JP3838716B2 - ビスマスの精製方法 - Google Patents

ビスマスの精製方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3838716B2
JP3838716B2 JP33036796A JP33036796A JP3838716B2 JP 3838716 B2 JP3838716 B2 JP 3838716B2 JP 33036796 A JP33036796 A JP 33036796A JP 33036796 A JP33036796 A JP 33036796A JP 3838716 B2 JP3838716 B2 JP 3838716B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bismuth
raw material
purity
crucible
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP33036796A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10158754A (ja
Inventor
喜志雄 田山
新 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dowa Holdings Co Ltd
Original Assignee
Dowa Holdings Co Ltd
Dowa Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dowa Holdings Co Ltd, Dowa Mining Co Ltd filed Critical Dowa Holdings Co Ltd
Priority to JP33036796A priority Critical patent/JP3838716B2/ja
Publication of JPH10158754A publication Critical patent/JPH10158754A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3838716B2 publication Critical patent/JP3838716B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

Landscapes

  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、純度99.99%程度の市販金属ビスマス等から真空蒸留精製により、純度99.9999%以上の高純度ビスマスを製造する方法とその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に金属ビスマスは、自然ソウエンやキソウエン等の鉱石を比重選鉱により濃縮して、反射炉内で炭素、鉄、融剤を添加して粗ビスマスを得、次いでこの粗ビスマスを精製して金属ビスマスとする方法が知られている。
【0003】
その他の方法としては、鉛電解におけるアノードスライムから回収する方法も知られているが、この方法は、上記アノードスライムを反射炉で溶融してスラグと金属分とに分離し、得られた金属分中のビスマスをさらに反射炉中で酸化処理してスラグと金銀地金とに分離する。さらにこのスラグを反射炉内で還元して粗ビスマスを得る方法である。
【0004】
こららの方法によって得られた粗ビスマスを原料として、帯溶融法や電解精製法によって純度を上げ、現在では99.99−99.999%の純度を有する金属ビスマスが市販されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記の帯溶融法や電解精製法によって得られる金属ビスマスの純度は99.99〜99.999%程度であり、電解法によるビスマス中の不純物として硫黄、銀はいずれも20ppm 以上含まれていた。
【0006】
上記の金属をさらにゾーン精製法によって精製する手段もあるが、精製後の切断加工の必要性と汚染の危険があることから、精製時の処理量の制約や精製ビスマスをインゴットにする場合には鋳造時の不純物の混入による汚染の問題があった。
【0007】
したがって本発明の目的は、従来の電解溶融法ではビスマスとの完全分離が困難であったアルミニウム、硫黄、ニッケル、銀、鉛等を分離できる新規な精製手段を開発することによって純度99.9999%以上の高純度ビスマスを直接インゴット状で製造できる製造方法と製造装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究の結果、外筒と内筒からなる二重の石英筒で封体した内部に原料ビスマスが装入される原料るつぼとこれに連接して設けられる回収鋳型を配置して真空蒸留を行い、蒸発したビスマスを石英筒面に凝縮させ、これを回収鋳型に回収するようにすれば、従来よりも簡易な構造でしかも精製から鋳造までを一回の連続工程で処理できる上、汚染が少ないので、含有する不純物が1ppm 未満の純度99.9999%以上の高純度ビスマスが得られることを見いだし本発明に到達した。
【0009】
