JP3821343B2

JP3821343B2 - 排ガス浄化装置

Info

Publication number: JP3821343B2
Application number: JP35129198A
Authority: JP
Inventors: 洋平山; 靖夫池田
Original assignee: Toyota Motor Corp
Current assignee: Toyota Motor Corp
Priority date: 1998-12-10
Filing date: 1998-12-10
Publication date: 2006-09-13
Anticipated expiration: 2018-12-10
Also published as: JP2000167356A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は自動車の排気系などに用いられる排ガス浄化装置に関し、詳しくは幅広い温度域で排ガス中のNO_xを吸蔵還元して浄化できる排ガス浄化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より自動車の排ガス浄化用触媒として、理論空燃比（ストイキ）において排ガス中のCO及びHCの酸化とNO_xの還元とを同時に行って浄化する三元触媒が用いられている。このような三元触媒としては、例えばコーディエライトなどからなる耐熱性基材にγ−アルミナからなる多孔質担体層を形成し、その多孔質担体層に白金（Pt）、ロジウム（Rh）などの貴金属を担持させたものが広く知られている。
【０００３】
一方、近年、地球環境保護の観点から、自動車などの内燃機関から排出される排ガス中の二酸化炭素（CO₂）が問題とされ、その解決策として酸素過剰雰囲気において希薄燃焼させるいわゆるリーンバーンが有望視されている。このリーンバーンにおいては、燃料の使用量が低減され、その燃焼排ガスであるCO₂の発生を抑制することができる。
【０００４】
これに対し、従来の三元触媒は、空燃比が理論空燃比（ストイキ）において排ガス中のCO，HC，NO_xを同時に酸化・還元し浄化するものであって、リーンバーン時の排ガスの酸素過剰雰囲気下においては、NO_xの還元除去に対して充分な浄化性能を示さない。このため、酸素過剰雰囲気下においてもNO_xを効率よく浄化しうる触媒及び浄化システムの開発が望まれていた。
【０００５】
そこでリーンバーンにおいて、常時は酸素過剰のリーン条件で燃焼させ、一時的にストイキ〜リッチ条件とすることにより排ガスを還元雰囲気としてNO_xを還元浄化するシステムが開発された。そしてこのシステムに最適な、リーン雰囲気でNO_xを吸蔵し、ストイキ〜リッチ雰囲気で吸蔵されたNO_xを放出するNO_x吸蔵材を用いたNO_x吸蔵還元型の排ガス浄化用触媒が開発されている。
【０００６】
このNO_xの吸蔵・放出作用をもつNO_x吸蔵材としては、アルカリ土類金属、アルカリ金属及び希土類元素が知られ、例えば特開平5-317652号公報には、Baなどのアルカリ土類金属とPtをアルミナなどの多孔質担体に担持したNO_x吸蔵還元型触媒が提案されている。また特開平 6-31139号公報には、Ｋなどのアルカリ金属とPtをアルミナなどの多孔質担体に担持したNO_x吸蔵還元型触媒が提案されている。さらに特開平5-168860号公報には、Laなどの希土類元素とPtをアルミナなどの多孔質担体に担持したNO_x吸蔵還元型触媒が提案されている。
【０００７】
これらのNO_x吸蔵還元型触媒を用いれば、空燃比をリーン側からパルス状にストイキ〜リッチ側となるように制御することにより、リーン側ではNO_xがNO_x吸蔵材に吸蔵され、それがストイキ又はリッチ側で放出されてHCやCOなどの還元性成分と反応して浄化されるため、リーンバーンエンジンからの排ガスであってもNO_xを効率良く浄化することができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところがNO_x吸蔵還元型触媒は、排ガス温度が特に 300℃未満の低温域におけるNO_x吸蔵能が不充分であり、低温域になるほどNO_x吸蔵能が低下するという不具合がある。そのため始動時や冷間時などの排ガスが低温域にある場合には、 300〜 400℃の中温域に比べてNO_x浄化能が低下するという問題があった。
【０００９】
また排ガス温度が 400℃以上の高温域においてもNO_x吸蔵能が低下し、300〜 400℃の中温域に比べてNO_x浄化能が低下するという問題がある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、低温域から高温域まで安定して高いNO_x浄化能を有する排ガス浄化装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する請求項１に記載の排ガス浄化装置の特徴は、多孔質担体に貴金属とCs を除くアルカリ金属のみから選ばれる少なくとも一種のNO_x 吸蔵材とを担持してなり高温域でNO_x を吸蔵還元する高温型NO_x 吸蔵還元触媒と、多孔質担体に貴金属とNO_x 吸蔵材とを担持してなり低温域でNO_x を吸蔵還元する低温型NO_x 吸蔵還元触媒と、からなり、高温型 NO _x 吸蔵還元触媒を排ガス流の上流側に配置し、低温型 NO _x 吸蔵還元触媒を高温型 NO _x 吸蔵還元触媒の下流側に配置してなることにある。
【００１１】
また請求項２に記載の排ガス浄化装置の特徴は、請求項１に記載の排ガス浄化装置において、低温型 NO _x 吸蔵還元触媒のNO_x 吸蔵材はアルカリ土類金属及びランタンから選ばれる少なくとも一種であることにある。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、NO_x吸蔵還元触媒に用いられる種々のNO_x吸蔵材の酸素過剰雰囲気下におけるNO_x吸蔵挙動について鋭意研究した結果、NO_x吸蔵材の種類によってNO_xを吸蔵する温度ウィンドウが異なることを見出した。例えばＫ，Naなどのアルカリ金属は 400〜 600℃の酸素過剰雰囲気下においてNO_xを効率よく吸蔵し、例えばBa，Srなどのアルカリ土類金属やLaは 250〜 400℃の酸素過剰雰囲気下においてNO_xを効率よく吸蔵することが明らかとなった。本発明はこの発見に基づいてなされたものである。
【００１３】
なおNO_x吸蔵材の種類によってNO_x吸蔵の温度ウィンドウが異なる理由は明らかではないが、多孔質担体の酸塩基度や貴金属の種類との組合せの影響によるものであろうと考えられている。
すなわち本発明の排ガス浄化装置では、高温型NO_x吸蔵還元触媒と低温型NO_x吸蔵還元触媒とを用いている。したがって低温域の排ガスがこの排ガス浄化装置を通過する際には、NO_xは低温型NO_x吸蔵還元触媒に吸蔵され、高温域の排ガスがこの排ガス浄化装置を通過する際には、NO_xは高温型NO_x吸蔵還元触媒に吸蔵されるため、低温域から高温域まで幅広い温度ウィンドウでNO_xを吸蔵することができる。これによりNO_x浄化性能が大幅に向上する。
【００１４】
高温型NO_x 吸蔵還元触媒と低温型NO_x 吸蔵還元触媒の配置順序は、排ガス流の上流側に高温型NO_x 吸蔵還元触媒を配置し、下流側に低温型NO_x 吸蔵還元触媒を配置する。すなわち、排ガス浄化装置に流入する排ガスは、上流側ほど高温であるので、高温型NO_x 吸蔵還元触媒を上流側に配置するのが有利である。また高温型NO_x 吸蔵還元触媒で吸蔵しきれなかったNO_x を、下流側の低温型NO_x 吸蔵還元触媒で吸蔵することができる場合もある。
【００１５】
高温型NO_x吸蔵還元触媒と低温型NO_x吸蔵還元触媒とは、間隔を隔てて直列に配置してもよいし、間隔がないように接して配置してもよいが、どちらかといえば間隔を隔てて配置することが好ましい。両触媒の間で排ガスの流れが乱れるため、下流側のNO_x吸蔵還元触媒に流入する排ガスの温度分布が中心部から外周部にかけて均一となり、安定した浄化性能が得られるからである。
【００１６】
また高温型NO_x吸蔵還元触媒の上流側に、あるいは低温型NO_x吸蔵還元触媒の下流側に、さらに三元触媒を配置してもよい。高温型NO_x吸蔵還元触媒の上流側に三元触媒を配置すれば、三元触媒における反応熱で排ガス温度が上昇するので、高温型NO_x吸蔵還元触媒又は低温型NO_x吸蔵還元触媒におけるNO_x吸蔵能が向上する場合がある。また低温型NO_x吸蔵還元触媒の下流側に三元触媒を配置すれば、低温型NO_x吸蔵還元触媒で浄化しきれなかったHC，CO及びNO_xを三元触媒で浄化することができ浄化性能が一層向上する。
【００１７】
高温型NO_x吸蔵還元触媒は、多孔質担体と、多孔質担体に担持された貴金属及びNO_x吸蔵材とから構成される。多孔質担体としては、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、ジルコニア、チタニア、ゼオライトなどを用いることができる。このうちの一種でもよいし複数種類を混合あるいは複合化して用いることもできる。
【００１８】
この多孔質担体は、コーディエライトあるいは金属箔などから形成されたハニカム形状の基材にコートしたハニカム触媒として用いられるのが一般的であるが、ペレット状に形成してペレット触媒としてもよい。
また貴金属としては、Pt、Rh、Pd、Irなどが例示される。この貴金属の担持量は、ハニカム形状の基材１リットル当たり 0.1〜10ｇとすることが好ましい。これより少ないと浄化活性が不足し、これより多く担持しても効果が飽和するとともに高価となる。
【００１９】
高温型NO_x 吸蔵還元触媒において、多孔質担体に担持されるNO_x 吸蔵材としては、Na ，Ｋ， Li ， Rb ， Frからなるアルカリ金属の少なくとも一種を用いる。これにより 400〜 600℃の高温域の酸素過剰雰囲気の排ガス中のNO_x を効率よく吸蔵することができ、NO_x 浄化能が向上する。このNO_x 吸蔵材の担持量としては、ハニカム形状の基材１リットル当たり 0.1〜 0.5モルの範囲とするのが好ましい。これより少ないとNO_x 吸蔵能が得られず、これより多く担持すると貴金属がNO_x 吸蔵材で覆われて活性が低下するようになる。
【００２０】
なおアルカリ金属は、排ガス中の SO₂がさらに酸化されて生じる SO₃と反応して硫酸塩となりやすいが、その反面硫酸塩の分解も容易であり硫黄被毒が生じにくい。したがって上流側の高温型NO_x吸蔵還元触媒にアルカリ金属を担持すれば、アルカリ金属が硫酸塩となることによって下流側の低温型NO_x吸蔵還元触媒の硫黄被毒が防止でき、かつアルカリ金属の硫酸塩は還元雰囲気で容易に還元されるため、生成した SO₂はそのまま低温型NO_x吸蔵還元触媒を通過して排出されるとともにアルカリ金属はNO_x吸蔵能が復活する。これにより硫黄被毒が防止され、耐久性に優れた排ガス浄化装置となる。
【００２１】
低温型NO_x吸蔵還元触媒も、多孔質担体と、多孔質担体に担持された貴金属及びNO_x吸蔵材とから構成される。多孔質担体としては、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、ジルコニア、チタニア、ゼオライトなどを用いることができる。このうちの一種でもよいし複数種類を混合あるいは複合化して用いることもできる。高温型NO_x吸蔵還元触媒に用いた多孔質担体と同種であってもよいし異種の多孔質担体を用いることもできる。
【００２２】
この多孔質担体は、コーディエライトあるいは金属箔などから形成されたハニカム形状の基材にコートしたハニカム触媒として用いられるのが一般的であるが、ペレット状に形成してペレット触媒としてもよい。
また貴金属としては、Pt、Rh、Pd、Irなどが例示される。中でも活性の高いPtが特に好ましい。また貴金属の担持量は、ハニカム形状の基材１リットル当たり 0.1〜10ｇとすることが好ましい。これより少ないと浄化活性が不足し、これより多く担持しても効果が飽和するとともに高価となる。
【００２３】
低温型NO_x吸蔵還元触媒において、多孔質担体に担持されるNO_x吸蔵材としては、Ba，Be，Mg，Ca，Srなどのアルカリ土類金属及びLaから選ばれる少なくとも一種を用いることが望ましい。これにより 250〜 450℃の低温域の酸素過剰雰囲気の排ガス中のNO_xを効率よく吸蔵することができ、NO_x浄化能が向上する。このNO_x吸蔵材の担持量としては、ハニカム形状の基材１リットル当たり 0.1〜 0.5モルの範囲とするのが好ましい。これより少ないとNO_x吸蔵能が得られず、これより多く担持すると貴金属がNO_x吸蔵材で覆われて活性が低下するようになる。
【００２４】
なお、NO_x吸蔵材としてアルカリ金属を用いると、触媒の三元活性が低下することがわかっている。したがってアルカリ金属を担持した高温型NO_x吸蔵還元触媒では、三元活性が低下する。しかし下流側に配置された低温型NO_x吸蔵還元触媒にはアルカリ金属が担持しないようにすれば、下流側の低温型NO_x吸蔵還元触媒で三元活性が確保されるため、排ガス浄化装置全体としても三元活性を確保することができる。
【００２５】
高温型NO_x吸蔵還元触媒及び低温型NO_x吸蔵還元触媒の少なくとも一方には、セリアなどの酸素吸蔵放出材を含むことも好ましい。これによりリーン雰囲気とストイキ〜リッチ雰囲気との酸素濃度差が縮小されるため、三元活性が発現し浄化性能が一層向上する。
本発明の排ガス浄化装置において、高温型NO_x吸蔵還元触媒と低温型NO_x吸蔵還元触媒との構成比率は特に制限されないが、それぞれの容積比で、高温型NO_x吸蔵還元触媒：低温型NO_x吸蔵還元触媒＝１：20〜20：１の範囲とするのが好ましい。またコストの増大を防ぐためには、排ガス浄化装置全体として従来のNO_x吸蔵還元触媒とほぼ同量の貴金属担持量となるように構成するのが好ましい。
【００２６】
【実施例】
以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明する。
（実施例１）
図１に本実施例の排ガス浄化装置を示す。この排ガス浄化装置は、一つの触媒コンバータ１内の排ガス流の上流側に高温型NO_x吸蔵還元触媒２が配置され、その下流側に低温型NO_x吸蔵還元触媒３が配置されている。高温型NO_x吸蔵還元触媒２と低温型NO_x吸蔵還元触媒３とは、約５mmの間隔を隔てて直列に配置されている。以下、高温型NO_x吸蔵還元触媒２と低温型NO_x吸蔵還元触媒３の製造方法を説明し、それぞれの触媒の構成の詳細な説明に代える。
【００２７】
＜高温型NO_x吸蔵還元触媒２の調製＞
ジルコニア粉末に、所定濃度の硝酸ロジウム水溶液を含浸させ、濾過・乾燥してRhを 0.5重量％担持したRh／ZrO₂粉末を調製した。
次にこのRh／ZrO₂粉末 250ｇと、活性 Al₂O₃粉末 500ｇと、TiO₂粉末 500ｇと、CeO₂粉末 100ｇと、硝酸アルミニウム水溶液及び水を混合してスラリーを調製した。このスラリー中にコーディエライト製ハニカム基材（容積１Ｌ）を浸漬し、引き上げて余分なスラリーを吹き払った後 250℃で１時間乾燥し、 500℃で１時間焼成してコート層を形成した。コート層はハニカム基材１Ｌに対して 250ｇ形成された。
【００２８】
得られた担体を所定濃度のジニトロジアンミン白金硝酸水溶液に浸漬し、引き上げて余分な液滴を吹き払い 250℃で１時間乾燥してPtを担持した。Ptの担持量はハニカム基材１Ｌに対して 2.0ｇである。続いて所定濃度の硝酸カリウム水溶液の所定量をコート層に吸水させ、 250℃で１時間乾燥後 500℃で１時間焼成してＫを担持して、高温型NO_x吸蔵還元触媒２を調製した。Ｋの担持量はハニカム基材１Ｌに対して 0.3モルである。
【００２９】
＜低温型NO_x吸蔵還元触媒の調製＞
硝酸カリウム水溶液の代わりに酢酸バリウム水溶液を用いたこと以外は上記と同様にして、低温型NO_x吸蔵還元触媒３を調製した。Rh及びPtの担持量は高温型NO_x吸蔵還元触媒２と同一であり、Baはハニカム基材１Ｌに対して 0.3モル担持されている。
