JP4160597B2 - 半導体発光素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、十分な機械的強度を有し、小型化の可能な半導体発光素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
図1は、第1実施形態に係る半導体発光素子を示す概略平面図である。図2は、図1におけるII-II線に沿った概略断面図である。
まず、半導体基板51を用意する。半導体基板51は、例えば、その厚みが300〜500μmであり、キャリア濃度が1×1018/cm3程度のn型GaAsからなる。半導体基板51の一方の主面(表面)74上に、有機金属化学気相蒸着(MOCVD)法又は分子線成長(MBE)法等により、エッチング停止層53、n型の第2DBR層8、n型の第2クラッド層7、活性層6、p型の第1クラッド層5、p型の第1DBR層4、及びp型のコンタクト層3を順次に成長させて、積層する(図3参照)。
次に、プラズマ化学気相蒸着(Plasma Chemical Vapor Deposition:PCVD)法により、コンタクト層3の上に膜10を形成する(図3参照)。
次に、多層構造体LS、エッチング停止層53及び膜10が形成された半導体基板51とガラス基板1とを接着する(図4参照)。まず、ガラス基板1を用意し、当該ガラス基板1の一方の主面(表面)71を清浄化する。次に、ガラス基板1の清浄化された表面71と半導体基板51上の最上膜10とが接触するように、ガラス基板1と半導体基板51とを重ね合わせる。重ね合わせたガラス基板1と半導体基板51を加圧及び加熱し、両基板1及び51を互いに融着させて貼り合わせる。
次に、半導体基板51を除去する。ガラス基板1と半導体基板51とが貼り合わされた後には、ガラス基板1の反対側において、半導体基板51の他方の主面(裏面)73が露出している。この工程では、半導体基板51の裏面73側からエッチングを行い、半導体基板51及びエッチング停止層53を除去する(図5参照)。
次に、第2DBR層8上にレジスト膜55を形成する。レジスト膜55は、電流狭窄領域11aに対応する位置に開口56を有するようにパターニングされる。その後、パターニングされたレジスト膜55をマスクとして使用し、イオン注入装置によってプロトン(H+)を多層構造体LSに打ち込む。プロトンは、第1DBR層4と第1クラッド層5との境界付近まで打ち込まれる。プロトンが打ち込まれた領域は半絶縁化し、その結果、電流狭窄領域11aが形成されることとなる(図6参照)。なお、プロトンの代わりに、酸素イオン(O2−)や鉄イオン(Fe3+)を用いてもよい。この後、レジスト膜55を除去する。
次に、第2DBR層8上にレジスト膜57を形成する。レジスト膜57は、開口13を形成すべき位置に開口58を有するようにパターニングされる。その後、パターニングされたレジスト膜57をマスクとして使用し、コンタクト層3が露出するまで多層構造体LSをエッチング(本実施形態ではウェットエッチング)する。これにより、開口13が形成され、発光部11及びパッド電極配置部31が互いに電気的に分離される(図7参照)。すなわち、発光部11が、第1DBR層4a、第1クラッド層5a、活性層6a、第2クラッド層7a、及び第2DBR層8aを含み、パッド電極配置部31が、第1DBR層4b、第1クラッド層5b、活性層6b、第2クラッド層7b、及び第2DBR層8bを含むこととなる。使用するエッチング液としては、過酸化水素水及び塩酸(HCl)が好ましい。この後、レジスト膜57を除去する。
次に、PCVD法により、第2DBR層8の表面にSiNXからなる絶縁膜19を形成する。次いで、p側電極17に対応する位置に開口を有するレジスト膜(図示せず)を絶縁膜19上に形成する。このレジスト膜をマスクとして使用し、バッファドフッ酸(BHF)を用いて絶縁膜19の一部を除去することにより、コンタクトホール19bを形成する(図8参照)。続いて、レジスト膜を除去する。
次に、n側電極15に対応する位置に開口を有するレジスト膜(図示せず)を形成する。そして、このレジスト膜をマスクとして使用して絶縁膜19をBHFにより除去し、絶縁膜19にコンタクトホール19aを形成する(図9参照)。続いて、上記レジスト膜を除去する。
