JPH0967281A - １，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンの製造方法及び１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法 - Google Patents
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンの製造方法及び１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法Info
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- JPH0967281A JPH0967281A JP7248609A JP24860995A JPH0967281A JP H0967281 A JPH0967281 A JP H0967281A JP 7248609 A JP7248609 A JP 7248609A JP 24860995 A JP24860995 A JP 24860995A JP H0967281 A JPH0967281 A JP H0967281A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプ
ロパンを原料として、工業的に効率良くかつ経済的に
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺンを得る製
造方法と、この製造方法で得られた１，１，１，３，３
−ペンタフルオロプロぺンを原料として、経済的に１，
１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンを得る製造方
法を提供すること。 【解決手段】 １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパンを活性炭と接触させ、脱フッ酸させることな
どによって１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺ
ン、更にはこれを用いて１，１，１，３，３−ペンタフ
ルオロプロパンを得る。
ロパンを原料として、工業的に効率良くかつ経済的に
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺンを得る製
造方法と、この製造方法で得られた１，１，１，３，３
−ペンタフルオロプロぺンを原料として、経済的に１，
１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンを得る製造方
法を提供すること。 【解決手段】 １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパンを活性炭と接触させ、脱フッ酸させることな
どによって１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺ
ン、更にはこれを用いて１，１，１，３，３−ペンタフ
ルオロプロパンを得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、冷媒、発泡剤、洗
浄剤として使用されているＣＦＣやＨＣＦＣの代替化合
物となりえる有用な化合物である１，１，１，３，３−
ペンタフルオロプロパンの製造方法、及びこの１，１，
１，３，３−ペンタフルオロプロパンを製造する際の中
間体として、また、含フッ素高分子モノマーとして有用
な１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンの製造
方法に関するものである。
浄剤として使用されているＣＦＣやＨＣＦＣの代替化合
物となりえる有用な化合物である１，１，１，３，３−
ペンタフルオロプロパンの製造方法、及びこの１，１，
１，３，３−ペンタフルオロプロパンを製造する際の中
間体として、また、含フッ素高分子モノマーとして有用
な１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンの製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】１，１，１，３，３−ペンタフルオロプ
ロペンの製造方法としては、２−トリフルオロメチル−
３，３，３−トリフルオロプロピオン酸のアルカリ金属
塩を脱炭酸することにより得る方法が知られている（Sy
ntheses of Fluoroorganic Compounds, Knunyants I.
L., Yakobuson G. G., Springer-Verlag, 1985, ８〜
９ページ）。
ロペンの製造方法としては、２−トリフルオロメチル−
３，３，３−トリフルオロプロピオン酸のアルカリ金属
塩を脱炭酸することにより得る方法が知られている（Sy
ntheses of Fluoroorganic Compounds, Knunyants I.
L., Yakobuson G. G., Springer-Verlag, 1985, ８〜
９ページ）。
【０００３】しかしながら、この公知の方法では、固体
の重炭酸カリウムを用いて２−トリフルオロメチル−
３，３，３−トリフルオロプロピオン酸と反応させてい
るので、大規模な製造が困難であること、また、中和に
より生成した水分を除去するための操作（五酸化リンを
脱水剤として用いた真空デシケーター中で乾燥）が必要
であり、この点でも大規模な製造が困難である。
の重炭酸カリウムを用いて２−トリフルオロメチル−
３，３，３−トリフルオロプロピオン酸と反応させてい
るので、大規模な製造が困難であること、また、中和に
より生成した水分を除去するための操作（五酸化リンを
脱水剤として用いた真空デシケーター中で乾燥）が必要
であり、この点でも大規模な製造が困難である。
【０００４】更に、脱炭酸反応においては、２−トリフ
ルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピオン酸
のカリウム塩を反応器に仕込み、加熱により脱炭酸を行
わせるが、工業的に大規模に製造しようとした場合、発
生する炭酸ガス、及び１，１，１，３，３−ペンタフル
オロプロペンの量の制御が困難となり、これに対処する
ために過剰の設備が必要となり、経済的に不利である。
ルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピオン酸
のカリウム塩を反応器に仕込み、加熱により脱炭酸を行
わせるが、工業的に大規模に製造しようとした場合、発
生する炭酸ガス、及び１，１，１，３，３−ペンタフル
オロプロペンの量の制御が困難となり、これに対処する
ために過剰の設備が必要となり、経済的に不利である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、工業
的に効率良くかつ経済的に１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロペンを得る製造方法と、この製造方法で得
られた１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンを
原料とした経済的に優れた１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロパンの製造方法を提供することにある。
的に効率良くかつ経済的に１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロペンを得る製造方法と、この製造方法で得
られた１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンを
原料とした経済的に優れた１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロパンの製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、１，１，
１，３，３−ペンタフルオロプロペンの経済的、かつ工
業的な製造方法を鋭意検討し、入手容易な１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンからの脱フッ酸反
応による１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペン
の製造法について検討した結果、１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、活性炭と
接触せしめると、脱フッ酸がおこり、高い選択率で１，
１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンが得られるこ
とを見出し、第１の発明を完成させるに至った。
１，３，３−ペンタフルオロプロペンの経済的、かつ工
業的な製造方法を鋭意検討し、入手容易な１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンからの脱フッ酸反
応による１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペン
の製造法について検討した結果、１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、活性炭と
接触せしめると、脱フッ酸がおこり、高い選択率で１，
１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンが得られるこ
とを見出し、第１の発明を完成させるに至った。
【０００７】即ち、第１の発明は、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、活性
炭と接触せしめ、脱フッ酸させることを特徴とする、
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンの製造方
法に係るものである。
３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、活性
炭と接触せしめ、脱フッ酸させることを特徴とする、
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンの製造方
法に係るものである。
【０００８】この第１の発明においては、１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて活
性炭と接触せしめることが重要である。即ち、反応管に
活性炭を充填し、所定の温度にて１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて流通させる
といった気相反応の形態をとる。気相反応の方式として
は、固定床型気相反応、流動床型気相反応などの方式を
とることができる。
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて活
性炭と接触せしめることが重要である。即ち、反応管に
活性炭を充填し、所定の温度にて１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて流通させる
といった気相反応の形態をとる。気相反応の方式として
は、固定床型気相反応、流動床型気相反応などの方式を
とることができる。
【０００９】活性炭の種類については特に限定されな
い。粒状活性炭である白鷺Ｃ（武田薬品株式会社製）や
ヤシ殻活性炭であるヤシコール（太平化学産業株式会社
製）などが好適に用いられる。
い。粒状活性炭である白鷺Ｃ（武田薬品株式会社製）や
ヤシ殻活性炭であるヤシコール（太平化学産業株式会社
製）などが好適に用いられる。
【００１０】反応温度は 200〜600 ℃が良く、更に好ま
しくは 250〜500 ℃の範囲である。これより低いと、反
応はほとんど進行しないし、これより高い反応温度で
は、分解による副生成物が多量に生成し易くなる。
しくは 250〜500 ℃の範囲である。これより低いと、反
応はほとんど進行しないし、これより高い反応温度で
は、分解による副生成物が多量に生成し易くなる。
【００１１】活性炭との接触時間については、大幅に変
動させうるが、通常、 0.1〜300 秒、更に好ましくは
0.5〜120 秒である。
動させうるが、通常、 0.1〜300 秒、更に好ましくは
0.5〜120 秒である。
【００１２】本発明者はまた、１，１，１，３，３，３
−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、水で処理し
た活性炭と、或いは水の存在下で活性炭と接触せしめる
と、脱フッ酸がおこり、高い選択率で１，１，１，３，
３−ペンタフルオロプロペンが得られることを見出し、
第２の発明を完成させた。
−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、水で処理し
た活性炭と、或いは水の存在下で活性炭と接触せしめる
と、脱フッ酸がおこり、高い選択率で１，１，１，３，
３−ペンタフルオロプロペンが得られることを見出し、
第２の発明を完成させた。
【００１３】即ち、第２の発明は、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、水で
処理した活性炭と、或いは水の存在下で活性炭と接触せ
しめ、脱フッ酸させることを特徴とする、１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロペンの製造方法に係るもの
である。
３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、水で
処理した活性炭と、或いは水の存在下で活性炭と接触せ
しめ、脱フッ酸させることを特徴とする、１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロペンの製造方法に係るもの
である。
【００１４】この第２の発明においては、１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、
水で処理した活性炭と、或いは水の存在下で活性炭と接
触せしめることが重要である。即ち、反応管に、水で処
理した活性炭を充填し、所定の温度にて１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて流
通させるか、或いは水の存在下で１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて活性炭上を
流通させるといった、気相反応の形態をとる。気相反応
の方式としては、固定床型気相反応、流動床型気相反応
などの方式をとることができる。
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、
水で処理した活性炭と、或いは水の存在下で活性炭と接
触せしめることが重要である。即ち、反応管に、水で処
理した活性炭を充填し、所定の温度にて１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて流
通させるか、或いは水の存在下で１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて活性炭上を
流通させるといった、気相反応の形態をとる。気相反応