【００３０】
＜排ガス浄化装置の形成＞
上記高温型NO_x吸蔵還元触媒２と低温型NO_x吸蔵還元触媒３を、高温型NO_x吸蔵還元触媒２が排ガス流の上流側に低温型NO_x吸蔵還元触媒３がその下流側になるように、約５mmの間隔を開けて触媒コンバータ１内に配置し、本実施例の排ガス浄化装置を形成した。
【００３１】
＜試験＞
この排ガス浄化装置を 1.8Ｌのリーンバーンエンジンの排気系に取り付け、市街地走行を模擬したパターンで促進耐久試験を行った後、10−15モードエミッションを測定した。そのNO_x浄化率を表１に示す。なお10−15モードでは、排ガス温度は 250〜 500℃の間で大きく変動している。
【００３２】
（実施例２）
実施例１と同様にして高温型NO_x吸蔵還元触媒を調製した。
また硝酸カリウム水溶液の代わりに酢酸ストロンチウム水溶液を用いたこと以外は実施例１の高温型NO_x吸蔵還元触媒の製造方法と同様にして、低温型NO_x吸蔵還元触媒を調製した。Rh及びPtの担持量は実施例１の低温型NO_x吸蔵還元触媒と同一であり、Srはハニカム基材１Ｌに対して 0.3モル担持されている。
【００３３】
そして高温型NO_x吸蔵還元触媒と低温型NO_x吸蔵還元触媒を、実施例１と同様に触媒コンバータ１内に配置して本実施例の排ガス浄化装置を形成した。そして実施例１と同様にしてNO_x浄化率を測定し、結果を表１に示す。
（実施例３）
実施例１と同様にして高温型NO_x吸蔵還元触媒を調製した。
【００３４】
また硝酸カリウム水溶液の代わりに硝酸ランタン水溶液を用いたこと以外は実施例１の高温型NO_x吸蔵還元触媒の製造方法と同様にして、低温型NO_x吸蔵還元触媒を調製した。Rh及びPtの担持量は実施例１の低温型NO_x吸蔵還元触媒と同一であり、Laはハニカム基材１Ｌに対して 0.3モル担持されている。
そして高温型NO_x吸蔵還元触媒と低温型NO_x吸蔵還元触媒を、実施例１と同様に触媒コンバータ１内に配置して本実施例の排ガス浄化装置を形成した。そして実施例１と同様にしてNO_x浄化率を測定し、結果を表１に示す。
【００３５】
（実施例４）
硝酸カリウム水溶液の代わりに酢酸ナトリウム水溶液を用いたこと以外は実施例１の高温型NO_x吸蔵還元触媒の製造方法と同様にして、高温型NO_x吸蔵還元触媒を調製した。Rh及びPtの担持量は実施例１の高温型NO_x吸蔵還元触媒と同一であり、Naはハニカム基材１Ｌに対して 0.3モル担持されている。
【００３６】
また実施例１と同様にして低温型NO_x吸蔵還元触媒を調製した。
そして高温型NO_x吸蔵還元触媒と低温型NO_x吸蔵還元触媒を、実施例１と同様に触媒コンバータ１内に配置して本実施例の排ガス浄化装置を形成した。そして実施例１と同様にしてNO_x浄化率を測定し、結果を表１に示す。
（実施例５）
実施例４の高温型NO_x吸蔵還元触媒（Na担持）と実施例２の低温型NO_x吸蔵還元触媒（Sr担持）を用い、実施例１と同様に触媒コンバータ１内に配置して本実施例の排ガス浄化装置を形成した。そして実施例１と同様にしてNO_x浄化率を測定し、結果を表１に示す。
【００３７】
（実施例６）
実施例４の高温型NO_x吸蔵還元触媒（Na担持）と実施例３の低温型NO_x吸蔵還元触媒（La担持）を用い、実施例１と同様に触媒コンバータ１内に配置して本実施例の排ガス浄化装置を形成した。そして実施例１と同様にしてNO_x浄化率を測定し、結果を表１に示す。
【００３８】
（実施例７）
Ｋの担持量を 0.1モル／Ｌとしたこと以外は実施例１と同様にして高温型NO_x吸蔵還元触媒を調製し、Baの担持量を 0.1モル／Ｌとしたこと以外は実施例１と同様にして低温型NO_x吸蔵還元触媒を調製した。そして実施例１と同様に触媒コンバータ１内に配置して本実施例の排ガス浄化装置を形成し、同様にしてNO_x浄化率を測定した結果を表１に示す。
【００３９】
（実施例８）