次に、n側パッド電極23、配線電極25及びp側パッド電極33に対応する位置に開口を有するレジスト膜(図示せず)を形成する。そして、このレジスト膜をマスクとして使用し、リフトオフ法により、Ti/Pt/Auからなるn側パッド電極23、配線電極25及びp側パッド電極33を形成する(図10参照)。このとき、配線電極25は発光領域11bを覆うように形成される。n側パッド電極23と配線電極25とは一体に形成されることとなる。続いて、レジスト膜を除去する。その後、H2雰囲気下でシンタリングを行う。なお、n側パッド電極23と配線電極25とを一体に形成しているが、これに限られることなく、それぞれ別体に形成するようにしてもよい。
図11は、第2実施形態に係る半導体発光素子の構成を示す概略断面図である。第2実施形態に係る半導体発光素子LE2は、ガラス基板1にレンズ部72aが形成されている点で第1実施形態に係る半導体発光素子LE1と相違する。
次に、多層構造体LS、エッチング停止層53及び膜10が形成された半導体基板51にガラス基板1を接着する(図12参照)。接着方法は、第1実施形態における工程(3)と同様である。具体的には、裏面72にレンズ部72aが形成されたガラス基板1を用意し、ガラス基板1の表面71を清浄化する。次に、ガラス基板1の清浄化された表面71と半導体基板51上の最上膜10とが接触するように、ガラス基板1と半導体基板51とを重ね合わせる。重ね合わせたガラス基板1と半導体基板51を加圧及び加熱し、両基板1及び51を互いに融着させて貼り合わせる。具体的な接着方法は、第1実施形態における工程(3)と同じである。
次に、半導体基板51及びエッチング停止層53を除去する(図13参照)。除去方法は、第1実施形態における工程(4)と同じである。
次に、第2DBR層8上にレジスト膜55を形成し、レジスト膜55をパターニングして、電流狭窄領域11aを形成すべき位置に開口56を設ける(図14参照)。このとき、ガラス基板1の表面71にマーカを付与し、両面露光機を用いることで、付与したマーカを基準としてレンズ部72aと電流狭窄領域11aを形成すべき位置とを容易に位置合わせすることができる。なお、マーカを付与する代わりに、レンズ部72aの外形をマーカとして利用してもよい。
Claims (12)
- 積層された複数の化合物半導体層を含み、光を生成する多層構造体を備える半導体発光素子であって、
前記多層構造体は、生成される前記光を発する光出射面を有しており、前記光に対して光学的に透明なガラス基板が、酸化シリコンからなる膜を介して前記光出射面に固定され、該酸化シリコンからなる膜が、前記多層構造体と前記ガラス基板とに直接接触し、
前記多層構造体は、前記複数の化合物半導体層として、順次に積層された第1導電型の第1分布ブラッグ反射器(DBR)層、第1導電型の第1クラッド層、活性層、第2導電型の第2クラッド層、及び第2導電型の第2DBR層を含み、
前記多層構造体には、前記第1DBR層、前記第1クラッド層、前記活性層、前記第2クラッド層、及び前記第2DBR層を含む所定の領域を囲むように絶縁化あるいは半絶縁化された電流狭窄領域が形成されており、
前記第1DBR層は、前記第1クラッド層と前記酸化シリコンからなる膜との間に配置され、
前記多層構造体は、前記酸化シリコンからなる膜と前記第1DBR層との間に位置すると共に前記酸化シリコンからなる膜と接触している第1導電型のコンタクト層を含み、
前記多層構造体における前記光出射面とは反対の面側には、前記電流狭窄領域に囲まれた前記所定の領域に電気的に接続された第1パッド電極と、前記コンタクト層に電気的に接続された第2パッド電極と、が配置され、
前記多層構造体は、前記光出射面とは反対の前記面から前記コンタクト層に達する開口により、前記電流狭窄領域と該電流狭窄領域に囲まれた前記所定の領域とを含む第1の部分と、前記第1の部分を囲むように前記第1の部分から隔てられた第2の部分と、に分離されており、
前記開口は、前記光出射方向から見て、前記第1の部分を囲んでおり、
前記第1パッド電極は、前記第1の部分上に配置され、