の方式としては、固定床型気相反応、流動床型気相反応
などの方式をとることができる。
【００１５】活性炭の種類については特に限定されない
が、上述したものが好適に用いられる。
が、上述したものが好適に用いられる。
【００１６】活性炭の水処理方法については特に限定さ
れないが、活性炭を水に浸漬してもよいし、気相中で水
蒸気処理を行っても良い。また、１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンと同時に水分を流通させる
場合には、反応ガス中に存在せしめる水分量は、通常１
ppm から10％、好ましくは10ppm から５％である。
れないが、活性炭を水に浸漬してもよいし、気相中で水
蒸気処理を行っても良い。また、１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンと同時に水分を流通させる
場合には、反応ガス中に存在せしめる水分量は、通常１
ppm から10％、好ましくは10ppm から５％である。
【００１７】また、反応温度、接触時間は上述したと同
様、 200〜600 ℃（好ましくは 250〜500 ℃）、 0.1〜
300 秒（好ましくは 0.5〜120 秒）とするのがよい。
様、 200〜600 ℃（好ましくは 250〜500 ℃）、 0.1〜
300 秒（好ましくは 0.5〜120 秒）とするのがよい。
【００１８】本発明者はまた、１，１，１，３，３，３
−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、３価のクロ
ムの酸化物、及び／又は、一部フッ素化された３価のク
ロムの酸化物と接触せしめると、脱フッ酸がおこり、高
選択率で１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺン
が得られることを見出し、第３の発明を完成させるに至
った。
−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、３価のクロ
ムの酸化物、及び／又は、一部フッ素化された３価のク
ロムの酸化物と接触せしめると、脱フッ酸がおこり、高
選択率で１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺン
が得られることを見出し、第３の発明を完成させるに至
った。
【００１９】即ち、第３の発明は、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、３価
のクロム酸化物、及び／又は、一部フッ素化された３価
のクロムの酸化物と接触せしめ、脱フッ酸させることを
特徴とする、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロ
ぺンの製造方法に係るものである。
３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、３価
のクロム酸化物、及び／又は、一部フッ素化された３価
のクロムの酸化物と接触せしめ、脱フッ酸させることを
特徴とする、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロ
ぺンの製造方法に係るものである。
【００２０】本発明者はまた、１，１，１，３，３，３
−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、酸素の存在
下に３価のクロムの酸化物、及び／又は、一部フッ素化
された３価のクロムの酸化物と接触せしめると、脱フッ
酸がおこり、高選択率で１，１，１，３，３−ペンタフ
ルオロプロぺンが得られ、触媒の活性が劣化し難く、寿
命が長くなることを見出し、第４の発明を完成させるに
至った。
−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、酸素の存在
下に３価のクロムの酸化物、及び／又は、一部フッ素化
された３価のクロムの酸化物と接触せしめると、脱フッ
酸がおこり、高選択率で１，１，１，３，３−ペンタフ
ルオロプロぺンが得られ、触媒の活性が劣化し難く、寿
命が長くなることを見出し、第４の発明を完成させるに
至った。
【００２１】即ち、第４の発明は、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、酸素
の存在下に３価のクロムの酸化物、及び／又は、一部フ
ッ素化された３価のクロムの酸化物と接触せしめ、脱フ
ッ酸させることを特徴とする、１，１，１，３，３−ペ
ンタフルオロプロぺンの製造方法に係るものである。
３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、酸素
の存在下に３価のクロムの酸化物、及び／又は、一部フ
ッ素化された３価のクロムの酸化物と接触せしめ、脱フ
ッ酸させることを特徴とする、１，１，１，３，３−ペ
ンタフルオロプロぺンの製造方法に係るものである。
【００２２】この第４の発明においては、１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、
更には酸素の存在下で、３価のクロムの酸化物、及び／
又は、一部フッ素化された３価のクロムの酸化物と接触
せしめることが重要である。反応管に３価のクロムの酸
化物、及び／又は、一部フッ素化された３価のクロムの
酸化物を充填し、所定の温度にて１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて流通させる
といった、気相反応の形態をとる。気相反応の方式とし
ては、固定床型気相反応、流動床型気相反応などの方式
をとるこができる。
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて、
更には酸素の存在下で、３価のクロムの酸化物、及び／
又は、一部フッ素化された３価のクロムの酸化物と接触
せしめることが重要である。反応管に３価のクロムの酸
化物、及び／又は、一部フッ素化された３価のクロムの
酸化物を充填し、所定の温度にて１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパンをガス状態にて流通させる
といった、気相反応の形態をとる。気相反応の方式とし
ては、固定床型気相反応、流動床型気相反応などの方式
をとるこができる。
【００２３】ここで、３価のクロムの酸化物、及び／又
は、一部フッ素化された３価のクロムの酸化物の触媒を
調製するには、いずれの方法でも採用可能である。例え
ば、酸化クロムは、ＣｒＯ3 を還元して調製したもの、
Ｃｒ3+の塩から沈澱させたものなどいずれも採用可能で
ある。
は、一部フッ素化された３価のクロムの酸化物の触媒を
調製するには、いずれの方法でも採用可能である。例え
ば、酸化クロムは、ＣｒＯ3 を還元して調製したもの、
Ｃｒ3+の塩から沈澱させたものなどいずれも採用可能で
ある。
【００２４】水和物の状態にある触媒は、 120〜300 ℃
で乾燥した後、通常、 300〜600 ℃、好ましくは 350〜
450 ℃で焼成する。
で乾燥した後、通常、 300〜600 ℃、好ましくは 350〜
450 ℃で焼成する。
【００２５】触媒のフッ素化（活性化）を行うには、通
常、20〜450 ℃、好ましくは 200〜400 ℃でフッ素化処
理を施す。また、フッ素化は、無水フッ酸などを用いて
フッ素化反応系内で活性化してもよいし、フッ素化炭化
水素との加熱処理によって行い得る。また、一部フッ素
化された３価のクロムの酸化物は、ＣｒＦ3 の水和物を
酸素で処理することによっても得ることができる。
常、20〜450 ℃、好ましくは 200〜400 ℃でフッ素化処
理を施す。また、フッ素化は、無水フッ酸などを用いて
