JP3868339B2 - 中空防止型反応器及びこれを用いたプラスチック光ファイバ用母材の製造方法 - Google Patents

中空防止型反応器及びこれを用いたプラスチック光ファイバ用母材の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、中空防止型反応器及びこれを用いたプラスチック光ファイバ用母材の製造方法に関し、より詳細には、回転下でモノマーを重合させる時に発生する体積収縮現象による中空(cavity)形成を防止して追加的なモノマー注入工程を不要とする中空防止型反応器及びこれを用いたプラスチック光ファイバ用母材の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
通信用光ファイバは、光信号の伝達様式によって、単一モード(single-mode)繊維及び多重モード(multi-mode)繊維に大別される。現在用いられている長距離高速通信用光ファイバの大部分は石英ガラスを基本物質としたステップインデックス単一モード(step-index single-mode)光ファイバであり、このガラス光ファイバは僅か5〜10μmの直径を有する。従って、このようなガラス光ファイバは、整列(alignment)及び連結(connection)に非常に困っており、これによるコスト損失が大きい。一方、単一モード光ファイバより直径の大きい多重モードガラス光ファイバの場合は、LAN(local area network)のような短距離通信用として使用されることはできるが、連結などに高いコストがかかるうえ、割れやすいという欠点によって、広く使用されるには不適であった。従って、ツイストペア(twisted pair)または同軸ケーブル(coaxial cable)のような金属線(cable)がLANのような200m内の短距離通信に主に用いられた。ところが、金属線は、情報伝達速度(または伝送帯域幅(bandwidth))が最大約150Mbps程度に止まり、2000年代のATM(Asynchronous Transfer Mode)基準の625Mbpsに達しないので、未来の伝達速度基準を満足させることができなかった。このような理由により、日本と米国などでは去る10年余にわたってLANのような短距離通信に使用可能な高分子素材からなる光ファイバの開発に多くの努力及び投資を注いできた。高分子光ファイバは、高分子物質の柔軟性のため、その直径がガラス光ファイバより100倍以上大きい0.5〜1.0mm程度に至ることが可能なので、整列または連結が容易であり、押出成形で製造される高分子素材の連結部品(connectors)を使用することができて、大きいコスト節減が期待される。
【0003】
一方、高分子光ファイバは、半径方向の屈折率の変化が階段型であるステップインデックス(step-index, SI)構造、または屈折率が半径方向に漸次変わるグレーデッドインデックス(graded-index, GI)構造を有することができるが、SI高分子光ファイバは、モダール分散(modal dispersion)が大きいので、金属線(ケーブル)より信号伝達速度(または伝送帯域幅)が遅く、GI高分子光ファイバは、モダール分散が小さいため、高い帯域幅を持つことができる。従って、GI高分子光ファイバは、太い直径によるコスト節減の効果を図ることができると共に、小さいモダール分散による速い情報伝達速度によって短距離高速通信用媒体として適すると知られている。
【0004】
従来のGI高分子光ファイバの製造工程としては、慶應義塾大学小池教授らによる界面ゲル重合(interfacial gel polymerization)方法が1988年初めて発表された(Koike, Y. et al., Applied Optics, vol. 27, 486(1988))。その後、米国特許第5,253,323号(Nippon Pertrochmicals Co.)、米国特許第5,382,448号(Nippon Pertrochmicals Co.)、米国特許第5,593,621号(Yasuhiro Koike and Ryo Nihei)、WO92/03750、WO92/03751(Nippon Petrochemical Co.)、特開平3−78706号(三菱レイヨン株式会社)及び特開平4−86603号(東レ株式会社)にこれと関連した内容を開示してある。前記特許に関する大部分の工程は、2種の工程に大別される。
【0005】
一番目、高分子と分子量の比較的少ない添加剤を使用して半径方向に屈折率が変わる予備成形品、即ち母材(preform)を造った後、前記母材を加熱延伸してGI高分子光ファイバを製造するバッチ工程(batch process)がある。
【0006】
二番目、押出工程で高分子繊維を製造した後、その繊維に添加されている低分子量の物質を半径方向に抽出したり、或いは逆に低分子量の物質を半径方向に投入してGI高分子光ファイバを製造する工程がある。
【0007】
一つ目の工程は、小池教授によって開発された方法で2.5Gbpsの伝達速度を有するGI高分子光ファイバの製造に成功し、二番目の工程も比較的に高い伝送帯域幅を有する高分子光ファイバの製造に成功したと知られている。前述した方法は、大抵重力によって屈折率勾配が崩れないように横或いは縦にして回転させながら工程を行う。これは良く知られている周知の事実であるが、注目すべき点である。
【0008】
一方、最近、オランダのVan DuijnhovenとBastiaansenによって開発されてWO97/29903に開示され、米国特許第6,166,107号に登録された方法は、回転を用いるが、約20,000rpm程度の強力な回転を用いるものである。この方法は、10,000×d-0.5以上(ここで、dは母材の径)の強力な遠心力場下で互いに異なる密度及び屈折率を有するモノマー、またはモノマーに高分子を溶解させた混合物を重合させると、密度勾配に応じて濃度勾配が発生し、これにより屈折率勾配が生ずる超高速遠心分離の原理を利用した。しかし、前記特許では、まるで10,000×d-0.5以下の回転によっては屈折率勾配が全く発生せずそれ以上のみで発生すると言及したが、回転速度が速い場合、コア中心とクラッド(clad)付近の屈折率差を大きくするには有利であるが、実際には回転速度の速さに従って、密度差のあるモノマー混合物に遠心力場を作ると、濃度勾配はそれに比例して常に生ずるという点を見逃している。
【0009】
