JP4132818B2 - Cf2o結合を有する液晶の製造 - Google Patents
Cf2o結合を有する液晶の製造 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4132818B2 JP4132818B2 JP2001563507A JP2001563507A JP4132818B2 JP 4132818 B2 JP4132818 B2 JP 4132818B2 JP 2001563507 A JP2001563507 A JP 2001563507A JP 2001563507 A JP2001563507 A JP 2001563507A JP 4132818 B2 JP4132818 B2 JP 4132818B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- dichloromethane
- groups
- another
- stirred
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 4
- 125000002577 pseudohalo group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005407 trans-1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])[C@]([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[C@@]1([H])[*:1] 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 abstract description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 7
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 abstract description 7
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 abstract description 6
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 abstract description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 87
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 15
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 15
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000005517 carbenium group Chemical group 0.000 description 9
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 9
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 9
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 8
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- FIGYBMDNOMRNFK-UHFFFAOYSA-N dithian-1-ium trifluoromethanesulfonate Chemical compound FC(S(=O)(=O)[O-])(F)F.[SH+]1SCCCC1 FIGYBMDNOMRNFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-nitro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(Cl)=CC(C(F)(F)F)=C1 ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PVZMXULSHARAJG-UHFFFAOYSA-N N,N-diethylethanamine molecular hydrogen Chemical compound [H][H].CCN(CC)CC PVZMXULSHARAJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 5
- -1 difluoromethylenehexylidene Chemical group 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 5
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-dithiol Chemical compound SCCCS ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N dbdmh Chemical compound CC1(C)N(Br)C(=O)N(Br)C1=O VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZRTWIJKGTUGZJY-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trifluorophenol Chemical compound OC1=CC(F)=C(F)C(F)=C1 ZRTWIJKGTUGZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N N-iodosuccinimide Chemical compound IN1C(=O)CCC1=O LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N methanedithioic acid Chemical compound SC=S WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 150000002905 orthoesters Chemical class 0.000 description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 1,1-ethanedithiol Chemical compound CC(S)S DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPWDGTGXUYRARH-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloroethanol Chemical compound OCC(Cl)(Cl)Cl KPWDGTGXUYRARH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPNDXFHERKJWAS-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluoro-4-(4-pentylcyclohexyl)benzoic acid Chemical compound C1CC(CCCCC)CCC1C1=CC(F)=C(C(O)=O)C(F)=C1 GPNDXFHERKJWAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REIVHYDACHXPNH-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-4-hydroxybenzonitrile Chemical compound