フッ素化反応系内で活性化してもよいし、フッ素化炭化
水素との加熱処理によって行い得る。また、一部フッ素
化された３価のクロムの酸化物は、ＣｒＦ3 の水和物を
酸素で処理することによっても得ることができる。
【００２６】また、反応温度、接触時間は上述したと同
様、 200〜600 ℃（好ましくは 250〜500 ℃）、 0.1〜
300 秒（好ましくは 0.5〜120 秒）とするのがよい。
様、 200〜600 ℃（好ましくは 250〜500 ℃）、 0.1〜
300 秒（好ましくは 0.5〜120 秒）とするのがよい。
【００２７】また、上述した脱フッ酸時に酸素を存在さ
せるとき、その酸素濃度については、大幅に変動させう
るが、通常、全ガス流量の 0.005〜20％であり、更に好
ましくは0.01〜10％である。また、酸素を含む混合ガ
ス、例えば空気を用いて反応を行ってもよい。この際の
濃度も上記の酸素濃度に準ずる。
せるとき、その酸素濃度については、大幅に変動させう
るが、通常、全ガス流量の 0.005〜20％であり、更に好
ましくは0.01〜10％である。また、酸素を含む混合ガ
ス、例えば空気を用いて反応を行ってもよい。この際の
濃度も上記の酸素濃度に準ずる。
【００２８】更に、第５の発明は、上記した第１〜第４
の発明の製造方法によって得られた１，１，１，３，３
−ペンタフルオロプロぺンを原料とし、水素化触媒の存
在下に水素で水素添加することによる、１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法に係るもの
である。
の発明の製造方法によって得られた１，１，１，３，３
−ペンタフルオロプロぺンを原料とし、水素化触媒の存
在下に水素で水素添加することによる、１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法に係るもの
である。
【００２９】この水素添加反応には、第１〜第４の発明
によって得られた１，１，１，３，３−ペンタフルオロ
プロぺンを含む反応生成物からフッ酸を除去した反応生
成物をそのまま、または、通常知られている精留による
分離などにより１，１，１，３，３−ペンタフルオロプ
ロぺンを精製した後に、用いることが可能である。第１
の発明によって得られた、フッ酸を除去した後の反応生
成物には、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺ
ンのほかに、未反応の１，１，１，３，３−ペンタフル
オロプロパンを含んでいるが、これらは、後の水添反応
には影響を及ぼさないため、１，１，１，３，３−ペン
タフルオロプロぺンを分離することなくそのまま使用す
ることが可能であるし、必要に応じては精製分離して用
いてもよい。
によって得られた１，１，１，３，３−ペンタフルオロ
プロぺンを含む反応生成物からフッ酸を除去した反応生
成物をそのまま、または、通常知られている精留による
分離などにより１，１，１，３，３−ペンタフルオロプ
ロぺンを精製した後に、用いることが可能である。第１
の発明によって得られた、フッ酸を除去した後の反応生
成物には、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺ
ンのほかに、未反応の１，１，１，３，３−ペンタフル
オロプロパンを含んでいるが、これらは、後の水添反応
には影響を及ぼさないため、１，１，１，３，３−ペン
タフルオロプロぺンを分離することなくそのまま使用す
ることが可能であるし、必要に応じては精製分離して用
いてもよい。
【００３０】反応の方式としては、液相での反応、気相
での反応が可能であり、液相では溶媒を用いることも可
能であるし、気相反応では、固定床型気相反応、流動床
型気相反応などの方式をとることができる。
での反応が可能であり、液相では溶媒を用いることも可
能であるし、気相反応では、固定床型気相反応、流動床
型気相反応などの方式をとることができる。
【００３１】水素化触媒としては、貴金属触媒が好まし
く、パラジウム、白金、ロジウム触媒などが挙げられ、
特に、パラジウム触媒が好ましい。
く、パラジウム、白金、ロジウム触媒などが挙げられ、
特に、パラジウム触媒が好ましい。
【００３２】水素化触媒は、担体に担持されたものが好
ましく、活性炭、シリカゲル、アルミナ、酸化チタン、
ジルコニア、その他の担体に用いることができるが、活
性炭に担持されたものが好ましい。
ましく、活性炭、シリカゲル、アルミナ、酸化チタン、
ジルコニア、その他の担体に用いることができるが、活
性炭に担持されたものが好ましい。
【００３３】また、担体の粒径については反応にほとん
ど影響を及ぼさず、液相で水添反応を行う場合には粉末
状のものが、気相で水添反応を行う場合には 0.1〜100m
m のものが好適である。
ど影響を及ぼさず、液相で水添反応を行う場合には粉末
状のものが、気相で水添反応を行う場合には 0.1〜100m
m のものが好適である。
【００３４】担持濃度としては、0.05〜10％と幅広いも
のが使用可能であるが、通常、 0.5〜５％担持品が推奨
される。
のが使用可能であるが、通常、 0.5〜５％担持品が推奨
される。
【００３５】反応温度は、通常−20〜300 ℃、好ましく
は20〜200 ℃であり、気相反応の場合では 300℃以上で
反応を行うと副生成物が生成する。
は20〜200 ℃であり、気相反応の場合では 300℃以上で
反応を行うと副生成物が生成する。
【００３６】１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロ
ぺンの気相での水素添加反応においては、水素と原料の
割合は大幅に変動させ得る。しかしながら、通常、少な
くとも化学量論量の水素を使用して水素添加を行う。出
発物質の全モルに対して、化学量論量よりかなり多い
量、例えば３モルまたはそれ以上の水素を使用し得る。
ぺンの気相での水素添加反応においては、水素と原料の
割合は大幅に変動させ得る。しかしながら、通常、少な
くとも化学量論量の水素を使用して水素添加を行う。出
発物質の全モルに対して、化学量論量よりかなり多い
量、例えば３モルまたはそれ以上の水素を使用し得る。
【００３７】反応の圧力は特に限定されず、加圧下、減
圧下、常圧下で可能であるが、減圧下では装置が複雑に
なるため、加圧下、常圧下で反応を行う方が好ましい。
圧下、常圧下で可能であるが、減圧下では装置が複雑に
なるため、加圧下、常圧下で反応を行う方が好ましい。
【００３８】接触時間は、通常 0.1〜300 秒、特には１
〜30秒である。
〜30秒である。
【００３９】１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロ
ぺンの液相での水素添加反応においては、反応による水
素の消費がなくなるまで反応を続ける。反応の圧力は１
〜20kg/cm2Ｇの範囲を採用できる。
ぺンの液相での水素添加反応においては、反応による水
素の消費がなくなるまで反応を続ける。反応の圧力は１
〜20kg/cm2Ｇの範囲を採用できる。
【００４０】また、液相での水素添加反応では、反応終
了後に反応生成物を回収した後、触媒を再使用すること
が可能である。
了後に反応生成物を回収した後、触媒を再使用すること
が可能である。
【００４１】第１〜第４の発明の原料である１，１，
１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンは、塩化ビニ
リデンを塩化第一銅及びアセトニトリルの存在下で四塩
化炭素と反応させることにより得られた１，１，１，
３，３，３−ヘキサクロロプロパンをフッ素化すること
により（特開平５−２０１８９２号参照）得ることがで
きるし、ヘキサフルオロイソ酪酸のアルカリ金属塩をエ