また、前記発明は高分子反応において常時発生する体積収縮の問題については全く言及していない。しかし、具体的にはメチルメタクリレートの場合、体積収縮率は20%を超過する。モノマーが重合されて高分子になるとき、体積収縮(volume shrinkage)が発生して遠心力によって作られるプラスチック光ファイバ用母材は中央部に管状の中空が出来る。このような中空を充填するためには追加的なモノマー投入過程が必要なので、実質的には回転を用いた他の母材製造方法に比べて製造時間側面で進歩があるとは言えない。また、体積収縮の発生した母材の中空を充填しながら母材を作るので、この母材を用いて繊維を製造する場合、屈折率の分布において不連続な面が現われ、これは急激な伝送量及び光量の減少をもたらすので、実際利用するには制約がある。しかも、追加投入過程中に微細な埃や空気または水分との接触から発生する外部的な要因による光特性の低下を引き起こす虞もあるので、これを防止するためには追加装備と費用がさらに必要である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、かかる従来の技術の問題点を解決するためのもので、モノマーの追加注入工程が不要である中空防止型反応器を提供することにある。
【0011】
本発明の他の目的は、前記中空防止型反応器を使用し、反応器に充填される反応物(モノマー混合物、プレポリマーまたはポリマーが溶解されたモノマー混合物)の組成比を調節し、或いは反応物の重合度に応じて回転反応器の回転速度を調節するなどの方法によって半径方向への屈折率勾配を調節したプラスチック光ファイバ用母材の製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明の一様態は、(a)反応器全体に反応物を流入させるための反応物流入口を備えた投入部と、(b)前記投入部との間に遮断壁を有し、前記投入部に通じる流路を前記遮断壁の中央に備え、前記投入部と隣接してたがいに結合されており、前記投入部とともに回転する反応部と、(c)反応器の回転時に前記投入部の前記反応物流入口の空間から発生する中空が前記反応部まで続かないように前記反応部の流路と前記投入部の前記反応物流入口との間に設けられ、前記投入部の反応物を前記反応部に迂回させて流れ込ませる1つまたは2つ以上の流路を備えた、1つまたは2つ以上の中空遮断構造とを含む中空防止型反応器を提供する。
【0013】
本発明の他の様態は、前記中空防止型反応器を用いてプラスチック光ファイバ用母材を製造する方法において、(a)反応物を前記反応器の反応部と投入部に充填する段階と、(b)前記反応器を回転させながら前記反応部の反応物を重合させる段階とを含むプラスチック光ファイバ用母材の製造方法を提供する。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、添付図に基づいて本発明をより詳しく説明する。
【0015】
図1は本発明の中空防止型反応器の一実施例を示す斜視図で、反応器は円筒状からなり、投入部10と反応部20に区分されている。投入部10は反応物を反応器に流入させるための反応物流入口11を備えており、反応部20は反応物を投入部10から反応部20に流入させるための流路21を備えている。投入部10の反応物流入口11と反応部20の流路21との間には投入部10と反応部20を区分する遮断壁32と中空遮断構造30が設けられ、反応器の回転時に反応物流入口11の空間で発生する中空が反応部20まで続かないようにしている。前記中空遮断構造30には、上部の反応物が中空遮断構造30を介して反応部20へ流れ込むように流路31が設けられている。
【0016】
図2は、前記図1の中空防止型反応器を用いて回転下で反応を行わせる場合、反応部において中空発生が防止される原理を示す流れ図である。反応器の回転が開始すると、投入部の反応物が充填されていない空間から中空が発生する。ところが、発生した中空は、同図に示すように、中空遮断構造によって遮断されて主反応部まで続かない。反応器の回転に伴って反応部の重合が行われることにより、体積収縮が発生するが、このような体積収縮分ほど投入部から反応物が流れ込むことにより、投入部の中空が大きくなり、反応部には中空が形成されない。この際、好ましくは投入部の空いている空間を高圧の不活性気体などで充填加圧して、投入部の反応物が反応部に流れ込むことを助けるのがよい。
【0017】
このような中空防止型反応器は、図1に示す反応器のみに制限されるのではなく、投入部から発生した中空が反応部まで続かないように遮断し、投入部の反応物が反応部へ流れ込まれるように働くものであれば、いずれでもよい。例えば、反応部20と投入部10が図1に示すように一直線状を成すように設けられている反応器だけでなく、反応部の直径と投入部の直径が互いに異なる形の反応器も使用することができる。また、中空遮断構造の形も、前記のような円柱状だけでなく、プレート状にすることができ、中空遮断構造の個数も2つ以上にすることができる。また、投入部が上方に位置し、反応部が下方に位置する形態だけでなく、その逆の形態、或いは反応部が回転軸の中心にあり、投入部がその周りを取り囲む形態も可能である。
【0018】
図3は本発明の中空防止型反応器の変形例を示す。図3の(a)は、図1に示すような中空遮断構造が2つ設けられた場合の反応器を示し、図3の(b)は投入部の反応物流入口と反応部の流路との間にプレート状の中空遮断構造が設けられ、その外郭に多数の流路が設けられた場合を示す。
【0019】
上述した実施例は、本発明の中空防止型反応器を例示するためのもので、本発明を制限するものではない。
【0020】
次に、中空防止型反応器を用いてプラスチック光ファイバ用母材を製造する方法について説明する。
【0021】
本発明のプラスチック光ファイバ用母材は、前記中空防止型反応器に反応物を流入させた後、反応器の回転下で反応部の反応物を重合させる方法によって製造される。この際、製造されるプラスチック光ファイバ用母材の半径方向への屈折率分布を調節するために、反応部及び投入部に充填される反応物の組成や反応器の回転速度などを調節することができる。
【0022】
前記中空防止型反応器を用いてプラスチック光ファイバ用母材を製造する方法としては、より具体的には下記のような実施形態がある。下記の実施形態において別に言及がない限り、反応物は熱開始剤と連鎖移動剤を投入して重合反応を起こすことが可能なモノマー混合物またはプレポリマーまたはポリマーが溶解されたモノマー混合物を指す。
【0023】
本発明の第1実施形態は、反応部と投入部を充填する反応物の組成比を異にして屈折率に差を付けることを特徴とする。まず、屈折率の異なる2種以上のモノマーを用いて組成比の異なる2種の反応物を用意する。次に、反応器の反応部に低屈折率の反応物を充填し、投入部に高屈折率の反応物を充填した後、反応器を変速または定速回転させながら反応部の反応物を重合させる。この際、反応部で反応が行われて体積収縮が発生しても、投入部に充填された高屈折率の反応物が反応部の中心に流入するため、体積収縮は投入部側のみで発生し、且つ反応部中心の屈折率は高くなる。このような体積収縮過程は、重合がかなり進んでから発生するので、反応部の中心に流入した投入部の反応物がポリマーまたはオリゴマー内に半径方向に拡散して、連続的な屈折率勾配を示す。従って、反応部の重合が完全に終結すると、最終的に半径方向に連続的な屈折率勾配を有し、中空のないプラスチック光ファイバ用母材を得ることができる。
【0024】
