JP3840261B2 - 2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンゼン誘導体およびその製造方法 - Google Patents

2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンゼン誘導体およびその製造方法 Download PDF

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Description

技術分野:
本発明は、農薬、医薬などの原料として有用な2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンゼン誘導体及びその製造方法に関する。
背景技術:
本発明と関連して、2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンゼン誘導体である2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸が、USP.3,823,134号に記載されている。しかしながら、2,3−ジクロロ−5−トリフルオロメチル安息香酸および4,5−ジクロロ−2−トリフルオロメチル安息香酸との混合物として合成される旨の記載はあるものの、単一物質としては単離されておらず、また物性値の記載もない。
また、特開平6−256257号公報には、フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体として、2−トリフルオロメチル−4,5,6−トリフルオロ安息香酸、2−トリフルオロメチル−3,4,5,6−テトラフルオロ安息香酸が記載されている。さらに、特開平3−5436号公報には核フッ素化トリフルオロメチルベンズアルデヒド類として、2,3,4−トリクロロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒド、2−トリフルオロメチル−3−クロロ−4,6−ジフルオロベンズアルデヒド、及び2−トリフルオロメチル−3−4,6−トリフルオロベンズアルデヒドが記載されている。
本発明の目的は、農薬、医薬などの原料として有用な2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンゼン誘導体およびその製造方法を提供することである。
発明の開示:
本発明は、2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチル安息香酸、その誘導体およびその製造方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
(1)本発明は、式〔I〕
Figure 0003840261
〔式中X1、X2は、それぞれ同一又は相異なってフッ素原子又は塩素原子を表し、Yは、COOH、CONH2、CN、CHO、CH=NOHおよびCOOR’(R’はメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、t−ブチル等の直鎖若しくは分枝のC1〜C4アルキル基を表す。)からなる群から選ばれる一種を表す。但し、X1及びX2が塩素原子でYがCOOHである場合を除く。〕で表わされる2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンゼン誘導体である。
この2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンゼン誘導体の具体例としては、2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸、2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル、2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸アミド、2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒド、2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒドオキシム、2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸メチルエステル、2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸エチルエステル、3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル、3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸アミド、3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸、3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒド、3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンズルデヒドオキシム、3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸メチルエステル、3−クロロ−2−フルオロ−6−トリルオロメチル安息香酸エチルエステル、2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル、2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸アミド、2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸、2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒド、2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒドオキシム、2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸メチルエステル、2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸エチルエステル、2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル、2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸アミド、2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸、2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒド、2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒドオキシム、2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸メチルエステル、2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸エチルエステル等を挙げることができる。
(2)また、本発明は、
(a)式〔II〕
Figure 0003840261
(式中、X1,X2は前記と同じ意味を表す。)で表される化合物に脱水剤を作用させることを特徴とする式〔III〕
Figure 0003840261
(式中、X1、X2は前記と同じ意味を表す。)で表わされる化合物の製造方法。
(b)式〔IV〕
Figure 0003840261
(式中、X2は前記と同じ意味を表す。)で表わされる化合物にフッ素化剤を作用させることを特徴とする式〔V〕
Figure 0003840261
(式中、X2は前記と同じ意味を表す。)で表わされる化合物の製造方法。
(c)式.〔VI〕
Figure 0003840261
(式中、X1は前記と同じ意味を表す。)で表わされる化合物にフッ素化剤を作用させることを特徴とする、2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
(d)2−アミノ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルのアミノ基をジアゾ化剤によりジアゾ化し、次いで塩素化剤を作用させることを特徴とする2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
(e)2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルに塩化物を作用させることを特徴とする2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
(f)4−クロロ−3−フルオロベンゾトリフルオリドを有機金属によりメタル化し、次いで二酸化炭素を作用させることを特徴とする3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸の製造方法。
(g)3,4−ジクロロベンゾトリフルオリドを有機金属によりメタル化し、次いで二酸化炭素を加えることを特徴とする2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸の製造方法、である。
(本発明化合物の製造)
本発明化合物は、以下に示す方法により製造することができる。
(製造方法1)
Figure 0003840261
(式中、X1は前記と同じ意味を表し、Mはリチウム等の金属原子を表す。)
反応は、通常溶媒中、−80〜0℃、好ましくは−50℃以下で、式[VII]で表される化合物にメタル化剤を反応させてメタル化し、次いで−80〜0℃、好ましくは−50℃以下で、二酸化炭素を反応させ、次に−10℃〜室温にて水と反応させることにより行われる。又この反応は二酸化炭素と反応させるまでは無水系で行われるのが好ましく、通常窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行われる。用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、またこのエーテル類とペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類との混合溶媒等が挙げられる。メタル化剤としてはn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、メチルリチウム等のアルキルリチウム類が挙げられる。また必要に応じこれらアルキルリチウム類にN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)、N,N,N’,N”,N”−ペンタメチルジエチレントリアミン(PMDTA)等の塩基を加えてもよい。さらにメタル化剤としてリチウムジイソプロピルアミド(LDA)、tert−ブトキシドカリウム等も挙げられる。
(製造方法2)
Figure 0003840261
(式中、X1、X2は前記と同じ意味を表し、Halはハロゲン原子を表す。)
反応は、式[VIII]で表される化合物をハロゲン化剤で酸ハライドとし、次いでアンモニアと反応させることにより行われる。
この式[VIII]で表される化合物をハロゲン化剤で酸ハライドとする反応は、通常溶媒中、室温〜溶媒の沸点で、ハロゲン化剤を作用させることにより行われる。また反応を促進させる触媒として、ピリジン、トリエチルアミンなどの塩基を加えてもよい。ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、オキサリルクロリド、ホスゲン等が挙げられる。用いられる溶媒としては、ハロゲン化剤が溶媒を兼ねる場合もあるが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、エチレンジクロライド等のハロゲン化炭化水素類あるいはこれらの混合物等が挙げられる。
次の酸ハライドにアンモニアを作用させる反応は、例えば、−5〜10℃に冷却したアンモニア水に酸ハライドを徐々に加え、さらに室温で攪拌する方法、0〜15℃に冷却したエタノールで希釈したアンモニア水に、酸ハライドを徐々に加えさらに室温で撹袢する方法等により行うことができる。
(製造方法3)
Figure 0003840261
(式中、X1、X2は前記と同じ意味を表す。)
反応は、無溶媒、若しくは溶媒中、0℃〜溶媒の沸点で、脱水剤を作用させることにより行われる。ここで、脱水剤とは、安息香酸アミドからベンゾニトリルに変換せしめる反応剤をいう。脱水剤として、オキシ塩化リン、塩化チオニル、五酸化リン、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、トリフルオロ酢酸無水物、無水酢酸、クロルギ酸エチルエステル、クロルギ酸メチルエステル、パラトルエンスルホニルクロライド、メタンスルホニルクロライド等が挙げられる。反応に用いられる溶媒としては、脱水剤が溶媒を兼ねる場合もあるが、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、エチレンジクロライドなどのハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサンなどのエーテル類、ピリジンあるいはこれらの混合物等が挙げられる。また、必要に応じ、トリエチルアミンなどの塩基を加えてもよい。
(製造方法4)
Figure 0003840261
(式中、X2は前記と同じ意味を表す。)
反応は、通常溶媒中、60〜200℃、好ましくは90〜180℃で、必要に同じ窒素ガス等の不活性ガス存在下、フッ素化剤を作用させることにより行われる。用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒あるいはこれらの混合物等が挙げられる。フッ素化剤としてはフッ化カリウム、フッ化セシウム、テトラメチルアンモニウムフルオライド等が挙げられる。触媒としては、18−クラウン−6、ジシクロヘキシル−18−クラウン−6等の各エーテル類、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムアイオダイド等のホスホニウム化合物が挙げられる。
(製造方法5)
Figure 0003840261
(式中、X1は前記と同じ意味を表す。)
反応は、通常溶媒中、100〜250℃、好ましくは150〜200℃で、必要に応じ窒素ガス等の不活性ガス存在下、フッ素化剤を作用させることにより行われる。用いられる溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒あるいはこれらの混合物等が挙げられる。フッ素化剤としてはフッ化カリウム、フッ化セシウム、テトラメチルアンモニウムフルオライド等が挙げられる。また、触媒として18−クラウン−6、ジシクロヘキシル−18−クラウン−6等の各エーテル類、テトラブチルアンモニウムブロマイド、そのクロライド、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムアイオダイド等のホスホニウム化合物を使用することもできる。