すなわち本発明は、ビスマス原料を真空蒸留してビスマスを精製する方法において、原料るつぼに装入された原料ビスマスを温度650〜900℃、真空度1×10-3〜1×10-4Torrで真空蒸留することにより、蒸発させたビスマスを該原料るつぼ上方で凝縮させ該原料るつぼ下方の回収鋳型に回収してインゴットとし、さらに前記凝縮後のガスを該回収鋳型の下方で冷却して固化することを特徴とするビスマスの精製方法である。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の高純度ビスマスの製造装置は、一例として図1の概略図に示す構造とすることができる。すなわち電気炉1内に配置された石英製外筒3内を真空排気装置2により真空排気を行えるよう、上記外筒3内に原料るつぼ5、回収鋳型6、鋳型中央部に設けた吸入台9、吸入台下の冷却トラップ8、これを冷却する水冷フランジ7を脱着可能に連接し、さらに原料るつぼ上面に石英製内筒4を設けて外筒3と共に二重構造となって封体されている。
【0011】
この場合、原料ビスマスとして市販金属ビスマス(純度99.99%程度)を原料るつぼ5に適量入れ、電気炉で650℃以上、好ましくは650〜900℃の温度範囲にすると共に、真空度を1×10-3Torr以下、好ましくは1×10-3〜1×10-4Torrの範囲に制御すると原料るつぼ内の原料ビスマスが融解・蒸発し、該るつぼ5と上部の内筒4との間に落下して、るつぼ底部に連接する回収鋳型6の中に回収される。
【0012】
原料ビスマス中に含有される不純物のうち、ビスマスより蒸気圧の低いアルミニウム、ケイ素、鉄、ニッケル、銅、銀、鉛は原料るつぼ5内に残留し、逆に蒸気圧の高い、ナトリウム、硫黄、塩素、カルシウム、カリウム、亜鉛、アンチモン、テルルは凝縮することなく気体状で真空排気装置2によってるつぼ底部に設けられた吸入孔を通って冷却トラップ8内に吸収され、水冷フランジ7の働きにより冷却されて固化する。
【0013】
本発明においては、予め、回収用の鋳型の形状を精製後の次工程で用いる鋳型の形状にしてあるため、従来法のように精製されたビスマスを再度鋳造する必要はなく、このため汚染の少ない高純度ビスマス製品を精製・鋳造の工程を区別することなく一回の処理で製造できる。
【0014】
このようにして得られた高純度ビスマスをグロー放電質量分析装置で分析したところ、硫黄、カルシウム、鉛が共に0.05ppm 以下であり、ナトリウム、アルミニウム、ケイ素、塩素、カリウム、鉄、ニッケル、銅、銀、亜鉛、アンチモン、テルルがそれぞれ0.01ppm 以下で、かつガス成分以外の不純物の合計が1ppm 未満の値を示していた。
【0015】
したがって、本発明においては測定対象元素をNa、Al、Si、S、Cl、K、Ca、Fe、Ni、Cu、Ag、Zn、Sb、Pb、Teとし、グロー放電質量分析装置により定量分析を行い、得られた不純物含有量の総和を100%から差し引いて得られた数値が99.9999%以上の場合をもって純度99.9999%以上の高純度ビスマスと定義した。
【0016】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【0017】
【実施例1】
図1の高純度ビスマス製造装置を参照して以下説明する。先ず、純度99.99%の市販金属ビスマス100gを原料るつぼ5に入れ、回収鋳型6中央部に設置した吸入台9上に固定した後、図1に示すように電気炉1内に装入した。
【0018】
この場合、原料るつぼ5と回収鋳型6の上面には、石英製の外筒3と内筒4とが設けられ、真空排気装置2によって内筒4内部が真空状態となる構造である。
【0019】
真空排気装置2で排気して内筒4の真空度を1×10-3Torrとすると共に炉温を650℃一定で1時間精製したところ、原料中のビスマスはいったん蒸発した後、原料るつぼ5上の内筒4の面に接触して次第に凝縮し始め、粒状になって原料るつぼ5の底部に設けた回収鋳型6の中に落下した。この粒状ビスマス90gを回収し、その品位を表1に示した。
【0020】
一方、ビスマスより蒸気圧の高いものはガス状のまま排気装置で吸引され、吸入台9の上部に設けられた吸入孔を通過して冷却トラップ8上で固化した。この固化物を分析したところ、その主成分はビスマスで、ナトリウム、硫黄、塩素、カリウム、カルシウム、亜鉛、アンチモン、テルルなどいずれも蒸気圧の高い物質が多く含まれていることがわかった。併せて原料るつぼ内に残っている金属を分析したところ、その主成分はビスマスで、アルミニウム、ケイ素、鉄、ニッケル、銅、銀、鉛などの蒸気圧の低い物質が原料より多く含まれていることがわかった。
【0021】
【表1】
Figure 0003838716
【0022】
【実施例2】
純度99.94%の市販金属ビスマス100gを原料るつぼ5に入れて、真空度を1×10-4Torr、加熱温度を850℃として実施例1と同様に精製を行い、精製ビスマス92gを得た。この品位を表1に併せて示した。
【0023】
【比較例1】
比較のため、純度99.94%の市販金属ビスマスの品位を表1に併せて示した。
【0024】
【発明の効果】
上述のように、本発明の方法に基づく製造装置によれば、原料るつぼに溶解したビスマスは蒸発して内筒表面に凝縮し、鋳型に回収されてインゴットを形成するので、従来必要とされていた鋳造や後処理等の複雑な工程に代わって、本発明の簡易な構造の製造装置を用いることにより、精製から鋳造までの一連の工程を汚染の危険が少ない一回の工程で行なえるようになり、従来よりも分離精度が高くしかもコスト低減可能な精製手段を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る高純度ビスマスの製造装置の概要を示す概略断面図である。
【符号の説明】
1 電気炉
2 真空排気装置
3 石英製外筒
4 石英製内筒
5 原料るつぼ
6 回収鋳型
7 水冷フランジ
8 冷却トラップ
9 吸入台

Claims (1)