本発明の第2実施形態は、反応部と投入部に同じ組成の反応物が充填されることを特徴とする。この場合、低屈折率及び高密度のモノマーと高屈折率及び低密度のモノマーとの混合物を用意した後、これを中空防止型反応器の反応部及び投入部に充填する。このように充填された反応器を回転反応装置に装着し、初期には回転しないで反応部に熱を加えて重合させる。重合がある程度行われた後、反応器を定速または変速回転させながら重合を続けると、最終的に半径方向に連続的な屈折率勾配を有し、中空のないプラスチック光ファイバ用母材を得ることができる。本実施形態では、反応部と投入部の反応物の組成を同一にしても、使用されたモノマーの密度の差によって高密度及び低屈折率のモノマーが外郭に拡散し、外郭から中心にくるほど屈折率が高くなる、連続的な屈折率勾配を有するプラスチック光ファイバ用母材を製造することができる。
【0025】
本発明の第3実施形態は、反応部に反応物を一部投入してクラッド部を形成させた後、コア部を形成させることを特徴とする。まず、屈折率の低い組成を有する混合物を用いて反応器の反応部を一部のみ充填した後、反応器を定速回転させながら重合させると、反応部に所望する厚さのクラッド部を形成させることができる。クラッド部が完全に重合してガラス化すると、前記第1実施形態または第2実施形態と同様に、反応部と投入部に、互いに同じ組成或いはそれぞれ異なる組成の反応物を充填し、変速または定速回転下で重合させることにより、半径方向に連続的な屈折率の分布を有し且つ中空形成が防止されたプラスチック光ファイバ用母材を得ることができる。
【0026】
本発明の第4実施形態では、モノマー混合物より屈折率の低い重合体を別に重合させてモノマー混合物内に溶解させ、これを反応部及び投入部に充填して反応を行わせることを特徴とする。このようなモノマーと高分子との混合物を中空防止型反応器に入れて回転させながら重合させると、反応物より相対的に密度の大きい重合体成分が外郭に密集してクラッド部を形成する。従って、本実施形態では、重合体を溶解させたモノマー混合物を反応物に使用することにより、1回の投入過程のみでクラッド部を形成することができ、重合中の発熱を減らすことができ、体積収縮分を減らして安定的な母材製造工程を提供することができるという利点がある。本実施形態においても、前記第1実施形態または第2実施形態と同様に、反応部と投入部に、互いに同じ組成或いはそれぞれ異なる組成の反応物を充填して変速または定速回転下で重合させることにより、半径方向に連続的な屈折率分布を有し且つ中空形成が防止されたプラスチック光ファイバ母材を得ることができる。
【0027】
本発明の第5実施形態は、モノマー混合物と共にプレポリマー成分を混用して使用することを特徴とする。まず、モノマー混合物より屈折率の低いプレポリマーを用意する。用意されたプレポリマー成分をモノマー混合物と混合して反応部及び投入部に充填したり、モノマー混合物と混合せずにプレポリマーのみを使用して反応部の一部を充填しモノマー混合物をその上に充填する方式で反応器を充填した後、定速または変速回転させながら重合させることで、半径方向に連続的な屈折率分布を有し且つ中空のないプラスチック光ファイバ母材を得ることができる。この場合、同様に投入部と反応部を充填する反応物の組成比をそれぞれ異にすることができる。この際、前記プレポリマーの粘度は500〜500,000cps(25℃)であることが好ましく、より好ましくは1,000〜10,000cps(25℃)である。粘度が500cps未満の場合にはプレポリマー添加の効果を得るのが難しく、500,000cpsを超える場合には粘度が高すぎて多くのバブルが発生し、投入時間が長くて安定性及び再現性の保障を受けることができない。
【0028】
このようにプレポリマーを投入する場合にも、重合された高分子を溶解させて使用した第4実施形態と同様に、1回の投入過程のみでクラッド部を形成すること、重合中の発熱を減らすことができ、体積収縮分を減らして安定的な母材製造工程を提供することができるという効果がある。
【0029】
本発明の第6実施形態は、重力の影響によって発生する母材の長手方向への屈折率勾配を除去するために、反応器を水平面に対して−90〜90°の範囲で傾けて反応を行なうことを特徴とする(図5参照)。
【0030】
図4は垂直な回転反応器内で中空が形成される状態を示す断面図である。中空防止型反応器の場合も、最初に反応部に充填された反応物が重合すると、体積収縮分がある。従って、反応部に仮想的に発生するメニスカス(meniscus)の形状を考慮すれば、投入部から反応部に流れ込む反応物の量を予測することができるので、屈折率分布の様相に対する大略的な基準とすることができると共に、母材の長手方向に形成された屈折率勾配の均一性に対する基準とすることができる。前記反応器に形成される中空の形状は数式1で表現される。
【0031】
【数1】
Figure 0003868339
【0032】
式中、Ωは回転速度(rad/s)、gは重力定数(約9.8m/s2)、z0は仮想的なメニスカスが反応器の下方までできたと仮定する場合、反応器の下方にできたメニスカスの高さに該当する値である。
【0033】
最初に回転反応器に反応物をいっぱい充填したとしても、体積収縮が20%で
【0034】
【外1】
Figure 0003868339
【0035】
z=0とz=L’における半径r1とr2は数式2のようである。
【0036】
【数2】
Figure 0003868339
【0037】
前記数式2に示した半径r1とr2を用いて、例えば仮想的に発生する中空の反応器の上端と下端における半径差が全体半径の1%(r2−r1<0.01R)以下となるための条件を計算すると、数式3のようである。
【0038】
【数3】
Figure 0003868339
【0039】
数式3から分るように、回転速度が速いほど長手方向への屈折率勾配の均一性を得るのに有利であるが、重力方向に対する高さL’を小さくしても、長手方向への屈折率の均一性を得ることができる。重力方向に対する高さL’を小さくするために、図5に示すように、反応器を傾けて実施する方法があるが、この際、角度θが小さいほどL’が小さくなり、回転速度の制限なしで母材の長手方向の屈折率勾配を均一にすることができる。
【0040】
上述した本発明の全ての実施形態において、重合が行われながら生ずる体積収縮による中空は、投入部のみで発生し、投入部に充填される反応物の体積は、最終的に体積収縮が完了する時点で、投入部に形成された中空の直径が中空遮断構造の直径より小さくなるように調節されなければならない。すると、体積収縮中に投入部から拡大された中空が中空遮断構造を介して反応部に侵入する現象を防ぐことができる。
【0041】
一方、反応器の投入部の空所にアルゴンのような不活性気体を充填、加圧することが、投入部から反応部への反応物の流入を助けるため、反応部における中空形成を防止し、重合反応が安定的に行われるのに有利であるうえ、加圧時にモノマーの融点を高めるので、高温で反応を行わせることができる。これにより、反応時間を短縮し、未反応物の形成を防止して気泡の形成を防止する。この際、中空防止型反応器がガラス、石英、セラミックまたはプラスチックのような破損し易い物質で形成される場合、その破損可能性によって反応器の内部を4bar以上で加圧させるのが難しい。この場合、前記中空防止型反応器の外部を同一に加圧することにより、その加圧程度を10bar程度まで高めることができる。