(製造方法6)
Figure 0003840261
(式中、X2は前記と同じ意味を表す。)
反応は、通常溶媒中、0〜150℃、好ましくは40〜80℃で、アミノ化剤を作用させることにより行われる。用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒、エタノール、メタノールなどのアルコール類、水あるいはこれらの混合物等が挙げられる。アミノ化剤としては炭酸アンモニウム、アンモニア水、含アンモニアエタノールなどが挙げられる。
(製造方法7)
Figure 0003840261
反応は、通常塩酸、硫酸等の水溶液中、−20〜50℃、好ましくは−5〜10℃で、亜硝酸ナトリウム等のジアゾ化剤を作用させ、ジアゾニウム塩を調製し、次いでこのジアゾニウム塩の溶液を塩化第一銅の水溶液あるいはその塩酸水溶液に0〜100℃、好ましくは15〜60℃でゆっくり加えることにより行われる。また塩素化剤としての無水塩化第二銅をアセトニトリル等の溶媒に懸濁し、亜硝酸tert−ブチルエステル、亜硝酸イソペンチルエステルなどのジアゾ化剤としての亜硝酸アルキルエステルを加えた後、2−アミノ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルを−10〜15℃で加え、さらに室温で反応させることによっても行うことができる。
(製造方法8)
Figure 0003840261
反応は、通常不活性溶媒中、50〜250℃、好ましくは100〜200℃で塩化物を作用させることにより行われる。用いられる溶媒としては、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホラン、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒、ジクロルベンゼン、トリクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、あるいはこれらの混合物等が挙げられる。塩化物としては、塩化カルシウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム等のアルカリ金属塩化物及びアルカリ土類金属塩化物が挙げられる。
(製造方法9)
また、本発明化合物は、下記反応式に従い製造することもできる。
Figure 0003840261
(製造方法10)
さらに、本発明化合物である安息香酸エステルは、例えば、対応する安息香酸に酸触媒の存在下アルコールを反応させることにより、あるいは対応する安息香酸クロリドに好ましくは塩基の存在下アルコール若しくはアルコキシドを反応させることにより得ることができる。
いずれの反応を行った場合も反応終了後は通常の後処理を行うことにより目的物を得ることができる。
本発明化合物の構造は、IR、NMR、Mass等から決定した。
発明を実施するための最良の形態:
(実施例)
次に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明する。
実施例1
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸(化合物No.11)
Figure 0003840261
3,4−ジクロロベンゾトリフルオリド83.4gを乾燥テトラヒドロフラン800mlに溶解し、窒素ガス気流下、−78℃にてn−ブチルリチウムヘキサン溶液(1.6mol/l)250mlを約15分かけて滴下した。−78℃にて2時間撹拌後、同温度にてドライアイス50gを少量づつ加えた。室温まで昇温後、冷水250mlを加え分液し、水層を冷却下濃塩酸にてpH1の酸性にした。これをエーテルにて抽出し、次いで水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し得られた油状残渣をn−ヘキサンにて結晶化、洗浄、濾過、次いで乾燥して、目的物89g(mp.88−89℃)を得た。
実施例2
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸アミド(化合物No.21)
Figure 0003840261
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸250gをベンゼン2リットルに溶解し、ピリジン5滴、次いで塩化チオニル172gを加え、22時間加熱還流した。冷却後、反応液を減圧濃縮し、得られた2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸クロリドを5℃に冷却した28%アンモニア水1リットル中に撹拌下10分間かけて加えた。さらに室温にて1時間撹拌した。反応液に酢酸エチルを加えて抽出し、水洗、飽和食塩水洗後、無水硫酸マグネシウム乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗結晶をn−ヘキサンにて洗浄、濾過することにより、目的物229g(mp.118−120℃)を得た。
実施例3
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル(化合物No.31)
Figure 0003840261
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸アミド229gをベンゼン2リットルに溶解し、オキシ塩化リン409gを加え、3.5時間、加熱還流した。冷却後30〜40℃の水2リットルに反応液を少量づつ加え過剰のオキシ塩化リンを加水分解後、分液した。水層をベンゼンにて抽出し、先の有機層とあわせて、水洗、飽和食塩水洗した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物をn−ヘキサンにて洗浄、濾過して目的物204g(mp.53−54℃)を得た。
実施例4
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル(化合物No.31)
Figure 0003840261
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸アミド409gをジオキサン2リットルに溶解し、ピリジン263gを加えた。これに、7〜10℃で、トリフルオロ酢酸無水物349gを30分間かけて滴下した。次いで、25℃にて2時間撹拌した後、反応液を氷水に注いだ。析出した結晶をロ取した後、酢酸エチルに溶解させた。これを水洗、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物をn−ヘキサンにて洗浄、濾過して、目的物358g(mp.53−54℃)を得た。
実施例5
3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸(化合物No.12)
Figure 0003840261
3−フルオロ−4−クロロベンゾトリフルオロリド77.0gを乾燥テトラヒドロフラン750mlに溶解し、窒素ガス気流下、−78℃にn−ブチルリチウムヘキサン溶液(1.6mol/l)250mlを約15分かけて滴下した。−78℃にて2時間撹拌後、同温度にてドライアイス50gを少量づつ加えた。室温まで昇温後、冷水500mlを加え、分液し、水層を冷却下、濃塩酸にてpH1となるまで加えた。これをエーテルにて抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られたオイル状残渣をn−ヘキサンを加えて結晶化、次いで濾過した。これを乾燥して目的物88.4g(mp.92−93℃)を得た。