  1. ビスマス原料を真空蒸留してビスマスを精製する方法において、原料るつぼに装入された原料ビスマスを温度650〜900℃、真空度1×10-3〜1×10-4Torrで真空蒸留することにより、蒸発させたビスマスを該原料るつぼ上方で凝縮させ該原料るつぼ下方の回収鋳型に回収してインゴットとし、さらに前記凝縮後のガスを該回収鋳型の下方で冷却して固化することを特徴とするビスマスの精製方法。
JP33036796A 1996-11-26 1996-11-26 ビスマスの精製方法 Expired - Fee Related JP3838716B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33036796A JP3838716B2 (ja) 1996-11-26 1996-11-26 ビスマスの精製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33036796A JP3838716B2 (ja) 1996-11-26 1996-11-26 ビスマスの精製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10158754A JPH10158754A (ja) 1998-06-16
JP3838716B2 true JP3838716B2 (ja) 2006-10-25

Family

ID=18231819

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33036796A Expired - Fee Related JP3838716B2 (ja) 1996-11-26 1996-11-26 ビスマスの精製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3838716B2 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6627149B1 (en) 1996-06-21 2003-09-30 Dowa Mining Co., Ltd. High-purity silver wires for use in recording, acoustic or image transmission applications
JP3725621B2 (ja) * 1996-06-21 2005-12-14 同和鉱業株式会社 記録用または音響もしくは画像送信用高純度銀線
CN103184355B (zh) * 2011-12-31 2014-07-02 广东先导稀材股份有限公司 高纯铋的制备方法
JP2013185214A (ja) * 2012-03-08 2013-09-19 Jx Nippon Mining & Metals Corp α線量が少ないビスマス又はビスマス合金及びその製造方法
WO2014069357A1 (ja) * 2012-11-02 2014-05-08 Jx日鉱日石金属株式会社 低α線ビスマスの製造方法並びに低α線ビスマス及びビスマス合金
WO2015083405A1 (ja) * 2013-12-03 2015-06-11 Jx日鉱日石金属株式会社 低α線ビスマスの製造方法及び低α線ビスマス
JP6067855B2 (ja) * 2013-12-24 2017-01-25 Jx金属株式会社 低α線ビスマス及び低α線ビスマスの製造方法
JP5960341B2 (ja) * 2014-01-06 2016-08-02 Jx金属株式会社 低α線ビスマスの製造方法
WO2015125331A1 (ja) * 2014-02-20 2015-08-27 Jx日鉱日石金属株式会社 低α線ビスマスの製造方法及び低α線ビスマス
CN104018009B (zh) * 2014-06-19 2015-05-27 湖南华信有色金属有限公司 铋金属的分离提纯方法
JP6140752B2 (ja) * 2015-03-30 2017-05-31 Jx金属株式会社 低α線ビスマス及びその製造方法
CN106191449A (zh) * 2016-08-15 2016-12-07 永兴县億翔环保科技有限公司 铋阳极泥处理方法
CN112063854B (zh) * 2020-09-02 2022-08-26 河南豫光金铅股份有限公司 一种以贵铅为原料综合回收铋、银、铜金属的方法
CN115491509A (zh) * 2022-08-31 2022-12-20 永兴县鸿福金属有限公司 一种多段提取精铋的真空提纯方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10158754A (ja) 1998-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3838716B2 (ja) ビスマスの精製方法
JP4538663B2 (ja) 高純度金属の高度精製方法およびその精製装置
JP3857589B2 (ja) 高純度金属の精製方法及び精製装置
EP1797209B1 (en) Process for the production of germanium by reduction of gecl4 in a liquid metal
JP3842851B2 (ja) インジウムの精製方法
JP3838717B2 (ja) マグネシウムの精製方法
JP2006283192A (ja) 高純度インジウム
EP1335032B1 (en) Vacuum distillation method and apparatus for enhanced purification of high-purity metals like indium
CN110512077A (zh) 一种铅阳极泥高效回收金银铋锑碲的方法
JP3646234B2 (ja) 高純度銀の製造方法及び製造装置
JP3768332B2 (ja) 高純度テルルの製造方法及びその製造装置
JP3838712B2 (ja) アンチモンの精製方法
US6932852B2 (en) Method and apparatus for enhanced purification of high-purity metals
JP3838743B2 (ja) 高純度カドミウムの製造方法
JP3838713B2 (ja) 亜鉛の精製方法
JP3838744B2 (ja) 高純度セレンの製造方法
JPH01108322A (ja) 蒸留精製方法
RU2370558C1 (ru) Способ получения высокочистого кобальта для распыляемых мишеней
AU638627B2 (en) One step process for the treatment of parkes desilvering crust to recover zinc and produce a suitable feed for cupellation
RU2698237C1 (ru) Способ переработки серебристой пены вакуумной дистилляцией
RU2583574C1 (ru) Способ получения галлия высокой чистоты
RU2281979C2 (ru) Способ очистки висмута
US2797159A (en) Method of purifying of metallic indium
JPS582217A (ja) 銀塩化物及び銅塩化物を分離する蒸溜方法
JPS6134492B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20040206

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040318

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060207

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060410

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060516

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060707

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060801

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060801

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090811

Year of fee payment: 3

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090811

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090811

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100811

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110811

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110811

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120811

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120811

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130811

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees