JP2001176657A - 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板および有機エレクトロルミネッセンス表示素子 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板および有機エレクトロルミネッセンス表示素子

Info

Publication number
JP2001176657A
JP2001176657A JP35693699A JP35693699A JP2001176657A JP 2001176657 A JP2001176657 A JP 2001176657A JP 35693699 A JP35693699 A JP 35693699A JP 35693699 A JP35693699 A JP 35693699A JP 2001176657 A JP2001176657 A JP 2001176657A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
display element
electrode lines
electrode
substrate
organic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP35693699A
Other languages
English (en)
Inventor
Ihan Sen
懿範 銭
Katsuhiro Suzuki
克宏 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP35693699A priority Critical patent/JP2001176657A/ja
Publication of JP2001176657A publication Critical patent/JP2001176657A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/17Passive-matrix OLED displays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/805Electrodes

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】封止層あるいは接着剤との密着性がよく、かつ
抵抗の低い第一および第二電極ラインの引き出し部を有
する有機EL表示素子を提供する。 【解決手段】絶縁基板1上に複数の第一電極ライン2A
と複数の第二電極ライン5Aが発光媒体を狭持しかつ相
互に交差してなる有機エレクトロルミネッセンス表示素
子用基板において、絶縁基板上に第一電極ラインと第一
および第二電極ラインの引き出し部2Bとを形成し、且
つ前記第一および第二電極ラインの引き出し部をAl、
Cu、Cr、Ta、Mo、W、Ni、Ti、Au、Ag
等の金属とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、家庭用テレビ及び
高度な情報処理端末表示装置としての発光型ディスプレ
イである有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示素
子及び有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板に
関する。
【0002】
【従来の技術】フラットパネルディスプレイの一つであ
る有機エレクトロルミネッセンス表示素子(以下、エレ
クトロルミネッセンスをELと称す)は、有機発光媒体
を陽極と陰極で挟持した構造になっており、電流を流す
ことで発光が起こる。発光媒体としては、通常、複数の
有機発光媒体層を積層したものが用いられる。有機EL
は自己発光型であるため高輝度、高視野角でありかつ低
電圧駆動という特徴を有している。
【0003】有機EL表示素子としては、複数の第一電
極ラインと複数の第二電極ラインを交差させたマトリク
ス構造が用いられる。基板上に第一電極ラインを形成
し、発光媒体を挟んで第一電極ラインと交差するように
少なくとも第二電極ラインを形成する。第一電極が陽極
の場合、第二電極は陰極であり、第一電極が陰極の場
合、第二電極は陽極である。大容量で高精細な表示素子
を製造するためには、第二電極ラインの非常に微細なパ
ターニング加工が必要となる。第二電極ラインを微細に
パターニングするための方法として、第一電極ラインを
交差する方向に互いに離間して延びる複数の隔壁を使用
する方法が知られている。このような隔壁の存在によ
り、有機EL媒体層と第二電極ラインは、蒸着と同時に
パターニングも可能となる。
【0004】このようにして作製された有機EL表示素
子において、発光媒体層および陰極ラインを大気露出さ
せたままにしておくと、これらは大気中の水分、酸素等
によって劣化する。このような水分や酸素等による陰極
や発光媒体層の劣化を防止するために、第二電極ライン
および発光媒体層を覆う封止層または接着剤を介して基
板上に接着した封止板を用いて陰極ラインおよび発光媒
体層の封止を行うことが、有効であることが見出されて
きた。すなわち、真空状態または不活性ガス雰囲気中
