JP4031052B2 - ペンタフルオロプロペンの接触製造 - Google Patents
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Description
本発明は、ペンタフルオロプロペンの製造方法、さらに詳しくは、ヘキサフルオロプロパンのペンタフルオロプロペンへの脱フッ化水素の接触方法に関する。
発明の背景
ハイドロフルオロプロペンは、フルオロプラスチック、フルオロエラストマーの調製用材料として、およびフルオロポリマーの調製におけるモノマーとして有用である。
欧州特許出願EP726243号は、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(HFC−236ea)の脱フッ化水素による1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(HFC−1225ye)の製造方法を開示する。その脱フッ化水素は、気相において、三価の酸化クロムまたは部分的にフッ素化された三価の酸化クロム触媒の存在下で行なわれる。
米国特許第5,396,000号は、HFC−236eaが、気相において、フッ化アルミニウム、フッ化物化されたアルミナ、フッ化アルミニウムに担持された金属、フッ化物化されたアルミナに担持された金属、およびそれらの混合物から成る群から選択された触媒の存在下で、HFC−1225yeに脱フッ化水素化されることができることを開示する。
発明の要旨
式CFX=CYCF3、ここで、XはHおよびFから選択され、且つYはXがHであるときFであり、およびYはXがFであるときHである、ペンタフルオロプロペンの製造方法が開示される。本発明の方法は、式CF2XCHYCF3のヘキサフルオロプロパンを、約200℃から500℃の温度で、随意に不活性ガスの存在下で、触媒と接触させる工程を具える。該触媒は、(1)(a)マグネシウム、亜鉛、およびマグネシウムと亜鉛との混合物の酸化物、フッ化物、およびオキシフッ化物から選択された少なくとも1種の化合物と、随意に(b)アルミニウムの酸化物、フッ化物、およびオキシフッ化物から選択された少なくとも1種の化合物との触媒であり、但し、該触媒において、アルミニウムと、マグネシウムおよび亜鉛の合計との原子比が、約1:4またはそれ未満(例えば1:9)である触媒、(2)フッ化ランタン、(3)フッ化物化された酸化ランタン、(4)活性炭、並びに(5)三次元マトリックスの炭質材料を含む。
発明の詳細な説明
本発明は、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(すなわち、CF3CHFCHF2またはHFC−236ea)からシス−およびトランス−1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(すなわち、CF3CF=CHFまたは1225ye)を製造する方法を提供する。1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(すなわち、CF3CH2CF3またはHFC−236fa)から1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(すなわち、CF3CH=CF2または1225zc)を製造する方法も提供される。HFC−236eaおよびHFC−236faは、既知の技法により調製されることができる。例えば、CF3CH2CF3は、米国特許第5,414,165号において開示されるように、フッ化水素と1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロプロパン(すなわち、CCl3CH2CCl3)との混合物を、気相において、三価のクロム触媒の存在下で、接触させることにより調製されることができ、およびCF3CHFCHF2は、Pd/C触媒の存在下で、ヘキサフルオロプロペン(すなわち、CF3CF=CF2)の水素添加により調製されることができる。
本発明により、選択された触媒を介して、CF3CHFCHF2はCF3CF=CHFへと脱フッ化水素化され、そしてCF3CH2CF3はCF3CH=CF2へと脱フッ化水素化される。
