食性や分散性を向上させたり、保磁力を制御するためである。

六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍであると好ましく、飽和磁化量は、４０〜６０Ａ・ｍ²／ｋｇ（４０〜６０ｅｍｕ／ｇ）であると好ましい。また、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末の平均粒子径（板面の一番長い部分の長さ、板径）は、１０ｎｍ〜３０ｎｍであると好ましく、１０ｎｍ〜２５ｎｍであるとより好ましく、１０ｎｍ〜２０ｎｍであるとさらに好ましい。平均粒子径が小さすぎると、粒子の表面エネルギーが増大するため磁性塗料中での分散が困難になり、大きすぎると、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるからである。また、板状比（板径／板厚）は３未満であると好ましく、２以下であるとより好ましい。また、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、１〜１００ｍ² ／ｇであると好ましい。

磁性層１３のテープ長手方向の残留磁束密度と磁性層厚さの積は、０．００１８〜０．０５μＴｍであると好ましく、０．００３６〜０．０５μＴｍであるとより好ましく、０．００４〜０．０５μＴｍであるとさらに好ましい。残留磁束密度と磁性層１３の厚さとの積が小さすぎると、ＭＲヘッドによる再生出力が小さくなり、大きすぎるとＭＲヘッドによる再生出力が歪みやすくなるからである。上記積がこの範囲内にある磁性層１３を有する磁気記録媒体は、短波長記録が可能である。加えて、ＭＲヘッドで再生した時の再生出力が大きく、しかも再生出力の歪が小さく、出力対ノイズ比を大きくできるので、好ましい。

磁性層１３含まれるバインダ樹脂（第１バインダ樹脂）または非磁性層１２に含まれるバインダ樹脂（第２バインダ樹脂）としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合樹脂、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合樹脂、およびセルロース系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種と、ポリウレタン樹脂との組み合せが挙げられる。セルロース系樹脂としては例えばニトロセルロース樹脂が挙げられる。

中でも、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合樹脂とポリウレタン樹脂との組み合わせが好ましい。ポリウレタン樹脂としては、例えば、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリエステルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン樹脂等が挙げられる。

また、ポリウレタン樹脂としては、官能基として、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₃、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂［これらの式中、Ｍは水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩を示す］、−ＯＨ、−ＮＲ'Ｒ''、−Ｎ＋Ｒ'''Ｒ''''Ｒ'''''［これらの式中、Ｒ'、Ｒ''、Ｒ'''、Ｒ''''、Ｒ'''''は水素または炭化水素基を示す］、またはエポキシ基を有する高分子からなるポリウレタン樹脂も使用できる。このようなポリウレタン樹脂を使用すれば、磁性粉末等の粉体の磁性塗料中での分散性が向上する。

２種以上のバインダ樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一致させると好ましく、中でも２種のバインダ樹脂のそれぞれが−ＳＯ₃Ｍ基を有していると好ましい。

磁性層形成用の磁性塗料中、第１バインダ樹脂は、磁性粉末１００重量部に対して、７〜５０重量部含まれていると好ましく、１０〜３５重量部含まれているとより好ましい。そして、バインダ樹脂が塩化ビニル系樹脂とポリウレタン樹脂とを含む場合は、磁性粉末１００重量部に対して、塩化ビニル系樹脂が５〜３０重量部、ポリウレタン樹脂が２〜２０重量部含まれていると好ましい。

非磁性層形成用の非磁性塗料中に含まれる第２バインダ樹脂の含有量については、非磁性粉末１００重量部に対して、１０〜５５重量部であると好ましく、１５〜４０重量部であるとより好ましい。