チレングリコールなどのプロトン性溶媒中で脱炭酸させ
ることによっても得ることができる。
１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンは、塩化ビニ
リデンを塩化第一銅及びアセトニトリルの存在下で四塩
化炭素と反応させることにより得られた１，１，１，
３，３，３−ヘキサクロロプロパンをフッ素化すること
により（特開平５−２０１８９２号参照）得ることがで
きるし、ヘキサフルオロイソ酪酸のアルカリ金属塩をエ
チレングリコールなどのプロトン性溶媒中で脱炭酸させ
ることによっても得ることができる。
【００４２】第１〜第５の発明の反応によって得られた
反応混合物は通常、未反応の１，１，１，３，３，３−
ヘキサフルオロプロパンと１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロぺンとからなるが、これらの混合物からの
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺンの分離
は、通常、公知の蒸留などの操作により容易に行うこと
ができる。また、分離された未反応の１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロプロパンは、反応へリサイクル
することが可能である。
反応混合物は通常、未反応の１，１，１，３，３，３−
ヘキサフルオロプロパンと１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロぺンとからなるが、これらの混合物からの
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺンの分離
は、通常、公知の蒸留などの操作により容易に行うこと
ができる。また、分離された未反応の１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロプロパンは、反応へリサイクル
することが可能である。
【００４３】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。
説明する。
【００４４】実施例１ 内径２cm、長さ40cmのハステロイＣ製反応管に粒状活性
炭（白鷺Ｃ：武田薬品工業株式会社製）20ccを充填し、
窒素ガスを流通させながら電気炉にて 400℃に加熱し
た。この温度で２時間加熱した後、窒素を１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンにかえ、40cc./mi
n.の流量で反応管に流通させた。反応管出口ガスは、水
洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィ
により分析を行った。結果を下記の表１に示す。
炭（白鷺Ｃ：武田薬品工業株式会社製）20ccを充填し、
窒素ガスを流通させながら電気炉にて 400℃に加熱し
た。この温度で２時間加熱した後、窒素を１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパンにかえ、40cc./mi
n.の流量で反応管に流通させた。反応管出口ガスは、水
洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィ
により分析を行った。結果を下記の表１に示す。
【００４５】実施例２ 実施例１と同様の反応管にヤシ殻活性炭（ヤシコール：
太平化学産業株式会社製）を20cc充填し、以下は実施例
１と同様の操作を行い、 450℃の反応温度で反応を行っ
た。結果を下記の表１に示す。
太平化学産業株式会社製）を20cc充填し、以下は実施例
１と同様の操作を行い、 450℃の反応温度で反応を行っ
た。結果を下記の表１に示す。
【００４６】
【００４７】この結果から、第１の発明に基づいて反応
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得られ
ることが分かる。
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得られ
ることが分かる。
【００４８】実施例３ 内径２cm、長さ40cmのハステロイＣ製反応管にヤシコー
ル 20ccを充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉に
て 400℃に加熱した。この温度で２時間加熱した後、窒
素を水分含有量 0.4％の１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロプロパンにかえ、20cc./min.の流量で反応管
に流通させた。反応管出口ガスは、水洗し、塩化カルシ
ウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を行っ
た。結果を下記の表２に示す。
ル 20ccを充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉に
て 400℃に加熱した。この温度で２時間加熱した後、窒
素を水分含有量 0.4％の１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロプロパンにかえ、20cc./min.の流量で反応管
に流通させた。反応管出口ガスは、水洗し、塩化カルシ
ウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を行っ
た。結果を下記の表２に示す。
【００４９】実施例４ 内径２cm、長さ40cmのハステロイＣ製反応管にヤシコー
ル 20ccを充填し、水蒸気を50cc./min.の流量で流通さ
せながら電気炉にて 400℃に加熱した。水蒸気を１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンにかえ、
20cc./min.の流量で反応管に流通させた。反応管出口ガ
スは、水洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマト
グラフィにより分析を行った。結果を下記の表２に示
す。
ル 20ccを充填し、水蒸気を50cc./min.の流量で流通さ
せながら電気炉にて 400℃に加熱した。水蒸気を１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンにかえ、
20cc./min.の流量で反応管に流通させた。反応管出口ガ
スは、水洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマト
グラフィにより分析を行った。結果を下記の表２に示
す。
【００５０】
【００５１】この結果から、第２の発明に基づいて反応
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得ら
れ、また転化率も幾分向上することが分かる。
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得ら
れ、また転化率も幾分向上することが分かる。
【００５２】実施例５ 硝酸クロム水溶液及びアンモニア水から調製した水酸化
クロムを濾別、水洗し、 100℃で乾燥し、これを打錠成
型機を用いて直径３mm、高さ３mmの円筒状に成型した。
こうして得た触媒を反応前にハステロイＣ製反応管に充
填し、窒素気流下、 400℃で１時間加熱保持して活性化
した。その後、温度を 200℃に下げ、窒素で希釈した無
水フッ酸を供給し、５時間処理してフッ素化した。
クロムを濾別、水洗し、 100℃で乾燥し、これを打錠成
型機を用いて直径３mm、高さ３mmの円筒状に成型した。
こうして得た触媒を反応前にハステロイＣ製反応管に充
