JP3910303B2

JP3910303B2 - 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製造方法

Info

Publication number: JP3910303B2
Application number: JP04861999A
Authority: JP
Inventors: 懿範銭; 守石崎; 健糸井; 瑞仁谷; 孝夫湊; 祐一伊藤; 輝彦甲斐; 克宏鈴木
Original assignee: Toppan Inc
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 1998-02-25
Filing date: 1999-02-25
Publication date: 2007-04-25
Anticipated expiration: 2019-02-25
Also published as: JP2000021579A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、家庭用テレビ及び高度な情報処理用端末表示装置としての発光型ディスプレイである有機エレクトロルミネッセンス表示素子及び有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フラットパネルディスプレイの一つである有機エレクトロルミネッセンス表示素子（以下、エレクトロルミネッセンスをＥＬと称す）は、有機発光媒体を陽極と陰極で挟持した構造になっており、電流を流すことで発光が起こる。発光媒体としては、通常、複数の有機発光媒体層を積層したものが用いられる。自己発光型であるため高輝度、高視野角でありかつ低電圧駆動という特徴を有している。
【０００３】
有機エレクトロルミネッセンス表示素子としては、複数の陽極電極ラインと複数の陰極電極ラインを交差させたマトリクス構造が用いられる。基板上に第一電極ラインを形成し、発光媒体を挟んで第一電極ラインと交差するように少なくとも第二電極ラインを形成する。第一電極が陽極の場合、第二電極は陰極であり、第一電極が陰極の場合、第二電極は陽極である。大容量で高精細な表示素子を製造するためには、電極ラインの非常に微細なパターニング加工が必要となる。
【０００４】
一般には薄膜の微細なパターンを形成する定法として、フォトリソグラフィ法やマスク蒸着法がある。
【０００５】
しかし、フォトリソグラフィ法で第二電極層をパターニングすると、フォトレジストの溶剤や現像液などの下地の有機発光媒体層への侵入が避けられず、素子の破壊や劣化を招いてしまうため使用できない。
【０００６】
一方、マスク蒸着法では、蒸着マスクと基板間の密着性の問題がある。密着不良の場合には、蒸着マスクパターンの陰に蒸着物が回り込んでしまって解像度が上がらない。蒸着マスクを基板と強制的に密着させると、有機発光媒体層に傷が付いてしまうという問題がある。
【０００７】
有機発光媒体層に損傷を与えないパターニング法として、特開平５−２５８８５９号、特開平５−２５８８６０号に隔壁群を用いた有機物及び金属の斜め蒸着法の技術が開示された（図８参照）。この方法では、陽極パターンと交差する方向に隔壁を形成し、その後有機発光媒体層及び陰極をこの順で斜め方向から蒸着する。この方法では有機発光媒体と陰極物質の積層とパターニングが同時になされる。しかしこの技術については、色々な問題がある。蒸着ビームの方向を大面積で均一に制御する必要があること、均一化のための基板回転が不可能なこと、パターンの形状が直線状に限られることなどが挙げられる。
【０００８】
前述の隔壁斜め蒸着法を改善したものが、特開平８−３１５９８１号、特開平９−１０２３９３号で開示されたオーバーハング隔壁法である。この方法には、逆テーパ隔壁（図９（ａ）参照）と、積層Ｔ字型隔壁（図９（ｂ）参照）が示されている。これらの方法によれば、隔壁上部にオーバーハング部を設けることにより、基板に垂直な蒸着ビームによってもパターニングが可能になり、基板回転の使用も可能になった。しかし、逆テーパ隔壁法では、テーパ角より小さい入射角の場合に側壁に堆積が起こって短絡してしまうので、やはり大面積化には向かない。一方、積層Ｔ字型隔壁では、工程が複雑で歩留りが悪くなるという問題があった。
【０００９】
また別の問題は、有機発光媒体層と第二電極の蒸着ビーム方向の違いなどによって有機発光媒体層を介さずに第二電極が第一電極と部分的に直接接触する可能性である（図１０参照）。これが生じると第二電極と第一電極が短絡してしまい正常な動作が期待できない。また別の問題は、仮に短絡が無かったとしても、第二電極端近傍の有機発光媒体が薄く積層された部分や第二電極端の端縁部に電界が集中して絶縁破壊やジュール熱による劣化が生じやすくなるということである。これらを防止する方法として隔壁の下に絶縁層を形成しておく方法があるが、工程がより複雑になり好ましくない。また別の問題は、第二電極／有機発光媒体層界面端部が露出していることにより、端から劣化が起こり易いという問題点があった。その抑制は封止層のみでは不十分であった。
【００１０】
さらに別の問題は、隔壁と陰極電極の間に隙間が存在するため、あるいは隔壁が光を透過するため、裏面からの光が隙間あるいは隔壁内を通って表示面に出てしまい、表示の防げになることである（図１１参照）。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、従来の隔壁構造においては、蒸着ビームの方向の制限が大きく、基板回転や大面積化に向いていなかった。あるいは、製造工程が複雑であった。また、短絡防止用絶縁層が必要であった。また、劣化が起こり易かった。さらには表示部以外で外光が反射し、裏面からの光が透過するのでコントラストが低下して見にくいという問題があった。
【００１２】
本発明はこれらの問題点を解決するためになされたものであり、蒸着ビーム方向のばらつきに対する許容度が高く、基板回転に対しても問題なく、従って大面積化に適し、かつ製造工程が簡単であり、短絡防止用絶縁層を必要とせず、劣化を抑え、表示部以外での外光反射及び光漏れを抑制し、見やすい有機ＥＬ表示素子用基板及びその製造方法、並びに有機ＥＬ表示素子を提供するものである。
【００１４】
請求項２としては、前記隔壁下部のすそが、前記隔壁上部のひさしよりも基板に平行な方向に関して長いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板である。即ち、図６（ａ）において、すそ幅ｅ＞ひさし幅ｄということである。
【００１５】
請求項３としては、前記隔壁下部のすそが、先端角が４５゜以下のなだらかな順テーパ状になっていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板である。即ち、図６（ａ）において、すそ先端角θ≦４５°ということである。ここに先端角とは、すそ先端からすそ幅の半分だけ中心に近い部分のすそ上側とすそ先端とを結ぶ直線と基板表面とのなす角である。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
本発明において上記課題を解決するために、請求項１としては、少なくとも複数の第一電極ラインと前記第一電極ラインと交差する方向に延びる複数の隔壁を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製造方法において、前記隔壁は本体及びひさしとすそを有し、前記隔壁をＵＶ吸収材あるいは色材あるいはＵＶ吸収材と色材両方を分散させたネガ型感光性樹脂を塗布、露光、現像工程により形成後、電子線を照射してからポストベークを行うことで本体及びひさしとすそを同一物質で形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製造方法である。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図１と図２を使い製造工程に従って詳細に説明する。また、本発明において隔壁形状を示す用語を図６（ａ）に示す。なお、以下、エレクトロルミネッセンスをＥＬと表記する。
【００２７】
まず、第一電極が陽極、第二電極が陰極の場合について説明する。
本発明のＥＬ表示素子における透光性絶縁基板１としては、石英基板、ガラス基板、プラスチック基板等が使用できる。
【００２８】