OC1=CC=C(C#N)C(F)=C1 REIVHYDACHXPNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNPWVUJOPCGHIK-UHFFFAOYSA-N 3,4-difluorophenol Chemical compound OC1=CC=C(F)C(F)=C1 BNPWVUJOPCGHIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPKWRORFSHXIQU-UHFFFAOYSA-N 4,5-dihydro-3h-dithiin-1-ium Chemical compound C1CS[S+]=CC1 MPKWRORFSHXIQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZKGYAPRSAHXJG-UHFFFAOYSA-N 4-(4-pentylcyclohexyl)cyclohexane-1-carbonyl chloride Chemical compound C1CC(CCCCC)CCC1C1CCC(C(Cl)=O)CC1 HZKGYAPRSAHXJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRPANQODGRNWRV-UHFFFAOYSA-N 4-(4-pentylcyclohexyl)cyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound C1CC(CCCCC)CCC1C1CCC(C(O)=O)CC1 VRPANQODGRNWRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVLAXPQGTRTHEV-UHFFFAOYSA-N 4-pentylcyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound CCCCCC1CCC(C(O)=O)CC1 RVLAXPQGTRTHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEJOCWOXCDWNID-UHFFFAOYSA-N Nitrilooxonium Chemical compound [O+]#N KEJOCWOXCDWNID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006024 SO2Cl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001356 alkyl thiols Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N chloramine T Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S(=O)(=O)[N-]Cl)C=C1 VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N dibromodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Br)Br AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMBRFUXPXNIUCZ-UHFFFAOYSA-N dioxidonitrogen(1+) Chemical class O=[N+]=O OMBRFUXPXNIUCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- XVDBWWRIXBMVJV-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphanyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(N(C)C)N(C)C XVDBWWRIXBMVJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M phenolate Chemical compound [O-]C1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940031826 phenolate Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- NCNISYUOWMIOPI-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-dithiol Chemical compound CCC(S)S NCNISYUOWMIOPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMPSOEYFMTWOFC-UHFFFAOYSA-N propane-2,2-dithiol Chemical compound CC(C)(S)S HMPSOEYFMTWOFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229940079827 sodium hydrogen sulfite Drugs 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- IXPAAHZTOUOJJM-UHFFFAOYSA-N sulfuryl chloride fluoride Chemical compound FS(Cl)(=O)=O IXPAAHZTOUOJJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
- C09K19/3001—Cyclohexane rings
- C09K19/3066—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B41/00—Formation or introduction of functional groups containing oxygen
- C07B41/04—Formation or introduction of functional groups containing oxygen of ether, acetal or ketal groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D339/08—Six-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
- C09K19/3001—Cyclohexane rings
- C09K19/3003—Compounds containing at least two rings in which the different rings are directly linked (covalent bond)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
本発明は、分子内に少なくとも1つの−CF2O−ブリッジ(bridge)を有する化合物の製造方法に関する。
【0002】
液晶は、初めて商業的に有益な液晶化合物がおよそ30年前に発見されて以来、広く使用されている。典型的な用途範囲は、特に、腕時計および掛時計またはポケット計算機用のディスプレイ、または鉄道駅、空港またはスポーツ施設で使用される大型ディスプレイパネルである。他の用途範囲は、携帯用コンピュータやナビゲーションシステムのディスプレイ、およびビデオ用途である。最近の用途は、特に切り替え時間およびイメージコントラストの高度な要求を満たさなければならない。
【0003】
液晶分子は、商業用途に有益であるために、確実な特性を有していなければならない。さまざまな気候上の条件下で液晶ディスプレイを有するデバイスを使用することができるためには、分子は、室温の範囲を含む非常に広い温度範囲で、安定なネマティック相を形成しなければならない。化合物は、したがって、低い融点および高い透明点を有していなければならない。