適当なフッ化物化された酸化ランタン組成物は、フッ化物化されたアルミナの調製に対する当該技術に既知の方法に類似のいかなる方法によっても調製されることができる。例えば、その触媒組成物は、酸化ランタンのフッ素化によって調製されることができる。
適当な触媒組成物は、当該技術によく知られた技術である、水酸化物としてのランタンとの沈殿によっても調製されることができ、それはその後乾燥および焼成されて酸化物を形成する。ついで得られた酸化物は、ここに記載されているように前処理されることができる。
その触媒組成物は、高められた温度で、例えば約200℃から約450℃で、フッ素含有化合物で処理することにより、所望のフッ素含量までフッ素化されることができる。HF、SF4、CCl3F、CCl2F2、CHF3、CHClF2またはCCl2FCClF2のような気化性のフッ素含有化合物を用いた前処理は、脱フッ化水素反応を実行するために使用されることができる反応器中を含む、いかなる好都合な方法によっても行なわれることができる。気化性フッ素含有化合物とは、指示された条件で触媒を通過した場合に、所望の程度に触媒をフッ素化するであろうフッ素含有化合物を意味する。
適当な触媒は、例えば次のように調製されることもできる:
La2O3は、本質的にすべての水分が除去されるまで、例えば約400℃で約18時間にわたって、乾燥される。ついで、乾燥された触媒は、使用される反応器に移される。ついで、その温度は徐々に約400℃まで高められ、一方、反応器を通るN2のフローは維持されて、触媒および反応器からいかなる残余のごく微量の水分をも除去する。ついで、その温度は約200℃まで下げられ、そして気化性フッ素含有化合物は反応器を通される。必要であれば、窒素または他の不活性ガスが稀釈剤として使用されることができる。N2または他の不活性稀釈剤は、その気化性フッ素含有化合物だけが反応器を通されるまで、徐々に減少されることができる。このポイントで、温度は約450℃まで上げられ、そしてその温度で保持されて、フッ素含有化合物のフローおよび触媒容量に応じて、例えば、15分から300分にわたって、そのLa2O3を少なくとも重量で80%のLaF3に相当するフッ素含量に変換する。
触媒調製のもうひとつの適当な手順は、水酸化アンモニウムを、La(NO3)3・6H2Oの溶液に添加することである。水酸化アンモニウムは、pHが約9.0から9.5になるまで硝酸塩溶液に添加される。添加の最後に、その溶液は濾過され、得られた固体は水で洗浄され、そしてゆっくりと約400℃まで加熱され、そこで焼成される。ついで焼成された生成物は、上述のような適当な気化性フッ素含有化合物で処理される。
次のソースのいずれかからの炭素が本発明の方法に対して有用である:木、泥炭、石炭、ヤシ殻、骨、褐炭、石油ベースの残渣、および糖。本発明に使用することもできる市販の炭素は、次の商標の下で販売されるものを含む:Barneby & Sutcliffe(商標)、Darco(商標)、Nuchar(商標)、Columbia JXN(商標)、Columbia LCK(商標)、Calgon PCB、Calgon BPL(商標)、Westvaco(商標)、Norit(商標)、およびBarnaby Cheny NB(商標)。その炭素担体は、粉体、粒体、またはペレット等の形態であることができる。
炭素は、酸洗浄された炭素(例えば、塩化水素酸で処理されるか、または塩化水素酸で続いてフッ化水素酸で処理されている炭素)を含む。酸処理は、1000ppm未満の灰分を含有する炭素を提供するのに典型的に十分である。炭素の適当な酸処理は米国特許第5,136,113号に記載されている。本発明の炭素は、三次元マトリックスの多孔性炭質材料も含む。具体例は米国特許第4,978,649号に開示されているものであり、ここに参照することにより全体として本明細書の一部をなすものとする。三次元マトリックス炭質材料は、ガス状または蒸気状の炭素含有化合物(例えば、炭化水素)を炭質材料の粒体の塊(例えば、カーボンブラック)に導入し;その炭素含有化合物を分解してその粒体の表面に炭素を付着させ;そして得られた材料を、蒸気を含有する活性体ガスで処理して、多孔性の炭質材料を提供することにより、得られることが注目される。したがって、炭素−炭素複合材料が形成される。