磁性層形成用の磁性塗料または非磁性層形成用の非磁性塗料中には、上記第１バインダ樹脂または第２バインダ樹脂とともに、第１バインダ樹脂または第２バインダ樹脂が有する官能基と結合して架橋する熱硬化性の架橋剤がさらに含まれていると好ましい。この架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、これらのイソシアネート類とトリメチロールプロパン等の水酸基を複数個有する化合物とが反応して得られる反応生成物、または上記イソシアネート類の縮合生成物等の各種のポリイソシアネートが好ましい。これらの架橋剤は、第１バインダ樹脂または第２バインダ樹脂１００重量部に対して、それぞれ、好ましくは１〜３０重量部用いられ、より好ましくは５〜２０重量部用いられる。しかし、非磁性塗料を非磁性支持体上に塗布することにより形成される非磁性塗膜の上に、ウエット・オン・ウエットで磁性塗膜が形成される場合には、非磁性塗膜中のポリイソシアネートの一部が磁性塗膜に拡散供給される。そのため、磁性塗料はポリイソシアネートを含んでいなくても、ある程度は磁性塗膜中で架橋が行われる。

磁性層１３は、磁性粉末以外に、非磁性粉末を含んでいてもよい。非磁性粉末としては、研磨材やカーボンブラック等が挙げられる。カーボンブラックを含むと、磁性層１３の導電性が向上する。

研磨材としては、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素等、主としてモース硬度６以上のものが挙げられる。これらは単独で用いてもいいし２種以上を組み合せて用いてもよい。

研磨材の平均粒子径としては、磁性層１３の厚さが０．０１〜０．２μｍと薄い場合は、通常１０ｎｍ〜２５０ｎｍであると好ましい。磁性層１３の厚さが０．２μｍよりも厚い場合、研磨材の平均粒子径は５０〜１０００ｎｍであると好ましい。研磨材の含有量は、磁性粉末１００重量部に対して、５〜２０重量部であると好ましく、８〜１８重量部であるとより好ましい。

カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等が挙げられる。

カーボンブラックの平均粒子径は、１０ｎｍ〜１００ｎｍであると好ましい。平均粒子径が小さすぎるとカーボンブラックの分散が難しく、平均粒子径が大きすぎると多量のカーボンブラックが必要になる。よって、平均粒子径が小さすぎても大きすぎても、磁性層１３の表面が粗くなり、出力を低下させる恐れがあるので好ましくない。カーボンブラックの含有量は、磁性粉末１００重量部に対して、０．２〜５重量部であると好ましく、０．５〜４重量部であるとより好ましい。

＜潤滑剤＞
非磁性層１２は、脂肪酸と脂肪酸のエステルとを潤滑剤としてさらに含んでいると好ましい。非磁性層１２がこれらをそれぞれ所定量含んでいると、磁気テープのヘッドとの摩擦係数が小さくなるからである。非磁性塗料には、非磁性層１２に含まれる非磁性粉末１００重量部に対して脂肪酸が０．５〜５．０重量部、脂肪酸のエステルが０．２〜３．０重量部、配合されていると好ましい。脂肪酸の配合量が０．５重量部未満であると、摩擦係数低減効果が小さく、５．０重量部を越えると非磁性層１２が可塑化してしまい強靭性が失われるおそれがあるからである。また、脂肪酸のエステルの配合量が０．２重量部未満であると、摩擦係数低減効果が小さく、３．０重量部を越えると磁性層１３への移入量が多すぎるため、磁気テープとヘッドとが貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるためである。

脂肪酸としては、炭素数１０以上のものを用いると好ましい。炭素数１０以上の脂肪酸としては、直鎖、分岐、シス・トランスなどの異性体のいずれでもよいが、潤滑性能が優れた直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸などが挙げられる。これらの中でも、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸などが好ましい。

脂肪酸のエステルとしては例えば、ブチルステアレートとブチルパルミテートとの混合物、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルをステアリン酸でアシル化したもの、ヘキサメチレンジオールをミリスチン酸でアシル化してジオールとしたもの、グリセリンのオレエート等の種々のエステル化合物、ブチルステアレート、sec-ブチルステアレート、イソプロピルステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレート、３−メチルブチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレート、ブチルパルミテート、２−エチルヘキシルミリステート、オレイルオレエート、ブトキシエチルステアレート、２−ブトキシ−１−プロピルステアレート、ジエチレングリコールジパルミテート等を挙げることができる。