で、陰極ラインおよび発光媒体層を覆う封止層または接
着剤を介して基板上に接着した封止板を用いることによ
り陰極ラインおよび発光媒体層が封止された構造であ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】基板上に第一および第
二電極ラインの引き出し部がITOで形成され、しかも
その一部が封止層または基板と封止板との間の接着剤で
カバーされている。そこで第一および第二電極ラインの
引き出し部と封止層または基板と封止板との間の接着剤
との密着が要求される。しかしながら、このように封止
された素子の寿命が短く、また乾燥剤を入れなければな
らないなどの問題がある。調べによるとITOラインの
表面と両側(パターニングのエッチング面)の平坦さが
非常に悪いため、封止層または接着剤との密着ができな
い。これが原因で、水分や酸素等が素子の中に入り、発
光媒体の劣化を引き起こしたと考えられる。またITO
を第一および第二電極ラインの引き出し部にした場合に
は抵抗が高くなる問題がある。
【0006】本発明は、これらの問題点を解決するため
になされたものであり、封止層あるいは接着剤との密着
性がよく、かつ抵抗の低い第一および第二電極ラインの
引き出し部を有する有機EL表示素子を提供するもので
ある。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1としては、絶縁
基板上に複数の第一電極ラインと複数の第二電極ライン
が発光媒体を狭持しかつ相互に交差してなる有機エレク
トロルミネッセンス表示素子用基板において、絶縁基板
上に第一電極ラインと第一および第二電極ラインの引き
出し部とが形成され、且つ前記第一および第二電極ライ
ンの引き出し部が金属であることを特徴とする有機エレ
クトロルミネッセンス表示素子用基板である。請求項2
としては、前記第一および第二電極ラインの引き出し部
用金属がAl、Cu、Cr、Ta、Mo、W、Ni、T
i、Au、Agのいずれか一つを少なくとも含むことを
特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基
板である。請求項3としては、絶縁基板上に第一電極ラ
イン・発光媒体・第二電極ライン・封止層を形成してな
る有機エレクトロルミネッセンス表示素子において、第
一および第二電極ラインの引き出し部が形成され、且つ
前記第一および第二電極ラインの引き出し部が金属であ
ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示
素子である。請求項4として、絶縁基板上に第一電極ラ
イン・発光媒体・第二電極ラインを形成してから、接着
剤を介して絶縁基板上に接着する封止板を設ける有機エ
レクトロルミネッセンス表示素子において、第一および
第二電極ラインの引き出し部が形成され、且つ前記第一
および第二電極ラインの引き出し部が金属であることを
特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子であ
る。請求項5としては、前記封止層あるいは前記接着剤
は前記第一および第二電極ラインの金属の引き出し部の
一部をカバーすることを特徴とする有機エレクトロルミ
ネッセンス表示素子である。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図1〜図3を使い
製造工程に従って詳細に説明する。まず、第一電極が陽
極、第二電極が陰極の場合について説明する。本発明の
EL表示素子における透光性絶縁基板1としては、石英
基板、ガラス基板、プラスチック基板等が使用できる。
【0009】次に、基板上に第一電極を成膜し、フォト
リソグラフィおよびウェットエッチング等によって複数
の第一電極ライン2Aを形成する(図1(a)参照)。
【0010】本発明における陽極の材料としてはITO
(インジウムスズ複合酸化物)やインジウム亜鉛複合酸
化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が
使用できる。
【0011】なお、抵抗を下げるために透明電極にはA
l、Cu、Cr、Ta、Mo、W、Ni、Ti、Au、
Ag等の金属もしくはこれらの積層物を補助電極として
部分的に併設させることができる。また、第一電極上に
短絡防止用絶縁層を形成する必要はないが、絶縁層がな
いことに限定するものではない。
【0012】次に、第一電極ラインを形成している基板
上にマスク蒸着法で複数の第一および第二電極ラインの
金属の引き出し部2Bと5Bを形成する(図1(b)参
照)。
【0013】本発明における第一および第二電極ライン
の引き出し部用金属材料としてはAl、Cu、Cr、T
a、Mo、W、Ni、Ti、Au、Ag等が使用でき
る。
【0014】金属で形成した第一および第二電極ライン
の引き出し部の表面と両側の平坦さがよく、封止層また
は接着剤との密着ができるため、外部の水分や酸素等か
ら発光媒体の劣化を防ぐことができる。
【0015】また、第一および第二電極ラインの引き出
し部を金属にすることによって、引き出し部の抵抗を下
げることができる。
【0016】本発明における第一および第二電極ライン
の引き出し部が一層若しくは多層からなってもよい。
