JP3758992B2 - 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称する)に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに係り、特に複数個の処理工程を含む処理手順に基づいて各ロットを複数個の処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決める技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の基板処理装置のスケジュール作成方法として、ある処理工程が完了したことを受けて次の処理工程を行なうというイベント駆動型が挙げられる。
【0003】
例えば、aないしeの7種類の処理工程を含む、表1に示すような予め決められた処理手順(レシピとも称される)に基づいて1ロットの基板に対して処理を施す。
【0004】
【表1】
【0005】
この処理手順では、a,b,c,b,d,b,eという順序で各処理工程を実施する。なお、この例のおける各処理工程は「前作業」と、「本作業」と、「後作業」との三つ作業に分かれている。また、表1中に記載の数値は、a〜e処理工程の各作業における処理時間(分)の一例である。各処理工程の大まかな処理内容は、例えば、a処理工程がカセットから基板を取り出して搬送準備を行なう工程であり、b処理工程が基板を搬送する工程であり、c処理工程が薬液処理及び純水洗浄処理であり、d処理工程が乾燥処理であり、e処理工程が搬送して基板をカセットに収納する処理である。
【0006】
また、この表1は、次のような意味を表している。
つまり、a処理工程では、1分の前作業が完了した後、5分の本作業によって1ロットの基板に処理を施した後、1分の後作業を行なう。b処理工程では、1分の前作業が完了した後、4分の本作業によって1ロットの基板に処理を施すことで後作業なしに作業を終了する。また、c処理工程では、2分の前作業が終了した後、5分の本作業によって1ロットの基板に処理を施し、1分の後作業によって処理を終了する。二回目のb処理工程では、1分の前作業と3分の本作業とを行い、d処理工程では2分の前作業、3分の本作業、1分の後作業である。さらに、三回目のb処理工程では1分の前作業と4分の本作業とを行ない、e処理工程では2分の前作業と6分の本作業とを行なう。
【0007】
この表1に示した処理手順で1ロットの基板に対して処理を実施すると、図10のタイムチャートのようになる。
【0008】
つまり、本作業が終わった時点で終了信号e(通常の矢印で示す)が次のb処理工程を受け持つ処理部に対して出力されるので、この時点から初めて次のb処理工程を受け持つ処理部が前作業を始めることになる。そのため基板がb処理工程に実際に搬送されて払い出されるのは、符号m(黒三角矢印で示す)の時点となる。以下、各処理工程では同様に各終了信号eを受けた後、符号mの時点で実際にロットが次の処理工程に搬送される。
【0009】
また、図11は、上述したイベント駆動型により2ロットを順次に処理する場合のタイムチャートを示している。図中、「白色の矩形」が1ロット目を示し、「ハッチングした矩形」が2ロット目を示している。このように各処理工程での本作業が終了した時点で次の処理工程にそのことが伝えられて前準備が開始され、その前準備ができた時点で実際に基板が搬送されて払い出されるようになっている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来のスケジュール作成方法によると、本作業が完了した時点でそのことが次の処理工程に伝えられ、それから次の処理工程の前作業が開始されるように処理が進められるので、図11のタイムチャートに示すように待機時間(図中の黒塗り部分)が多く発生する。したがって、基板処理装置が備える各処理部の稼働率が大幅に低下するという問題点がある。
【0011】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理を開始する前に予め処理手順に基づきスケジュールを作成することにより、基板処理装置における待機時間を抑制して稼働率を向上することができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に処理を施すための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、制御部が複数の処理工程を含む処理手順に基づいて各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記制御部は、いずれかのロットについて最初の処理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のうち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置するとともに、既に配置されている処理工程のうち、処理を終えてロットの搬出を行なう時刻である払出予定時刻が未定となっている処理工程の後ろには、前記終了予定時刻が最も早いロットの処理工程を配置することを回避することを特徴とするものである。