磁性層１３にも上記脂肪酸が含まれていてもよい。この場合、非磁性層１２と磁性層１３との間で脂肪酸が転移するので、磁性塗料における脂肪酸の配合量については、磁性層１３に含まれる脂肪酸の含有量と非磁性層１２に含まれる脂肪酸の含有量の総和が、磁性層１３に含まれる全粉末（磁性粉末と非磁性粉末）と非磁性層１２に含まれる非磁性粉末の総量を１００重量部とした場合に、０．５〜５．０重量部であれば好ましい。なお、非磁性塗料に脂肪酸が配合される場合、磁性塗料には脂肪酸は必ずしも配合されていなくてもよい。

磁性層１３には、潤滑剤として、脂肪酸アミドと脂肪酸のエステルの両方が含まれていてもよい。テープ走行時のテープのヘッドに対する摩擦係数が小さくなるからである。これらの磁性塗料への配合量は、磁性粉末１００重量部に対して、脂肪酸アミドは０．５〜３．０重量部、脂肪酸のエステルは０．２〜３．０重量部であると好ましい。脂肪酸アミドの含有量が０．５重量部未満であると、ヘッドと磁性層１３とが相互接触することにより生じる焼付きを防止する効果が小さくなるからである。また、脂肪酸アミドの含有量が３．０重量部を越えると脂肪酸アミドがブリードアウトしてしまうおそれがあるからである。また、脂肪酸のエステルの含有量が０．２重量部未満であると、摩擦係数低減効果が小さくなるからである。また、脂肪酸のエステルの含有量が３．０重量部を越えると、磁性層１３がヘッドに貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるからである。なお、磁性層１３の潤滑剤と非磁性層１２の潤滑剤は相互移動し得る。

脂肪酸アミドとしては、パルミチン酸、ステアリン酸等の炭素数が１０以上の脂肪酸アミド等が挙げられる。磁性層１３に含まれる脂肪酸のエステルは、上記で列挙した脂肪酸のエステルと同様であってもよい。

〈バックコート層〉
非磁性支持体１１の磁性層１３が形成されている面とは反対側の面には、走行性の向上等を目的としてバックコート層１４が設けられていると好ましい。バックコート層１４の厚さは０．２〜０．８μｍであると好ましい。バックコート層の厚さが薄すぎると、走行性向上効果が不充分となり、厚さが厚すぎると磁気テープ全厚が厚くなり、磁気テープ１巻当たりの記録容量が小さくなるためである。

バックコート層１４は、例えば、カーボンブラック（ＣＢ）を含む。カーボンブラック（ＣＢ）としては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等が挙げられる。通常、粒子径が相対的に異なる、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックとが併用される。小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックとを併用すると、走行性向上効果も大きくなるので好ましい。大粒径カーボンブラックは、小粒径カーボンブラック１００重量部に対して５〜１５重量部含まれていると好ましい。

小粒径カーボンブラックの平均粒子径は５ｎｍ以上２００ｎｍ未満であると好ましく、１０〜１００ｎｍであるとより好ましい。平均粒子径が小さすぎるとカーボンブラックの塗料中での分散が難しくなり、平均粒子径が大きすぎると多量のカーボンブラックが必要になる。よって、数平均粒子径が小さすぎても大きすぎても、バックコート層の表面が粗くなり、磁性層への裏移り（エンボス）を引き起こす恐れがあり好ましくない。

大粒径カーボンブラックの平均粒子径は、２００〜４００ｎｍであると好ましい。

小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラック合計量は、バックコート層に含まれる全粉末重量のうち６０〜９８重量％であると好ましく、７０〜９５重量部であるとより好ましい。

バックコート層１４の平均表面粗さＲａは、３〜８ｎｍであると好ましく、４〜７ｎｍであるとより好ましい。バックコート層に磁性があると磁性層１３に記録される磁気信号が乱れる場合があるので、通常、バックコート層は非磁性である。

なお、本願では、ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０００を用い、走査型白色光干渉法にて、１０視野の表面粗さを測定し、その平均値を平均表面粗さ（Ｒａ）としている。測定の際には、５０倍の対物レンズを用い、２倍ズームで測定した。よって、倍率は１００倍である。測定視野は７２μｍ×５４μｍである。

バックコート層には、強度向上を目的として、例えば酸化鉄が含まれていると好ましい。酸化鉄の平均粒子径は１００〜６００ｎｍが好ましく、２００〜５００ｎｍがより好ましい。酸化鉄の含有量は、全粉末重量のうち２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がより好ましい。また、平均粒子径が１００〜６００ｎｍのアルミナが全粉体重量のうち０．５〜５重量％添加されていると、さらにバックコート層の強度が向上するので、好ましい。

バックコート層１４にはバインダ樹脂が含まれるが、バックコート層１４中のバインダ樹脂は、前述した磁性層１３や非磁性層１２に含まれるバインダ樹脂と同じであってもよい。しかし、摩擦係数を低くして磁気ヘッドの走行性を向上させるために、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂とを併用することが好ましい。バインダ樹脂の含有量は、通常、バックコート層に含まれる全粉末重量１００重量部に対して、４０〜１５０重量部であると好ましく、５０〜１２０重量部であるとより好ましく、６０〜１１０重量部であるとさらに好ましく、７０〜１１０重量部であるとよりいっそう好ましい。少なすぎると、バックコート層１４の強度が不十分となり、多すぎると摩擦係数が高くなりやすいからである。バックコート層に含まれる全粉末重量を１００重量部とすると、上記バインダ樹脂には、セルロース系樹脂が３０〜７０重量部、ポリウレタン系樹脂は２０〜５０重量部含まれていると好ましい。バックコート層１４を形成するための塗料は、バインダ樹脂を硬化させるために、架橋剤を含んでいると好ましい。架橋剤としては、例えば、ポリイソシアネート化合物等が挙げられる。

バックコート層１４を形成するための塗料に含まれる架橋剤は、例えば、前述した磁性層１３形成用の磁性塗料や非磁性層１２形成用の非磁性塗料に含まれる架橋剤と同様ものであってよい。架橋剤の含有量は、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常、１０〜５０重量部であると好ましく、１０〜３５重量部であるとより好ましく、１０〜３０重量部であるとよりいっそう好ましい。少なすぎるとバックコート層１４の強度が弱くなり、多すぎるとＳＵＳ（ステンレス）に対する動摩擦係数が大きくなるからである。

〈有機溶媒〉
非磁性層１２形成用の非磁性塗料に含まれる第２溶媒、バックコート層１４形成用の塗料に含まれる溶媒には、磁性層１３形成用の磁性塗料に含まれる第１溶媒のもの用いればよい。また、非磁性層の形成に用いられる非磁性塗料中の溶媒除外成分濃度、バックコート層１４形成用の塗料の溶媒除外成分濃度は、磁性塗料の場合と同様の理由から、１０〜５０ｗｔ％が好ましく、２０〜３５ｗｔ％がより好ましい。よって、非磁性塗料に含まれる第２溶媒の含有量は、５０〜９０ｗｔ％が好ましく、６５〜８０ｗｔ％がより好ましく、バックコート層１４形成用の塗料に含まれる溶媒の含有量も、５０〜９０ｗｔ％が好ましく、６５〜８０ｗｔ％がより好ましい。

以下に実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

＜非磁性層形成用の非磁性塗料＞
（１）Ａ成分
針状酸化鉄（平均粒子径：０．１１μｍ） ６８重量部
カーボンブラック（平均粒子径：０．０２５μｍ） ２０重量部
粒状アルミナ粉末（平均粒子径：０．４μｍ） １２重量部
メチルアシッドフォスフェート １重量部
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合樹脂 ９重量部
（含有−ＳＯ₃Ｎａ基：０．７×１０^-4当量／ｇ）
ポリエステルポリウレタン樹脂 ５重量部
（ガラス転移温度：４０℃、含有−ＳＯ₃Ｎａ基：１×１０^-4当量／ｇ）
テトラヒドロフラン １３重量部
シクロヘキサノン ６３重量部
メチルエチルケトン １３７重量部
（２）Ｂ成分
ステアリン酸ブチル ２重量部
シクロヘキサノン ５０重量部
トルエン ５０重量部
（３）Ｃ成分
ポリイソシアネート ６重量部
シクロヘキサノン ９重量部
トルエン ９重量部

