JP3818153B2 - 光導波路装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ファクシミリ、コピー機、スキャナ等の原稿読み取り装置や、光通信装置、あるいはCDディスク等における光学系に用いられる光導波路装置に関する。特に、光導波路内を伝搬する光を光導波路内に閉じ込めるための空気クラッド層を有する光導波路装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、光導波路装置において、光導波路を伝搬する光の光路を大きく変化させる場合、空気の屈折率が小さいことを利用して、光導波路の屈曲部分の近辺に空気クラッド層(空気部)を設け、この空気クラッド層による全反射を利用して光の伝搬方向を曲げると共に屈曲部分における光の漏れを防止することは、一般的に知られている。
【0003】
このような空気クラッド層を光導波路の曲げ部分の近辺に設けた光導波路装置としては、例えば特開平4−7508号公報に示されたものがある。
【0004】
図1は特開平4−7508号公報に開示された光導波路装置の製造方法を説明するための各製造工程における斜視図である。以下、図1(a)〜(d)を参照して当該製造工程を説明する。
【0005】
図1(a)に示す工程では、反射型光曲げ導波路を形成するために積層構造の光導波路用基板10を準備する。この光導波路用基板10は気相成長法などにより製造される。この光導波路用基板10は、基板本体11、下部クラッド層12、光導波層13、上部クラッド層14、キャップ層15を順次積層状態に堆積することにより形成される。下部クラッド層12および上部クラッド層14は、光導波層13内に光を閉じ込めるための層であり、光導波層13は光を伝搬させるための層である。
【0006】
図1(b)に示す工程では、スピンコーティング法などを用いてフォトレジストをキャップ層15の全面に塗布し、フォトリソグラフィ技術により、三角形状に開口されたエッチング窓20aを有する反射ミラー用レジストパターン20を形成する。次に、この反射ミラー用レジストパターン20をマスクにしてドライエッチングすることによってキャップ層15から下部クラッド層12までエッチングし、三角形状をした凹部(空気クラッド層21)を形成する。その後、ガスプラズマや剥離液等を用いて不要になった反射ミラー用レジストパターン20を除去する。
【0007】
図1(c)に示す工程では、キャップ層15の全面にフォトレジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術を用いて該フォトレジストを露光および現像し、空気クラッド層21の縁で折れ曲がったストライブ形状の光導波路用レジストパターン22を形成する。この光導波路用レジストパターン22の形成時に、空気クラッド層21の内面は光導波路用レジストパターン22と同じフォトレジストからなるレジスト膜22aによって覆っておく。
【0008】
この光導波路用レジストパターン22及びレジスト膜22aをマスクにして図1(c)において斜線を施した領域22bをドライエッチングすることにより、上部クラッド層14の中程までエッチングし、キャップ層15および上部クラッド層14によって断面凸状のストリップ装荷型の構造を有する光導波路23を形成する。この際、空気クラッド層21内はレジスト膜22aで覆われているため、エッチングされない。その後、ガラスプラズマや剥離液等を用いて不要になった光導波路用のレジストパターン22およびレジスト膜22aを剥離すれば、図1(d)に示すような光導波路23が得られ、光導波路23の屈曲部外面24は空気クラッド層21及びその上の空気と接触することになる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の製造方法のようにフォトリソグラフィを用いた半導体プロセス技術によって積層して光導波路装置を製造した場合、エッチングによって空気クラッド層や光導波路を形成しているため、光導波路の屈曲部外面(空気クラッド層やその上の空気との界面)に表面荒れが生じる。即ち、上記のような製造方法では、光導波路の側面の一部がエッチングによって荒れることになる。このため、光導波路を伝搬する光が屈曲部外面に達すると、その光は屈曲部外面で拡散反射したり、散乱して光導波路の外に漏れたりしてしまい、光導波路装置の光導波特性が悪くなり、光伝搬効率が低下するという問題があった。また、上記のような製造方法では、多層成膜技術や半導体プロセス技術により製造するので、製造プロセスが複雑であった。
【0010】
【発明の開示】
本発明は、上記の従来例の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、光閉じ込め効果の高い空気クラッド層を基板内部に製作することができる光導波路装置を提供することにある。
