JP3866670B2 - 液晶シャッタおよびプリントヘッド - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶シャッタおよび液晶シャッタを備えたプリントヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】
デジタルカメラなどにより撮影した電子画像は、そのデジタルデータを用いてインクジェット方式や熱転写方式により、普通紙に対して印刷することができる。一方、感光方式により、デジタルデータとしての画像を感光フィルムに対して印刷することも考えられている。感光方式では、光プリントヘッドにより感光フィルムを露光した後に現像するというプロセスを経て画像が形成される。光プリントヘッドとしては、たとえば照明装置から進行してくる光を透過させるか否かを選択するための液晶シャッタを備えたものが使用されている(たとえば特許文献1参照)。
【0003】
液晶シャッタとしては、たとえば図7および図8に示したように、複数の個別シャッタ部90R,90G,90Bが主走査方向(図中の矢印A1,A2方向)に並んだものが用いられている。液晶シャッタ9は、互いに対向して配置された第1および第2透明基板91a,91bを有している。第1および第2透明基板91a,91bの間には、それらの周縁部に位置するようにリブスペーサ97aが配置されている。このリブスペーサ97aは、第1および第2透明基板91a,91bとともに液晶90を充填するためのセル96を規定するためにものであり、このリブスペーサ97aによってセル96の高さ、すなわちセルギャップが規定されている。セル96には、液晶90とともに、球状スペーサ97bが充填されている。球状スペーサ97bは、リブスペーサ97aによって規定されたセルギャップを安定化させるためのものである。
【0004】
第1透明基板91aには、第2透明基板91bに対向する面に、SiO2膜92aを介して第1透明電極93aが形成されている。SiO2膜92aは、第1透明基板91aに対する第1透明電極93aの密着性を高めるためのものである。第1透明電極93aは、たとえばITO膜を形成した後に、ITO膜にエッチィング処理を施すことにより目的とするパターンに形成されている。
【0005】
第2透明基板91bには、第1透明基板91aに対向する面に、開口部94aを備えた金属遮光膜94が形成されている。この金属遮光膜94は、開口部94aにおいて選択的に光を透過させるためのものである。開口部94aには、赤色光、緑色光または青色光を選択的に透過させるためのカラーフィルタ98R,98G,98Bが配置されている。第2透明基板91bにはさらに、カラーフィルタ98R,98G,98Bを覆うようにして形成された平滑化膜95およびSiO2膜92bを介して第2透明電極93bが形成されている。第1透明電極93aと第2透明電極93bとが交差する部分は、液晶シャッタ部90R,90G,90Bを構成している。平滑化膜95は、カラーフィルタ98R,98G,98Bを設けることにより生じる段差を吸収し、平滑な面を設定するためのものであり、SiO2膜92bは、平滑化膜95に対する第2透明電極93bの密着性を高めるためのものである。第2透明電極93bは、第1透明電極93aと同様に、たとえばITO膜を形成した後に、ITO膜にエッチィング処理を施すことにより目的とするパターンに形成されている。
【0006】
第2透明基板92bは、第1透明基板92aよりも寸法が大きくされている。第2透明電極93bは、第2透明基板92bにおける第1透明基板92aからはみ出した部分にまで延びており、第2透明基板92bには、第2透明電極92bに導通するようにして駆動IC99aが実装されている。駆動IC99aは、信号電極99cを介してフレキシブルケーブル99bと接続されている。
【0007】
【特許文献1】
特開2000−280527号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、液晶シャッタ9では、平滑化膜95が設けられているために、次に説明するような不具合が生じうる。
【0009】