【0004】
低い切り替え時間を実現可能とするためには、分子は低い回転粘度を有していなければならない。例えば、16.7msより短い切り替え時間がビデオ用途では要求される。液晶分子は、さらにまた、もっぱら低いしきい値電圧が要求されるので、高い誘電異方性を有するべきである。より小さく、より軽い積算器、例えばラップトップで使用することができるためには、わずかなエネルギー消費のものが要求されることを意味する。ディスプレイのデザインのための他の重要な要因は、コントラストや利用可能な視野角度に効果を有する分子の複屈折率特性である。
【0005】
これらすべての要求を同時に満たすためには、しばしば5〜15の異なる成分を含む混合物が、純粋物質よりむしろ用いられている。これは、個々の成分が相互に共存、すなわち、たとえば十分に相互に溶解することを意味する。
高いイメージコントラストが現代のアクティブ−マトリックス(active-matrix)ディスプレイに望まれている。液晶化合物は、したがって高い抵抗率および高い電圧保有率を有していなければならない。
【0006】
特に高い抵抗率を有することを見いだした液晶化合物は、その分子の構造中にフッ素を含有する基を含むものである。たとえば、EP 0 844 229 A1は、−O−CF2−ブリッジを含む液晶化合物が記載されている。−O−CF2−ブリッジを含むことについて種々の方法が提案されている。記載された方法の1つは、最初に芳香族ハロゲン化化合物をグリニャール化合物またはリチウム(lithiated)化合物に変換し、その後二硫化炭素を用いて、ジチオカルボン酸に変換するものを含む。ジチオカルボン酸は、その後フェノールを使用して水素化アルカリ金属およびヨウ素の存在下でチオエステルに変換される。望ましい−O−CF2−ブリッジは、その後フッ素化剤を使用してチオエステルから形成される。
【0007】
提案された他の方法は、ジフルオロメチレンヘキシリデンを得るために、最初にシクロヘキサノンを、トリス(ジメチルアミノ)ホスフィンおよびジブロモジフルオロメタンと反応させることを含む。−CF2O−ブリッジは、その後この誘導体に臭素を付加させ、次にフェノラートと反応させて臭化水素の同時脱離によりエーテル化させて形成される。
【0008】
これらの方法の欠点は、低い反応率、不満足な収率および複雑な方法および精製である。
【0009】
したがって本発明の目的は、分子内に少なくとも1つの−CF2O−ブリッジを有する化合物を、満足できる反応率で、優れた収率で製造する方法を提供することである。中間生成物および最終生成物は、精製するのが容易であるべきである。
【0010】
目的は、最初にビス(アルキルチオ)カルベニウム(carbenium)塩を、塩基の存在下で、少なくとも1つの水酸基を含む化合物と反応させ、次に酸化フッ素化することにより、好ましくは、インサイチュ(in situ)で、フッ素化剤および酸化剤により、分子内に少なくとも1つの−CF2O−ブリッジを有する化合物を形成することを含む本発明の方法により、達成される。
【0011】
ビス(アルキルチオ)カルベニウム塩は、対応するカルボン酸または活性なカルボン酸誘導体から非常に容易に調製することができる。適当なカルボン酸誘導体の例は、ハロゲン化カルボニル、擬ハロゲン化カルボニル、トリフルオロメチルスルホニラート(trifluoromethylsulfonylate)などの適当に置換されたカルボニルスルホニラート(carbonyl sulfonylate)を含む。さらにまた、カルボン酸無水物、およびアルキルまたはフェニルカルボン酸エステルが使用することができる。塩は、反応溶液から清浄な形態で沈殿し、およびさらに精製することなく次の段階で用いることができる。
【0012】
ビス(アルキルチオ)カルベニウム塩は、ジチオオルトエステルを製造するために、少なくとも1つの水酸基を含む化合物と最初に反応させる。このジチオオルトエステルは、一般的に分離されないが、しかし迅速にさらに反応する。−CF2O−基を有する化合物を形成するための酸化フッ素化は、非常に穏和で、わずかに塩基性の条件下で実施され、したがって、たとえばニトリル基などの多数の未保護の官能基の存在下でも、慣用の方法とは対照的に共存することができる。他の利点は、たとえば、シス−またはトランス−シクロヘキシレン基などの基の立体化学が、反応中も残存することである。主要な工程は、以下の図1に取りまとめた。
【化7】
図1 CF2Oブリッジを有する化合物の製造のための反応式
【0013】
Xが、たとえば−OH、ハロゲン、擬ハロゲン、置換されたスルホン酸塩、無水物、アルコキシまたはフェノキシであるカルボン酸誘導体Aは、その後アルキルチオールと反応してビス(アルキルチオ)カルベニウム塩Bを与える。好ましいものは、環状カチオンの形成をもたらすジチオールを使用することにより与えられる。特に適するチオールは、したがってそれぞれジチアニリウム(dithianylium)、およびジチオラニリウム(dithiolanilium)塩の形成をもたらすエタンジチオール、プロパンジチオールまたは1,2−ベンゼンジチオールである。この塩Bは、その後水酸化化合物Rb−OHと反応して、オルトエステルCを与える。このオルトエステルCは、一般的に分離されず、直接的に酸化されて化合物Dを与える。RaおよびRbは、それ自体何ら制限されないため、この方法は、広く適用される。たとえば、RaおよびRbは、相互に独立して、これらの基が、順に、望ましい基、たとえば、ハロゲン、擬ハロゲン、水酸基またはカルボニル基などで置換されていてもよい、アルキル、アリール、シクロアルキル、またはアルケニル基であることができる。
【0014】
液晶の製造のために、ビス(アルキルチオ)カルベニウム塩は、式Iの構造を有していることが好ましい。
【化8】
式中、
【化9】
は、それぞれ相互に独立して、これらの基が、ハロゲン、特にフッ素、擬ハロゲン、−OCF3または−OCHF2で単置換または二置換されていてもよい、シス−またはトランス−1,4−シクロヘキシレン、1,4−フェニレン、または1,4−シクロヘクス−3−エニレンであり、
R1は、未置換、−CNまたは−CF3で単置換されているか、または少なくともハロゲンにより単置換されている、直鎖状または分枝状の1〜12個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ基、2〜12個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状オキシアルキル、アルケニル、またはアルケニルオキシ基、または3〜12個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状オキシアルケニル基であって、加えて、これらの基中の1個または2個以上のCH2基は、それぞれ相互に独立して、ヘテロ原子が、相互に直接的に結合しないものとして、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−または−O−CO−O−、により置き換えられていてもよく、またはハロゲン、好ましくはFまたはClであり、
【0015】
Zは、それぞれ相互に独立して、単結合、−CH2−CH2−、−CF2−CF2−、−CF2−CH2−、−CH2−CF2−、−CF=CF−、−CH=CH−、−C≡C−、−CO−O−、−O−CO−、−CF2−O−または−O−CF2−基であり、
−S−(CR2R3)n−S−は、2または3個の炭素原子を有する炭素鎖により結合されている2個の硫黄原子からなるブリッジであり、該炭化水素ブリッジが1個または2個以上の置換基R2およびR3を有していてもよく、特に、加えて、R2およびR3基が互いにシクロアルキル基またはアリール基を形成してもよい、アルキルまたはアルキレン基であり、
mは、0〜6の整数であり、
nは、2または3であり、および
Y−は、望ましいすべてのアニオンである。
【0016】