実施例6
3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸アミド(化合物No.22)
Figure 0003840261
3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸286gに塩化チオニル420gを加え、次いでトリエチルアミンを5滴加えて4時間、加熱還流した。冷却後、反応液を減圧濃縮し、得られた3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸クロリドを、5℃に冷却した28%アンモニア水1リットル中に撹拌下10分間かけて加えた。さらに室温にて1時間撹拌した。反応液にエーテルを加えて抽出し、水洗、飽和食塩水洗後、無水硫酸マグネシウム乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗結晶をn−ヘキサンにて洗浄、濾過することにより、目的物266g(mp.123−125℃)を得た。
実施例7
3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル(化合物No.32)
Figure 0003840261
3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸アミド266gを1,2−ジクロロエタン2.5リットルに溶解し、オキシ塩化リン339gを加え、18.5時間加熱還流した。冷却後、30−40℃の水2リットルに反応液を少量づつ加え、過剰のオキシ塩化リンを加水分解後、分液した。水層をクロロホルムにて抽出し、先の有機層とあわせて1N水酸化ナトリウム水溶液にて洗浄、さらに水洗、飽和食塩水洗した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物を冷却したn−ヘキサンにて洗浄、濾過し、目的物228g(mp.43−44℃)を得た。
実施例8
3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル(化合物No.32)
Figure 0003840261
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル0.96gをN,N−ジメチルホルムアミド7mlに溶解し、スプレー乾燥したフッ化カリウム0.46g、18−クラウン−6−エーテル0.1gを加え、窒素ガス気流下100℃にて6時間、撹拌した。冷却後、反応液に氷水を加え酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水洗後、無水硫酸マグネシウム乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、目的物0.65g(mp.43−44℃)を得た。
実施例9
2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル(化合物No.34)
Figure 0003840261
3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル35.0gをスルホラン200mlに溶解し、スプレー乾燥したフッ化カリウム36.3g、18−クラウン−6−エーテル4.1gを加え、窒素ガス気流下、160−170℃にて7時間撹拌した。冷却後、反応液中に氷水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濃縮後、得られた油状粗生成物を減圧蒸留して油状の目的物25.7g(bp.98−100℃(25mmHg)nD 20.0−1.4413)を得た。
実施例10
2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル(化合物No.34)
Figure 0003840261
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル41.8gをスルホラン250mlに溶解し、スプレー乾燥したフッ化カリウム40.4g、18−クラウン−6−エーテル4.6gを加え、窒素ガス気流下、160−170℃にて20時間撹拌した。冷却後、反応液に氷水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濃縮後、得られた油状粗生成物を減圧蒸留して、油状の目的物27.5g(bp.98−100℃(25mmHg))を得た。
参考例1
2−アミノ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル
Figure 0003840261
2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロベンゾニトリル25.7gをジメチルスルホキシド(DMSO)200mlに溶解し、炭酸アンモニウム14.5gを加え100℃にて2時間撹拌した。冷却後、反応液に水を加え、エーテルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウム乾燥した。濃縮後、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物18.5g(mp.100.5−102℃)を得た。
実施例11
2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル(化合物No.33)
Figure 0003840261
無水塩化第二銅14.6gをアセトニトリル250mlに懸濁し、0〜5℃にて亜硝酸t−ブチルエステル14.0gを加えた。10分間撹拌後、2−アミノ3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル18.5gにアセトニトリル80mlを加えた溶液を、これに0−5℃にて10分間かけて滴下した。0〜5℃にて1時間撹拌後さらに室温にて4時間撹拌した。反応液に水を加え、エーテルにて抽出した。有機層を希塩酸にて洗浄、さらに水洗後、無水硫酸マグネシウム乾燥した。濃縮後、得られた油状粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、目的物16.2g〔bp.104−107℃(15mmHg)、nD 20.7−1.4660〕を得た。
実施例12
2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル(化合物No.33)
Figure 0003840261
2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル 50.9gをジメチルスルホキシド(DMSO)240mlに溶解し、塩化カルシウム53.3gを加え、140〜150℃で6時間攪拌した。冷却後、反応液に水240mlを加え、ヘキサン240ml、および100mlにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗精製物を減圧蒸留して目的物38.9gを得た。
実施例13
2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒド(化合物No44)
Figure 0003840261
2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル2.0gを無水ジクロロメタン20mlに溶解し、窒素雰囲気下−78℃に冷却した。これに水素化ジイソブチルアルミニウム(DIBAL)の1.5Mトルエン溶液7.1mlをゆっくりと30分にわたり滴下した。−78℃で1時間撹袢後、徐々に室温に戻した。これに飽和塩化アンモニウム水溶液7mlを加え、30分間撹袢後、5%硫酸33mlを加えた。これをエーテルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウム乾燥した。溶液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、目的物1.36g(nD 20.6−1.4357)を得た。
本アルデヒドは、空気中に放置すると容易に酸化され、対応する安息香酸(化合物No.14)が得られた。
Figure 0003840261
実施例14
2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒドオキシム(化合物No.54)
Figure 0003840261
2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンズアルデヒド0.5gをエタノール8mlに溶かし、これに室温にて塩酸ヒドロキシルアミン0.4g、次いで水酸化ナトリウム0.23gを水2mlに溶かした溶液を加えた、40分間加熱、還流した。反応液を室温に戻した後、減圧濃縮しこれを酢酸エチルにて抽出、次いで水、飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウム乾燥した。溶液を濃縮後、得られた粗結晶をn−ヘキサンにて洗浄して目的物0.24g(mp.111−112℃)を得た。
実施例15
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸メチル(化合物No.55)
Figure 0003840261
2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸1.04gをトルエン10mlに溶解し、塩化チオニル0.71gおよびピリジン1滴を加え、3時間加熱還流した。冷却後、反応液を減圧濃縮して得られた2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸クロリドを、28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液0.77gをメタノール10mlに溶かした溶液に、5〜10℃で加えてさらに室温にて2時間攪拌した。反応液を減圧濃縮したのち、エーテルを加え、抽出し、1N−塩酸水溶液にて洗浄、次いで水洗し、さらに飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウム乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた油状組成生物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物0.89gを得た。n D23.3−1.4801
上記実施例を含め、本発明化合物の代表例を以下の第1表〜第6表に示す。
Figure 0003840261
Figure 0003840261
Figure 0003840261
Figure 0003840261
Figure 0003840261
Figure 0003840261
産業上の利用可能性:
本発明の2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンゼン誘導体は、農薬、医薬などの原料として有用であり、例えば、本発明化合物は、特願平6−334497に記載のベンズアミドオキシム誘導体系農園芸用殺菌剤の原料として用いることができる。また本発明の製造方法によれば、これを工業的に有利に製造することができる。

Claims (13)

  1. 式〔I〕
    Figure 0003840261
    〔式中X1、X2は、それぞれ同一又は相異なってフッ素原子または塩素原子を表し、Yは、COOH、CONH2、CN、CHO、CH=NOHおよびCOOR’(R’は直鎖若しくは分枝のC1〜C4アルキル基を表す。)からなる群から選ばれる一種を表す。但し、X1及びX2が塩素原子でYがCOOHである場合を除く。〕で表わされる2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンゼン誘導体。
  2. 2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル。
  3. 3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル。
  4. 2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル。
  5. 2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリル。
  6. 3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸。
  7. 式〔II〕
    Figure 0003840261
    〔式中、X1、X2は前記と同じ意味を表す。〕で表わされる化合物に脱水剤を作用させることを特徴とする式〔III〕
    Figure 0003840261
    〔式中、X1、X2は前記と同じ意味を表す。〕で表わされる化合物の製造方法。
  8. 式〔IV〕
    Figure 0003840261
    〔式中、X2は前記と同じ意味を表す。〕で表わされる化合物にフッ素化剤を作用させることを特徴とする式〔V〕
    Figure 0003840261
    〔式中、X2は前記と同じ意味を表す。〕で表わされる化合物の製造方法。
  9. 式〔VI〕
    Figure 0003840261
    〔式中、X1は前記と同じ意味を表す。〕で表わされる化合物にフッ素化剤を作用させることを特徴とする2,3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
  10. 2−アミノ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルのアミノ基をジアゾ化剤によりジアゾ化し、次いで塩素化剤を作用させることを特徴とする2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
  11. 4−クロロ−3−フルオロベンゾトリフルオリドを有機金属によりメタル化し、次いで二酸化炭素を作用させることを特徴とする3−クロロ−2−フルオロ−6−トリフルオロメチル安息香酸の製造方法。
  12. 2、3−ジフルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルに塩化物を作用させることを特徴とする2−クロロ−3−フルオロ−6−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
  13. 3,4−ジクロロベンゾトリフルオリドを有機金属によりメタル化し、次いで二酸化炭素を作用させることを特徴とする2,3−ジクロロ−6−トリフルオロメチル安息香酸の製造方法。
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