＜磁性層形成用の磁性塗料＞
（１）ａ成分
強磁性鉄系金属磁性粉末 １００重量部
（Ａｌ−Ｙ−Ｆｅ−Ｃｏ）〔σｓ：１２０Ａｍ２／ｋｇ（１２０ｅｍｕ／ｇ）
Ｈｃ：１７６．３ｋＡ／ｍ（２２１５Ｏｅ）平均粒子径：４５ｎｍ、真密度ρ：５．７ｇ／ｃｃ〕
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合樹脂 １７重量部
ポリエステルポリウレタン樹脂 ６重量部
粒状アルミナ粉末（平均粒子径：０．２μｍ） １０重量部
メチルアシッドフォスフェート ４重量部
メチルエチルケトン ３５重量部
シクロヘキサノン １１０重量部
トルエン １１０重量部
（２）ｂ成分
パルミチン酸アミド １重量部
ステアリン酸ブチル １重量部
シクロヘキサノン ３０重量部
トルエン ３０重量部
（３）ｃ成分
ポリイソシアネート ６重量部
メチルエチルケトン ２重量部
シクロヘキサノン ８重量部
トルエン ８重量部

上記の非磁性層形成用の塗料成分のうちＡ成分を回分式ニーダで混練した。混練されたＡ成分にＢ成分を加えて撹拌した後、サンドミルを用いて６０分間（滞留時間）分散処理をした。さらに、Ａ成分とＢ成分の混合物にＣ成分を加え、撹拌し、ろ過して、非磁性層形成用の非磁性塗料を得た。

一方で、ａ成分を回分式ニーダで混練した。次ぎに混練されたａ成分にｂ成分を加えて撹拌しながら希釈して、未分散塗料を得た。続いて、未分散塗料に対して、ナノミル（浅田鉄工社製）を用いて、９０分間（滞留時間）分散処理をした。さらに、ａ成分とｂ成分の混合物にｃ成分を加えて撹拌し、ろ過して、磁性層形成用の磁性塗料を得た。

上記非磁性層形成用の非磁性塗料を、厚さ８μｍのポリエチレンナフタレートフィルムからなる非磁性支持体上に、エクストルージョン型コータを用いて塗布して非磁性塗膜を形成した。次いで、この非磁性塗膜上に、磁性層形成用の磁性塗料をエクストルージョン型コータを用いて、ウエット・オン・ウエットで塗布して磁性塗膜を形成した。

非磁性塗膜の厚さは、乾燥およびカレンダ後の厚さ（すなわち非磁性層の厚さ）が０．９μｍとなるように４．５μｍとし、磁性塗膜の厚さは、乾燥およびカレンダ後の厚さ（すなわち磁性層の厚さ）が０．０８μｍとなるように０．３μｍとした。磁性層形成用の磁性塗料の塗布速度は１５０ｍ／分とした。

次いで、非磁性支持体上に非磁性塗膜と磁性塗膜とがこの順に形成された積層体を、Ｎ−Ｎ対向磁石間（３９８ｋＡ／ｍ）を通過させた。その後、図２に示された要領で、非磁性塗膜中および磁性塗膜中に含まれる溶媒を除去しながら、磁場配向を行った。

なお、本実施例では、図２中のヒータ４は用いていない。磁場配向を行うために、ソレノイドコイル（３９８ｋＡ／ｍ、５基）は５つ用いた。熱風の温度、風速、熱風供給部と磁性塗膜との距離等の、乾燥条件については表１に示している。

＜バックコート層形成用塗料の成分＞
カーボンブラック(平均粒子径２５ｎｍ) ８０重量部
カーボンブラック(平均粒子径３５０ｎｍ) １０重量部
粒状酸化鉄(平均粒子径５０ｎｍ) １０重量部
ニトロセルロース ４５重量部
ポリウレタン樹脂 ３０重量部
シクロヘキサノン ２６０重量部
トルエン ２６０重量部
メチルエチルケトン ５２５重量部
ポリイソシアネート １５重量部