本発明による方法は、一般的に、たとえば液晶、ポリマー用の中間体、医薬および作物保護剤などの、−CF2O−ブリッジを有する化合物の製造に適している。しかしながら、液晶化合物の製造に特に適している。−CF2O−ブリッジの片側に隣接するフラグメント(fragment)は、R1基が、好ましくは液晶化合物中の構造上の慣習的な要素である、ビス(アルキルチオ)カルベニウム塩Bにより分子内に導入される。このタイプのいくつかのフラグメントは、図2に例として一覧にされているが、このリストは網羅されているものではない。Rは、上記R1として定義されるものである。
【0017】
【化10】
図2 液晶化合物中の慣習的な構築ブロックの例
【0018】
少なくとも1つの水酸基を含む化合物は、好ましくは任意に置換、特に極性基を有する、好ましくは−F、−Cl、−CN、−NCS、−OCF3または−OCH2Fで置換されていてもよいフェノール、または、基が、順にアルキル、シクロアルキルまたはフェニル基で置換されていてもよいアルキル、シクロアルキル、または4位のフェニル基であり、加えて、水素原子がフッ素や塩素原子で置換されていてもよく、およびいずれの場合にも、−CH2−CH2−、−CF2−CF2−、−CF2−CH2−、−CH2−CF2−、−CF=CF−、−CH=CH−、−C≡C−、−COO−、−O−CO−、−O−CF2−、−CH2−O−、−O−CH2−または−CF2−O−基は、これらの基の間に存在していてもよい。
【0019】
少なくとも1つの水酸基を含む化合物の構造は、それ自体何ら特別な制限の対象となるものではない。しかしながら、本発明による方法は、少なくとも1つの水酸基を含む化合物中に存在する基が、好ましくは液晶中の慣習的な構造上の要素を含むことが、液晶の製造のために特に適している。説明した構造上の要素の例は、図2に表されているのと同様の構築ブロックである。
【0020】
ビス(アルキルチオ)カルベニウム塩は、好ましくは、非配位(noncoordinating)または弱い配位(coordinating)アニオンを含み、特にテトラフルオロホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、過塩素酸塩、およびパーフルオロアルキルスルホン酸塩、特にトリフルオロメタンスルホン酸塩からなる群から選択される。これらの非常に低い親水性(hydroscopicity)により、これらの塩は、製造が容易である。
【0021】
使用される酸化剤は、慣習上のいずれの酸化剤であることができる。使用される酸化剤は、好ましくは、ハロニウム等価物を放出する化合物である。酸化剤の例としては、N−ブロモスクシンイミド、N−ヨードスクシンイミド、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン(hydanthoin)、および臭素である。特に好ましいのは、臭素であり、これは結果として生じる臭化物の除去が容易だからである。適当な酸化剤の他の例としては、SO2Cl2、SO2ClF、ニトロソニウムおよびニトロニウム塩およびクロラミンTである。
【0022】
使用されるフッ素化剤は、慣習上のいずれのフッ素化剤であることができる。フッ素化剤は、特に好ましくは、脂肪族および芳香族アミン/フッ化水素錯体(complex)、たとえば、ピリジン/フッ化水素錯体、NEt3・3HF、50%HFピリジン溶液、メラミン−HFおよびポリビニルピリジン−HFからなる群から選ばれる。
【0023】
既に上記で説明したように、本発明による方法は、特に液晶の製造に適している。本発明による方法は、出発材料としてビス(アルキルチオ)カルベニウム塩を利用する。本発明は、したがって式Iのビス(アルキルチオ)カルベニウム塩に関する。
【0024】
【化11】
式中、R1
【化12】
Z、−S−(CR2R3)n−S−、m、nおよびY−は、上記の定義のとおりである。
【0025】
本発明は、さらにまた式IIのジチオオルトエステルに関する。
【化13】
式中、R1、R2、R3、Z、
【化14】
mおよびnは、請求項2の定義のとおりであり、およびR4は、請求項2でR1として定義されるとおりであり、および加えて、−H、−F、−Cl、−CN、−SCN、−OCF3または−OCHF2であってもよく、およびoは0〜6の間の整数である。
【0026】
本発明を、例を用いて以下に説明する。
例1
【化15】
1,3−プロパンジチオール2mlを、4−(4’−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボニルクロライド5.9gに、氷で冷却しながら加えた。トリフルオロメタンスルホン酸2.6mlをその後加え、混合物を110℃に加熱し、および15分間攪拌した。反応混合物を、熱浴から取り出しおよび除々に冷却した。反応混合物をその後10mlのアセトニトリルに溶解し、および200mlのエーテルの上に注いだ。沈殿した無色の結晶を、窒素下で吸引濾過しおよび真空で乾燥した。
【0027】
収率:3.0g。0℃で母液を保存後、別の生成物3.1gを分離した。
13CNMR(CDCl3、303K):δカルベニウム=203.5ppm
【0028】
例2
【化16】
4−(4’−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸10gを、1,3−プロパンジチオール3.6mlと混合し、および冷浴で冷却した。トリフルオロメタンスルホン酸7.9mlを加えた。添加が完了した後、混合物を120℃に加熱し、および30分間攪拌した。反応混合物を熱浴から取り出し、10mlのアセトニトリルに溶解した。溶液を、50mlの氷で冷却したエーテルに注ぎ、および無色の小板を沈殿させた。混合物を−20℃で別に2時間冷却し、およびその後、窒素下で吸引濾過した。真空で乾燥し、無色の小板を得た。 収率:10.9g(理論に対し60.2%)
13CNMR(CDCl3、303K):δカルヘ゛ニウム=203.5ppm
【0029】
例3
【化17】
例2で得られたトリフルオロメタンスルホン酸ジチアニリウムの1.06gを、−70℃で20mlのジクロロメタンに最初に入れ(charged)、および2mlのジクロロメタン中の0.6mlのトリエチルアミンおよび0.7gのトリフルオロフェノール(90%トルエン中)の混合物と混合し、瞬時に無色の固体の沈殿が結果として生じた。反応混合物を−70℃で2時間攪拌した。その後、15mlのジクロロメタンに懸濁している1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン3gを、20分のうちに少しずつ加えた。反応混合物を、−70℃で別に90分攪拌し、およびその後室温まで加温した。溶液を攪拌しながら飽和炭酸水素ナトリウム溶液に注ぎ、有機相を分離し、および水相をジクロロメタンで2回抽出した。混合した有機相を乾燥し、および溶剤は真空で除去した。シリカゲルを通した濾過により、ゆっくり結晶化した無色のオイルが得られた。
収率:415mg(理論に対し45.5%)
融点:59℃
透明点:112℃
【0030】
例4
【化18】
4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸199gを、100mlの1,3−プロパンジチオールと混合し、および冷浴で冷却した。263mlのトリフルオロメタンスルホン酸を一滴ずつ加えた。添加が完了した後、反応混合物を120℃で1時間加熱した。反応混合物をおよそ70℃まで冷却し、およびその後500mlの氷で冷却したジブチルエーテル上に注ぎ、および溶液を一晩、−20℃で冷却した。沈殿した結晶を、吸引濾過し、エーテルで洗浄しおよび真空で乾燥した。
収率:92g(理論に対し21.9%)
【0031】
例5
【化19】
【0032】