【0042】
図6は中空防止型反応器の内部及び外部を同時に加圧することができる装置の一例を示す断面図である。加圧のために回転反応装置の上部に位置したクイックコネクタ(quick connector)1によってアルゴンガスタンクを連結した後、高さの調節が可能な栓部2を引き上げた状態で加圧路3を介してアルゴンガスを高圧として中空防止型反応器5の内部及び反応装置6の内部を同時に加圧した後、栓部を押下してOリングを圧押する段階によって中空防止型反応器の内部及び外部に対する加圧充填が同時に行われる構造である。
【0043】
本発明は、原理的に、反応部では体積収縮による中空は形成されないが、ラジカル反応の特性上、発熱によるモノマーの気化現象が一部あり、このような現象が反応部で発生すると、モノマーの気化した気泡が回転によって中空になる場合がある。前述したように、投入部を加圧して回転を変速にすると、気泡が投入部側に通り抜けて中空形成のない母材の製造に有利に作用する。
【0044】
上述した本発明の全ての実施形態において、反応部の重合反応は熱重合またはUV重合によって行われる。図7はUV重合を用いて反応を行なう概念を示す断面図である。UV重合を用いる場合、反応開始剤として熱重合開始剤に代えて光重合開始剤を使用する。UVを使用する場合、反応器の温度を高くする必要がないので、モノマーの気化による中空の形成可能性が一層低く、反応部のみにUVが照射されるので、反応部の体積収縮中に投入部の反応物がガラス化して反応物の供給が止まる現象が無くて、より安定的なプラスチック光ファイバ用母材を製造する方法を提供することができる。
【0045】
上述した本発明の全ての実施形態において、より良好な屈折率分布を誘導するために、反応器の回転速度に様々な変化を与えることができるが、単純な回転及び停止の繰返しだけでなく、振幅と周期を異にする三角関数のような変化する速度関数をもつようにすることができる。
【0046】
一般に重合反応のための熱伝達を円滑にするためには、母材の半径は約1〜10cmにすることが好ましく、且つ母材の長さは通常の熱延伸(thermal drawing)工程に適するように約100cm以内とすることが好ましい。
【0047】
本発明で使用される屈折率の異なる2種のモノマーは、具体的に、メチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、1−メチルシクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、1−フェニルエチルメタクリレート、1,2−ジフェニルエチルメタクリレート、ジフェニルメチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、1−フェニルシクロヘキシルメタクリレート、ペンタクロロフェニルメタクリレート、ペンタブロモフェニルメタクリレート、スチレン、TFEMA(2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート)、PFPMA(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート)、HFIPMA(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート)、及びHFBMA(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルメタクリレート)からなる群よりそれぞれ選択されることができるが、これに限定されない。
【0048】
また、前記本発明の第4実施形態において母材を製造する際に投入される高分子としては、単独重合体または共重合体を使用することができる。このような単独重合体(homopolymer)としては、具体的に、メチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、1−メチルシクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、1−フェニルエチルメタクリレート、1,2−ジフェニルエチルメタクリレート、ジフェニルメチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、1−フェニルシクロヘキシルメタクリレート、ペンタクロロフェニルメタクリレート、ペンタブロモフェニルメタクリレート、スチレン、TFEMA(2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート)、PFPMA(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート)、HFIPMA(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート)及びHFBMA(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルメタクリレート)からなる群より選択された1種のモノマーの単独重合体を挙げることができるが、これに限定されない。
【0049】
また、共重合体としては、具体的に、メチルメタクリレート(MMA)−ベンジルメタクリレート(BMA)共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体(SAN)、MMA−TFEMA(2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート)共重合体、MMA−PFPMA(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート)共重合体、MMA−HFIPMA(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート)共重合体、MMA−HFBMA(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルメタクリレート)共重合体、TFEMA−PFPMA共重合体、TFEMA−HFIPMA共重合体、スチレン−メチルメタクリレート(SM)共重合体、及びTFEMA−HFBMA共重合体からなる群より選択された共重合体を挙げることができるが、これに限定されない。
【0050】