次に、基板上に第一電極を成膜し、フォトリソグラフィ等によって複数の第一電極ライン２を形成する（図２（ａ）参照）。
【００２９】
本発明における陽極の材料としてはＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が使用できる。
【００３０】
なお、抵抗を下げるために透明電極には銅、クロム、アルミニウム、チタン等の金属もしくはこれらの積層物を補助電極として部分的に併設させることができる。また、第一電極上に短絡防止用絶縁層を形成する必要はないが、絶縁層がないことに限定するものではない。
【００３１】
次に、第一電極ラインと交差するように複数の第二電極ライン分離用隔壁７を形成する（図１及び図２（ｂ））。
【００３２】
本発明の隔壁７では、ひさしとすそを有することにより、蒸着物飛来方向の制限を大幅に緩めることができる。それによって、大面積基板の使用、基板の回転が可能になる。また、直線構造のみでなく、曲線や折れ線の隔壁や第二電極を形成できる。
【００３３】
典型的な隔壁の断面形状を図６（ａ）に示す。隔壁高さａは、好ましくは０．２μｍ〜１００μｍであり、さらに好ましくは１μｍ〜３０μｍである。隔壁幅ｂは、好ましくは０．０５μｍ以上であり、さらに好ましくは１μｍ以上である。ひさし厚さｃは、好ましくは０．０５μｍ〜１０μｍであり、さらに好ましくは、０．１μｍ〜５μｍである。ひさし幅ｄは、好ましくは０．０５μｍ〜５０μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍ〜１０μｍである。すそ幅ｅは、好ましくは０．１μｍ〜１００μｍであり、さらに好ましくは１μｍ〜３０μｍである。
【００３４】
また、すそ幅ｅは隔壁高さａの０．１倍〜１０倍が好ましく、さらには０．５倍〜３倍が好ましい。すそ幅ｅが隔壁高さａの１０倍以上の場合、加工精度が極端に悪くなり、好ましくない。
【００３５】
本発明の第二電極ライン分離用の隔壁の形成原理を図３に基づいて説明する。ＵＶ吸収材あるいは色材あるいはＵＶ吸収材と色材両方を分散したネガ型レジストを塗布乾燥し、適切なピッチのストライプ状のマスクを用いてＵＶ露光を行う（図３（ａ）参照）。すると、レジストの表面から一定の深さの部分までは感光するが、ＵＶ光が吸収されるために深部まで到達できず下部は未露光のまま残る。この状態で現像を行うと、表面層では露光部が溶解されずに残るが未露光部は除去される（図３（ｂ）参照）。表面層より下部側は、すべて未露光部であるためサイドから溶解が進行し、順テーパのすそが形成される（図３（ｃ）参照）。また、条件を選べばひさしよりもすそを長くすることが可能である（図３（ｄ）参照）。実際に形成した隔壁の断面写真を図４（ａ）と図４（ｂ）に示す。ポジ型レジストは露光部が溶解するので上述したネガレジストのような加工は不可能である。更に、隔壁略全面に電子線またはＵＶを照射してからポストベークを行うと、ポストベークにおける変はほとんど見られなくなる。
【００３６】
色材としては、ブラックストライプを兼ねるためには黒色色材あるいはＲＧＢ３色の混合色材が望ましいが、隔壁形成のためだけならば単色色材、複数の色材、単独のＵＶ吸収材、複数のＵＶ吸収材、単独あるいは複数の色材と複数のＵＶ吸収材の組み合わせでもよい。ＵＶ吸収材としては、ベンゾフェノン系、フェニルサリチル酸系、シアノアクリレート系、ベンゾトリアゾール系、シュウ酸アニリド系、トリアジン系等の有機物の他、カーボン、ガラス、酸化セリウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の無機物の粉も使用できる。
【００３７】
その後、有機発光媒体及び第二電極を蒸着する。有機発光媒体及び第二電極は、ひさしによって分離蒸着され、自動的にパターニングされる。その第二電極／発光媒体ラインの大部分は第一電極上に直接形成されるが、第二電極端部は隔壁下部のすそ上に伸びており第一電極から離れた位置に形成される。これにより、絶縁破壊を抑制できる。これは、すそが先端角が４５゜以下のなだらかな順テーパとすることによって可能となった。また、すそがひさしよりも長いことにより、垂直蒸着によっても形成可能となった。
【００３８】
第二電極蒸着条件を工夫することにより、第二電極が発光媒体の端よりも外側まで伸びて発光媒体を完全に覆った構造にできる。これにより、陰極／発光媒体界面の露出を防ぎ、劣化を抑制できた（図２（ｃ）参照）。
【００３９】
本発明における有機発光媒体は、蛍光物質を含む単層膜、あるいは多層膜で形成することができる。
【００４０】
多層膜で形成する場合の発光媒体構成例は正孔注入輸送層、電子輸送性発光層または正孔輸送性発光層、電子輸送層からなる２層構成や正孔注入輸送層、発光層、電子輸送層からなる３層構成等がある。さらにより多層で形成することも可能であり、各層を基板上に順に成膜する。
【００４１】
正孔注入輸送材料の例としては銅フタロシアニン、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン等の芳香族アミン系低分子正孔注入輸送材料やポリ（パラ−フェニレンビニレン）、ポリアニリン等の高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。
【００４２】
発光材料の例としては、９，１０−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、１，１，４，４−テトラフェニルブタジエン、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、ビス（８−キノリノラート）亜鉛錯体、トリス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、トリス（８−キノリノラート）スカンジウム錯体、ビス〔８−（パラ−トシル）アミノキノリン〕亜鉛錯体及びカドミウム錯体、１，２，３，４−テトラフェニルシクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−２，５−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポルフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光体等が挙げられ、これらを単独、または他の低分子材料や高分子材料と混合して用いることができる。
【００４３】
有機電子輸送材料の例としては、２−（４−ビフィニルイル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、および浜田らの合成したオキサジアゾール誘導体（日本化学会誌、１５４０頁、１９９１年）やビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム錯体、特開平７−９０２６０号で述べられているトリアゾール化合物等が挙げられる。
【００４４】
成膜法は真空蒸着法により形成することができる。発光媒体の膜厚は、単層または積層により形成する場合においても１μｍ以下であり、好ましくは５０〜１５０ｎｍである。
【００４５】
陰極材料としては電子注入効率の高い物質を用いる。具体的にはＭｇ，Ａｌ, Ｙｂ等の金属単体を用いたり、発光媒体と接する界面にＬｉや酸化Ｌｉ，ＬｉＦ等の化合物を１ｎｍ程度挟んで、安定性・導電性の高いＡｌやＣｕを積層して用いる。
【００４６】
または電子注入効率と安定性を両立させるため、低仕事関数なＬｉ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｓｃ，Ｙ，Ｙｂ等の金属１種以上と、安定なＡｇ，Ａｌ，Ｃｕ等の金属元素との合金系が用いられる。具体的にはＭｇＡｇ，ＡｌＬｉ，ＣｕＬｉ等の合金が使用できる。
【００４７】
陰極の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。陰極の厚さは、１０ｎｍ〜１μｍ程度が望ましい。
【００４８】
また一般的には、最後に封止層を形成し、水分や酸素による陰極や発光媒体の劣化を防止する（図２（ｄ）参照）。
【００４９】