他の好ましい触媒は、フッ化マグネシウムから本質的に成る触媒、並びに、フッ化マグネシウムと、アルミニウムの酸化物、フッ化物、およびオキシフッ化物から選択された少なくとも1種の化合物とから本質的に成る触媒を含む。
適当な触媒は、例えば次のように調製されることもできる:
酸化マグネシウムは、本質的にすべての水が除去されるまで、例えば約100℃で約18時間にわたって、乾燥される。ついで、乾燥された材料は、使用される反応器に移される。ついで、その温度は徐々に約400℃まで高められ、一方、反応器を通る窒素のフローは維持されて、酸化マグネシウムおよび反応器からいかなる残余のごく微量の水分さえも除去する。ついで、その温度は約200℃まで下げられ、そして、窒素などの不活性ガスで随意に稀釈された、HF、またはSF4、CCl3F、CCl2F2、CHF3、あるいはCCl2FCClF2のような他の気化性フッ素含有化合物などのフッ化物化剤(a fluoriding agent)が、反応器を通される。その不活性ガスまたは窒素は、HFまたは他の気化性フッ素含有化合物だけが反応器を通されるまで、徐々に減少されることができる。このポイントで、温度は約450℃まで上げられ、そしてその温度で保持されて、フッ化物化剤のフローレートおよび触媒容量に応じて、例えば、15分から300分にわたって、酸化マグネシウムを少なくとも40重量%に相当するフッ化物含量に変換する。そのフッ化物はフッ化マグネシウムまたはオキシフッ化マグネシウムの形態であり;触媒の残余は酸化マグネシウムである。時間および温度などのフッ化物化条件は、40重量%より高いフッ化物含有材料を提供するために調節され得ることが当該技術において理解されている。
触媒調製のもうひとつの適当な手順は、水酸化アンモニウムを、硝酸マグネシウム、および存在する場合には、硝酸亜鉛および/または硝酸アルミニウムの溶液に添加することである。水酸化アンモニウムは、pHが約9.0から9.5になるまで硝酸塩溶液に添加される。添加の最後に、その溶液は濾過され、得られた固体は水で洗浄され、乾燥され、そしてゆっくりと500℃まで加熱され、そこで焼成される。ついで焼成された生成物は、上述のような適当なフッ素含有化合物で処理される。
1種または2種以上の金属フッ化物を含有する金属(すなわち、マグネシウム、随意に亜鉛および/またはアルミニウムを含む)フッ化物触媒の調製に対するさらにもうひとつの手順は、脱イオン水中で、攪拌しながら、1または2以上の金属の1または2以上のハロゲン化物または1または2以上の硝酸塩の水溶液を、48%の水性HFで処理することである。攪拌は夜通し続けられ、そしてそのスラリーは蒸気浴において乾燥状態まで蒸発される。ついで、その乾燥された固体は、空気中で400℃で約4時間にわたって焼成され、室温まで冷却され、粉砕され、そして篩い分けされて、触媒評価における使用のために材料を提供する。
触媒の物理的な形状は重要ではなく、そして、例えばペレット、粉体、または粒体を含むこともできる。
CF3CH2CF3およびCF3CHFCF2の接触脱フッ化水素は、約200℃から約500℃、好ましくは約375℃から約450℃の範囲内の温度で好適に行なわれる。接触時間は、典型的に、約1秒から約450秒、好ましくは約10秒から約120秒である。
反応圧力は、減圧(subatmospheric)、大気圧、または過圧(superatmospheric)であることができる。一般的に大気圧近傍が好ましい。しかしながら、CF3CH2CF3の脱フッ化水素は、減圧(すなわち、1気圧未満の圧力)の下で有益に行なわれることができる。
反応は、窒素およびアルゴンなどの不活性ガスの存在下で行なわれることができる。不活性ガスは、CF3CH2CF3のCF3CH=CF2への脱フッ化水素(DHF)を増加するために使用され得ることが見出されている。プロセスにおいて、脱フッ化水素に供給される不活性ガスとCF3CH2CF3とのモル比は、約5:1から1:1であることが注目される。窒素は好ましい不活性ガスである。不活性ガスは、CF3CHFCHF2のCF3CF=CHFへのDHFに本質的に影響を及ぼさない。