【0017】また、先に第一および第二電極ラインの引
き出し部を形成してから第一電極ラインを形成してもよ
い。
【0018】次に、第一電極ラインと交差するように複
数の第二電極ライン分離用隔壁3を形成する(図1
(c)参照)。
【0019】本発明の隔壁3としては、「工」字型、逆
テーパー型の隔壁が使用できる。
【0020】その後、有機発光媒体層4及び第二電極ラ
イン5Aを蒸着で形成する(図1(d)、(e)参
照)。隔壁が存在することによって、有機発光媒体層4
及び第二電極ライン5Aは、蒸着と同時に自動的にパタ
ーニングされる。
【0021】本発明における有機発光媒体層4は、蛍光
物質を含む単層膜、あるいは多層膜で形成することがで
きる。
【0022】多層膜で形成する場合の発光媒体構成例は
正孔注入輸送層、電子輸送性発光層または正孔輸送性発
光層、電子輸送層からなる2層構成や正孔注入輸送層、
発光層、電子輸送層からなる3層構成等がある。さらに
より多層で形成することも可能であり、各層を基板上に
順に成膜する。
【0023】正孔注入輸送材料の例としては銅フタロシ
アニン、テトラ(t−ブチル)銅フタロシアニン等の金
属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナ
クリドン化合物、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルア
ミノフェニル)シクロヘキサン、N,N’−ジフェニル
−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−
ビフェニル−4,4’−ジアミン、N,N’−ジ(1−
ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェ
ニル−4,4’−ジアミン等の芳香族アミン系低分子正
孔注入輸送材料やポリ(パラ−フェニレンビニレン)、
ポリアニリン等の高分子正孔輸送材料、ポリチオフェン
オリゴマー材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選
ぶことができる。
【0024】発光材料の例としては、9,10−ジアリ
ールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレ
ン、ルブレン、1,1,4,4−テトラフェニルブタジ
エン、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム錯
体、トリス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウム錯体、ビス(8−キノリノラート)亜鉛錯体、ト
リス(4−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノ
リノラート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−
5−シアノ−8−キノリノラート)アルミニウム錯体、
ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノ
リノラート)[4−(4−シアノフェニル)フェノラー
ト]アルミニウム錯体、ビス(2−メチル−5−シアノ
−8−キノリノラート)[4−(4−シアノフェニル)
フェノラート]アルミニウム錯体、トリス(8−キノリ
ノラート)スカンジウム錯体、ビス〔8−(パラ−トシ
ル)アミノキノリン〕亜鉛錯体及びカドミウム錯体、
1,2,3,4−テトラフェニルシクロペンタジエン、
ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−2,5−ジ
ヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、クマリン
系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンス
ロン系蛍光体、ポルフィリン系蛍光体、キナクリドン系
蛍光体、N,N’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光
体、ナフタルイミド系蛍光体、N,N’−ジアリール置
換ピロロピロール系蛍光体等が挙げられ、これらを単
独、または他の低分子材料や高分子材料と混合して用い
ることができる。
【0025】有機電子輸送材料の例としては、2−(4
−ビフィニルイル)−5−(4−t−ブチルフェニル)
−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(1−
ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、および浜
田らの合成したオキサジアゾール誘導体(日本化学会
誌、1540頁、1991年)やビス(10−ヒドロキ
シベンゾ[h]キノリノラート)ベリリウム錯体、特開
平7−90260号で述べられているトリアゾール化合
物等が挙げられる。
【0026】成膜法は真空蒸着法により形成することが
できる。発光媒体の膜は、単層または積層により形成す
る場合においても1μm以下であり、好ましくは50〜
150nmである。
【0027】陰極材料としては電子注入効率の高い物質