例4で得られたトリフルオロメタンスルホン酸ジチアニリウム30gを、−70℃で250mlのジクロロメタンに最初に入れた。50mlのジクロロメタン中の14.8mlのトリエチルアミンおよび12.2gの3−フルオロ−4−シアノフェノールの溶液を−70℃で一滴ずつ添加し、その結果瞬時に無色の固体の沈殿が生じた。反応混合物を−70℃で別に1時間攪拌した。57.2mlのトリエチルアミン 三フッ化水素を一滴ずつ加え、および混合物を別に5分攪拌した。18.2mlの臭素を、その後45分のうちに−70℃で一滴ずつ加えた。反応混合物を別に60分間攪拌し、およびその後室温まで加温した。溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液上に注ぎ、有機相を分離し、および水相をジクロロメタンで抽出した。混合した有機相を乾燥し、および溶剤を真空で除去した。シリカゲルを通した濾過により、無色のオイルを得た。
収率:12g(理論に対し50%)
【0033】
例6
【化20】
【0034】
例4で得られた30gのトリフルオロメタンスルホン酸ジチアニリウムを、−70℃で250mlのジクロロメタンに最初に入れた。50mlのジクロロメタン中の14.8mlのトリエチルアミンおよび11.6gの3,4−ジフルオロフェノールの溶液を−70℃で一滴ずつ添加し、その結果瞬時に無色の固体の沈殿が生じた。反応混合物を−70℃で別に1時間攪拌した。57.2mlのトリエチルアミン 三フッ化水素を一滴ずつ加え、および混合物を別に5分攪拌した。18.2mlの臭素を、その後45分のうちに一滴ずつ加えた。反応混合物を−70℃で別に60分間攪拌し、およびその後室温まで加温した。溶液を炭酸水素ナトリウム溶液上に注ぎ、有機相を分離し、および水相をジクロロメタンで抽出した。混合した有機相を乾燥し、および溶剤を除去した。シリカゲルを通した濾過により、無色のオイルを得た。
収率:8.1g(理論に対し34%)
【0035】
例7
【化21】
【0036】
例4で得られた30gのトリフルオロメタンスルホン酸ジチアニリウムを、−70℃で250mlのジクロロメタンに最初に入れた。50mlのジクロロメタン中の14.8mlのトリエチルアミンおよび13.1gの3,4,5−トリフルオロフェノールの溶液を一滴ずつ添加し、その結果瞬時に無色の固体の沈殿が生じた。反応混合物を−70℃で別に1時間攪拌した。57.2mlのトリエチルアミン 三フッ化水素を一滴ずつ加え、および混合物を別に5分攪拌した。18.2mlの臭素を、その後45分のうちに一滴ずつ加えた。反応混合物を別に60分間攪拌し、およびその後室温まで加温した。混合物を炭酸水素ナトリウム溶液上に注ぎ、有機相を分離し、および水相をジクロロメタンで抽出した。混合した有機相を乾燥し、および溶剤を真空で除去した。シリカゲルを通した濾過により、無色のオイルを得た。
収率:7.4g(理論に対し30%)
【0037】
例8
【化22】
【0038】
10gの2,6−ジフルオロ−4−(4−ペンチルシクロヘキシル)安息香酸、3.5mlの1,3−プロパンジチオールおよび8.5mlのトリフルオロメタンスルホン酸を混合し、および室温で15分間および110℃で20分間攪拌した。混合物を室温まで冷却し、80mlのジエチルエーテルを加え、および反応混合物を−20℃で一晩保存した。沈殿した固体を、窒素下で吸引濾過し、ジエチルエーテルで洗浄し、および真空で乾燥した。
収率:10.3g(理論に対し60%)
13CNMR(CDCl3、303K):δカルベニウム=212ppm
【0039】
例9
【化23】
【0040】
例8で得られた固体10gを100mlのジクロロメタンに溶解し、および−75℃で20mlのジクロロメタン中の6.2gの3,4,5−トリフルオロフェノール(90%トルエン中)、および5.7mlのトリエチルアミンの溶液と混合した。無色の透明な溶液を別に45分間攪拌し、およびその後15.1mlのトリエチルアミン 三フッ化水素を一滴ずつ添加した。5分後、50mlのジクロロメタン中の26.8gの1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントインの懸濁液を、少しずつ45分のうちに加えた。混合物をその後−20℃まで加温し、およびオレンジ色の溶液を亜硫酸水素ナトリウム/炭酸水素ナトリウム水溶液にゆっくり加えた。有機相を分離し、および水相をジクロロメタンで抽出した。混合した有機相を乾燥し、および溶剤を減圧下で除去した。
収率:わずかに黄色の固体が7.8g(理論に対し90%)
【0041】
例10
【化24】
【0042】
例2で得られた3.367gのトリフルオロメタンスルホン酸ジチアニリウムを、−70℃で30mlのジクロロメタンに最初に入れ、および3mlのジクロロメタン中の1.128mlのトリエチルアミンおよび0.737gのトリフルオロエタノールの混合物と混合し、その結果無色の固体の沈殿が生じた。反応混合物を−70℃で1時間攪拌し、HF/ピリジン(50%、66.97mmol当量)と混合し、および別に5分間攪拌した。15mlの四塩化炭素中の1.715mlの臭素を、その後一滴ずつ加え、さらに10mlのジクロロメタンを加え、および混合物を別に60分間攪拌した。混合物を室温まで加温し、および黄色の溶液を、注意深く75mlの飽和炭酸水素ナトリウム溶液上に攪拌しながら注いだ。ガス発生が終了後、炭酸水素ナトリウムを弱アルカリとなるまで加え、有機相を分離し、および水相を3回、30mlのジクロロメタンでそれぞれ抽出した。混合した有機相を水で洗浄し、およびスルホン酸ナトリウムで乾燥し、および溶剤を真空で除去した。残渣を、n−ヘキサンを使用して、シリカゲルを通して濾過した。粗生成物を−78℃でペンタンから2回再結晶した。生成物を、塩基性アルミナおよび銅粉の存在下で一晩ペンタン中で攪拌し、ペンタンを使用してシリカゲルを通して濾過し、および−78℃でペンタンから結晶化した。
【0043】
収率:445.0mg(結晶生成物)
19F NMR(235MHz、CDCl3)
δ=−80.50ppm(d、3J=7.0Hz、2F、CF2O)
−72.47(m、3F、CF3)
融点: 19℃
透明点: 72℃
【0044】
例11
【化25】
【0045】
例2で使用したジチアニリウムトリフレート(triflate)と同様に調製した上記に示す式のトリフルオロメタンスルホン酸ジチアニリウム10gを、−70℃で最初に入れ、および150mlのジクロロメタンを加えた。10mlのジクロロメタン中の8.761mlのトリエチルアミンおよび6.053mlのトリクロロエタノールの混合物を、一滴ずつ加え、および溶液は瞬時に黄色になり、無色の固体を沈殿させた。添加が終了後、混合物を−70℃で1時間攪拌し、およびその後HF/ピリジン(50%、210.670mmol当量)と混合した。5分後、50mlのジクロロメタンに懸濁した30.118gの1,3−ジブロモジメチルヒダントインを、20分のうちに少しずつ加えた。混合物を別に2時間攪拌し、および−30℃まで加温し、およびオレンジ色の懸濁液を、300mlの飽和炭酸水素ナトリウム溶液、および炭酸水素ナトリウムで飽和した50mlの亜硫酸水素ナトリウム溶液からなる攪拌された混合物上に注いだ。有機相を分離し、および水相を100mlのジクロロメタンでそれぞれ2回抽出した。混合した有機相を、飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、およびスルホン酸ナトリウムで乾燥し、および溶剤を真空で除去した。残渣をヘキサンを使用して、シリカゲルを通して濾過した。さらなる精製のために、粗生成物をエーテル中に溶解し、一晩銅粉の存在下で攪拌し、および再度ヘキサンを使用してシリカゲルで濾過した。ゆっくり結晶化したわずかに黄色のオイルを得た。粗生成物を−20℃でペンタンから2回結晶化した。
【0046】
収率:2.498g(29.2%)
19F NMR(235MHz、CDCl3)
δ=−81.18ppm(d、3J=8.2Hz、2F、CF2O)
融点: 47℃
【0047】
例12
【化26】
【0048】
12.632mlのトリフルオロメタンスルホン酸を5gの(+)−S−2−メチル酪酸および5.352mlのジメルカプトプロパンに一滴ずつ加え、および混合物を、その後、30分間120℃で加熱した。混合物を冷却し、70mlのエーテルと混合し、および−78℃まで攪拌しながら冷却した。同じ温度で、母液をイマージョンフリット(immersion frit)を使用して吸引しながら除去した。わずかに黄色の固体は、室温まで加温中に融けた。結果として得られた黄色のオイルを20mlのエーテルと混合し、激しく攪拌しながら再び凍結させ、および吸引濾過した。一晩ドライアイスの上で保存し、さらなる精製なしで反応させ、わずかに黄色の固体を得た。