平滑化膜95は、通常、透明樹脂により形成されており、比較的に軟質なものとされている。そのため、液晶90に分散させた球状スペーサ97bが平滑化膜95に食い込んでしまうことがある。このような現象は、セル96内における各所において生じる可能性があり、球状スペーサ97bが食い込んだ部分に関しては、セルギャップが小さくなる。したがって、セルギャップが目的通りに規定されている部分と、セルギャップが小さくなった部分とでは、同一の電圧を与えたとしても、結果として与えられる電界強度が異なったものとなる。その結果、個別シャッタ部90R,90G,90B相互での透過率にバラツキが生じる。また、球状スペーサ97bは、液晶90に均一に分散されているわけではないので、そのような分散の不均一さが透過率のバラツキを助長することとなる。
【0010】
高速印刷を達成するためには、液晶シャッタ9を高速で駆動すべく、セルギャップを小さくする必要が生じる。ところが、セルギャップを小さくすれば、球状スペーサ97bが平滑化膜95に食い込むことによるセルギャップの変化の影響が相対的に大きくなるため、セルギャップが小さく設定された液晶シャッタでは、透過率のバラツキがより大きなものとなる。
【0011】
第2透明電極93bは、SiO2膜92bによって平滑化膜95との密着性が高められているが、SiO2膜92bと平滑化膜95との密着性は十分なものとは言い難い。そのため、第2透明電極93bを形成する際のエッチィング処理によりオーバーエッチが生じ、第2透明電極93bが目的とするパターンに比べて小さくなってしまうことがある。この場合、オーバーエッチが生じた部分と、オーバーエッチが生じていない部分とでは、個別シャッタ部90R,90G,90Bの大きさが異なったものとなり、またオーバーエッチが生じた部分に該当する個別シャッタ部90R,90G,90Bでは開口率が小さくなる結果、透過効率が低減する。また、カラーフィルタ98R,98G,98Bにより生じた段差をより確実に吸収するためには、平滑化膜95の厚みを比較的に大きく設定せざるを得ない。この場合、平滑化膜95での光吸収量が大きくなり、透過効率がさらに悪化する。
【0012】
透過効率の悪化を補償し、感光フィルムに照射される光量を十分に確保するためには、照明装置からの出射光量を大きくし、あるいは感光フィルムに対する照射時間を長く設定する必要がある。これらの対策では、消費電力が大きくなってランニングコスト的に不利であるばかりか、照射時間を長く設定する方法では印刷時間が長くなるといった問題を生じる。
【0013】
また、SiO2膜92bと平滑化膜95との密着性が十分ではないために、これらの界面に応力が作用した場合に、平滑化膜95からSiO2膜92bとともに第2透明電極93bや信号電極99cは剥がれてしまう虞れがある。そのため、駆動IC99aやフレキシブルケーブル99bの実装信頼性が低くなってしまう。また、駆動IC99aやフレキシブルケーブル99bを実装する前に第2透明電極93bや信号電極99cにおける実装面を物理的に擦ってクリーニングする場合や駆動IC99aやフレキシブルケーブル99bを実装し直すときに駆動IC99aやフレキシブルケーブル99bを除去した場合には、第2透明電極93bや信号電極99cが剥がれ、駆動IC99aやフレキシブルケーブル99bが実装できないことがある。
【0014】
このような問題を解決するためには、駆動IC99aやフレキシブルケーブル99bが実装される部分に関しては、第2透明基板91bとSiO2膜92bとの間に平滑化膜95を介在させないようにする必要がある。このため、平滑化膜95の形成時にパターンプロセスを追加し、平滑化膜95を形成すべき領域を選択する必要が生じるため、作業効率が悪化し、製造コスト的に不利なものとなる。
【0015】
本発明は、このような事情のもとに考えだされたものであって、感光性記録媒体に対して光照射を行うプリントヘッドなどに使用される液晶シャッタにおいて、シャッタ部相互の出射光量のバラツキを抑制するとともに、高速印刷の達成を阻害しないようにし、製造コストおよびランニングコストを抑制できるようにすることを課題としている。
【0016】
【発明の開示】