を用いる。具体的にはMg,Al,Yb等の金属単体を
用いたり、発光媒体と接する界面にLiや酸化Li,L
iF等の化合物を1nm程度挟んで、安定性・導電性の
高いAlやCuを積層して用いる。
【0028】または電子注入効率と安定性を両立させる
ため、低仕事関数なLi,Mg,Ca,Sr,La,C
e,Er,Eu,Sc,Y,Yb等の金属1種以上と、
安定なAg,Al,Cu等の金属元素との合金系が用い
られる。具体的にはMgAg,AlLi,CuLi等の
合金が使用できる。
【0029】陰極の形成方法は、材料に応じて、抵抗加
熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプ
レーティング法、スパッタリング法を用いることができ
る。陰極の厚さは、10nm〜1μm程度が望ましい。
【0030】最後に、水分や酸素による陰極や発光媒体
の劣化を防止するため、封止層6または接着剤7を介し
て封止板8で素子を封止する(図1(f)、図2、図3
参照)。
【0031】本発明の封止層6の材料としては酸化ゲル
マニウム、酸化アルミニウム、酸化シリコンなどが使用
できる。
【0032】本発明の封止板8としては金属基板、ガラ
ス基板、セラミックス基板などが使用できる。
【0033】本発明の接着剤7としては、UV硬化型接
着剤などが使用できる。
【0034】RGBのカラーフィルタ層を透明電極の下
部に形成しておき、白色発光の発光媒体を用いるとカラ
ーディスプレイとなる。同じことだが透明電極の下部に
赤、緑蛍光変換膜を形成し青色の発光媒体を用いてもフ
ルカラー化ができる。隔壁群が形成されているので、マ
スク蒸着法を用いて各色の発光媒体を完全に区分けして
積層できる。マスクと有機発光媒体層が接触せずまた発
光媒体が拡散することもないからである。
【0035】第一電極を陰極、第二電極を陽極とした場
合も同様に作製できることは言うまでもない。
【0036】
【実施例】[実施例1]まず、ガラスからなる透光性絶
縁基板1上にスパッタリングで第一電極としてITO層
を形成した。さらに、透明性と導電性を向上させるため
に、空気中で加熱処理を行いITOを結晶化した。
【0037】次に、フォトリソグラフィ及びウェットエ
ッチングによってITOをパターニングし、第一電極ラ
イン2Aを形成した(図1(a)参照)。
【0038】次に、第一電極ラインを形成しているガラ
ス基板上にマスク蒸着法で複数のCrの第一および第二
電極ラインの引き出し部2Bと5Bを形成した(図1
(b)参照)。
【0039】UV吸収剤を分散したネガ型感光性樹脂を
塗布・プリベークし、露光・現像・ポストベークによっ
てひさしとすそを有する「工」字型隔壁3を形成し(図
1(c)参照)、本発明の有機EL表示素子用基板を完
成した。
【0040】次に、有機発光媒体層4として銅フタロシ
アニン、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジ
フェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミ
ン、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム錯体を
順に、20nm、60nm、70nmの膜厚で真空蒸着
し、次に第二電極ライン5AとしてAlを基板回転しな
がら真空蒸着で形成した(図1(d)、(e)参照)、
【0041】最後に、酸化Geを1μmイオンプレーテ
ィングし封止層6を形成して本発明の有機EL表示素子
を完成した(図1(f)、図2参照)。
【0042】[実施例2]有機発光媒体層4と第二電極
ライン5Aを真空蒸着で形成するまでは実施例1と同じ
工程で行った(図1(a)〜(e)参照)。
【0043】最後に、接着剤7を介して封止板8をガラ
ス基板上に接着することによって、EL素子を封止した
(図3参照)。
【0044】
【発明の効果】本発明によれば、第一および第二電極ラ
インの引き出し部を金属にすることによって、引き出し
部と封止層または基板と封止板との間の接着剤との密着
ができる。これによって、水分や酸素の侵入を防げる有
機EL素子を提供することができる。また、ITOの引
き出し部と比べると金属の引き出し部の抵抗が低いとい
う利点がある。
【0045】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の有機EL表示素子の製造工程を示す説
明図である。
【図2】図1(f)のA−A’線に沿った断面図であ
る。
【図3】本発明の有機EL表示素子の断面図である。
【符号の説明】
1 …透光性絶縁基板 2A…第一電極ライン 2B…第一電極ラインの引き出し部 3 …隔壁 4 …有機発光媒体層 5A…第二電極ライン 5B…第二電極ラインの引き出し部 6 …封止層 7 …接着剤 8 …封止板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB05 AB12 AB13 AB15 BA06 BB01 BB06 CA01 CA02 CA04 CA05 CB01 CC05 DA00 DB03 EA00 EB00 FA01 FA02 5C094 AA21 AA38 BA27 CA19 DA09 EA05 EB02 FB01 HA08