【0049】
例13
【化27】
【0050】
75mlのジクロロメタン中の10.48gのフェノールおよびトリエチルアミン(フェノールに対して1.2当量)の溶液を、50mlのジクロロメタン中の例12で調製したトリフレート7.78gに、−70℃でゆっくり一滴ずつ加えた。混合物を、1時間攪拌し、および19.96mlのトリエチルアミン 三フッ化水素と混合した。その後、30mlのジクロロメタン中の6.147mlの臭素の溶液を1時間のうちに一滴ずつ加えた。混合物をさらに90分攪拌し、−20℃まで加温し、および氷で冷却した1Mの水酸化ナトリウム水溶液500ml上に注いだ。水相を分離し、およびジクロロメタンで3回抽出した。混合した有機相を、30分間セライト(Celite)の存在下で激しく攪拌し、濾過し、2回水で洗浄し、およびスルホン酸ナトリウムで乾燥した。溶剤を真空で除去し、および残渣をn−ヘキサンを使用してシリカゲルを通して濾過した。−78℃でn−ペンタンから2回結晶化して無色のオイルを得た。
収率:3.390g(43.5%)2回結晶化生成物
19F NMR(235MHz、CDCl3)
δ=78.26ppm(dd、3J=9.1Hz、3J=11.5Hz、2F、CF2O)
融点: 33℃
Claims (4)
- 式IIで表されるジチオオルトエステル:
式中、
は、それぞれ相互に独立して、これらの基が、ハロゲン、擬ハロゲン、−OCF3、−OCHF2で単置換または二置換されていてもよい、シス−またはトランス−1,4−シクロヘキシレン、1,4−フェニレン、または1,4−シクロヘキシ−3−エニレンであり、ただし式II中のO原子に結合しているものは1,4−フェニレンであり、
R1は、未置換、−CNまたは−CF3で単置換されているか、または少なくともハロゲンにより単置換されている、直鎖状または分枝状の1〜12個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ基、2〜12個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状オキシアルキル、アルケニル、またはアルケニルオキシ基、または3〜12個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状オキシアルケニル基であって、加えて、これらの基中の1個または2個以上のCH2基は、それぞれ相互に独立して、ヘテロ原子が、相互に直接的に結合しないものとして、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−または−O−CO−O−により置き換えられていてもよく、またはハロゲンであり、
Zは、それぞれ相互に独立して、単結合、1個の−CH2−CH2−、−CF2−CF2−、−CF2−CH2−、−CH2−CF2−、−CF=CF−、−CH=CH−、−C≡C−、−CO−O−、−O−CO−、−CF2−O−または−O−CF2−基であり、
−S−(CR2R3)n−S−は、2または3個の炭素原子を有する炭素鎖により結合されている2個の硫黄原子からなるブリッジであり、該炭化水素ブリッジは1個または2個以上の置換基R2およびR3を有し、R2およびR3 は水素原子、アルキル基またはアルキレン基であり、加えて、R 2 およびR 3 基は一緒になってシクロアルキル基またはアリル基を形成してもよく、
mは、0〜6の整数であり、
nは、2または3であり、
R4は、R1について上記において定義されたとおりであり、および加えて、−H、−F、−Cl、−CN、−NCS、−OCF3または−OCHF2でもよく、
oは1〜6の間の整数である。 - oが2〜6の間の整数である、請求項1に記載のジチオオルトエステル。
- −S−(CR 2 R 3 ) n −S−が−S−C 3 H 6 −S−である、請求項1 〜3のいずれかに記載のジチオオルトエステル。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10010537.8 | 2000-03-03 | ||
| DE2000110537 DE10010537A1 (de) | 2000-03-03 | 2000-03-03 | Herstellung von Flüssigkristallen mit CF¶2¶O-Brücke |
| DE10027102.2 | 2000-05-31 | ||
| DE10027102A DE10027102A1 (de) | 2000-05-31 | 2000-05-31 | Verfahren zur Herstellung von Flüssigkristallen mit CF¶2¶O-Brücke |
| PCT/EP2001/002402 WO2001064667A1 (de) | 2000-03-03 | 2001-03-02 | Herstellung von flüssigkristallen mit cf20-brücke |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007101250A Division JP5037999B2 (ja) | 2000-03-03 | 2007-04-09 | Cf2o結合を有する液晶の製造 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003525286A JP2003525286A (ja) | 2003-08-26 |
| JP2003525286A5 JP2003525286A5 (ja) | 2005-04-28 |
| JP4132818B2 true JP4132818B2 (ja) | 2008-08-13 |
Family
ID=26004680
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001563507A Expired - Lifetime JP4132818B2 (ja) | 2000-03-03 | 2001-03-02 | Cf2o結合を有する液晶の製造 |
| JP2007101250A Expired - Lifetime JP5037999B2 (ja) | 2000-03-03 | 2007-04-09 | Cf2o結合を有する液晶の製造 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007101250A Expired - Lifetime JP5037999B2 (ja) | 2000-03-03 | 2007-04-09 | Cf2o結合を有する液晶の製造 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6787062B2 (ja) |
| EP (1) | EP1259503B1 (ja) |
| JP (2) | JP4132818B2 (ja) |
| KR (1) | KR100760562B1 (ja) |
| CN (1) | CN100467460C (ja) |
| AT (1) | ATE372996T1 (ja) |
| AU (1) | AU2001246497A1 (ja) |
| DE (1) | DE50113003D1 (ja) |
| TW (1) | TW538117B (ja) |
| WO (1) | WO2001064667A1 (ja) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1326855B1 (de) | 2000-10-20 | 2008-01-23 | MERCK PATENT GmbH | Verfahren zur herstellung von cyclischen carbonsäureorthoesterfluoriden und solche verbindungen |