また、前記本発明の第5実施形態において、混用可能なプレポリマーとしては、具体的に、メチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、1−メチルシクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、1−フェニルエチルメタクリレート、1,2−ジフェニルエチルメタクリレート、ジフェニルメチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、1−フェニルシクロヘキシルメタクリレート、ペンタクロロフェニルメタクリレート、ペンタブロモフェニルメタクリレート、スチレン、TFEMA(2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート)、PFPMA(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート)、HFIPMA(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート)、及びHFBMA(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルメタクリレート)からなる群より選択された2つ以上のモノマーからなる共重合体を挙げることができるが、これに限定されない。
【0051】
また、前記本発明でモノマーを重合させるために投入される熱重合開始剤としては、具体的に、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)(2,2'-azobis(isobutyronitrile))、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)(1,1'-azobis(cyclohexanecarbonitrile))、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile))、2,2’−アゾビス(メチルブチロニトリル)(2,2'-azobis(methylbutyronitrile))、t−ブチルペルオキシド(t-butyl peroxide)、アセチルペルオキシド(acetyl peroxide)、ラウロイルペルオキシド(lauroyl peroxide)、ベンゾイルペルオキシド(benzoyl peroxide)、t−ブチルヒドロペルオキシド(t-butyl hydroperoxide)、アゾ−t−ブタン(azo-t-butane)、アゾ−n−ブタン(azo-n-butane)及びt−ブチルペルアセテト(t-butyl peracetate)からなる群より選択された1種以上の物質を使用することができるが、これに限定されない。
【0052】
また、前記本発明でモノマーを重合させるために投入される光重合開始剤としては、具体的に、4−(p−トリルチオ)ベンゾフェノン(4-(p-tolylthio)benzophenone)、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone)及び2−メチル−4’−(メチルチオ)−2−モルホリノ−プロピオフェノン(2-methyl-4'-(methylthio)-2-morpholino-propiophenone)からなる群より選択された1種以上の物質を使用することができるが、これに限定されない。
【0053】
また、前記本発明でモノマー混合物に添加される連鎖移動剤(chain transfer agent)としては、n−ブチルメルカプタン(n-butyl mercaptan)、ラウリルメルカプタン(lauryl mercaptan)及びドデシルメルカプタン(dodesyl mercaptan)からなる群より選択された1種以上の物質を使用することができるが、これに限定されない。
【0054】
前記製造方法によって製造されるプラスチック光ファイバ用母材は、必要に応じて熱延伸(thermal drawing)過程を経て所望の直径の屈折率分布型プラスチック光ファイバに変換させることができ、比較的太いストランド(strand)状にして屈折率分布型レンズ及び画像伝達用イメージガイドにも適用することができる。
【0055】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、下記実施例は本発明の例示に過ぎず、本発明を制限するものではない。
【0056】
【実施例】
実施例で使用された中空防止型反応器は、図1に示すような形態を有するもので、直径が40mm、上側投入部の高さが100mm、下側反応部の高さが120mm、反応物流入口の高さが25mmである円筒形反応器を使用した。反応溶液は、互いに異なる密度及び屈折率を有するモノマーの2成分または3成分以上の一組としてスチレンモノマー(styrene monomer:以下「SM」という)、メチルメタクリレート(methyl methacrylate:以下「MMA」という)、及びトリフルオロエチルメタクリレート(trifluoroethyl methacrylate:以下「TFEMA」という)を利用した。熱重合開始剤としては2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)(2,2'-azobis(isobutyronitrile):以下「AIBN」という)をMMA−SM反応に使用し、t−ブチルペルオキシベンゾエート(t-butyl peroxybenzoate:以下「t−BPOB」という)をMMA−TFEMA反応に使用し、連鎖移動剤としては1−ブタンチオール(1-butanethiol:以下「1−BuSH」という)を使用した。UVによる光開始反応を用いる場合、光重合開始剤として4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone:以下「DMABP」という)を使用した。
【0057】
本発明において、プラスチック光ファイバの光損失は、厚さ1mmの光ファイバを引き出して660nm光源の光パワーメーター(optical power meter)で測定した。
【0058】
(実施例1)
SMとMMAを20:80の質量%比で混合したモノマー混合物150gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を用意し、この溶液を前記中空防止型反応器の下側反応部に一杯に充填した。次に、SM及びMMAを40:60の質量%比で混合したモノマー混合物110gとAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を上側投入部に85mmの高さまで投入した。投入部の空所には99.999%のアルゴンガスを1barで加圧充填し、栓を閉めた後、12時間は2,500rpmの速度で回転させながら70℃で加熱して反応を行わせ、12時間以後からは5分間は停止し10分間は2,500rpmで回転させる変速回転を数十回繰り返し行なった。このような製造方法により、最終的に中空のないプラスチック光ファイバ用母材を製造した。光パワーメーターで測定した光損失は300dB/kmであった。
【0059】
(実施例2)