Ｋの担持量を 0.5モル／Ｌとしたこと以外は実施例１と同様にして高温型NO_x吸蔵還元触媒を調製し、Baの担持量を 0.5モル／Ｌとしたこと以外は実施例１と同様にして低温型NO_x吸蔵還元触媒を調製した。そして実施例１と同様に触媒コンバータ１内に配置して本実施例の排ガス浄化装置を形成し、同様にしてNO_x浄化率を測定した結果を表１に示す。
【００４０】
（比較例１）
実施例１と同様にして調製されたコート層をもつ担体を所定濃度のジニトロジアンミン白金硝酸水溶液に浸漬し、引き上げて余分な液滴を吹き払い 250℃で１時間乾燥してPtを担持した。Ptの担持量はハニカム基材１Ｌに対して 4.0ｇである。続いて所定濃度の酢酸カリウム水溶液と酢酸バリウム水溶液の所定量をそれぞれ吸水させ、それぞれ 250℃で１時間乾燥後 500℃で１時間焼成してＫ及びBaを担持した。Ｋ及びBaの担持量は、ハニカム基材１Ｌに対してそれぞれ 0.3モルである。
【００４１】
得られたNO_x吸蔵還元触媒を所定の触媒コンバータ内に配置し、実施例１と同様にしてNO_x浄化率を測定した。結果を表１に示す。
（比較例２）
Ｋ及びBaをそれぞれ 0.1モル／Ｌ担持したこと以外は比較例１と同様にしてNO_x吸蔵還元触媒を調製した。これを所定の触媒コンバータ内に配置し、実施例１と同様にしてNO_x浄化率を測定した。結果を表１に示す。
【００４２】
（比較例３）
Ｋ及びBaをそれぞれ 0.5モル／Ｌ担持したこと以外は比較例１と同様にしてNO_x吸蔵還元触媒を調製した。これを所定の触媒コンバータ内に配置し、実施例１と同様にしてNO_x浄化率を測定した。結果を表１に示す。
（評価）
【００４３】
【表１】

表１より、各実施例の排ガス浄化装置は比較例に比べて耐久試験後のNO_x浄化性能が大幅に向上していることがわかり、耐久性にも優れている。これは高温型NO_x吸蔵還元触媒を排ガス流の上流側に配置し、低温型NO_x吸蔵還元触媒をその下流側に配置したことに起因していることが明らかである。また表には示していないが、HC及びCOの浄化率も高い値を示していた。
【００４４】
なお、上記実施例及び比較例では、高温型NO_x吸蔵還元触媒と低温型NO_x吸蔵還元触媒とを一つの触媒コンバータ内に間隔を隔てて配置したが、図２に示すように間隔がなく両触媒が接した構造としてもよい。また図３に示すように、高温型NO_x吸蔵還元触媒と低温型NO_x吸蔵還元触媒とをそれぞれ触媒コンバータ内に配置して、その二つの触媒コンバータを直列に連結することもできる。
【００４５】
【発明の効果】
すなわち本発明の排ガス浄化装置によれば、低温域から高温域まで安定して高いNO_x吸蔵能を確保できるため、10−15モード走行時におけるNO_x浄化率が格段に向上する。
また硫黄被毒が抑制されるため耐久性に優れ、長期間安定した浄化性能が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の排ガス浄化装置の構成を示す説明断面図である。
【図２】本発明の一実施例の排ガス浄化装置の他の態様を示す説明断面図である。
【図３】本発明の一実施例の排ガス浄化装置の他の態様を示す説明断面図である。
【符号の説明】
１：触媒コンバータ２：高温型NO_x吸蔵還元触媒
３：低温型NO _x吸蔵還元触媒

Claims

多孔質担体に貴金属とCs を除くアルカリ金属のみから選ばれる少なくとも一種のNO_x 吸蔵材とを担持してなり高温域でNO_x を吸蔵還元する高温型NO_x 吸蔵還元触媒と、
多孔質担体に貴金属とNO_x 吸蔵材とを担持してなり低温域でNO_x を吸蔵還元する低温型NO_x 吸蔵還元触媒と、からなり、
該高温型 NO _x 吸蔵還元触媒を排ガス流の上流側に配置し、該低温型 NO _x 吸蔵還元触媒を該高温型 NO _x 吸蔵還元触媒の下流側に配置してなることを特徴とする排ガス浄化装置。
前記低温型 NO _x 吸蔵還元触媒の前記 NO _x 吸蔵材はアルカリ土類金属及びランタンから選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の排ガス浄化装置。