前記第2パッド電極は、前記第2の部分上に配置され且つ前記光出射方向から見て前記第1の部分を囲むように前記開口に配置されると共に、前記開口を通して前記コンタクト層に電気的に接続されている、半導体発光素子。 - 前記第1パッド電極及び前記第2パッド電極上にそれぞれ配置されたバンプ電極を更に備える請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記多層構造体は、並設された複数の前記第1の部分を有している、請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記第2DBR層上に設けられ、前記電流狭窄領域に囲まれた前記所定の領域を覆う光反射膜を更に備える請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記ガラス基板は、表面及び裏面を有しており、
前記ガラス基板の表面は、前記酸化シリコンからなる膜に接触しており、
前記ガラス基板の裏面は、前記多層構造体から出射する光を受けるレンズ部を有している、請求項1〜4のいずれかに記載の半導体発光素子。 - 前記レンズ部は、前記ガラス基板の裏面中の最も高い部分より窪んでいる、請求項5に記載の半導体発光素子。
- 積層された複数の化合物半導体層を含み、光を生成する多層構造体を有する半導体発光素子の製造方法であって、
前記多層構造体は、前記複数の化合物半導体層として、第1導電型の第1分布ブラッグ反射器(DBR)層、第1導電型の第1クラッド層、活性層、第2導電型の第2クラッド層、及び第2導電型の第2DBR層を含んでおり、
表面及び裏面を有する半導体基板と、表面及び裏面を有し、生成される前記光に対して光学的に透明なガラス基板とを用意する工程と、
前記半導体基板の表面に前記第2DBR層、前記第2クラッド層、前記活性層、前記第1クラッド層及び前記第1DBR層を順次に積層する、及び、前記第1DBR層を積層した後、前記多層構造体の最上部に位置する第1導電型のコンタクト層を形成する工程と、
前記多層構造体上に、酸化シリコンからなる膜を形成する工程と、
前記酸化シリコンからなる膜を前記ガラス基板の表面に直接融着して、前記多層構造体を前記ガラス板に固定する工程と、
前記多層構造体が前記ガラス基板に固定されたまま前記半導体基板を除去する工程と、
前記半導体基板を除去する前記工程の後に、前記第1DBR層、前記第1クラッド層、前記活性層、前記第2クラッド層、及び前記第2DBR層を含む所定の領域を囲むように絶縁化あるいは半絶縁化された電流狭窄領域を前記多層構造体中に形成する工程と、
前記多層構造体を、前記電流狭窄領域と該電流狭窄領域に囲まれた前記所定の領域とを含む第1の部分と、前記第1の部分を囲むように前記第1の部分から隔てられた第2の部分と、に分離する工程と、
前記第1の部分の上に第1パッド電極を形成しその第1パッド電極と前記所定の領域とを電気的に接続するとともに、前記第2の部分の上に第2パッド電極を形成し、その第2パッド電極と前記コンタクト層とを電気的に接続する工程と、を備え、
前記第1の部分及び前記第2の部分を分離する前記工程は、前記第1の部分及び前記第2の部分を隔てる開口を前記第1の部分を囲むように形成することを含んでおり、
前記第2パッド電極と前記コンタクト層とを電気的に接続する前記工程は、前記光出射方向から見て前記第1の部分を囲むように前記第2パッド電極を前記開口に形成し、前記開口を通して前記第2パッド電極と前記コンタクト層とを電気的に接続することを含んでいる、半導体発光素子の製造方法。 - 前記半導体基板を除去する前記工程は、前記半導体基板をウェットエッチングにより除去する、請求項7に記載の半導体発光素子の製造方法。
- 前記多層構造体を形成する前記工程の前に、上記ウェットエッチングを停止させるエッチング停止層を、そのエッチング停止層が前記半導体基板と前記多層構造体との間に配置されるように形成する工程と、
前記半導体基板を除去する前記工程の後に、前記エッチング停止層をウェットエッチングにより除去する工程と、
を更に備える請求項8に記載の半導体発光素子の製造方法。 - 前記第2DBR層上に、前記電流狭窄領域に囲まれた前記所定の領域を覆う光反射膜を形成する工程を更に備える請求項7に記載の半導体発光素子の製造方法。
- 前記ガラス基板の裏面は、前記多層構造体から出射する光を受けるレンズ部を有している、請求項7に記載の半導体発光素子の製造方法。
- 前記レンズ部は、前記ガラス基板の裏面中の最も高い部分より窪んでいる、請求項11に記載の半導体発光素子の製造方法。
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