【0013】
(削除)
【0014】
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、処理部での処理を終えた後、次の処理工程までに待機させる上限の時間として規定された許容時間を有する処理工程を前記処理手順が含む場合には、この許容時間以内となるように、許容時間を有する処理工程のその後ろに次の処理工程を配置することを特徴とするものである。
【0015】
また、請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、先に配置されたロットの処理工程よりも後に配置されたロットの処理工程が時間的に前に位置する追い越しが生じた場合には、追い越したかたちのロットの処理工程を優先的に配置することを特徴とするものである。
【0016】
また、請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記複数個の処理部は、薬液処理部と純水洗浄処理部を含むことを特徴とするものである。
【0017】
また、請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記許容時間を有する処理工程は、純水洗浄処理であることを特徴とするものである。
【0018】
また、請求項6に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記許容時間を有する処理工程は、乾燥処理であることを特徴とするものである。
【0019】
また、請求項7に記載の発明は、基板に処理を施すための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、制御部が複数の処理工程を含む処理手順に基づいて各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、前記制御部は、いずれかのロットについて最初の処理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のうち、各々の前の工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置するとともに、既に配置されている処理工程のうち、処理を終えてロットの搬出を行なう時刻である払出予定時刻が未定となっている処理工程の後ろには、前記終了予定時刻が最も早いロットの処理工程を配置することを回避するように制御するものである。
【0020】
【作用】
請求項1に記載の発明の作用は次のとおりである。
すなわち、制御部は、いずれかのロットの最初の処理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のうち、それらの前の処理工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置するようにして予めスケジュールする。予めスケジュールすることで前の処理工程の後作業と、その後の処理工程の前作業とを重複させて配置可能であり、前の処理工程が早く終了するロットの処理工程を次の処理工程として優先的に選択して配置することで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮することができる。
【0021】
また、一つの処理工程において処理が終了しているにもかかわらず、基板の払出予定時刻が決まっていない処理工程は、通常、処理済みのロットを待機させておいてもよい処理であるので、どの時点までに次の処理工程を実施しなければならないといった制限がないことがある。そのため、当該処理工程の次の処理工程が配置されるまでは払出予定時刻が確定しないことになり、当該処理工程で使用している処理部が空く時刻が未定となるので、当該処理工程の後ろには処理工程を配置しないようにする。
【0022】
また、請求項2に記載の発明によれば、許容時間を有する処理工程が処理手順に含まれる場合には、その処理工程の後ろには許容時間内にその次の処理工程が位置するように配置する。
【0023】
また、請求項3に記載の発明によれば、先に配置されたロットの処理工程と後で配置されたロットの処理工程との間で時間的な追い越しが生じた場合には、処理部を効率的に使用するために追い越したロットの処理工程を優先的に配置する。
【0024】
また、請求項4に記載の発明によれば、薬液処理部と純水洗浄処理部とを含む複数個の処理部を備えた基板処理装置に適用できる。
【0025】
また、請求項5に記載の発明によれば、純水洗浄処理工程にて純水洗浄が終了した後、許容時間内に次の処理工程を配置する。
【0026】
また、請求項6に記載の発明によれば、乾燥処理工程にて乾燥が終了した後、許容時間内に次の処理工程を配置する。
【0027】
また、請求項7に記載の発明によれば、基板処理装置のプログラムが上記請求項1の作用に記載のようにしてスケジュールを作成する。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
図1及び図2はこの発明の一実施例に係り、図1は実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図2はそのブロック図である。
【0029】
この基板処理装置は、例えば、基板Wに対して薬液処理を施すための装置である。基板Wは複数枚(例えば25枚)がカセット1に対して積層して収納されている。未処理の基板Wを積層して収納したカセット1は、投入部3に載置される。投入部3は、カセット1を載置される載置台5を二つ備えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部3の反対側には、払出部7が配備されている。この払出部7は、処理済みの基板Wをカセット1に収納してカセット1ごと払い出す。払出部7は、投入部3と同様に、カセット1を載置するための二つの載置台9を備えている。
【0030】
投入部3と払出部7に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第1搬送機構11が配置されている。この第1搬送機構11は、投入部3に載置されたカセット1ごと複数枚の基板Wを第2搬送機構13に対して搬送する。
【0031】
第2搬送機構13は、収納されている全ての基板Wをカセット1から取り出した後、第3搬送機構15に対して全ての基板Wを搬送する。また、第3搬送機構15から処理済みの基板Wを受け取った後に、基板Wをカセット1に収容して第1搬送機構11に搬送する。
【0032】
この第3搬送機構15は、基板処理装置の長手方向に移動可能に構成されている。その移動方向の最も手前側には、複数枚の基板Wを低圧のチャンバ内に収納して乾燥させるための乾燥処理部17が配備されている。
【0033】
第3搬送機構15の移動方向であって上記の乾燥処理部17に手前側で隣接する位置には、第1処理部19が配備され、これに隣接して第2処理部21が配備されている。
【0034】
第1処理部19は、複数枚の基板Wに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部19aを備えるとともに、複数枚の基板Wに対して薬液処理を施すための薬液処理部19bを備えている。また、これらの間でのみ複数枚の基板Wを受け渡すための副搬送機構19cを備えている。
【0035】
第2処理部21は、上記の第1処理部19と同じ構成を採用している。つまり、純水洗浄処理部21aと、薬液処理部21bと、副搬送機構21cとを備えている。
【0036】
上記の第2搬送機構13に付設されているカセット洗浄部23は、上述した第2搬送機構13が全ての基板Wを取り出した後、空になったカセット1を洗浄する機能を有する。
【0037】
なお、上述した第1搬送機構11と、第2搬送機構13と、第3搬送機構15と、第1処理部19と、第2処理部21とが本発明における処理部に相当する。
【0038】
上記のように構成された基板処理装置は、図2のブロック図に示すように制御部25によって統括的に制御される。
【0039】
制御部25は、CPU等から構成されており、以下に説明するルールを含んだスケジュール作成プログラムによりスケジュールを予め作成した後、このスケジュールに沿って複数のロットごとに処理を施すように各部を制御しつつ、予め決められた処理手順に応じた処理を施すように各部を制御する。スケジュールとは、ロットごとの処理工程を時系列的に配置したものであり、実際に基板Wに対して処理を施す前に予め作成される。
【0040】
記憶部27には、本基板処理装置のユーザによって予め作成され、基板Wをどのようにして処理するかを規定した複数の処理工程を含む処理手順(レシピとも称される)と、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラム等が予め格納されている。また、作成されたスケジュールも記憶される。
【0041】
「基本ルール」
複数のロットのうち、いずれか一つのロットについて最初の処理工程を配置した後に、各ロットの次なる処理工程のうち、それぞれの前の処理工程における「終了予定時刻」を求め、これらのうちで最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置するというものである。
【0042】
上記の「基本ルール」と次に示すルールAの他、以下に例示するようないくつかのルールをも考慮することが好ましい。
【0043】
「ルールA」
・払出予定時刻の処理工程の後ろに配置するのを回避する。
処理を終えてロットの搬出を行なう予定の時刻を「払出予定時刻」と称することにすると、この払出予定時刻が未定となっている処理工程の後ろには、「終了予定時刻」が最も早いロットであってもその処理工程を配置しないようにするというルールである。
【0044】
「ルールB」
・許容時間内に次の処理工程を配置する。
処理部における処理は、予め処理時間が決められてはいるものの、処理を終えた後に次の処理工程までにある程度待機させても問題ない場合がある。例えば、搬送処理では基板Wをカセット1から取り出した状態で待機さておいたとしてもよく、純水洗浄処理では基板Wを純水中に待機させておいたとしてもよく、乾燥処理では基板Wを乾燥させた後に待機しておいても問題はない。しかしながら、どんなに長時間待機させてもよいものではなく、やはりあまりに長時間の待機となると基板Wに対して悪影響が生じる可能性がある。そこで、その上限の時間を「許容時間」とし、これを設定しておいて次の処理工程を「許容時間」内に配置するというルールである。
【0045】
「ルールC」
・追い越しロットの優先
先に配置されたロットの処理工程よりも、後で配置されたロットの処理工程が時間的に前に配置されることを「追い越し」と本明細書では定義する。このような「追い越し」が生じた場合には、追い越したかたちとなったロットの処理工程を優先して配置するというルールである。
【0046】
以下に、二つのロットを同じ処理手順で順次に処理する場合を例に採って説明する。
【0047】
なお、上述した基板処理装置で処理する場合を例に採って以下に説明するが、説明の理解を容易にするため、表2に示すように処理手順を実際のものよりも簡略化してある。すなわち、上述した基板処理装置には、第1処理部19と第2処理部21とを含むが、これらのうち第2処理部21については使用しない処理手順で処理を施す。
【0048】
【表2】
【0049】
処理手順は、a処理工程からe処理工程までであって、一部を複数回行なう7つの処理工程から構成されているが、上述した許容時間を有する処理工程で区切るようにしてA〜Cの三つのブロックに分けている。
【0050】
『Aブロック』は、第1搬送機構11が投入部3側からカセット1を取り出し、第2搬送機構13がそのカセット1からロット(複数枚の基板W)を取り出し、第1処理部19の薬液処理部19bがそのロットを薬液処理してから純水洗浄処理部19aに至るまでの処理である。なお、その間に実行されるカセット洗浄部23による空のカセット1の洗浄処理については省略してある。
【0051】
詳細には、第1搬送機構11が投入部3のカセット1を取り込んで第2搬送機構13に渡し、第2搬送機構13がカセット1からロットを構成する複数枚の基板Wを取り出すまでがa処理工程であり、ロットを第3搬送機構15が受け取って所定位置で待機するまでがb処理工程であり、第3搬送機構15からロットを受け取り、このロットを純水洗浄処理部19aで純水洗浄し、副搬送機構19cによりロットを薬液処理部19bに搬送して薬液処理し、その後、再び副搬送機構19cを経て純水洗浄処理部19aに搬送して純水洗浄処理を終えるまでがc処理工程である。なお、表中の数字は前作業、本作業、後作業に要する時間(分)の一例を示している。
【0052】
『Bブロック』は、第3搬送機構15が純水洗浄処理部19aから処理済みのロットを取り出し、乾燥処理部17に搬送して乾燥処理を終えるまでの処理である。
【0053】
詳細には、純水洗浄処理されたロットを第3搬送機構15が受け取って所定位置で待機するまでがb処理工程であり、ロットを乾燥処理部17に搬送して乾燥処理を終えるまでがd処理工程である。
【0054】
『Cブロック』は、第3搬送機構15が乾燥処理されたロットを取り出し、第2搬送機構13がカセット1にロットを収納した後、カセット1ごと第1搬送機構11が払出部7に搬送するまでの処理である。
【0055】
詳細には、乾燥処理されたロットを第3搬送機構15が受け取って所定位置で待機するまでがb処理工程であり、第2搬送機構13がロットを受け取り、複数枚の基板Wをカセット1に収納するとともにカセット1ごと第1搬送機構11に渡して払出部7に払い出しするまでがe処理工程である。
【0056】
なお、上述したブロックA,Bにおける最後の処理工程、つまりc処理工程とd処理工程とが、速やかに次の処理を施すことなく次の処理まである程度の時間を空けてもよい許容時間を有する処理工程である。
【0057】
次に、図3ないし図8を参照しながら、二つのロットを同じ処理手順で順次に処理する場合を例に採って説明する。
【0058】
これらの図のうち図3はスケジュールの組み合わせ例を示した図であり、図4ないし図8はスケジュール作成の過程を示す図である。また、図4ないし図8では、処理工程を「ロット−ブロック」の符号で示している。つまり、図3中の「1−A」は第1のロットのブロックAの処理工程を表している。
【0059】
まず、制御部27は、最初に二つのロットのうち、いずれかを先にスケジュールするかを決定する。
【0060】