【0011】
本発明にかかる光導波路装置は、樹脂成形された基板と、該基板の一方主面に形成された溝にコア材料を充填して形成された光導波路とを備えた光導波路装置であって、前記基板の成形時に、前記基板の一方主面に溝が設けられると共に当該溝の端面がその先端に向かうにつれて溝の深さが次第に小さくなるように形成され、前記基板の他方主面において前記溝の端面に対向する箇所に前記溝との間に前記基板の一部を介在させて空気クラッド層が凹設され、前記溝に充填された前記光導波路の端面に対向している前記クラッド層の面が、前記光導波路を伝搬してきた光を反射させて前記基板の前記一方主面側へ向かわせるように傾斜した面に形成され、前記基板の前記空気クラッド層を挟んで前記光導波路と反対側の部分が、前記溝の底部分における前記基板の厚みよりも大きな厚みを有していることを特徴としている。また、本発明の実施態様にあっては、前記空気クラッド層の前記光導波路の端面に対向している面で反射された光が出射される側の主面に、前記光導波路と光学結合するように光学素子が配置されており、前記光学素子は、前記基板の前記厚みの大きな部分と前記基板の前記光導波路と同じ側の部分との両側に跨るように配置されていることを特徴としている。従って、受光素子などを含む光導波路装置等の実装面積を小さくできる。また、本発明の光導波路装置は、成形法によって製造することができるので、製造工程が少なく、量産に適し、製造コストを安価にすることが可能になる。
【0013】
本発明の別な実施態様にあっては、前記光導波路の端面と前記空気クラッド層の間に前記基板の一部が薄板状に存在していることを特徴としている。さらに、前記光導波路の端面と前記空気クラッド層の間の前記基板の一部の厚みは一定であることが望ましい。このため、空気クラッド層を基板内に形成した後、基板の溝内にコア材料を充填して光導波路を形成する際、コア材料が溝から空気クラッド層に流れ出て光導波路が成形不良となったり、光導波路の縁に成形バリが発生するのを防ぐことができる。つまり、基板内に空気クラッド層を有する光導波路装置を成形法により製作することが可能になる。
【0017】
本発明のさらに別な実施態様にあっては、前記光導波路の端面が傾斜している。
【0018】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態)
図2(a)は本発明の第1の実施形態による光導波路装置Aの概略構成を示す平面図である。図2(b)は図2(a)における光導波路装置AをX1−X1線に沿って切断した断面図である。この光導波路装置Aは、主として、比較的屈折率の高い透明樹脂から成るクラッド基板1と光を閉じ込めて伝搬させる光導波路3とから構成されている。
【0019】
クラッド基板1は射出成形等の成形法によって成形されており、クラッド基板1の表面にはL状に屈曲した溝2が成形され、溝2の屈曲箇所の外隅側には、平面視で直角三角形状をした凹部(空気クラッド層4)が成形されている。溝2内には、基板材料である透明樹脂よりも屈折率の高い透明樹脂をコア材料として充填して光導波路3を形成している。よって、光導波路3はL状に屈曲しており、この屈曲面3aの外隅近傍で空気クラッド層4がクラッド基板1内に凹設されている。光導波路3の屈曲面3aは、光導波路3の光軸方向に対して略45度の角度で斜めに形成されており、光導波路3と空気クラッド層4との間には、クラッド基板1の一部が薄板状になって介在している。なお、光導波路3の屈曲面3aと空気クラッド層4の間の樹脂(空気クラッド層4の一部)厚みは、クラッド基板1の成形時や溝2にコア材料を充填する際に破損しない限度で薄い方が好ましい。
【0020】
この光導波路装置Aにおいては、例えば光ファイバ5から出射されて光導波路3内に入った光は、光導波路3とクラッド基板1(あるいは、上面の空気)との界面で全反射を繰り返しながら光導波路3内を伝搬し、屈曲面3aで全反射された光は伝搬方向を大きく(ほぼ90°)変えられる。しかし、光導波路3の屈曲面3aには、小さな入射角で光が入射することがあり、その場合には図2(a)に示すように、屈曲面3aからクラッド基板1へ光が漏れることがある。その場合、光導波路3の屈曲面3aから漏れた光は、クラッド基板1と空気クラッド層4との界面4aに達する。光導波路3とクラッド基板1との屈折率差はあまり大きくとれないが、クラッド基板1と空気の屈折率差は大きくできるので、屈曲面3aを通過した光も空気クラッド層4とクラッド基板1との界面4aでは全反射され易くなっており、空気クラッド層4の界面4aで全反射された光は再び屈曲面3aを通過して光導波路3内に戻る。しかも、空気クラッド層4の全反射に利用する界面4aを斜めに(特に、45度の角度に)傾けておくことにより光の伝搬方向を約90°曲げることができ、光の伝搬方向を大きく変化させることができる。よって、このような光導波路装置Aによれば、光を光導波路3内に閉じ込めつつ効率よく光の伝搬方向を変えることができる。