上記のバックコート層形成用の塗料の成分のうちポリイソシアネートを除く他の成分全てをサンドミル中で分散混合させた後、それにポリイソシアネートを加えた。得られた混合物をろ過して、バックコート層形成用の塗料を得た。この塗料を、非磁性支持体の磁性層側の面の反対面に塗布し、乾燥させた。

このようにして得られた磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧１９６ｋＮ／ｍの条件で鏡面化処理(カレンダ処理)した。次いで、磁気シートをコアに巻いた状態で６０℃４８時間エージングして評価用の磁気テープを作製した。

また、表１に示すように、乾燥条件が異なること以外は実施例１と同様にして、実施例２〜７、比較例１〜２の評価用磁気シートを作製した。

得られた評価用の磁気シートの評価は以下のようにして行った。その結果は表１に示している。

〈恒率乾燥期間〉
乾燥ゾーン内に２０ｃｍ間隔で赤外線センサ（ファイバー型赤外放射温度計（ＦＴＺ６型 ジャパンセンサー（株）製））を配置し、磁性層の表面温度Ｔｓを測定した。連続配置された３つのセンサから得られた各磁性層の表面温度Ｔｓをどのように組み合せても温度差が２℃以内であれば、恒率乾燥が行なわれていると判断して、恒率乾燥期間を測定した。

〈磁性層の表面粗さ〉
ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０００を用い、走査型白色光干渉法にて、１０点の表面粗さを測定し、その平均値を平均粗さＲｚとした。測定の際には、５０倍の対物レンズを用い、２倍ズームで測定した。よって、倍率は１００倍である。測定視野は７２μｍ×５４μｍである。

〈磁気特性〉
磁気シートに、外部磁場０．８ＭＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）をかけた後、角型（Ｂｒ／Ｂｓ）および磁性層単位面積当たりの飽和磁化量Ｍｓｔ(ｍｅｍｕ／ｃｍ²)を測定した。これらの測定には、東英工業製の試料振動型磁束計ＶＳＭ−Ｐ７を用いた。

〈体積充填度〉
磁気テープを樹脂封止した後、それを集束イオンビーム加工装置を用いて、磁気テープの厚さ方向の断面をテープの長手方向に切り出した。次いで、その断面の写真撮影（ＢＳＥ像、倍率：１０万倍）を、走査型電子顕微鏡(ＳＥＭ)を用いて行った。写真撮影は、互いに重複部分を含まないように１０視野について行った。次いで、各写真に、磁性層と非磁性層との界面に境界線を引き、その境界線と対向する磁性層の外形にも線を引いた。線幅は０.５ｍｍとした。

次ぎに、各写真について、上記境界線とそれに対応する線との距離を５箇所測定し、その平均値を磁性層の厚さｔ（μｍ）として測定した。そして、Ｍｓｔおよび磁性層の厚さｔ（μｍ）を用いて次式（１）により飽和磁束密度Ｂｓ（Ｇ）を求めた。また、Ｂｓおよび磁性粉末のσｓ（ｅｍｕ／ｇ）および真密度ρ（ｇ／ｃｃ）を用いて次式（２）から磁性粉末の充填度（Ｖｏｌ％）を求めた。

Ｂｓ＝４π×Ｍｓｔ／ｔ （１）
充填度（Ｖｏｌ％）＝Ｂｓ／（４π・σｓ・ρ）×１００ （２）

表１に示すように、実施例１〜６の磁気テープについては、恒率乾燥時間が０．２秒に満たない比較例１〜２よりも、磁性粉末の体積充填性が高く、かつ、磁性層の平滑性が優れていることが確認できた。実施例１〜６の磁気テープの磁性粉末の配向性（角型）については、０．８以上であり比較例のそれと同等であった。また、恒率乾燥期間が０．２秒以上１０秒未満であれば、磁性層の平滑性および磁性粉末の充填性のみならず、磁性粉末の配向性（角型）についても比較例よりも優れた磁気記録媒体を提供できることが確認できた。