上記した課題を解決するため、本発明では、次の技術的手段を講じている。すなわち、本発明の第1の側面により提供される液晶シャッタは、互いに対向して配置された第1および第2透明基板と、上記第2透明基板における上記第1透明基板に対向する面に、上記第1透明基板から上記第2透明基板に向けた光の入射を制限するために形成された遮光膜と、上記遮光膜に積層された透明電極と、を備えた液晶シャッタであって、上記遮光膜は、厚さが3000Å以下に形成されており、この遮光膜には、上記第1透明基板を透過してきた光を選択的に上記第2透明基板へ入射させるための、第1の方向に所定幅で直線状に延びる1つの開口部が形成されているとともに、上記開口部の縁部がテーパ状に形成されており、かつ、上記透明電極は、それぞれが上記第1の方向と直交する第2の方向に延び、かつ上記第1の方向に並ぶ複数のものが、上記遮光膜に対して、上記開口部を上記第2の方向にまたぐようにして、単一の絶縁層を介して積層されていることを特徴としている。上記遮光膜の厚さは、好ましくは2000〜3000Åに形成される。遮光膜の厚さが3000Å以下の薄膜にされることによって、遮光膜に開口部を形成することによって生じる段差を小さくすることができる。さらに、遮光膜における開口部の縁部がテーパ状に形成されることにより、遮光膜の開口部において生じる段差を平滑に覆うことができる。また、遮光膜の形成は、上述した厚さにできるのであればとくに限定されず、たとえば蒸着やスパッタにより行われる。また、上記開口部の縁部をテーパ状に形成する方法としては、たとえばリフトオフあるいはテーパエッチがあげられる。
【0017】
好ましくは、透明電極、遮光膜および絶縁層は、無機物により形成される。
【0018】
絶縁層は、たとえば無機酸化物により形成される。無機酸化物としては、SiO2あるいはTa2O5を使用するのが好ましい。
【0019】
絶縁層は、たとえば厚さが2000Å以下、好ましくは1000〜2000Åに形成される。
【0020】
絶縁層の形成方法は、絶縁層を2000Å以下に形成できるのであれば、とくに限定されないが、ディップコート、バイアススパッタ、あるいはプラズマCVDを用いるのが好ましい。
【0021】
遮光膜は、たとえば金属材料により形成される。金属材料としては、たとえばクロム、モリブデン、タングステン、ニッケル、ゲルマニウム、金あるいはアルミニウムが使用できる。好ましくは、少なくとも遮光膜の表面が光吸収性の高い材料により構成され、たとえば表面が酸化クロムにより形成される。
【0024】
本発明の第2の側面においては、本発明の第1の側面に係る液晶シャッタを備えたことを特徴とする、プリントヘッドが提供される。
【0025】
本発明のプリントヘッドは、上記第1透明基板に重ねて配置した導光部を介して赤色、緑色、青色の光を個別に出射可能な照明装置を備えていることが好ましい。これにより、カラーフィルタを使用しない液晶シャッタを用いることができる。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施の形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【0027】
図1は、本発明に係るプリントヘッドの一例を示す分解斜視図、図2は、このプリントヘッドの断面図、図3は、このプリントヘッドに用いられる照明装置の分解斜視図、図4は、このプリントヘッドに用いられる液晶シャッタの断面図、図5は、この液晶シャッタの遮光膜の構成を説明するための部分断面図、図6は、この液晶シャッタの要部平面図である。
【0028】
図1および図2からわかるように、プリントヘッドXは、図1の矢印C1,C2方向に線状の光を出射するための照明装置4、この照明装置4から出射される光の透過・非透過を選択するための液晶シャッタ5、この液晶シャッタ5から出射される光を図1の矢印B1方向(副走査方向)に90度曲げるための反射部材15、この反射部材15において反射して進行する光を効率良く集光するためのロッドレンズアレイ2、ロッドレンズアレイ2から出射される光を矢印C2方向に90度曲げ、たとえば感光フィルムに光を出射するためのプリズム3、およびこれらを保持するためのフレーム1を有している。このプリントヘッドXは、反射部材15およびプリズム3を用いることによって液晶シャッタ5から出射された進行する光の進行方向を折り曲げ、ロッドレンズアレイ2をその光軸が矢印B1、B2方向(水平方向)を向くように配置して、全体の厚さ方向寸法が短縮されるように構成されている。
