JP2004295043A - 光導波路 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】正方形のコア15の上下両面に接する下部クラッド層12及び上部クラッド層14の組成と、コアの左右両面に接する中間クラッド層13の組成を相違させ、水平方向の比屈折率差Δ1と垂直方向の比屈折率差Δ2をΔ1>Δ2の関係とする。水平方向の比屈折率差Δ1を大きく設定することにより許容曲げ半径が小径化し、垂直方向の接続損失が相対的に小さいので接続損失の増加が抑制される。また、比屈折率差を小さく設定して接続損失の減少を図る場合に、水平方向の比屈折率差Δ1が相対的に大きいことから許容曲げ半径の大径化を抑制でき、光導波路を備える素子の小型化および低損失化に効果を奏する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、光導波路に関するものであり、特に、埋込み型の光導波路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
現在、光通信用部品に使用される光導波路の構造は、正方形のコアを有する埋込み型が主流となっている。図5は埋込み型光導波路を示し、1は基板、2は下部クラッド層、3は上部クラッド層、4はコアである。正方形のコア4の上下左右を覆う下部クラッド層2と上部クラッド層3の組成は同一であり、コア4よりも低屈折率となるように形成されていて、光ファイバ等を通してコア4の端面へ入射された光は全反射の原理によりコア4内に閉じ込められて伝搬し、もう一方の端面から光ファイバ等へ出力される。その際、光は特定のモードでのみ導波路中を伝搬し、伝搬が許容されるモードの数はコア寸法およびコアとクラッドの比屈折率差Δによって決定されるが、光通信用部品では通常一つのモードのみの伝搬が許容されるように設計する。
【0003】
光導波路の形成工程の一例を図6にしたがって説明する。先ず、シリコン(Si)などの基板1上に下部クラッド層2を形成し(a)、下部クラッド層2の上にコア層4aを形成する(b)。そして、コア層4aの上にフォトレジスト5を塗布し(c)、フォトリソグラフィによってマスクパターンを形成する(d)。次に、エッチング処理によりコア層4aの不要部分を除去してコア4を形成し(e)、マスク5を除去し(f)、その後にコア4の側面及び上面を覆う上部クラッド層3を形成して(g)、図5に示す埋込み型単一モード光導波路ができあがる(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
【特許文献1】特開平9−127348号公報(図1、図2)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
光導波路の許容曲げ半径にはコアとクラッドの比屈折率差Δが関係しており、比屈折率差Δを大きくすることでコアの許容曲げ半径を小さくできる。図7の(a)と(b)はコア4の許容曲げ半径Rの大小による導波路素子寸法の違いを示し、(a)における比屈折率差Δよりも(b)の比屈折率差Δを大きくすることによって、(b)の光導波路は(a)の光導波路よりも全長を短縮することができて、特に多出力スプリッタや合分波器などを構成する際に有利である。
【0006】
しかし、比屈折率差Δと接続損失は背反する関係にあり、比屈折率差Δを大きくすると、単一モード条件を満足する為にコア寸法を小さくする必要があり、その結果、図8に示すようにコア4から出力された円状のモードbの径は光ファイバBの径に比べ小さくなるため、接続損失が増大するという問題が生じる。また、接続損失の改善には、図9に示すようにコア4の光ファイバとの接点となる端面断面積を増大させたスポットサイズ変換機構を設けることが有効であるが、これには正方形断面のコアの端部をピラミッド形に拡大しなければならず、工作が容易ではなく製造工程が複雑になるという問題がある。
【0007】
そこで、許容曲げ半径の小径化と接続損失の低下を両立させるために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明は上記課題を解決することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
この発明は、上記目的を達成するために提案するものであり、正方形のコアを有する埋込み型光導波路において、コアの上下両面に接するクラッドの屈折率とコアの左右両面に接する少なくともどちらか一方のクラッドの屈折率を相違させ、水平方向の比屈折率差Δ1と垂直方向の比屈折率差Δ2をΔ1>Δ2の関係としたことを特徴とする光導波路を提供するものである。
【0009】
また、上記クラッドは、コアの下面に接する下部クラッド層と、コアの左右両面に接する中間クラッド層と、コアの上面に接する上部クラッド層とからなる横型三層構造である光導波路を提供するものである。
【0010】
また、上記クラッドは、コアの左側面に接する左クラッド層と、コアの上下両面に接する中間クラッド層と、コアの右側面に接する右クラッド層とからなる縦型三層構造である光導波路を提供するものである。
【0011】
また、上記コアの端部の横幅をテーパ形に拡大してスポットサイズ変換機構を構成した光導波路を提供するものである。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の一形態を図に従って詳述する。図1は、光導波路を示し、11は例えばシリコン(Si)材料からなる基板、12は下部クラッド層、13は中間クラッド層、14は上部クラッド層、15はコアである。本発明の特徴は、クラッドを三層構成とし、下部クラッド層12と上部クラッド層14の屈折率よりも中間クラッド層13の屈折率を低くしていることにある。つまり、コア15の屈折率をn1、下部クラッド層12と上部クラッド層14の屈折率をn2、中間クラッド層14の屈折率をn3とすると、n1>n2>n3 の関係にあり、コア15と中間クラッド層14の比屈折率差をΔ1((n1 2−n2 2)/2n1 2)コア15と下部クラッド層12ならびに上部クラッド層14の比屈折率差をΔ2((n2 2−n3 2)/2n2 2)とするとΔ1>Δ2の関係となる。
【0013】
すなわち、湾曲パターンのコアを配置する場合に、コアは基板面に対して水平にカーブする形状とするので、基板と平行な水平方向の比屈折率差Δ1を垂直方向の比屈折率差Δ2よりも大きくすることによって、クラッドの組成が均一な従来の光導波路よりも水平面上の許容曲げ半径をより小さくすることができる。また、垂直方向の比屈折率差Δ2はΔ1より相対的に小さいことから、図1(d)に示すようにコア15から出力されたモードaは、従来のモードbに比べ縦方向に伸びた楕円状であるため光ファイバ等との接続損失の増加を抑制することができ、従来は両立させることが困難であった許容曲げ半径の小径化と接続損失の低下を達成できる。
【0014】
次に、光導波路の形成工程の一例を図2にしたがって説明する。エッチングによるコア層形成工程(e)及びフォトレジスト除去工程(f)までは、従来例として述べた工程と同一であり、まず例えばシリコン材料からなる基板11上に下部クラッド層12を形成し(a)、下部クラッド層12上にコア層15aを形成する(b)。次に、コア層15a上にマスク16を塗布し(c)、フォトリソグラフィ、及びエッチング処理によりコアパターンを形成する(d)。そして、エッチングによりコア層15aの不要部分を除去してコア15を形成し(e)、不要なマスクを除去する(f)。
【0015】
次に、下部クラッド層12の材料よりも光屈折率の低い材料で中間クラッド層13を形成して、中間クラッド層13とコア層15の上面が揃うように平滑化し(g)、その上に下部クラッド層12と同一組成の材料により上部クラッド層14を形成して光導波路ができあがる(h)。
【0016】
尚、基板11にSiウェーハを用い、クラッドとコアに石英(SiO2)(ドーパント濃度の差によって屈折率を相違させる)を用いて、FHD法(Flame Hydrolysis Deposition: 火炎堆積法)によってクラッドとコアを形成する手法が一般的であるが、アルミナ基板やジルコニア基板なども用いることができ、FHD法以外にプラズマCVD法や電子ビーム蒸着法などによる形成方法も知られている。また、基板やクラッドとコアにポリイミドなどのポリマー樹脂を用いることもでき、材料や形成方法については限定するものではない。
【0017】
図3は、スポットサイズ変換機構を設けた光導波路を示し、コア15の端部の横幅がテーパ形に拡大する形状とすることによりスポットサイズを変換する。本発明の光導波路の構造は、下部クラッド層12ならびに上部クラッド層14とコア15との比屈折率差Δ2が、中間クラッド層13とコア15との比屈折率差Δ1よりも小さく、基板11に対して垂直方向の接続損失が小さいので、コア15の平面形状のみをテーパ形として水平方向の接続損失を減少すれば、図3(d)に示すようにスポットサイズが拡大したモードCとなって全体としての接続損失が減少し、コア15の端部をピラミッド型のように三次元テーパ形としなくてもよい。したがって、図2(d)(e)のフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程によって図示の平面テーパ形状に形成することができるので、図1の光導波路とコア形成工程は同じであり、形状変更によって工程が複雑化することはなく、スポットサイズ変換機構を設けるにあたって製作が容易である。
【0018】
図4は他の実施形態を示し、21は基板であり、クラッドは左クラッド層22と右クラッド層23と、左右のクラッド層に挟まれた中間クラッド層24の縦型三層構造となっていて、コア25の左右側面に接する左クラッド層22と右クラッド層23の比屈折率差Δを大きくしてコア25の水平方向の許容曲げ半径を小径化しており、中間クラッド層24の比屈折率差Δを小さく形成することによって垂直方向の接続損失を減少させており、図1の光導波路と同様に接続損失と許容曲げ半径の減少を両立させている。
【0019】
この場合の作成工程の一例を以下に述べる。先ず基板21上に比屈折率差Δが小さい原料によって十分な厚さのクラッド層を形成し、クラッド層の左右中間部をエッチングにより除去して左クラッド層22と右クラッド層23を形成する。そして、左クラッド層22と右クラッド層23の間に、より比屈折率差Δが大きい原料によって下部中間クラッド層24aを形成し、下部中間クラッド層24aの上に高屈折率の原料によってコア25を形成し、その上に下部中間クラッド層24aと同一原料によって上部中間クラッド層24bを形成する。また、ポリマー樹脂とスタンパーを用いた型押し成形法によれば、エッチングによらずに左クラッド層22と右クラッド層23を形成できて、より製造が容易である。
【0020】
尚、この発明は上記の実施形態に限定するものではなく、この発明の技術的範囲内において種々の改変が可能であり、この発明がそれらの改変されたものに及ぶことは当然である。
【0021】
【発明の効果】
本発明の光導波路は、水平方向の比屈折率差と垂直方向の比屈折率差とを相違させ、水平方向の比屈折率差Δ1と垂直方向の比屈折率差Δ2をΔ1>Δ2の関係としたので、比屈折率差を大きく設定して許容曲げ半径の小径化を図る場合に、Δ1よりもΔ2が小さいことから接続損失の増加を抑制できる。また、比屈折率差を小さく設定して接続損失の減少を図る場合に、水平方向の比屈折率差Δ1が相対的に大きいことから許容曲げ半径の大径化を抑制でき、光導波路を備える素子の小型化および低損失化に効果を奏する。
【0022】
また、垂直方向の接続損失が相対的に小さいため、スポットサイズ変換機構を構成する場合に水平方向の接続損失低減のみを考慮すればよく、コアの横幅のみをテーパ形に拡大した構造で有効性を確保できる。このような平面テーパ形状のコアは、通常のフォトリソグラフィ及びエッチングによるコア形成工程で容易に形成できて特別な追加工程を必要としないので、低損失で小型の光導波路素子を簡単に作製できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光導波路の構造を示し、(a)は正面図、(b)は側面図、(c)は(b)のA−A線断面図、(d)は光導波路の出力モードを示す解説図である。
【図2】(a)乃至(h)は図1の光導波路の作成工程図である。
【図3】光導波路の他の実施形態の構造を示し、(a)は正面図、(b)は側面図、(c)は(b)のA−A線断面図、(d)は光導波路の出力モードを示す解説図である。
【図4】光導波路の他の実施形態の構造を示し、(a)は正面図、(b)は側面図、(c)は(b)のA−A線断面図である。
【図5】従来の光導波路の構造を示し、(a)は正面図、(b)は側面図、(c)は(b)のA−A線断面図である。
【図6】(a)乃至(g)は図5の光導波路の作成工程図である。
【図7】(a)(b)は光導波路のコアパターンの形状例を示す解説図である。
【図8】光導波路の出力モードと光ファイバの接続損失を示す解説図である。
【図9】スポットサイズ変換機構を示す斜視図である。
【符号の説明】
11 シリコン基板
12 下部クラッド層
13 中間クラッド層
14 上部クラッド層
15 コア
21 シリコン基板
22 左クラッド層
23 右クラッド層
24 中間クラッド層
25 コア
Claims (4)
- 正方形のコアを有する埋込み型光導波路において、コアの上下両面に接するクラッドの屈折率とコアの左右両面に接する少なくともどちらか一方のクラッドの屈折率を相違させ、水平方向の比屈折率差Δ1と垂直方向の比屈折率差Δ2をΔ1>Δ2の関係としたことを特徴とする光導波路。
- 上記クラッドは、コアの下面に接する下部クラッド層と、コアの左右両面に接する中間クラッド層と、コアの上面に接する上部クラッド層とからなる横型三層構造である請求項1記載の光導波路。
- 上記クラッドは、コアの左側面に接する左クラッド層と、コアの上下両面に接する中間クラッド層と、コアの右側面に接する右クラッド層とからなる縦型三層構造である請求項1記載の光導波路。
- 上記コアの端部の横幅をテーパ形に拡大してスポットサイズ変換機構を構成した請求項1または2記載の光導波路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003090964A JP2004295043A (ja) | 2003-03-28 | 2003-03-28 | 光導波路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003090964A JP2004295043A (ja) | 2003-03-28 | 2003-03-28 | 光導波路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004295043A true JP2004295043A (ja) | 2004-10-21 |
Family
ID=33404455
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003090964A Pending JP2004295043A (ja) | 2003-03-28 | 2003-03-28 | 光導波路 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2004295043A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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2003
- 2003-03-28 JP JP2003090964A patent/JP2004295043A/ja active Pending
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US9151888B2 (en) | 2010-08-27 | 2015-10-06 | Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | Optical waveguide and electronic device |
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