SMとMMAを30:70の質量%比で混合したモノマー混合物260gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を用意し、その溶液を前記中空防止型反応器の下側反応部と上側投入部の85mmに至る高さまで充填した。投入部の空所には99.999%のアルゴンガスを1barで加圧充填し、栓を閉めた後、12時間は2,500rpmの速度で回転させながら70℃で加熱して反応を行わせ、12時間以後からは5分間は停止し10分間は2,500rpmで回転させる変速回転を数十回繰り返し行なった。このような製造方法により、最終的に中空のないプラスチック光ファイバ用母材を製造した。光パワーメーターで測定した光損失は300dB/kmであった。
【0060】
(実施例3)
MMA50gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を用意し、中空防止型反応器に前記反応溶液を下側反応部の40mmに至る高さまで充填した後、アルゴンガスを満たして2,500rpmの回転速度及び70℃の温度で12時間反応させてクラッド層を形成した。次に、SM及びMMAを20:80の質量%比で混合したモノマー混合物110gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を70℃で加熱して下側反応部に投入し、SM及びMMAを40:60の質量%比で混合したモノマー混合物110gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を上側投入部に70℃で加熱して投入部の高さ85mmまで投入した。投入部の空所には99.999%のアルゴンガスを1barで加圧充填し、栓を閉めた後、12時間は2,500rpmの速度で回転させながら70℃で加熱して反応を行わせ、12時間以後からは5分間は停止し10分間は2,500rpmで回転させる変速回転を数十回繰返し行なった。このような製造方法により、最終的に中空のないプラスチック光ファイバ用母材を製造した。光パワーメーターで測定した光損失は260dB/kmであった。
【0061】
(実施例4)
MMA50gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を用意して70℃で24時間重合させて得た重合体を、SM及びMMAを20:80の質量%比で混合したモノマー混合物110gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液に溶かした後、反応部を満たすように投入した。その後、SM及びMMAを40:60の質量%比で混合したモノマー混合物110gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を上側投入部に70℃で加熱して高さ85mmまで投入した。投入部の空所には99.999%のアルゴンガスを1barで加圧充填し、栓を閉めた後、投入後12時間は2,500rpmの速度で回転させながら70℃で加熱して反応を行わせ、12時間以後からは5分間は停止し10分間は2,500rpmで回転させる変速回転を数十回繰返し行なった。このような製造方法により、最終的に中空のないプラスチック光ファイバ用母材を製造した。光パワーメーターで測定した光損失は250dB/kmであった。
【0062】
(実施例5)
MMA50gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を用意して70℃で24時間重合させて得たプレポリマーをまず反応部に40mmの高さまで投入し、SM及びMMAを20:80の質量%比で混合したモノマー混合物110gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を残りの反応部に満たした。その後、SM及びMMAを40:60の質量%比で混合したモノマー混合物110gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を上側投入部に投入した。投入部の空所には99.999%のアルゴンガスを1barで加圧充填し、栓を閉めた後、9時間は2,500rpmの速度で回転させながら70℃で加熱して反応を行わせ、9時間以後からは5分間は停止し10分間は2,500rpmで回転させる変速回転を数十回繰返し行なった。このような製造方法により、最終的に中空のないプラスチック光ファイバ用母材を製造した。光パワーメーターで測定した光損失は230dB/kmであった。
【0063】
(実施例6)
SMとMMAを30:70の質量%比で混合したモノマー混合物260gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を用意した。中空防止型反応器に前記反応溶液を投入して下側反応部を一杯に満たした後、同じ溶液を使用して上側投入部には85mmの高さまでいっぺんに投入し、投入部の空所には99.999%のアルゴンガスを1barで加圧充填した。前記反応器を水平面に対して15°に傾けた状態で、12時間は1,000rpmの回転速度で加熱しながら反応を行なわせ、12時間以後からは5分間は停止し10分間は1,000rpmで回転させる変速回転を数十回繰返し行なった。このような製造方法により、最終的に中空のないプラスチック光ファイバ用母材を製造した。光パワーメーターで測定した光損失は290dB/kmであった。
【0064】
(実施例7)
SMとMMAを30:70の質量%比で混合したモノマー混合物260gにDMABP及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を用意した。中空防止型反応器に前記反応溶液を下側反応部及び上側投入部の高さ85mmまでいっぺんに投入し、投入部の空所には99.999%のアルゴンガスを1barで加圧充填した。図7のような形態のUV照射装置で中空防止型反応器にUVを照射させながら12時間は2,500rpmの速度で回転しながら40℃で加熱して反応を行わせ、12時間以後からは5分間は停止し10分間は2,500rpmで回転させる変速回転を数十回繰返し行なった。このような製造方法により、最終的に中空のないプラスチック光ファイバ用母材を製造した。光パワーメーターで測定した光損失は300dB/kmであった。
【0065】
(実施例8)