簡単には、第1のロットの方を先にスケジュールするようにする。この場合、スケジュールのタイムチャートは図4に示すように、第1のロットのブロックAが基準時刻から配置される。このように予めスケジュールを作成するようにしたので、従来技術のイベント駆動型とは異なり、先の処理工程の本作業が終わった時点で次なる処理工程の本作業が開始されるように処理工程を配置することができる。すなわち、終了信号eが出力される時点でロットの払い出し(符号m)が行なわれるのである。以下、本作業が終わる時点を払出予定時刻と称する。
【0061】
上記のように二つのロットのうち第1のロットのブロックA(符号1−A)を配置したので、図3の組み合わせから明らかなように、次に選択可能なのは「第1のロットのブロックB」か「第2のロットのブロックA」である。
【0062】
制御部25は、まずこれらのブロックA,Bをタイムチャート上に配置してみる。
【0063】
つまり、この例では、図4に示すように、第1のロットのブロックBを第1のロットAの払出予定時刻に合わせて配置するとともに、第2のロットのブロックAを、そのc処理工程が第1のロットのc処理工程に隣接するように配置する。そして、それらの前の処理工程における終了予定時刻、すなわち第1のロットのブロックAにおける終了予定時刻E1と、第2のロットのブロックAの前の処理工程の終了予定時刻E2とを比較する。ここでは、第2のロットのブロックAには前の処理工程が存在しないので、仮にブロックAの開始予定時刻を終了予定時刻として扱っている。その結果、第2のロットの終了予定時刻E2の方が早いので、第2のロットのブロックAを配置する。
【0064】
しかし、第2のロットの前の処理工程における終了予定時刻E2が早くても、上述したルールAの適用により、第2のロットのブロックAに代えて第1のロットのブロックBが配置されることになる。
【0065】
つまり、第1のロットのブロックAはc処理工程が許容時間を有する工程であるので、このc処理工程は図4中に点線で示すように後ろに延びる可能性があり、このc処理工程におけるロットの正確な払出予定時刻が未定となっている。したがって、このc処理工程で使用している第1処理部19が使用可能となる時刻が未定であるので、第1のロットのブロックAの後に、第1処理部19を使用するc処理工程を含む第2のロットのブロックAを配置することは好ましくないのである。そこでルールAによってこのような配置を回避する。
【0066】
第1のロットのブロックB(符号1−B)を配置したので、図3の組み合わせから次に配置可能な処理工程は、「第1のロットのブロックC」か「第2のロットのブロックA」のいずれかである。
【0067】
そこで上述したように、それらをタイムチャート上に配置してみる(図5参照)。
【0068】
そして、それぞれの前の処理工程である第1のロットのブロックBにおける終了予定時刻E1と、第2のロットに関するブロックAの前の処理工程における終了予定時刻E2(上述した理由から開始予定時刻)とを比較する。その結果、第2のロットの方が早いので、第2のロットのブロックAを、そのb処理工程が第1のロットのb処理工程に隣接するように配置する。
【0069】
なお、ここでd処理工程における許容時間TLを第1のロットについてだけ図示しておく。
【0070】
次に、図3の組み合わせから、「第1のロットのブロックC」と「第2のロットのブロックB」とを配置してみる(図6参照)。それぞれの前の処理工程(1−B,2−A)における終了予定時刻E1,E2の比較結果から、第1のロットのブロックCを配置することになる。
【0071】
なお、ここで仮に第2のロットの終了予定時刻E2の方が早かった場合について説明する。
【0072】
この場合には、第2のロットのブロックBを配置することになるが、このようにすると第1のロットのブロックCの配置が第1のロットのd処理工程に設定されている許容時間TLを越えることになる。すると第1のロットに悪影響が生じる恐れがあるが、上述したルールBを適用することでそれを回避することができる。つまり、第1のロットのc処理工程に設定されている許容時間TLを越えないように、次のb処理工程を配置することになるので、第1のロットのブロックCを優先して配置する。
【0073】
次に、図3の組み合わせに基づき、第2のロットのブロックBを配置し(図7参照)、最後に第2のロットのブロックCを配置(図8参照)してスケジュール作成を終える。このようにして作成されたスケジュールは記憶部27に格納され、実際の処理時に処理プログラムによって参照されることになる。なお、上記の過程を組み合わせ上で示したのが図3中の点線及び実線で示した矢印である。
【0074】
このようにしてスケジュールを作成するが、従来例(図11)に比較すると、非常に待機時間(両図中の黒塗り部分)が少なくなっていることがわかる。このように上記のルールに沿って予めスケジュールを作成することにより、前の処理工程の後作業と後の処理工程の前作業とを重複させて配置することができるとともに、配置可能な処理工程のうち、前の処理工程が早く終わるロットの処理工程を次の処理工程として選択して配置することで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮することができる。したがって、基板処理装置の各処理部を有効利用でき、待機時間を抑制して稼働率を向上できる。
【0075】
また、「ルールA」を考慮することにより、ロットの払出予定時刻が決まっていない処理工程の後ろには処理工程を配置しないので、既に配置したロットのスケジュールに影響を与えることなく各ロットの処理工程を配置することができる。
【0076】
また、「ルールB」を考慮することによって、許容時間を有する処理工程の後ろには許容時間内にその次の処理工程が位置するように配置することにより、処理手順にほぼ忠実に処理を施すことができるとともにロットに対する悪影響を抑制できるようになっている。
【0077】
ここで、図9を参照しながら「ルールC」を適用する例について説明する。
例えば、第1のロットのy処理工程を含むブロックAが時刻t2からt4に配置されていたとする(図9(a))。次に配置される処理工程が、第1のロットのx処理工程を含むブロックBと、第2のロットのx処理工程を含むブロックAであって、第1のロットのブロックBがt3からt5に配置され、第2のロットのブロックAがt1からt2に配置されるものとすると、第1のロットのブロックBよりも第2のロットのブロックAが時間的に先に配置されることになる。つまり、本明細書で定義する「追い越し」が生じることになる。このような場合には、第2のロットのブロックAを優先して配置するのである。このようなルールCを考慮することによって、基本ルールと同様に基板処理装置の各処理部を最大限に活用できる。
【0078】
なお、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、次のように変形実施が可能である。
【0079】
(1)上記の各ルールを全て考慮する必要はなく、例えば、基本のルールとルールAだけを適用したり、これにルールBだけを適用したりするようにしてもよい。
【0080】
(2)実施例では2つのロットを同時に処理してゆく場合を例にとって説明したが、3ロット以上を対象に処理する場合であっても本発明を適用することができる。
【0081】
(3)実施例に挙げた基板処理装置は基板に薬液処理と、水洗処理と、乾燥処理とを順に施す装置であるが、これ以外の処理を施す基板処理装置であっても本発明を適用することができる。例えば、基板にフォトレジスト液を塗布し、回転処理によって薄膜化し、ベーク処理によって被膜を形成する装置が挙げられる。
【0082】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項1に記載の発明によれば、制御部は、予めスケジュールすることで前の処理工程の後作業と、その後の処理工程の前作業とを重複させて配置することができるとともに、配置可能な処理工程のうち前の処理工程が早く終わるロットの処理工程を次の処理工程として選択して配置することで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮することができる。したがって、基板処理装置の処理部を有効利用することができるので、待機時間を抑制して稼働率を向上することができる。
【0083】
また、基板の払出予定時刻が決まっていない処理工程はそこで使用している処理部が空く時刻が未定となるので、当該処理工程の後ろには処理工程を配置しないことによって、既に配置したロットのスケジュールに影響を与えることなく各ロットの処理工程を配置することができる。
【0084】
また、請求項2に記載の発明によれば、許容時間を有する処理工程が処理手順に含まれている場合には、その処理工程の後ろには許容時間内にその次の処理工程が位置するように配置することにより、処理手順にほぼ忠実に処理を施すことができるとともにロットに対する悪影響を抑制できる。
【0085】
また、請求項3に記載の発明によれば、時間的な追い越しが生じた場合には、処理部を効率的に使用するために追い越したロットの処理工程を優先的に配置するので、基板処理装置の処理部を最大限に活用できる。
【0086】
また、請求項4に記載の発明によれば、薬液処理部と純水洗浄処理部とを含む複数個の処理部を備えた基板処理装置において本発明を適用できる。
【0087】
また、請求項5に記載の発明によれば、純水洗浄処理工程にて純水洗浄が終了した後、許容時間内に次の処理工程を配置することでロットに対する悪影響を抑制できる。
【0088】
また、請求項6に記載の発明によれば、乾燥処理工程にて乾燥が終了した後、許容時間内に次の処理工程を配置することでロットに対する悪影響を抑制できる。
【0089】
また、請求項7に記載の発明によれば、上記請求項1の方法発明を好適に実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。
【図2】 実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【図3】 スケジュールの組み合わせ例を示した図である。
【図4】 スケジュール作成の過程を示すタイムチャートである。
【図5】 スケジュール作成の過程を示すタイムチャートである。
【図6】 スケジュール作成の過程を示すタイムチャートである。
【図7】 スケジュール作成の過程を示すタイムチャートである。
【図8】 スケジュール作成の過程を示すタイムチャートである。
【図9】 追い越しが生じた場合におけるスケジュール作成の過程を示すタイムチャートである。
【図10】 従来技術で1ロットの処理を行なった場合の流れを示すタイムチャートである。
【図11】 従来技術で2ロットの処理を行なった場合の流れを示すタイムチャートである。
【符号の説明】
W … 基板
1 … カセット
3 … 投入部
7 … 払出部
11 … 第1搬送機構
13 … 第2搬送機構
15 … 第3搬送機構
17 … 乾燥処理部
19 … 第1処理部
19a … 純水洗浄処理部
19b … 薬液処理部
19c … 副搬送機構
21 … 第2処理部
21a … 純水洗浄処理部
21b … 薬液処理部
21c … 副搬送機構
23 … カセット洗浄部
E1 … 第1のロットの終了予定時刻
E2 … 第2のロットの終了予定時刻
Claims (7)
- 基板に処理を施すための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、制御部が複数の処理工程を含む処理手順に基づいて各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記制御部は、いずれかのロットについて最初の処理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のうち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置するとともに、
既に配置されている処理工程のうち、処理を終えてロットの搬出を行なう時刻である払出予定時刻が未定となっている処理工程の後ろには、前記終了予定時刻が最も早いロットの処理工程を配置することを回避することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 請求項1に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
処理部での処理を終えた後、次の処理工程までに待機させる上限の時間として規定された許容時間を有する処理工程を前記処理手順が含む場合には、この許容時間以内となるように、許容時間を有する処理工程のその後ろに次の処理工程を配置することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
先に配置されたロットの処理工程よりも後に配置されたロットの処理工程が時間的に前に位置する追い越しが生じた場合には、追い越したかたちのロットの処理工程を優先的に配置することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記複数個の処理部は、薬液処理部と純水洗浄処理部を含むことを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記許容時間を有する処理工程は、純水洗浄処理であることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記許容時間を有する処理工程は、乾燥処理であることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 基板に処理を施すための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、制御部が複数の処理工程を含む処理手順に基づいて各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、
前記制御部は、いずれかのロットについて最初の処理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のうち、各々の前の工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置するとともに、
既に配置されている処理工程のうち、処理を終えてロットの搬出を行なう時刻である払出予定時刻が未定となっている処理工程の後ろには、前記終了予定時刻が最も早いロットの処理工程を配置することを回避するように制御する基板処理装置のスケジュール作成プログラム。
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