ＲＧＢのカラーフィルタ層を透明電極の下部に形成しておき、白色発光の発光媒体を用いるとカラーディスプレイとなる。同じことだが透明電極の下部に赤、緑蛍光変換膜を形成し青色の発光媒体を用いてもフルカラー化ができる。隔壁群が形成されているので、マスク蒸着法を用いて各色の発光媒体を完全に区分けして積層できる。マスクと有機発光媒体層が接触せずまた発光媒体が拡散することもないからである。
【００５０】
第一電極を陰極、第二電極を陽極とした場合も同様に作製できることは言うまでもない。
【００５１】
【実施例】
［実施例１］
まず、ガラス基板１上にスパッタリングで第一電極としてＩＴＯ層を形成した。さらに、透明性と導電性を向上させるために、空気中で加熱処理を行いＩＴＯを結晶化した。
【００５２】
次に、フォトリソグラフィ及びウェットエッチングによってＩＴＯをパターニングし、第一電極ライン２を形成した（図２（ａ）参照）。
【００５３】
その上に微粒子グラファイト黒色材を分散したネガ型感光性樹脂６を塗布・プリベークし、露光・現像・ポストベークによってひさしとすそを有する隔壁７を形成し（図２（ｂ）参照）、本発明の有機ＥＬ表示素子用基板が完成した。隔壁の実際の形状は図４（ａ）に示す。
【００５４】
最後に、有機発光媒体層８として銅フタロシアニン、Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム錯体を順に、２０ｎｍ、６０ｎｍ、７０ｎｍの膜厚で真空蒸着し、次に第二電極９としてＡｌを基板回転しながら真空蒸着した後（図２（ｃ）参照）、酸化Ｇｅを１μｍイオンプレーティングし封止層１０を形成して本発明の有機ＥＬ表示素子を形成した（図２（ｄ）参照）。
【００５５】
本発明の隔壁を用いて発光媒体と第二電極層の蒸着を行った後の写真を、図５に示す。発光媒体と第二電極層が隔壁間のストライプにパターニングされ、また第二電極ラインの両側の端の部分が吸光性隔壁の下部のすその上まで伸びており、かつ発光媒体を完全に覆っている。得られた有機ＥＬ表示素子は第二電極ラインが完全に分離され第二電極間の短絡は無かった。また、駆動電圧を１０Ｖ以上にあげても第二電極ライン端での素子短絡は観察されなかった。
【００５６】
［実施例２］
実施例１と同じ工程で第一電極ライン２を形成した（図２（ａ）参照）。
【００５７】
その上にトリアジン系ＵＶ吸収材を分散したネガ型感光性樹脂６を塗布・プ
リベークし、露光・現像・ポストベークによってひさしとすそを有する隔壁７を形成し（図２（ｂ）参照）、本発明の有機ＥＬ表示素子用基板が完成した。隔壁の実際の形状は図４（ｂ）に示す。
【００５８】
最後に、実施例１と同じ工程で有機発光媒体層８、第二電極９、封止層１０を形成して本発明の有機ＥＬ表示素子を形成した（図２（ｃ）、（ｄ）参照）。
【００５９】
［実施例３］
実施例１と同じ工程で第一電極ライン２を形成した（図２（ａ）参照）。
【００６０】
その上にアントラキノ系の赤、銅フタロシアニン系の緑と青の３色の混合色材を分散したネガ型感光性樹脂６を塗布・プリベークし、露光・現像・ポストベークによってひさしとすそを有する隔壁７を形成し（図２（ｂ）参照）、本発明の有機ＥＬ表示素子用基板が完成した。
【００６１】
最後に、実施例１と同じ工程で有機発光媒体層８、第二電極９、封止層１０を形成して本発明の有機ＥＬ表示素子を形成した（図２（ｃ）、（ｄ）参照）。
【００６２】
［実施例４］
実施例１と同様な工程で作製した隔壁７の略全面に電子線あるいはＵＶを照射後、１５０〜３００℃、１０〜１２０分のポストベークを行い、本発明の有機ＥＬ表示素子用基板が完成した。また、実施例１と同様な工程で、本発明の有機ＥＬ表示素子を形成した。得られた有機ＥＬ表示素子は第二電極ラインが完全に分離され第二電極間の短絡は無かった。また、駆動電圧を１０Ｖ以上にあげても第二電極ライン端での素子短絡は観察されなかった。
【００６３】
［比較例］
実施例１と同様に第一電極ライン２を形成した後、ＵＶ吸収材あるいは色材を分散していないネガ型感光性樹脂を用いて隔壁を形成した以外は実施例１と同様に有機ＥＬ表示素子を形成した。この有機ＥＬ表示素子の隔壁はすその先端角４５°以上であり、また上部はひさしの無い形状を有していた（図７参照）。隔壁側部への蒸着物付着によって第二電極ライン間の一部で短絡があり、また、駆動電圧を１０Ｖ以上にあげると第二電極ライン端が第一電極ラインと短絡した。
【００６４】