未反応の出発材料は、さらなるCF3CF=CHF(1225ye)およびCF3CH=CF2(1225zc)の製造のために反応器へと再循環されることができる。ハイドロフルオロプロペン1225yeおよび1225zcは、蒸留などの慣用の手順により、反応生成物および未反応のいかなるハイドロフルオロプロパンからも回収されることもできる。
本発明の方法は、よく知られている化学工学実務を用いて、気相において容易に実施されることができる。
さらなる詳述なしで、当業者は本明細書の記載を用いて、本発明を完全に利用することができると信じられる。次の特定の具体例は例示として解釈され、いかなる場合にも開示の残余に制約を加えるものとして解釈されるべきではない。
実施例
記号一覧:
触媒の調製
フッ化マグネシウム含有触媒の調製のための一般的手順:
他に述べられない限り、1種または2種以上の金属フッ化物を含有するフッ化マグネシウム触媒の調製のために、次の一般的手順に従う。脱イオン水中の1種または2種以上の金属のハロゲン化物または硝酸塩の水溶液を、48%水性HFを用いて、攪拌しながら処理した。攪拌を夜通し続け、そしてそのスラリーを蒸気浴で乾燥状態まで蒸発させた。ついで、乾燥された固体を空気中で400℃において約4時間にわたって焼成し、室温まで冷却し、粉砕し、そして篩い分けして、触媒評価に使用した12〜20メッシュ(1.68〜0.84mm)のフラクションを提供した。
触媒A−フッ化物化された酸化ランタン
攪拌機を備えた2Lビーカー中で、La(NO3)3・6H2O(98.4g)を脱イオン水(1.5L)に溶解した。10分の時間の間に、NH4OHと脱イオン水との(1/1、体積/体積)溶液(200mL)を、攪拌されている溶液に添加した。この添加の後、その溶液のpHは9.5であった。そのスラリーを濾過し、そして空気中で125℃で約18時間にわたって乾燥し、つづいて350℃で空気中でさらに8時間にわたって焼成した。その生成物(46.8g)をウェファーに圧縮し、そして篩い分けた。12×20メッシュ(1.4mm×0.83mm)の範囲の粒体を実施例に使用した。その粒状にされた触媒前駆体(15mL、17.6g)を、流動層砂浴において加熱された、5/8"(1.58cm)のInconel(登録商標)ニッケル合金反応器に配置した。それを、窒素のフロー(50cc/分)において、HFフロー(50cc/分)も反応器を通り始めるときに、175℃まで加熱した。内部熱電対によりモニターされた初期の発熱量が引いたので(2〜3時間)、窒素フローを20cc/分まで下げ、およびHFフローを80cc/分まで上げた。その反応器の温度を400℃まで3〜4時間の間に徐々に上げ、そして400℃でさらに30分間維持した。この期間の終わりに、反応器を、触媒評価に対する所望の操作温度にした。
触媒B−MgF 2
フッ素化触媒の調製に対して上述された一般的な手順に従って、150.0gのMg(NO3)2・6H2O、500mLの脱イオン水、および75mLの48%水性HFから、MgF2触媒を調製した。
触媒C−MgF 2 /AlF 3 (43:1):
フッ素化触媒の調製に対して上述された一般的な手順に従って、251.28gのMg(NO3)2・6H2O、7.50gのAl(NO3)3・9H2O、および100mLの48%水性HFから、称呼の(nominal)マグネシウムとアルミニウムとの原子比が43:1であるMgF2/AlF3触媒を調製した。
触媒D−MgF 2 /AlF 3 (9:1):
フッ素化触媒の調製に対して上述された一般的な手順に従って、237.6gのMg(NO3)2・6H2O、34.76gのAl(NO3)3・9H2O、および120mLの48%水性HFから、称呼のマグネシウムとアルミニウムとの原子比が9:1であるMgF2/AlF3触媒を調製した。
触媒E〜H
酸洗浄されたヤシ殻炭素の商業サンプルを使用した。
触媒I
米国特許第4,978,649号に記載されているように実質的に調製された多孔性炭質材料を使用した。
触媒J
(酸洗浄されていない)ヤシ殻炭素の商業サンプルを使用した。
触媒K−フッ化物化されたマグネシア