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁基板上に複数の第一電極ラインと複数
    の第二電極ラインが発光媒体を狭持しかつ相互に交差し
    てなる有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板に
    おいて、絶縁基板上に第一電極ラインと第一および第二
    電極ラインの引き出し部とが形成され、且つ前記第一お
    よび第二電極ラインの引き出し部が金属であることを特
    徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基
    板。
  2. 【請求項2】前記第一および第二電極ラインの引き出し
    部用金属がAl、Cu、Cr、Ta、Mo、W、Ni、
    Ti、Au、Agのいずれか一つを少なくとも含むこと
    を特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッ
    センス表示素子用基板。
  3. 【請求項3】絶縁基板上に第一電極ライン・発光媒体・
    第二電極ライン・封止層を形成してなる有機エレクトロ
    ルミネッセンス表示素子において、第一および第二電極
    ラインの引き出し部が形成され、且つ前記第一および第
    二電極ラインの引き出し部が金属であることを特徴とす
    る有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
  4. 【請求項4】絶縁基板上に第一電極ライン・発光媒体・
    第二電極ラインを形成してから、接着剤を介して絶縁基
    板上に接着する封止板を設ける有機エレクトロルミネッ
    センス表示素子において、第一および第二電極ラインの
    引き出し部が形成され、且つ前記第一および第二電極ラ
    インの引き出し部が金属であることを特徴とする有機エ
    レクトロルミネッセンス表示素子。
  5. 【請求項5】前記封止層あるいは前記接着剤は前記第一
    および第二電極ラインの金属の引き出し部の一部をカバ
    ーすることを特徴とする請求項3から請求項4のいずれ
    か一つに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素
    子。
JP35693699A 1999-12-16 1999-12-16 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板および有機エレクトロルミネッセンス表示素子 Pending JP2001176657A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35693699A JP2001176657A (ja) 1999-12-16 1999-12-16 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板および有機エレクトロルミネッセンス表示素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35693699A JP2001176657A (ja) 1999-12-16 1999-12-16 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板および有機エレクトロルミネッセンス表示素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001176657A true JP2001176657A (ja) 2001-06-29