【0029】
フレーム1の上面側には、液晶シャッタ5を載置するための平面視でコの字状をした載置部11が図1の矢印B2側に形成されており、これに隣接して矢印A1,A2方向(主走査方向)に延びる第1保持部12が形成されている。さらに、矢印B1側には、第1保持部12に近接して矢印A1,A2方向に延びる第2保持部13が設けられている。
【0030】
第1保持部12は、矢印B1,B2方向(水平方向)に対して45度傾斜した傾斜面14を有しており、この傾斜面14に密着して平面状の反射部材15が保持されている。反射部材15は、その表面において光を正反射できるように鏡面とするのが好ましく、たとえば表面がアルミニウムにより構成される。
【0031】
一方、第2保持部13は、水平状となっており、その上面にロッドレンズアレイ2が保持されている。このロッドレンズアレイ2は、照明装置4から出射され、液晶シャッタ5を透過してきた光を効率良く集光し、プリズム3へ出射するためのものであり、また複数の貫通孔21が形成されたホルダ22に対して、その貫通孔21内にロッドレンズ23を保持させた構成を有している。各ロッドレンズ23は、その軸心が図1の矢印B1,B2方向(副走査方向)に延びるとともに、複数のロッドレンズ23が主走査方向A1,A2に並ぶように配置されている。本実施の形態では、ロッドレンズ13は、正率等倍像を形成するように構成されている。
【0032】
フレーム1は、副走査方向B1側に開放しており、この部分に上記のプリズム3が保持される。このプリズム3は、光入射面31、光反射面32および光出射面33を有している。このようなプリズム3では、反射部材15において反射した光が光入射面31から入射した後に光反射面32において反射することによって進行方向が90度変えられ、光出射面33から出射する。このようなプリズム3は、空気よりも屈折率の大きな材料、たとえば透明なガラスやアクリル樹脂により形成される。
【0033】
照明装置4は、線状に光を出射するためのものである。図2および図3に良く表れているように、この照明装置4は、第1および第2遮光部40,41、導光部42および光源装置43を有しており、第1および第2遮光部40,41によって形成される空間内に、導光部42および光源装置43が配置されたものである。光源装置43から出射された光は、導光部42を介して第1遮光部40に形成された開口部401から液晶シャッタ5へ出射される。
【0034】
光源装置43は、絶縁基板45上に個別に点灯・消灯可能な3つの点光源43R,43G,43Bが搭載されたものである。これらの点状光源43R,43G,43Bは、LEDのベアチップとして構成されている。点状光源43Rは赤色光を発するものであり、点状光源43Gは緑色光を発するものであり、点状光源43Bは青色光を発するものである。これらの点状光源43R,43G,43Bには、上面および下面に電極(図示略)が形成されている。上面電極は、たとえばITOにより透明電極として形成されている。
【0035】
絶縁基板45上には、個別配線44R,44G,44Bおよび共通配線44Cが形成されている。個別配線44R,44G,44B上には、各点状光源43R,43G,43Bの下面電極が導通接続されている。各点状光源43R,43G,43Bの上面電極は、たとえば導体ワイヤを介して共通配線44Cと接続されている。これらにより各点状光源43R,43G,43Bが個別に駆動可能とされている。
【0036】
図4に良く表れているように、液晶シャッタ5は、液晶58を挟んで対向するように配置された第1および第2透明基板50,51を有している。第1透明基板50における第2透明基板51との対向面501には、絶縁層53aが形成されている。絶縁層53aは、光透過性を有するものであり、その材料としては、たとえばSiO2あるいはTa2O5が使用される。絶縁層53aは、たとえばディップコート、バイアススパッタあるいはプラズマCVDにより形成することができる。第2透明基板51の対向面501には、コモン電極54aが形成されており、コモン電極54aは矢印A1,A2方向に延びるように帯状に形成されている。コモン電極54aは、たとえばITOにより透明電極として形成されており、ITO膜にエッチィング処理を施すことにより目的とするパターンに形成されている。