【0021】
本発明の光導波路装置Aによれば、空気クラッド層4はクラッド基板1の成形時に同時に射出成形されているので、空気クラッド層4である基板凹部の内面の仕上げ精度(平滑度)は金型の表面仕上げ精度をそのまま反映することになり、表面仕上げ精度の高い金型を用いることで空気クラッド層4の表面、特に光導波路3から漏れた光を全反射させる界面4aの表面荒れを極めて小さくすることができ、空気クラッド層4の表面における光の散乱や拡散を小さくでき、光導波路3内を伝搬する光の減衰を抑制できる。したがって、光導波路装置Aの光導波特性が良くなり、光伝搬効率が高まる。
【0022】
また、金型を用いて射出成形によりクラッド基板1や空気クラッド層4、溝2を同時に成形できるので、光導波路装置の製造プロセスを簡略化でき、光導波路装置Aの量産性を高めることができる。
【0023】
また、この実施形態による光導波路装置Aでは、光導波路3と空気クラッド層4との間にクラッド基板1が介在しているので、溝2にコア材料を充填して光導波路3を形成する際にコア材料が空気クラッド層4へ流出するのを防止でき、光導波路装置Aの製造が容易になる。
【0024】
(第2の実施形態)
図3(a)は本発明の第2の実施形態による光導波路装置Bの概略構成を示す平面図である。図3(b)は図3(a)における光導波路装置BをX2−X2線に沿って切断した断面図である。この実施形態における光導波路装置Bでも、光導波路3の屈曲面3aと対向する位置に、クラッド基板1の一部を介して空気クラッド層4を形成している。しかし、図2に示した光導波路装置Aでは、平面視において空気クラッド層4の全周がクラッド基板1によって囲まれていたのに対し、この光導波路装置Bでは空気クラッド層4と屈曲面3aとの間にはクラッド基板1が存在しているが他の辺では、図3(b)に示すように空気クラッド層4の周囲は開放されている。
【0025】
第1の実施形態のように空気クラッド層4の全周囲が囲まれている場合、クラッド基板1の成形時に空気クラッド層4を形成するための金型部分が空気クラッド層4内にはまり込んで全周をクラッド基板1で囲まれるので当該金型部分と空気クラッド層4との分離が困難になる。これに対し、この実施形態では、空気クラッド層4を成形するための金型部分がクラッド基板1で囲まれて空気クラッド層4内にはまり込むことがないので、成形後のクラッド基板1を金型から容易に取り外すことができる。なお、第1の実施形態において、クラッド基板1を金型から容易に取り外せるようにするためには、空気クラッド層4の外周面のうち屈曲面3aと対向している面以外の面にテーパーを施しておいてもよい。
【0026】
(第3の実施形態)
図4(a)は本発明の第3の実施形態による光導波路装置Cの概略構成を示す平面図である。図4(b)は図4(a)における光導波路装置CをX3−X3線に沿って切断した断面図である。この実施形態に示すように、空気クラッド層4はスリット状の溝によって形成してもよい。
【0027】
(第4の実施形態)
図5(a)は本発明の第4の実施形態による光導波路装置Dの概略構成を示す平面図である。図5(b)は図5(a)における光導波路装置DをX4−X4線に沿って切断した断面図である。この実施形態では、光導波路3の一部を円弧状に湾曲させており、それに応じて空気クラッド層4とクラッド基板1との界面4aも円弧状に屈曲させている。
【0028】
この光導波路装置Dにおいても、光導波路3内を伝搬する光は、光導波路3とクラッド基板1(あるいは、上面の空気)との界面で全反射を繰り返しながら光導波路3内を伝搬し、屈曲面3aで全反射された光は伝搬方向を大きく(ほぼ90°)変えられる。また、屈曲面3aからクラッド基板1へ光が漏れた場合には、光導波路3の屈曲面3aから漏れた光は、クラッド基板1と空気クラッド層4との界面4aに達する。そして、空気クラッド層4の界面4aで全反射された光は再び屈曲面3aを通過して光導波路3内に戻る。
【0029】
このように光導波路3を湾曲させる場合、その曲率が大きいと光が漏れ易くなるが、この実施形態のように湾曲部分の外側に空気クラッド層4を設けることによって光の漏れを小さくでき、光の導波効率を高めることができる。
【0030】
(第5の実施形態)