MMAとTFEMAを70:30の質量%比で混合したモノマー混合物170gにt−BPOB及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.25質量%の濃度になるように混合した溶液を用意した後、前記反応溶液を中空防止型反応器の下側反応部のみに投入し、栓を閉めた後、停止した状態で12時間は70℃で2,500rpmで回転させてクラッド層を形成した。その後、MMAとTFEMAを90:10の質量%比で混合したモノマー混合物150gにt−BPOB及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.25質量%の濃度になるように混合した溶液を70℃で加熱し、まず下側反応部に投入し、次いでMMA12−gにt−BPOB及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を上側投入部に70℃で加熱して高さ85mmまで投入した。投入部の空所には99.999%のアルゴンガスを1barで加圧充填し、栓を閉めた後、12時間は2,500rpmの速度で回転しながら70℃で加熱して反応を行わせ、12時間以後からは5分間は停止し10分間は2,500rpmで回転させる変速回転を数十回繰返し行なった。このような製造方法により、最終的に中空のないプラスチック光ファイバ用母材を製造した。光パワーメーターで測定した光損失は150dB/kmであった。
【0066】
(実施例9)
SMとMMAを10:90の質量%比で混合したモノマー混合物150gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を用意し、この反応溶液を中空防止型反応器に一杯に充填した。次に、SMとMMAを20:80の質量%比で混合したモノマー混合物110gにAIBN及び1−BuSHをそれぞれ0.066質量%、0.2質量%の濃度になるように混合した溶液を上側投入部に85mmの高さまで投入した。図6の回転反応装置に前記中空防止型反応器を装着し、回転装置の栓を締めた後、中空防止型反応器の空所と回転反応器の内部を全て10barのアルゴンガスで加圧充填した。4時間は2,500rpmの速度で回転しながら110℃で加熱して反応を行わせ、4時間以後からは90℃に温度を低めて5分間は停止し10分間は2,500rpmの速度で回転させる変速回転を数十回繰返し行なった。8時間以後、このような製造方法により、最終的に中空のないプラスチック光ファイバ用母材を得た。光パワーメーターで測定した光損失は250dB/kmであった。
【0067】
SMとMMAは相対的反応性が類似しているので、得られた母材は無定形ランダム共重合体(amorphous random copolymer)であり、TFEMAとMMAの場合、反応性はMMAが高いが、前記に例示した全領域の組成比では透明な無定形共重合体が得られた。
【0068】
【発明の効果】
本発明に係る中空防止型反応器を用いて回転下でプラスチック光ファイバ用母材を製造する際、体積収縮による中空の発生を防止して、半径方向に従って連続的な屈折率勾配を有するプラスチック光ファイバ用母材を、反応物の追加投入過程なしで製造することができる新しい方法を提供する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る中空防止型反応器の一例を示す斜視図である。
【図2】 本発明に係る中空防止型反応器の作動原理を示す流れ図である。
【図3】 図3の(a)及び(b)は本発明に係る中空防止型反応器の他の例を示す断面図である。
【図4】 一般的な回転反応器を用いた場合の中空形成状態を示す断面図である。
【図5】 反応器を傾けて反応させる場合を示す簡略図である。
【図6】 中空防止型反応器の内部及び外部に同時に加圧することが可能な装置の一例を示す断面図である。
【図7】 UV開始剤を用いる場合の反応装置の形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
10…投入部
11…反応物流入口
20…反応部
21…流路
30…中空遮断構造
31…流路
32…遮断壁

Claims (21)

  1. (a)反応器全体に反応物を流入させるための反応物流入口を備えた投入部と、
    (b)前記投入部との間に遮断壁を有し、前記投入部に通じる流路を前記遮断壁の中央に備え、前記投入部と隣接してたがいに結合されており、前記投入部とともに回転する反応部と、
    (c)反応器の回転時に前記投入部の前記反応物流入口の空間から発生する中空が前記反応部まで続かないように前記反応部の流路と前記投入部の前記反応物流入口との間に設けられ、前記投入部の反応物を前記反応部に迂回させて流れ込ませる1つまたは2つ以上の流路を備えた、1つまたは2つ以上の中空遮断構造とを含む中空防止型反応器。
  2. 前記中空遮断構造が円柱状またはプレート状であることを特徴とする請求項1記載の中空防止型反応器。
  3. 前記反応器がガラス、石英、セラミックまたはプラスチックで製造されることを特徴とする請求項1記載の中空防止型反応器。
  4. 前記反応器が半径1〜10cm、長さ100cm以下であることを特徴とする請求項1記載の中空防止型反応器。
  5. 請求項1の反応器を用いてプラスチック光ファイバ用母材を製造する方法において、
    (a)反応物を前記反応器の反応部と投入部に充填する段階と、
    (b)前記反応器を回転させながら前記反応部の反応物を重合させる段階とを含むプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  6. 前記投入部の反応物が満たされていない空間に不活性気体を充填して加圧することを特徴とする請求項5記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  7. 前記反応器の内部及び反応器の外部を共に加圧することを特徴とする請求項6記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  8. 前記反応器を定速回転または変速回転させることを特徴とする請求項5記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  9. 前記反応器の変速回転が高速回転と低速回転または停止状態を繰り返す形態、三角関数形態、または周期、位相及び振幅が変化する特定の関数形態の回転速度関数に沿って行なわれることを特徴とする請求項8記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  10. 前記反応物が屈折率の異なる2種以上のモノマー、重合開始剤及び連鎖移動剤の混合物であることを特徴とする請求項5記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  11. 前記反応物が高屈折率及び低密度のモノマー、低屈折率及び高密度のモノマー、重合開始剤及び連鎖移動剤の混合物であり、このモノマー混合物が反応器の投入部及び反応部に同一に充填されることを特徴とする請求項10記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  12. 前記投入部に充填されるモノマー混合物の屈折率が、反応部に充填されるモノマー混合物の屈折率より高いことを特徴とする請求項10記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  13. 