【0037】
一方、第2透明基板51は、第1透明基板よりも寸法が大きくされており、第1透明基板50から矢印B1方向にはみ出した外延部510を有している。第2透明基板51における第1透明基板50との対向面511には、遮光膜52が形成されている。この遮光膜52は、たとえば厚みが3000Å以下、より好ましくは2000〜3000Åの薄膜に形成されている。図4ないし図6に示したように、遮光膜52には、矢印A1,A2方向に延びる開口部524が形成されており、この開口部524は照明装置4における第1遮光部40の開口部401と対応している。遮光膜52の開口部524における縁部525は、リフトオフまたはテーパエッチなどの手法によりテーパ状に形成されている。この遮光膜52は、たとえば第2透明基板51の対向面511に、酸化クロム層521、クロム層522、酸化クロム層523がこの順序で積層された3層構造とされている。各層521,522,523は、蒸着またはスパッタリングなどの手法により形成することができる。なお、この遮光膜52は、クロムおよび酸化クロム以外の金属材料により形成されてもよく、金属材料としては、たとえばモリブデン、タングステン、ニッケル、ゲルマニウム、金またはアルミニウムが使用できる。また、遮光膜52は、上述した金属材料以外に、遮光性を有する無機物により形成されてもよい。
【0038】
遮光膜52の上面には絶縁層53bが形成されている。絶縁層53bは、光透過性を有しており、たとえばSiO2あるいはTa2O5などの無機酸化物を材料として、ディップコート、バイアススパッタあるいはプラズマCVDにより形成することができる。上記したように、遮光膜52は、厚さが3000Å以下の薄膜に形成されているために、開口部524において生じる段差が小さくなる。さらに、開口部524の縁部525がテーパ状に形成されているために、遮光膜52に対する絶縁層53bの良好なステップカバレッジを得ることができる。そのため、絶縁層53bの厚みを薄くすることができ、絶縁層53bはたとえば厚みが2000Å以下、より好ましくは1000〜2000Åの薄膜に形成されている。
【0039】
絶縁層53bの上面には、複数のセグメント電極54bが形成されており、複数のセグメント電極54bは、矢印A1,A2方向に等間隔をなして並ぶように形成されている。セグメント電極54bは、たとえばITOにより透明電極として形成されており、ITO膜にエッチィング処理を施すことにより目的とするパターンに形成されている。図6に示したように、複数のセグメント電極54bは、コモン電極54aと一連に交差する部分を有している。コモン電極54aとセグメント電極54bとが交差する部分は、複数の個別シャッタ部55を構成している。これらのシャッタ部55は、第1遮光部40の開口部401の直下領域において、矢印A1,A2方向に列状に並んでいる。
【0040】
上述したように、液晶シャッタ5において、遮光膜52の厚みが3000Å以下の薄膜に形成され、かつ遮光膜52の開口部524における縁部525がテーパ状に形成されているために、絶縁層53bを、厚みが2000Å以下の薄膜に形成することができる。そのため、絶縁層53bにおいて光の吸収を小さくすることができ、透過率の低下を抑制することができる。さらに、セグメント電極54bと遮光膜52との密着性は、セグメント電極54b、絶縁層53bおよび遮光膜52が無機物により形成されているために、樹脂製の平滑化膜を用いていた場合よりも高くなり、セグメント電極54bが剥がれにくくなる。その結果、セグメント電極54bを形成する際のエッチィング処理により生じるオーバーエッチを抑制することができる。したがって、各シャッタ部55における大きさのバラツキおよび開口率の低減を抑制することができ、ひいては透過効率の低減を抑制することができる。さらに、液晶シャッタ5は、平滑化膜がないために、光が平滑化膜に吸収されることがない。したがって、光の透過効率が良くなるために照明装置4からの出射光量を小さくでき、ひいては消費電力が小さくなってランニングコストが有利になる、あるいは照明装置4からの照射時間を短くすることができるために、印刷時間が短くなる。
【0041】