Family

ID=18451526

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35693699A Pending JP2001176657A (ja) 1999-12-16 1999-12-16 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板および有機エレクトロルミネッセンス表示素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001176657A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003058079A (ja) * 2001-08-14 2003-02-28 Pioneer Electronic Corp 配線付き基体形成用積層体、配線付き基体およびその形成方法
JP2003092192A (ja) * 2001-09-18 2003-03-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法
JP2003288994A (ja) * 2002-01-24 2003-10-10 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置およびその作製方法
JP2004319507A (ja) * 2003-04-16 2004-11-11 Lg Electron Inc 有機elディスプレイパネル及びその製造方法
JP2004319510A (ja) * 2003-04-16 2004-11-11 Lg Electron Inc 有機elディスプレイパネル及びその製造方法
EP1610389A2 (en) * 2004-06-24 2005-12-28 Samsung SDI Co., Ltd. Thin film transistor array substrate, display using the same, and fabrication method thereof
JP2010062161A (ja) * 2009-12-14 2010-03-18 Seiko Epson Corp 有機el装置及び電子機器
US7692186B2 (en) 2002-01-24 2010-04-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and method of manufacturing the same

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003058079A (ja) * 2001-08-14 2003-02-28 Pioneer Electronic Corp 配線付き基体形成用積層体、配線付き基体およびその形成方法
JP4551592B2 (ja) * 2001-08-14 2010-09-29 パイオニア株式会社 配線付き基体
JP2003092192A (ja) * 2001-09-18 2003-03-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法
JP4627966B2 (ja) * 2002-01-24 2011-02-09 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置およびその作製方法
JP2003288994A (ja) * 2002-01-24 2003-10-10 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置およびその作製方法
US9627459B2 (en) 2002-01-24 2017-04-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device having sealing material
US9312323B2 (en) 2002-01-24 2016-04-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device having insulator between pixel electrodes and auxiliary wiring in contact with the insulator
US8779467B2 (en) 2002-01-24 2014-07-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device having a terminal portion
US8089066B2 (en) 2002-01-24 2012-01-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
US7692186B2 (en) 2002-01-24 2010-04-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and method of manufacturing the same
JP2004319510A (ja) * 2003-04-16 2004-11-11 Lg Electron Inc 有機elディスプレイパネル及びその製造方法
JP4636305B2 (ja) * 2003-04-16 2011-02-23 エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド 有機elディスプレイパネル及びその製造方法
US7956527B2 (en) 2003-04-16 2011-06-07 Lg Display Co., Ltd. Organic electroluminescence display panel and method for fabricating the same
US8076840B2 (en) 2003-04-16 2011-12-13 Lg Electronics Inc. Organic electro-luminescence display and manufacturing method thereof
JP2004319507A (ja) * 2003-04-16 2004-11-11 Lg Electron Inc 有機elディスプレイパネル及びその製造方法
US7839479B2 (en) 2004-06-24 2010-11-23 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Thin film transistor array substrate comprising a first insulating layer completely covering the dummy testing pad, display using the same, and fabrication method thereof
EP1610389A3 (en) * 2004-06-24 2006-05-10 Samsung SDI Co., Ltd. Thin film transistor array substrate, display using the same, and fabrication method thereof
EP1610389A2 (en) * 2004-06-24 2005-12-28 Samsung SDI Co., Ltd. Thin film transistor array substrate, display using the same, and fabrication method thereof
JP2010062161A (ja) * 2009-12-14 2010-03-18 Seiko Epson Corp 有機el装置及び電子機器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2824411B2 (ja) 有機薄膜発光素子
KR101328767B1 (ko) 적층 oled 구조
JP4142782B2 (ja) 有機el素子
JP3776600B2 (ja) 有機el素子
JP4264994B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示素子の製造方法
JP2001307873A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示素子およびその製造方法
JP2000195675A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板および有機エレクトロルミネッセンス表示素子
JP2003151771A (ja) 有機発光素子
JPH11297477A (ja) 有機elカラーディスプレイ
US6322910B1 (en) Organic electroluminescent device
US6303239B1 (en) Organic electroluminescent device
JP2003123990A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
EP0975029A2 (en) Organic electroluminescent device
JP2000294376A (ja) 有機el素子
KR20010051823A (ko) 유기전계발광표시장치
JP3143362B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2001176657A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板および有機エレクトロルミネッセンス表示素子
JPH08302339A (ja) 有機薄膜el素子
JP3910303B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製造方法
JP2004031214A (ja) 有機電界発光素子
JP3620186B2 (ja) 有機薄膜el素子
JPH11312584A (ja) 有機el素子
JP2001057286A (ja) 有機el素子
JP2001307871A (ja) エレクトロルミネッセンス素子
JPH11312585A (ja) 有機el素子

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060104

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060306

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061219