前記反応部に充填されるモノマー混合物に、その混合物より屈折率の低い高分子の断片を膨潤または溶解させて使用することを特徴とする請求項10記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  14. 反応部に充填されるモノマー混合物にその混合物より屈折率の低いプレポリマーを混合し、或いは反応部に予め屈折率の低いプレポリマーを充填した後モノマー混合物を充填することを特徴とする請求項10記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  15. 前記モノマーがメチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、1−メチルシクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、1−フェニルエチルメタクリレート、1,2−ジフェニルエチルメタクリレート、ジフェニルメチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、1−フェニルシクロヘキシルメタクリレート、ペンタクロロフェニルメタクリレート、ペンタブロモフェニルメタクリレート、スチレン、TFEMA(2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート)、PFPMA(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート)、HFIPMA(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート)、及びHFBMA(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルメタクリレート)からなる群よりそれぞれ選択されることを特徴とする請求項10記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  16. 前記高分子がメチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、1−メチルシクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、1−フェニルエチルメタクリレート、1,2−ジフェニルエチルメタクリレート、ジフェニルメチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、1−フェニルシクロヘキシルメタクリレート、ペンタクロロフェニルメタクリレート、ペンタブロモフェニルメタクリレート、スチレン、TFEMA(2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート)、PFPMA(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート)、HFIPMA(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート)、及びHFBMA(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルメタクリレート)からなる群より選択されたモノマーの単独重合体であることを特徴とする請求項13記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  17. 前記高分子がメチルメタクリレート(MMA)−ベンジルメタクリレート(BMA)共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体(SAN)、MMA−TFEMA(2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート)共重合体、MMA−PFPMA(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート)共重合体、MMA−HFIPMA(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート)共重合体、MMA−HFBMA(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルメタクリレート)共重合体、TFEMA−PFPMA共重合体、TFEMA−HFIPMA共重合体、スチレン−メチルメタクリレート共重合体、及びTFEMA−HFBMA共重合体からなる群より選択された共重合体であることを特徴とする請求項13記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  18. 前記プレポリマーがメチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、1−メチルシクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、1−フェニルエチルメタクリレート、1,2−ジフェニルエチルメタクリレート、ジフェニルメチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、1−フェニルシクロヘキシルメタクリレート、ペンタクロロフェニルメタクリレート、ペンタブロモフェニルメタクリレート、スチレン、TFEMA(2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート)、PFPMA(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート)、HFIPMA(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート)、及びHFBMA(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルメタクリレート)からなる群より選択された単独または2つ以上のモノマーから構成されたプレポリマーであることを特徴とする請求項14記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  19. 前記プレポリマーが500〜500,000cps(25℃)の粘度を有することを特徴とする請求項14記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  20. 前記反応部の混合物を熱重合またはUV重合させることを特徴とする請求項5記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
  21. 前記反応器を水平面に対して−90〜90°の範囲で傾けて反応させることを特徴とする請求項5記載のプラスチック光ファイバ用母材の製造方法。
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