第1および第2透明基板50,51の間には、それらの周縁部に位置するようにリブスペーサ56Aが配置されている。このリブスペーサ56Aは、第1および第2透明基板50,51とともにセル57を規定しており、リブスペーサ56Aによりセルの高さ、すなわちセルギャップが規定されている。このセル57には、液晶58とともに、球状スペーサ56Bが充填されている。液晶58としては、強誘電性液晶、反強誘電性液晶あるいはネマチック液晶を用いることができる。なお、液晶としてネマチック液晶を使用する場合には、コモン電極54aおよびセグメント電極54bを個別に覆うようにして配向膜が設けられる。
【0042】
図2に示したように、第1透明基板50の非対向面502および第2透明基板51の非対向面512には偏光膜503,513が設けられている。これらの偏光膜503,513は、その偏光軸がたとえば互いに直行するように配置されている。したがって、たとえば偏光膜503を透過して液晶58を透過する光は、閾値以上の電圧が印加されたシャッタ部55については偏光方向が90度変えられて偏光膜513を透過することができる。これに対して、印加電圧が小さい(ゼロを含む)シャッタ部55については、光の偏光方向が変えられないために偏光膜513を透過することができない。その結果、シャッタ部55に対する電圧の印加状態を制御することにより、液晶シャッタ5において、シャッタ部55毎に光の透過・非透過を選択することができる。
【0043】
図4から良くわかるように、第2透明電極54bは、第2透明基板51における外延部510にまで延びており、第2透明基板51の外延部510には、セグメント電極54bに導通するようにして駆動IC59が実装されている。駆動IC59は、信号電極592を介してフレキシブルケーブル591が接続されている。このフレキシブルケーブル591により、駆動IC59に対して電力供給や各種信号の供給が行われる。
【0044】
上述したように、この液晶シャッタ5において、遮光膜52と絶縁層53bとの間に樹脂製の平滑化膜が介在しておらず、遮光膜52、絶縁層53bおよびセグメント電極54bが無機物により形成されているために、セグメント電極54bおよび信号電極592と遮光膜52との密着性は高くなる。そのため、駆動IC59およびフレキシブルケーブル591の第2透明基板電極51への実装信頼性の低下を抑制することができる。また、駆動IC59やフレキシブルケーブル591を実装する前にセグメント電極54bや信号電極592における実装面を物理的に擦ってクリーニングする場合、あるいは駆動ICやフレキシブルケーブル591を実装し直すにあたって、駆動IC59やフレキシブルケーブル591をいったん取り外す場合であっても、セグメント電極54bや信号電極592が剥がれることを抑制することができる。したがって、駆動IC59やフレキシブルケーブル591を無駄にすることがなく、歩留まりが向上する。さらに、平滑化膜を形成する必要がないために、平滑化膜形成過程を省略でき、平滑化膜の形成時にパターンプロセスを追加したり、平滑化膜を形成すべき領域を選択するといったことが必要なくなる。そのため、作業効率が良くなり、製造コスト的にも有利になる。
【0045】
プリントヘッドXは、たとえば感光フィルムを露光する際に使用される。その場合、照明装置4に配置された光源装置43から点状に出射された光が、導光部42において線状の光にされ、第1遮光部40の開口部401を通過して液晶シャッタ5に入射する。液晶シャッタ5では、駆動IC59の制御により画像データに応じて複数のシャッタ部55(図6参照)における光の透過・非透過が選択される。液晶シャッタ部55を透過した光は、反射部材15において正反射して、進行方向を90度曲げられた後にロッドレンズアレイ2に入射する。ロッドレンズアレイ21に入射した光は、各ロッドレンズ23内に透過した後に、光入射面31を介してプリズム3に入射する。プリズム3に入射した光は、光反射面32において進行方向を90度曲げられてプリズム3内を下向きに進行した後に光出射面33を介して出射する。この光は、たとえば感光フィルム上において結像し、感光フィルムに線状光が照射される。
【0046】