ペレット化され、そして12/20メッシュ(1.68/0.84mm)に磨砕された酸化マグネシウムの商業サンプルを、窒素でパージしながら(50sccm、8.3×10-7m3/秒)、200℃まで2時間にわたって加熱した。その窒素を50sccm(8.3×10-7m3/秒)で継続し、および15分にわたってその触媒をHFと接触させた(50sccm、8.3×10-7m3/秒)。25分にわたって、そのHFフローを80sccm(1.3×10-6m3/秒)まで上げ、且つその窒素フローを20sccm(3.3×10-7m3/秒)まで下げた。HFおよび窒素のフローを維持しながら、その温度を75分間で250℃、75分間で300℃、75分間で350℃、そして75分間で400℃まで上げて、フッ化物化されたマグネシア触媒を提供した。
触媒L−フッ化物化されたアルミナ
流動層砂浴において加熱された5/8"(1.58cm)のInconel(登録商標)ニッケル合金反応器中で、ガンマ−アルミナ押出物の商業サンプル(10.6g、15mL、1/12"、2.1mm)を、110℃で空気中で18時間にわたり乾燥した。その温度を200℃まで上げ、そしてHFおよび窒素(1:4のモル比)をアルミナに通した。その窒素フローを、ニートのHFが反応器を通過するまでの時間に、減少した。このポイントで、その温度を450℃まで徐々に上げ、そしてそこで30分間維持した。フッ化物化されたアルミナのフッ素含量は、少なくとも50%のAlF3含量に相当した。
触媒M−酸化クロム
酸化クロム(Cr2O3)の商業サンプル(39.9g、30mL)を使用した。
表1は、触媒、その重量および体積、並びに列挙した触媒を使用した実施例を列挙する。
実施例1〜9
CF3CHFCHF2→CF3CF=CHF+HF
15インチ(38.1cm)×3/8インチ(0.95cm)のHastelloy(商標)ニッケル合金チューブを、表1に示された量の触媒で充填した。その反応器を表2に記録された温度まで加熱した。反応器への1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンのフローを、示した接触時間で開始した。脱フッ化水素の結果(モル%)を表2に示す。
比較例A
比較例Aに対して、実施例1〜9に対して使用されたものと同一の装置および手順を用いた。結果を表Aに示す。
実施例10〜16
CF3CH2CF3→CF3CH=CF2+HF
実施例10〜16に対して、実施例1〜9に対して使用されたものと同一の装置および手順を用いた。結果を表3に示す。実施例10〜12をモル%で報告する。実施例13〜16を面積%(area%)で報告する。
比較例BおよびC
比較例BおよびCに対して、実施例1〜9に対して使用されたものと同一の装置および手順を用いた。結果を表Bに示す。
Claims (5)
- 式CFX=CYCF3、ここで、XはHおよびFから選択され、且つYはXがHであるときFであり、およびYはXがFであるときHである、ペンタフルオロプロペンの製造方法であって、
式CF2XCHYCF3のヘキサフルオロプロパンを、200℃から500℃の温度で、随意に不活性ガスの存在下で、触媒と接触させる工程を具え、
前記触媒は、(1)(a)マグネシウム、亜鉛、およびマグネシウムと亜鉛との混合物の酸化物、フッ化物、およびオキシフッ化物から選択された少なくとも1種の化合物と、随意に(b)アルミニウムの酸化物、フッ化物、およびオキシフッ化物から選択された少なくとも1種の化合物との触媒であり、但し、前記触媒において、アルミニウムと、マグネシウムおよび亜鉛の合計との原子比が、1:4またはそれ未満である触媒、(2)フッ化物化された酸化ランタン、並びに(3)三次元マトリックス炭質材料から成る群から選択されることを特徴とする製造方法。 - CF3CH2CF3は脱フッ化水素化されてCF3CH=CF2を提供することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 不活性ガスが、CF3CH2CF3に対して5:1から1:1のモル比で、脱フッ化水素に供給されることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記不活性ガスは窒素であることを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 前記脱フッ化水素は減圧下で行なわれることを特徴とする請求項2に記載の方法。
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