図6(a)(b)は本発明の第5の実施形態による光導波路装置Eの概略構成を示す斜視図及び断面図である。この実施形態では、クラッド基板1に形成された光導波路3の左右両側面及び下面を覆うようにして、クラッド基板1を隔てて、クラッド基板1にスリット状ないし溝状の空気クラッド層4が形成されている。また、光導波路3の上面では、空気(大気)が空気クラッド層の働きをしている。従って、4面の空気クラッド層により高い光閉じ込め効果をもって光導波路3内に光を閉じ込めることができる。
【0031】
このように本発明は、直線状の光導波路3の場合にも用いることができるものであり、また、スリット状の空気クラッド層4を用いることによって空気クラッド層4の占有面積を小さくでき、光導波路装置Eを小型化することができる。
【0032】
(第6の実施形態)
図7(a)は本発明の第6の実施形態による光導波路装置Fの概略構成を示す平面図である。図7(b)は図7(a)における光導波路装置FをX5−X5線に沿って切断した断面図である。この実施形態にあっては、クラッド基板1の上面に溝2を形成し、その溝2内にコア材料を充填して光導波路3を形成してあり、光導波路3の先端は斜めに傾斜させられている。一方、クラッド基板1の裏面では、光導波路3の先端に対向する位置において、断面が直角三角形状をした空気クラッド層4が凹設されており、空気クラッド層4と光導波路3との間には薄板状にクラッド基板1が介在している。
【0033】
しかして、この光導波路装置Fによれば、光導波路3内を伝搬してきた光は、光導波路3の先端面でクラッド基板1を透過して空気クラッド層4との界面4aに達し、当該界面4aで全反射されて上方へ出射される。よって、このような光導波路装置Fによれば、図8に示すように、クラッド基板1の上面に受光素子6などを配置することができ、受光素子6等を含めた光導波路装置Fの実装面積を小さくすることができる。
【0034】
【発明の効果】
本発明の光導波路装置にあっては、光導波路に隣接する箇所に空気クラッド層となる凹部が形成されているので、光導波路から出て空気クラッド層の界面に達した光は空気クラッド層の界面で全反射して再び光導波路内に戻され、光の閉じ込め効果が高くなる。しかも、本発明にあっては、空気クラッド層を基板成形時に同時に成形しているので、空気クラッド層の界面における樹脂表面の仕上げ精度は、金型のキャビティ内の表面仕上げ精度がそのまま反映することになり、平滑に仕上げることができる。よって、空気クラッド層の界面における散乱や乱反射を抑制することができ、光導波路装置の光導波特性や光伝搬効率を向上させることができる。また、本発明の光導波路装置は、成形法によって製造することができるので、製造工程が少なく、量産に適し、製造コストを安価にすることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】特開平4−7508号公報に開示された製造方法を説明するための各製造工程における光導波路装置の斜視図である。
【図2】(a)は本発明の第1の実施形態による光導波路装置の概略構成を示す平面図であり、(b)は(a)における光導波路装置をX1−X1線に沿って切断した断面図である。
【図3】(a)は本発明の第2の実施形態による光導波路装置の概略構成を示す平面図であり、(b)は(a)における光導波路装置をX2−X2線に沿って切断した断面図である。
【図4】(a)は本発明の第3の実施形態による光導波路装置の概略構成を示す平面図であり、(b)は(a)における光導波路装置をX3−X3線に沿って切断した断面図である。
【図5】(a)は本発明の第4の実施形態による光導波路装置の概略構成を示す平面図であり、(b)は(a)における光導波路装置をX4−X4線に沿って切断した断面図である。
【図6】(a)は本発明の第5の実施形態による光導波路装置の概略構成を示す平面図であり、(b)は(a)における光導波路装置の断面図である。
【図7】(a)は本発明の第6の実施形態による光導波路装置の概略構成を示す平面図であり、(b)は(a)における光導波路装置をX5−X5線に沿って切断した断面図である。
【図8】同上の光導波路装置に受光素子を実装した様子を示す断面図である。
【符号の説明】
1 基板
2 溝
3 光導波路
3a 屈曲面
4 空気クラッド層
4a 反射面
Claims (5)
- 樹脂成形された基板と、該基板の一方主面に形成された溝にコア材料を充填して形成された光導波路とを備えた光導波路装置であって、
前記基板の成形時に、前記基板の一方主面に溝が設けられると共に当該溝の端面がその先端に向かうにつれて溝の深さが次第に小さくなるように形成され、前記基板の他方主面において前記溝の端面に対向する箇所に前記溝との間に前記基板の一部を介在させて空気クラッド層が凹設され、
前記溝に充填された前記光導波路の端面に対向している前記クラッド層の面が、前記光導波路を伝搬してきた光を反射させて前記基板の前記一方主面側へ向かわせるように傾斜した面に形成され、
前記基板の前記空気クラッド層を挟んで前記光導波路と反対側の部分が、前記溝の底部分における前記基板の厚みよりも大きな厚みを有していることを特徴とする光導波路装置。 - 前記空気クラッド層の前記光導波路の端面に対向している面で反射された光が出射される側の主面に、前記光導波路と光学結合するように光学素子が配置されており、
前記光学素子は、前記基板の前記厚みの大きな部分と前記基板の前記光導波路と同じ側の部分との両側に跨るように配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の光導波路装置。 - 前記光導波路の端面が、傾斜していることを特徴とする、請求項1に記載の光導波路装置。
- 前記光導波路の端面と前記空気クラッド層の間に前記基板の一部が薄板状に存在していることを特徴とする、請求項1に記載の光導波路装置。
- 前記光導波路の端面と前記空気クラッド層の間の前記基板の一部の厚みが一定であることを特徴とする、請求項1に記載の光導波路装置。
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Families Citing this family (6)
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Family Cites Families (17)
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JP2598025B2 (ja) * | 1987-07-23 | 1997-04-09 | キヤノン株式会社 | 光導波路の製造方法 |
JP2551608B2 (ja) * | 1987-12-15 | 1996-11-06 | 松下電工株式会社 | 光センサ |
JP2824314B2 (ja) * | 1990-04-25 | 1998-11-11 | 沖電気工業株式会社 | 反射型光曲げ導波路の製造方法 |
JPH04104107A (ja) * | 1990-08-23 | 1992-04-06 | Fujitsu Ltd | 平面光導波路と光ファイバとの接続構造 |
JP2605363Y2 (ja) * | 1992-02-18 | 2000-07-10 | 京セラ株式会社 | 光導波路構造 |
JP2605364Y2 (ja) * | 1992-02-25 | 2000-07-10 | 京セラ株式会社 | 光分岐器 |
JPH063539A (ja) * | 1992-06-24 | 1994-01-14 | Hitachi Cable Ltd | スリット付き光導波路の製造方法 |
JPH0629566A (ja) * | 1992-07-08 | 1994-02-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 導波路集積型半導体受光素子 |
JP3131044B2 (ja) * | 1992-09-18 | 2001-01-31 | 京セラ株式会社 | 光導波路デバイス |
JP3307505B2 (ja) * | 1994-06-20 | 2002-07-24 | 古河電気工業株式会社 | 石英系コーナーミラー導波路とその製造方法 |
JP3408896B2 (ja) * | 1995-07-14 | 2003-05-19 | シャープ株式会社 | 導波路型縮小イメージセンサ及びその製造方法 |
JP3995309B2 (ja) * | 1997-07-31 | 2007-10-24 | シャープ株式会社 | 光集積回路素子 |
JP3570874B2 (ja) * | 1997-12-25 | 2004-09-29 | 京セラ株式会社 | 光接続構造 |
JP2000019337A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-01-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光導波路及びその製造方法 |
JP2000258649A (ja) * | 1999-03-05 | 2000-09-22 | Hoya Corp | 光導波路及びその製造方法 |
JP3568156B2 (ja) * | 2000-03-01 | 2004-09-22 | 日本電信電話株式会社 | 半導体装置 |
JP2001330746A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光モジュールおよびその製造方法、ならびに光回路装置 |
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