填し、窒素気流下、 400℃で１時間加熱保持して活性化
した。その後、温度を 200℃に下げ、窒素で希釈した無
水フッ酸を供給し、５時間処理してフッ素化した。
【００５３】内径２cm、長さ40cmのハステロイＣ製反応
管に上記に調製した一部フッ素化酸化クロム触媒 16ｇ
を充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉にて 300℃
に加熱した。窒素を１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロプロパンにかえ、40cc./min.の流量で反応管に流
通させた。反応管出口ガスは、水洗し、塩化カルシウム
で乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を行った。
結果を下記の表３に示す。
管に上記に調製した一部フッ素化酸化クロム触媒 16ｇ
を充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉にて 300℃
に加熱した。窒素を１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロプロパンにかえ、40cc./min.の流量で反応管に流
通させた。反応管出口ガスは、水洗し、塩化カルシウム
で乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を行った。
結果を下記の表３に示す。
【００５４】実施例６ 実施例５において、反応温度を 345℃とし、以下同様に
行った結果を下記の表３に示す。
行った結果を下記の表３に示す。
【００５５】実施例７ 実施例５において、反応温度を 390℃とし、以下同様に
行った結果を下記の表３に示す。
行った結果を下記の表３に示す。
【００５６】
【００５７】この結果から、第３の発明に基づいて反応
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得られ
ることが分かる。
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得られ
ることが分かる。
【００５８】実施例８ 内径２cm、長さ40cmのハステロイＣ製反応管に、無水フ
ッ酸で処理を行う前の実施例５で示した触媒 16.3ｇを
充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉にて360℃に
加熱した。窒素を１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパンにかえ、40cc./min.の流量で反応管に流通
させた。反応管出口ガスは、水洗し、塩化カルシウムで
乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を行った。結
果を下記の表４に示す。
ッ酸で処理を行う前の実施例５で示した触媒 16.3ｇを
充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉にて360℃に
加熱した。窒素を１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパンにかえ、40cc./min.の流量で反応管に流通
させた。反応管出口ガスは、水洗し、塩化カルシウムで
乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を行った。結
果を下記の表４に示す。
【００５９】実施例９ 実施例８において反応温度を 409℃とし、以下同様に行
った結果を下記の表４に示す。
った結果を下記の表４に示す。
【００６０】
【００６１】この結果から、第３の発明に基づいて反応
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得られ
ることが分かる。
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得られ
ることが分かる。
【００６２】実施例10 内径２cm、長さ40cmのハステロイＣ製反応管に実施例５
で示したように調製した触媒（フッ素化処理触媒）16ｇ
を充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉にて 380℃
に加熱した。窒素を１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロプロパン40cc./min.にかえ、酸素 ３cc./min.を
同伴して、反応管に流通させた。反応管出口ガスは、水
洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィ
により分析を行った。反応開始１時間後の転化率、選択
率及び 100時間後の転化率、選択率を下記の表５に示
す。
で示したように調製した触媒（フッ素化処理触媒）16ｇ
を充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉にて 380℃
に加熱した。窒素を１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロプロパン40cc./min.にかえ、酸素 ３cc./min.を
同伴して、反応管に流通させた。反応管出口ガスは、水
洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィ
により分析を行った。反応開始１時間後の転化率、選択
率及び 100時間後の転化率、選択率を下記の表５に示
す。
【００６３】実施例11 内径２cm、長さ40cmのハステロイＣ製反応管に実施例５
で示したように調製した触媒（フッ素化処理触媒）16ｇ
を充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉にて 380℃
に加熱した。窒素を１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロプロパン40cc./min.にかえ、空気 ６cc./min.を
同伴して、反応管に流通させた。反応管出口ガスは、水
洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィ
により分析を行った。反応開始１時間後の転化率、選択
率及び 100時間後の転化率、選択率を下記の表５に示
す。
で示したように調製した触媒（フッ素化処理触媒）16ｇ
を充填し、窒素ガスを流通させながら電気炉にて 380℃
に加熱した。窒素を１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロプロパン40cc./min.にかえ、空気 ６cc./min.を
同伴して、反応管に流通させた。反応管出口ガスは、水
洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィ
により分析を行った。反応開始１時間後の転化率、選択
率及び 100時間後の転化率、選択率を下記の表５に示
す。
【００６４】 ＊選択率（％）は１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロぺン の選択率を示す。
【００６５】この結果から、第４の発明に基づいて反応
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得られ
ることが分かる。
を行わせることによって、高い選択率で目的物が得られ
ることが分かる。
【００６６】実施例12 内径７mm、長さ 150mmのＳＵＳ３１６製反応管に、活性
炭に 0.5％濃度で担持されたパラジウム触媒 2.3ccを充
填し、窒素ガスを流しながら、電気炉にて 100℃に加熱
し、所定の温度に達した後、実施例１、３、５又は10で
得られた１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペン
を精製し、これを 5.5cc／分、水素を14.5cc／分の割合
で導入した。反応温度は 100℃を保った。
炭に 0.5％濃度で担持されたパラジウム触媒 2.3ccを充
填し、窒素ガスを流しながら、電気炉にて 100℃に加熱
し、所定の温度に達した後、実施例１、３、５又は10で
得られた１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペン
を精製し、これを 5.5cc／分、水素を14.5cc／分の割合
で導入した。反応温度は 100℃を保った。
【００６７】生成ガスは、水洗後、ガスクロマトグラフ
ィーにより分析を行った。１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロペンの転化率はほぼ 100％であり、１，
１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの選択率は9
9.5％であった。
ィーにより分析を行った。１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロペンの転化率はほぼ 100％であり、１，
１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの選択率は9
9.5％であった。
【００６８】実施例13 実施例12と同じ反応装置に、活性炭に 0.5％濃度で担持
されたパラジウム触媒2.3ccを充填し、窒素ガスを流し
ながら、電気炉にて50℃に加熱し、所定の温度に達した
後、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンを
5.5cc／分、水素を14.5cc／分の割合で導入した。反応
温度は50℃を保った。
されたパラジウム触媒2.3ccを充填し、窒素ガスを流し
ながら、電気炉にて50℃に加熱し、所定の温度に達した
後、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンを
5.5cc／分、水素を14.5cc／分の割合で導入した。反応
温度は50℃を保った。
【００６９】生成ガスは、水洗後、ガスクロマトグラフ
ィーにより分析を行った。１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロペンの転化率はほぼ 100％であり、１，
１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの選択率は9
9.6％であった。
ィーにより分析を行った。１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロペンの転化率はほぼ 100％であり、１，
１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの選択率は9
9.6％であった。
【００７０】実施例14 実施例12と同じ反応装置に、アルミナに 0.5％濃度で担
持されたパラジウム触媒 1.9ccを充填し、窒素ガスを流
しながら、室温（23℃）にした後、１，１，１，３，３
−ペンタフルオロプロペンを 5.5cc／分、水素を14.5cc
／分の割合で導入した。反応温度は23℃で行った。
持されたパラジウム触媒 1.9ccを充填し、窒素ガスを流
しながら、室温（23℃）にした後、１，１，１，３，３
−ペンタフルオロプロペンを 5.5cc／分、水素を14.5cc
／分の割合で導入した。反応温度は23℃で行った。
【００７１】生成ガスは、水洗後、ガスクロマトグラフ
ィーにより分析を行った。反応率75.3％、選択率99.7％
で目的の１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパン
を得た。
ィーにより分析を行った。反応率75.3％、選択率99.7％
で目的の１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパン
を得た。
【００７２】実施例15 実施例12と同じ反応装置に、活性炭に２％濃度で担持さ
れたパラジウム触媒 2.3ccを充填し、窒素ガスを流しな
がら、電気炉にて50℃に加熱し、所定の温度に達した
後、実施例７で得られた、１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロぺン（22％）、１，１，１，３，３，３−
ヘキサフルオロプロパン（78％）からなる反応生成物の
混合ガスを 5.5cc／分、水素を14.5cc／分の割合で導入
した。反応温度は50℃で行った。
れたパラジウム触媒 2.3ccを充填し、窒素ガスを流しな
がら、電気炉にて50℃に加熱し、所定の温度に達した
後、実施例７で得られた、１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロぺン（22％）、１，１，１，３，３，３−
ヘキサフルオロプロパン（78％）からなる反応生成物の
混合ガスを 5.5cc／分、水素を14.5cc／分の割合で導入
した。反応温度は50℃で行った。
【００７３】生成ガスは、水洗後、ガスクロマトグラフ
ィーにより分析を行った。反応はなんら問題なく進行
し、混合ガス中の１，１，１，３，３−ペンタフルオロ
プロペンの転化率はほぼ 100％であり、１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロペンから１，１，１，３，
３−ペンタフルオロプロパンへの選択率は99.6％であっ
た。
ィーにより分析を行った。反応はなんら問題なく進行
し、混合ガス中の１，１，１，３，３−ペンタフルオロ
プロペンの転化率はほぼ 100％であり、１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロペンから１，１，１，３，
３−ペンタフルオロプロパンへの選択率は99.6％であっ
た。
【００７４】実施例16 攪拌装置付きＳＵＳ３１６製の６l オートクレーブに粉
末状の３％Ｐｄ／活性炭50g を仕込んだ。オートクレー
ブ内を真空にし、５℃まで冷却した後、１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロペン５Kgを仕込み、攪拌を
開始した。内温が３℃になるまで冷却した後、水素を４
Kg/cm2Ｇまで仕込んだ。反応の開始と共に内温が上昇
し、９℃となった。
末状の３％Ｐｄ／活性炭50g を仕込んだ。オートクレー
ブ内を真空にし、５℃まで冷却した後、１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロペン５Kgを仕込み、攪拌を
開始した。内温が３℃になるまで冷却した後、水素を４
Kg/cm2Ｇまで仕込んだ。反応の開始と共に内温が上昇
し、９℃となった。
【００７５】内温が15℃を超えないように、外部からの
冷却を続けながら水素を４〜５Kg/cm2Ｇの圧力で仕込ん
でいった。水素の吸収がなくなるまで反応を続けた。
冷却を続けながら水素を４〜５Kg/cm2Ｇの圧力で仕込ん
でいった。水素の吸収がなくなるまで反応を続けた。
【００７６】反応終了後、５℃まで冷却し、水素を系外
へパージし、その後、内温を30℃とし、反応生成物をド
ライアイスで冷却したトラップに回収した。回収量は５
Kgであり、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペ
ンの転化率はほぼ 100％であり、１，１，１，３，３−
ペンタフルオロプロペンから１，１，１，３，３−ペン
タフルオロプロパンへの選択率は99.2％であった。
へパージし、その後、内温を30℃とし、反応生成物をド
ライアイスで冷却したトラップに回収した。回収量は５
Kgであり、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペ
ンの転化率はほぼ 100％であり、１，１，１，３，３−
ペンタフルオロプロペンから１，１，１，３，３−ペン
タフルオロプロパンへの選択率は99.2％であった。
【００７７】
【発明の作用効果】本発明による製造方法は、１，１，
１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを活性炭と接
触させ、脱フッ酸させることなどによって１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロぺン、更にはこれを用いて
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンを得るよ
うにしているので、入手容易な１，１，１，３，３，３
−ヘキサフルオロプロパンから工業的かつ経済的な方法
で、高選択率にて１，１，１，３，３−ペンタフルオロ
プロぺンなどの目的物が得られる。
１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンを活性炭と接
触させ、脱フッ酸させることなどによって１，１，１，
３，３−ペンタフルオロプロぺン、更にはこれを用いて
１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンを得るよ
うにしているので、入手容易な１，１，１，３，３，３
−ヘキサフルオロプロパンから工業的かつ経済的な方法
で、高選択率にて１，１，１，３，３−ペンタフルオロ
プロぺンなどの目的物が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 17/354 Ｃ０７Ｃ 17/354 19/08 19/08 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (21)
- 【請求項１】 １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパンをガス状態にて、活性炭と接触せしめ、脱フ
ッ酸させることを特徴とする、１，１，１，３，３−ペ
ンタフルオロプロペンの製造方法。 - 【請求項２】 反応を 200〜600 ℃で行う、請求項１に
記載した製造方法。 - 【請求項３】 接触時間を 0.1〜300 秒とする、請求項
１に記載した製造方法。 - 【請求項４】 １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパンをガス状態にて、水で処理した活性炭と、或
いは水の存在下で活性炭と接触せしめ、脱フッ酸させる
ことを特徴とする、１，１，１，３，３−ペンタフルオ
ロプロペンの製造方法。 - 【請求項５】 活性炭の水処理方法として活性炭を水に
浸漬するか或いは気相中で水蒸気処理を行い、また、反
応ガスと同時に水分を流通させる、請求項４に記載した
製造方法。 - 【請求項６】 反応ガスと同時に水分を流通させるとき
は、反応ガス中に存在させる水分量を１ppm 〜10％とす
る、請求項４に記載した製造方法。 - 【請求項７】 反応を 200〜600 ℃で行う、請求項４に
記載した製造方法。 - 【請求項８】 接触時間を 0.1〜300 秒とする、請求項
４に記載した製造方法。 - 【請求項９】 １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパンをガス状態にて、３価のクロムの酸化物、及
び／又は、一部フッ素化された３価のクロムの酸化物と
接触せしめ、脱フッ酸させることを特徴とする、１，
１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンの製造方法。 - 【請求項10】 １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロパンをガス状態にて、酸素の存在下に３価のクロ
ムの酸化物、及び／又は、一部フッ素化された３価のク
ロムの酸化物と接触せしめ、脱フッ酸させることを特徴
とする、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペン
の製造方法。 - 【請求項11】 酸化クロムをＣｒＯ3 の還元又はＣｒ3+
の塩からの沈澱によって調製し、一部フッ素化された酸
化クロムを酸化クロムのフッ酸又はフッ化炭化水素によ
る処理又はＣｒＦ3 の酸素による処理によって調製す
る、請求項９又は10に記載した製造方法。 - 【請求項12】 脱フッ酸時に存在させる酸素量を全ガス
流量の 0.005〜20％とする、請求項10に記載した製造方
法。 - 【請求項13】 反応を 200〜600 ℃で行う、請求項９又
は10に記載した製造方法。 - 【請求項14】 接触時間を 0.1〜300 秒とする、請求項
９又は10に記載した製造方法。 - 【請求項15】 請求項１〜14のいずれか１項に記載した
製造方法によって得られた１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロペンを水素化触媒の存在下に水素と反応さ
せ、水素添加を行い、１，１，１，３，３−ペンタフル
オロプロパンを得る、１，１，１，３，３−ペンタフル
オロプロパンの製造方法。 - 【請求項16】 請求項１〜14のいずれか１項に記載した
製造方法によって得られた１，１，１，３，３−ペンタ
フルオロプロペンを含む反応生成物をそのまま、或いは
精製により前記反応生成物から１，１，１，３，３−ペ
ンタフルオロプロペンを分離して水素添加反応に供す
る、請求項15に記載した製造方法。 - 【請求項17】 水素化触媒として貴金属触媒を使用す
る、請求項15に記載した製造方法。 - 【請求項18】 貴金属触媒がパラジウム触媒である、請
求項17に記載した製造方法。 - 【請求項19】 水素化触媒を担体に担持する、請求項15
〜18のいずれか１項に記載した製造方法。 - 【請求項20】 反応温度を−20〜300 ℃とする、請求項
15又は16に記載した製造方法。 - 【請求項21】 水素を少なくとも化学量論量使用する、
請求項15又は16に記載した製造方法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP7248609A JPH0967281A (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | １，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンの製造方法及び１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7248609A JPH0967281A (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | １，１，１，３，３−ペンタフルオロプロペンの製造方法及び１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法 |
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ID=17180665
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