上述したように、このプリントヘッドXでは、赤色、緑色、青色の光を個別に出射可能な光源装置43を備えた照明装置4が具備されている。したがって、液晶シャッタ5では、従来使用されていたカラーフィルタを用いる必要がないために、平滑化膜が形成されていない。さらに、絶縁層53bは、たとえば無機酸化物により形成することで比較的硬いものとすることができる。そのため、セル57内における各所において球状スペーサ56Bが絶縁層53bに食い込むことを抑制することができる。その結果、セルギャップのバラツキを抑制することができる。セルギャップのバラツキが抑制されれば、液晶58の各所に同一の電圧を印加したときに、結果として与えられる電界強度のバラツキが小さくなり、シャッタ部55において透過率のバラツキを抑制することができる。また、セルギャップのバラツキを抑制することができるため、たとえば液晶シャッタ5を高速駆動するためにセルギャップを小さくしても、透過率にバラツキが生じることを抑制することができる。したがって、適切な画像を得つつも、高速印刷の達成を阻害しないようにすることができる。
【0047】
プリントヘッドXは、たとえば光源装置43の構成を変更することによって白黒用として使用することもできる。
【0048】
もちろん、本実施の形態に限らず、液晶シャッタ5は、プリントヘッド以外の用途に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るプリントヘッドの一例を示す分解斜視図である。
【図2】図1に示したプリントヘッドの断面図である。
【図3】照明装置の分解斜視図である。
【図4】液晶シャッタの断面図である。
【図5】液晶シャッタの遮光膜の構成を説明するための部分断面図である。
【図6】液晶シャッタの要部平面図である。
【図7】従来の液晶シャッタを示す断面図である。
【図8】従来の液晶シャッタを説明するための要部平面図である。
【符号の説明】
X プリントヘッド
4 照明装置
5 液晶シャッタ
50 第1透明基板
51 第2透明基板
511 対向面(第2透明基板の)
52 遮光膜
524 開口部
525 縁部(開口部の)
53b 絶縁層
54b セグメント電極(透明電極)
Claims (10)
- 互いに対向して配置された第1および第2透明基板と、上記第2透明基板における上記第1透明基板に対向する面に、上記第1透明基板から上記第2透明基板に向けた光の入射を制限するために形成された遮光膜と、上記遮光膜に積層された透明電極と、を備えた液晶シャッタであって、
上記遮光膜は、厚さが3000Å以下に形成されており、この遮光膜には、上記第1透明基板を透過してきた光を選択的に上記第2透明基板へ入射させるための、第1の方向に所定幅で直線状に延びる1つの開口部が形成されているとともに、上記開口部の縁部がテーパ状に形成されており、かつ、
上記透明電極は、それぞれが上記第1の方向と直交する第2の方向に延び、かつ上記第1の方向に並ぶ複数のものが、上記遮光膜に対して、上記開口部を上記第2の方向にまたぐようにして、単一の絶縁層を介して積層されていることを特徴とする、液晶シャッタ。 - 上記透明電極、上記遮光膜および上記絶縁層は、無機物により形成されている、請求項1に記載の液晶シャッタ。
- 上記絶縁層は、無機酸化物により形成されている、請求項1または2に記載の液晶シャッタ。
- 上記無機酸化物は、SiO2あるいはTa2O5である、請求項3に記載の液晶シャッタ。
- 上記絶縁層は、厚さが2000Å以下に形成されている、請求項1ないし4のいずれかに記載の液晶シャッタ。
- 上記絶縁層は、ディップコート、バイアススパッタあるいはプラズマCVDのうちのいずれかの方法により形成されている、請求項1ないし5のいずれかに記載の液晶シャッタ。
- 上記遮光膜は、金属材料により形成されている、請求項1に記載の液晶シャッタ。
- 上記遮光膜は、表面が酸化クロムにより形成されている、請求項1ないし7のいずれかに記載の液晶シャッタ。
- 請求項1ないし8のいずれかに記載の液晶シャッタを備えたことを特徴とする、プリントヘッド。
- 上記第1透明基板に重ねて配置した導光部を介して赤色、緑色、青色の光を個別に出射可能な照明装置を備えている、請求項9に記載のプリントヘッド。
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