以上、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明したが、この例は、粉体をバインダ樹脂ととも含有してなる塗料を支持体上に塗布、乾燥して機能層を形成する工程を含む、他の製品分野にも応用可能である。

本発明は、磁性粉末の充填率が高く、かつ、表面の平滑性が優れた磁性層を形成できるので、本発明は、より大容量化され高出力可能な磁気記録媒体の製造方法として有用である。

本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例における塗膜表面の温度の変化と塗膜中の含溶媒率の変化を示した概念図 本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例における乾燥処理の様子を示した概念図 本発明の磁気記録媒体の一例の部分断面図 従来の磁気記録媒体の製造方法の一例における塗膜表面の温度の変化と塗膜中の含溶媒率の変化を示した概念図

符号の説明

１ 熱風供給部
１ａ 第１熱風供給部
１ｂ 第２熱風供給部
１ｃ 第３熱風供給部
２ 排気部
３ ソレノイドコイル（配向磁石）
４ ヒータ
５ ガイドロール
Ｔ 積層体
１０ 磁気記録媒体

Claims (9)

1. 非磁性支持体の一方の主面側に磁性層が配置された磁気記録媒体の製造方法であって、
   前記非磁性支持体の一方の主面側に、磁性粉末と第１バインダ樹脂と第１溶媒とを含む磁性塗料を塗布して磁性塗膜を形成し、前記磁性塗膜から前記第１溶媒を除去する乾燥処理を所定の期間行いながら、前記磁性塗膜に含まれる磁性粉末を所定方向に磁場配向させる、磁性層形成工程を含み、
   前記磁性層形成工程において、前記乾燥処理は、前記磁性塗膜の表面温度の上昇が停止して略一定の温度に達するまで前記磁性塗膜を加熱する予熱過程と、前記予熱過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が前記略一定の温度に保たれる恒率乾燥過程と、前記恒率乾燥過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が、前記恒率乾燥過程を行っている際のそれよりも高くなり、前記磁性塗膜を固化させる減率乾燥過程とからなり、
   前記乾燥処理が行なわれる前の前記磁性塗膜の厚さが０．３μｍ〜２４μｍであり、
   前記恒率乾燥過程が行われる恒率乾燥期間は０．２秒以上であり、
   前記第１溶媒は１種の溶媒からなるか、または沸点の異なる２種以上の溶媒からなり、前記第１溶媒に含まれる溶媒のうちの沸点が最も低い溶媒の沸点Ｔ_bと、前記恒率乾燥期間中における前記磁性塗膜の表面温度Ｔ_sとの差（Ｔ_b−Ｔ_s）が、１℃〜５０℃であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. 前記恒率乾燥期間は、１０秒以下である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. 前記恒率乾燥期間は、１秒〜１０秒である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
4. 前記恒率乾燥期間中における、前記磁性塗膜の表面温度は３０℃〜８０℃である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
5. 前記磁性塗料の塗布前に、
   前記非磁性支持体の前記一方の主面側に、非磁性粉末と第２バインダ樹脂と第２溶媒とを含む非磁性塗料を塗布して、非磁性塗膜を形成する工程をさらに含み、
   前記磁性層形成工程で行なわれる前記乾燥処理によって、前記非磁性塗膜に含まれる前記第２溶媒が除去されて、前記非磁性塗膜が非磁性層となる、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
6. 前記乾燥処理が行なわれる前の前記磁性塗膜の厚さと、前記乾燥処理が行なわれる前の前記非磁性塗膜の厚さとの和が、０.３μｍ〜２４μｍである請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
7. 前記磁性粉末は、強磁性鉄系金属磁性粉末を含み、前記強磁性鉄系金属磁性粉末の平均粒子径は１０ｎｍ〜６０ｎｍである請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
8. 前記磁性粉末は、窒化鉄磁性粉末を含み、前記窒化鉄磁性粉末の平均粒子径は５ｎｍ〜２０ｎｍである請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
9. 前記磁性粉末は、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末を含み、前記六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末の平均粒子径は１０ｎｍ〜３０ｎｍである請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。

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