［先端角の影響］
次に、隔壁すそ先端角が約３０°、４５°、６０°の試料を作製してすそなしの試料と比較した。３０°及び４５°の試料においては、第一電極と第二電極の間に１０Ｖを印加しても短絡は起こらなかったが、６０°においては４０９６個中の約５％、すそなしにおいては約１５％で短絡が発生した。
【００６５】
［すそ幅と隔壁高さの影響］
隔壁高さ２．５μｍ、すそ幅０．３μｍの試料では、１０Ｖ印加で短絡は起こらなかったが、すそ幅０．２μｍの試料では４０９６個中約５％で短絡が発生した。隔壁高さ１０μｍ、すそ幅約５０μｍの試料では、すそ幅が３０μｍ〜１００μｍと大きなばらつきが発生した。１０Ｖ印加で短絡は起こらなかったが、画素形状にばらつきが見られた。すそ幅１００μｍを目標にした試料では、画素部に残膜が生じた。
【００６６】
［実施例５］
第一電極を陰極、第二電極を陽極とした場合を説明する。
ガラス基板上に第一電極としてＡｌを成膜し、通常のフォトエッチング法によってストライプ状に加工した。次に、ガラス粉を分散させたネガ型レジストを用いて隔壁を形成した。そして、ＬｉＦを蒸着し、有機発光媒体層として、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム、Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、銅フタロシアニンを順に蒸着した後、第二電極としてインジウム亜鉛複合酸化物を蒸着した。この場合、第二電極側に表示が行われる。１０Ｖ印加しても短絡はみられなかった。
【００６７】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、蒸着ビーム方向の制限が小さく大面積化で均一な蒸着に適し、かつ、短絡防止用絶縁層を必要としない有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板を提供することができる。また、裏面からの透過光と外光反射を抑制する有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板を提供することができる。さらに、絶縁破壊による短絡が起こりにくく、また劣化しにくい有機エレクトロルミネッセンス表示素子を提供することができる。更にまた、そのような有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板を容易に製造することができる。
【００６８】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のＥＬ表示素子の主要部の断面図である。
【図２】本発明のＥＬ表示素子の製造工程を示す説明図である。
【図３】本発明の隔壁形成原理を示す説明図である。
【図４】本発明の隔壁の断面ＳＥＭ写真である。
【図５】本発明の隔壁を用いて発光媒体と第二電極層を蒸着した後の断面ＳＥＭ写真である。
【図６】本発明での隔壁形状の用語を示す説明図である。
【図７】比較例の隔壁付近断面を示す説明図である。
【図８】従来の隔壁ななめ蒸着法を示す説明図である。
【図９】従来の隔壁を示す説明図である。
【図１０】従来起こりやすい短絡現象の説明図である。
【図１１】従来起こる隔壁近傍での裏面光透過や隔壁部での外光反射の説明図である。
【符号の説明】
１基板
２第一電極ライン
３露光光
４フォトマスク
５感光部
６ＵＶ吸収材または色材を分散させたネガ型感光樹脂層
７隔壁
８発光媒体
９第二電極ライン
１０封止層
１１蒸着物

Claims

少なくとも複数の第一電極ラインと前記第一電極ラインと交差する方向に延びる複数の隔壁を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製造方法において、前記隔壁は本体及びひさしとすそを有し、前記隔壁をＵＶ吸収材あるいは色材あるいはＵＶ吸収材と色材両方を分散させたネガ型感光性樹脂を塗布、露光、現像工程により形成後、電子線を照射してからポストベークを行うことで本体及びひさしとすそを同一物質で形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製造方法。