| WO2002048073A1 (de) * | 2000-12-12 | 2002-06-20 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur herstellung von verbindungen mit einer cf2o-brücke |
| DE10065218B4 (de) * | 2000-12-27 | 2014-04-10 | Merck Patent Gmbh | Herstellung von disubstituierten Tetrafluorethylen-Derivaten |
| JP4972826B2 (ja) * | 2001-04-10 | 2012-07-11 | Jnc株式会社 | ジフルオロアルコキシを末端に有する化合物、液晶組成物および液晶表示素子 |
| WO2004050594A1 (de) * | 2002-12-03 | 2004-06-17 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur herstellung von naphthalinderivaten |
| EP1482018A1 (de) | 2003-05-27 | 2004-12-01 | MERCK PATENT GmbH | Aldehyde mit Difluoroxymethylen-Brücke |
| WO2005073182A1 (ja) * | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Daikin Industries, Ltd. | 含フッ素不飽和スルホニルフロライドの製造方法 |
| DE102005004055B4 (de) * | 2004-02-25 | 2016-10-20 | Merck Patent Gmbh | Syntheseverfahren |
| JP5015774B2 (ja) | 2004-07-29 | 2012-08-29 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ジフルオロ置換複素環化合物および液晶媒体における構成要素としてのその使用 |
| US8777967B2 (en) * | 2005-06-09 | 2014-07-15 | Xlumena, Inc. | Methods and devices for anchoring to tissue |
| EP1900792B1 (de) * | 2006-09-13 | 2010-08-04 | Merck Patent GmbH | Fluorphenyl-Verbindungen für flüssigkristalline Mischungen |
| CN102007197B (zh) | 2008-05-15 | 2014-09-24 | Jnc株式会社 | 光学等向性的液晶媒体及光学元件 |
| DE102010048235A1 (de) | 2009-11-04 | 2011-05-05 | Merck Patent Gmbh | Flüssigkristalline Verbindungen |
| CN101735822B (zh) * | 2009-12-14 | 2015-04-29 | 武汉工业学院 | 一类低温低粘度液晶组合物的制备与用途 |
| DE102013005820A1 (de) * | 2012-05-05 | 2013-11-07 | Merck Patent Gmbh | Phenolverbindungen und Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
| JP5850023B2 (ja) * | 2012-11-27 | 2016-02-03 | Jnc株式会社 | 末端にcf2ocf3を有する液晶化合物、液晶組成物および液晶表示素子 |
| CN103087038B (zh) * | 2012-12-24 | 2015-07-29 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 含有苯并1,3-二氧杂环戊烷和二氟亚甲氧基桥的液晶化合物 |
| CN103058947B (zh) * | 2012-12-24 | 2015-07-29 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 含有苯并噁唑和二氟亚甲氧基桥的液晶化合物及其制备方法与应用 |
| CN104159881B (zh) * | 2013-04-05 | 2015-09-16 | Dic株式会社 | 化合物的制造方法 |
| CN103254903B (zh) * | 2013-04-27 | 2016-04-06 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 含有二氟亚甲基键桥的液晶化合物及其制备方法与组合物 |
| JP5975081B2 (ja) | 2013-09-30 | 2016-08-23 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素ビアリール化合物の製造方法 |
| CN103787845A (zh) * | 2014-01-21 | 2014-05-14 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 含有氘取代的二氟氧甲烷衍生物 |
| KR101913484B1 (ko) | 2014-03-20 | 2018-10-30 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 옥시디플루오로메틸렌 골격을 갖는 화합물의 제조 방법 |
| CN108130101B (zh) * | 2014-11-20 | 2021-05-25 | 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 | 一种含有二氟甲氧基桥键的液晶化合物及其应用 |
| CN104560060A (zh) * | 2014-12-16 | 2015-04-29 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 一种含氘代二氟甲氧桥类化合物的新型液晶介质及应用 |
| CN104531167B (zh) * | 2014-12-29 | 2017-02-22 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 液晶介质 |
| CN115976648B (zh) * | 2022-09-06 | 2024-09-27 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种晶体材料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4119639A (en) | 1977-06-27 | 1978-10-10 | Mcneil Laboratories, Incorporated | Preparation of 5-aroylpyrrole-2-acetic acid derivatives |
| DE3437935A1 (de) * | 1984-10-17 | 1986-04-24 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Heterocyclische verbindungen |
| JPS61227563A (ja) | 1985-03-30 | 1986-10-09 | Nippon Chemiphar Co Ltd | トルメチンの製法 |
| JP3287288B2 (ja) * | 1996-11-22 | 2002-06-04 | チッソ株式会社 | ポリハロアルキルエーテル誘導体とそれらを含む液晶組成物及び液晶表示素子 |
-
2001
- 2001-02-26 TW TW090104377A patent/TW538117B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-03-02 DE DE50113003T patent/DE50113003D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-02 EP EP01919369A patent/EP1259503B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-02 US US10/220,428 patent/US6787062B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-02 JP JP2001563507A patent/JP4132818B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-02 AU AU2001246497A patent/AU2001246497A1/en not_active Abandoned
- 2001-03-02 WO PCT/EP2001/002402 patent/WO2001064667A1/de not_active Ceased
- 2001-03-02 KR KR1020027011473A patent/KR100760562B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-02 CN CNB018060315A patent/CN100467460C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-02 AT AT01919369T patent/ATE372996T1/de not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-04-09 JP JP2007101250A patent/JP5037999B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030069433A1 (en) | 2003-04-10 |
| KR20030041857A (ko) | 2003-05-27 |
| DE50113003D1 (de) | 2007-10-25 |
| WO2001064667A1 (de) | 2001-09-07 |
| CN100467460C (zh) | 2009-03-11 |
| HK1054040A1 (zh) | 2003-11-14 |
| JP2007262069A (ja) | 2007-10-11 |
| AU2001246497A1 (en) | 2001-09-12 |
| ATE372996T1 (de) | 2007-09-15 |
| CN1411455A (zh) | 2003-04-16 |
| JP2003525286A (ja) | 2003-08-26 |
| KR100760562B1 (ko) | 2007-10-04 |
| EP1259503A1 (de) | 2002-11-27 |
| EP1259503B1 (de) | 2007-09-12 |
| JP5037999B2 (ja) | 2012-10-03 |
| TW538117B (en) | 2003-06-21 |
| US6787062B2 (en) | 2004-09-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5037999B2 (ja) | Cf2o結合を有する液晶の製造 | |
| JP4970340B2 (ja) | Cf2oブリッジを有する化合物の製造方法 | |
| JP4262477B2 (ja) | 環状フッ素化カルボン酸オルトエステルおよび相応する化合物を合成するための方法 | |
| US20030222243A1 (en) | Fluorinated indenes and 1,7-dihydroindacenes of negative dielectric anisotrophy | |
| EP0427166B1 (en) | Ester compounds and liquid crystal compositions containing the same | |
| TWI332494B (en) | Process for the preparation of naphthalene derivatives | |
| JP5382405B2 (ja) | 1−(トリフルオロメトキシ)ナフタレン誘導体 | |
| JP4022951B2 (ja) | ジフルオロスチルベン誘導体の製造方法 | |
| HK1054040B (en) | Producing liquid crystals with cf2o bond | |
| EP1479748B1 (en) | Tolane derivatives and liquid crystalline medium | |
| JPH055830B2 (ja) | ||
| JP2010090114A (ja) | 1,2−ジシクロヘキシルテトラフルオロエチレン骨格を有する化合物およびその製造方法 | |
| JP6489369B2 (ja) | ジフルオロメチルエーテル骨格を有する化合物の製造方法及びその製造中間体化合物 | |
| JP4300450B2 (ja) | ベンゾニトリル誘導体及びその製造方法 | |
| JP4329306B2 (ja) | ベンゾニトリル誘導体及びその製造方法 | |
| JPS643852B2 (ja) | ||
| JPH062696B2 (ja) | トラン型新規液晶化合物 | |
| JPS6360981A (ja) | フラン系液晶化合物、液晶中間体、液晶組成物およびそれらの製造方法 | |
| JP2010285384A (ja) | テトラフルオロエチレン骨格を有する化合物の製造方法 | |
| WO1997030966A1 (en) | Vinylene compounds and liquid-crystal composition | |
| JPH1017544A (ja) | チオン−0−エステル誘導体、及びその製造方法 | |
| JP2006036719A (ja) | 2−ナフチル−1,3−ジオキサン誘導体 | |
| JPS642114B2 (ja) | ||
| JPS6213948B2 (ja) | ||
| CN105295953A (zh) | 含有1,3-二噁烷二氟亚甲氧基团的液晶化合物及其制备方法与应用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061010 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20070109 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20070116 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070409 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080507 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080602 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4132818 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130606 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |
