JP3757956B2 - 液晶表示装置及びその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置および電子機器に係り、特に信頼性に優れた液晶表示装置、及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
最近、液晶表示装置を構成する基板の内面側（液晶層側）に偏光層を設けたものが提案されている。偏光層を基板内面側に設けることで、従来基板の外側に接着していた偏光板を不要とすることができるので、製造コストの低減及び液晶表示装置の薄型化を実現する技術として注目されている。また、半透過反射型の液晶表示装置においては、基板内面側に偏光層を設けることで、透過モードにおける偏光板での光の吸収を低減し、表示輝度を向上させることができるという利点もある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記構成の液晶表示装置では、下基板内面側に偏光層を形成するために、水溶性材料を基板内面側に塗布するのが一般的であり、このような製造方法により形成された偏光層は外気に含まれる水分により容易に劣化する可能性があった。そこで、偏光層が劣化し難く、信頼性に優れる液晶表示装置の開発が求められていた。
【０００４】
本発明は、上記課題を解決するために成されたものであって、信頼性に優れる液晶表示装置を提供することにある。
また本発明の他の目的は、工数の著しい増加を伴うことなく、上記液晶表示装置を製造することができる液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
さらに本発明の他の目的は、信頼性に優れ、表示が明るい液晶表示部を備えた電子機器を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向して配置された上基板と下基板との間に液晶層が挟持された液晶表示装置であって、前記下基板の内面側に設けられた電極層の上側に偏光層が形成され、前記下基板側の前記偏光層上に絶縁膜が形成され、前記偏光層の外周端と、前記絶縁膜の外周端とが、平面視略同一位置とされており、前記偏光層および前記絶縁膜の形成された領域の面積より大きい面積で、前記絶縁膜および前記偏光層の側面を覆って配向膜が形成され、前記下基板側の前記偏光層および前記絶縁膜は、前記上下基板を接合するシール材の外周端よりも内側に形成されたことを特徴とする。
【０００６】
前記上下基板間に内蔵される偏光層には、水溶性のリオトロピック液晶が用いられており、この偏光層が水分を含む外気中に曝されると、偏光層の寿命を縮め、液晶表示装置の信頼性を低下させる原因になると考えられる。そこで、上記構成を採用することで、偏光層と外気とをシール材により隔離することができるので、外気中の水分により偏光層が劣化するのを防ぎ、信頼性に優れる液晶表示装置を提供することができる。
【０００７】
また、上記構成の液晶表示装置は、下基板の内面側に偏光層が形成された液晶表示装置であり、かつその偏光層が液晶層を駆動する電極層の上側に形成されていることで、反射モード、透過モードのいずれにおいても明るい表示が得られるようになっている。
上下基板間に偏光層が内蔵された半透過反射型液晶表示装置においては、偏光層を形成する方法として、通常、水溶性の二色性染料であるリオトロピック液晶の溶液を、所定方向の圧力を印加しながら基板上に塗布する方法が用いられる。この方法では、前記リオトロピック液晶を所定方向に配向させて、偏光層の透過軸と吸収軸を制御するようになっているため、塗布時又は塗布後に、リオトロピック液晶の配向に乱れが生じると、偏光層の透過率、吸収率が低下することとなり好ましくない。従来、この種の液晶表示装置では、透過表示用の開口部が設けられた反射層上に偏光層を形成するようになっていたため、反射層と開口部との間の段差部分でリオトロピック液晶に配向の乱れが生じて偏光層の特性が劣化し、液晶表示装置の透過率が低下する問題があった。
これに対して、本発明の液晶表示装置では、上記偏光層が電極層上に形成されているので、表示領域内での偏光層を平坦にすることができ、開口部を有する反射層上に偏光層を形成する場合のように、表示領域内で偏光層の配向に乱れが生じ、偏光特性が劣化することがない。従って、透過表示、反射表示ともに明るい表示が可能な、表示品質に優れた液晶表示装置とすることができる。
【０００８】
さらに、上下基板の間に封止しているシール材の内周端よりも内側に形成されることにより、シールと基板との密着性を増すことができる。
また、偏光層の表面を絶縁膜で覆い、側面を配向膜で覆っていることにより、上下基板の電極層どうしの電気的接触を効果的に防止することができ、優れた信頼性を得ることができる。すなわち、導電性の異物が液晶層中に存在する場合に、電極層上の配向膜を貫通して前記異物が電極層に到達するおそれがあり、この異物を介して上下の電極層が電気的に接触する可能性があるが、本構成のように電極層の上側に絶縁膜が設けられていれば、この絶縁膜により前記異物を遮断することができる。さらに、比較的耐久性に劣る水溶性の偏光層の端部を配向膜により覆ことができるので、偏光層の劣化を効果的に防止することができ、優れた信頼性を備える液晶表示装置とすることができる。
【０００９】
次に、本発明に係る液晶表示装置は、各ドット内に部分的に形成された反射層を、前記下基板側の偏光層よりも下基板側に備えた半透過反射型の液晶表示装置とすることができる。上記構成によれば、透過モードの明表示において上側の偏光層により光の吸収が生じなくすることができるので、表示輝度の高い半透過反射型の液晶表示装置を提供することができる。
【００１１】
上記本発明に係る液晶表示装置においては、前記絶縁膜が、ＳｉＯ2を主体とする材料で構成されていることが好ましい。また、上記構成の液晶表示装置においては、前記絶縁膜の膜厚が、１５０ｎｍ以上１５００ｎｍ以下とされることが好ましい。
前記絶縁膜がＳｉＯ2を主体とする材料で構成されている場合、その膜厚が、１５０ｎｍ以下の場合には、絶縁性が確保出来ず、１５００ｎｍを越えると、液晶層に印加する電圧がかなり降下してしまいコントラスト等の光学特性が劣化してしまうこととなり好ましくない。
【００１２】
次に、本発明に係る液晶表示装置においては、前記絶縁膜が、透光性の樹脂材料で構成されていても良い。
本発明に係る絶縁膜を構成し得る前記樹脂材料としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等を用いることができ、このうちでも、アクリル系樹脂を用いるのがよい。また、上記構成の液晶表示装置においては、前記絶縁膜の膜厚が、１５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とされることが好ましい。
前記絶縁膜が樹脂材料より構成されている場合には、その膜厚が、１５０ｎｍｎｍ以下では、絶縁性が確保出来ず、１０００ｎｍを越えると、液晶層に印加する電圧がかなり降下してしまいコントラスト等の光学特性が劣化してしまうこととなり好ましくない。
【００１３】
次に、本発明に係る液晶表示装置は、前記絶縁膜上に配向膜が形成されており、前記配向膜の膜厚が、１００ｎｍ以上８００ｎｍ以下とされた構成とすることができる。
前記配向膜は１００ｎｍ以下では、液晶層の初期配向を良好に制御することができず、８００ｎｍを越えると、液晶層に印加する電圧がかなり降下してしまいコントラスト等の光学特性が劣化してしまうため好ましくない。
【００１５】
次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、上記課題を解決するために、互いに対向して配置された上基板と下基板との間に液晶層が挟持された液晶表示装置の製造方法であって、前記反射層上に偏光層を形成する工程と、前記偏光層上に、部分的に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜をマスク材として、前記偏光層の外周端が、前記上下基板を接合するシール材の外周端よりも内側になるように、前記偏光層を部分的に除去する工程と、前記偏光層および前記絶縁膜の形成された領域の面積より大きい面積で、前記絶縁膜および前記偏光層の側面を覆うように、配向膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１６】
上記製造方法によれば、反射層上に偏光層が形成され、その直上に絶縁膜が形成された液晶表示装置を容易に製造することができる。係る方法により製造される液晶表示装置は、偏光層上に絶縁膜を備えるとともに、係る絶縁膜と平面視略同一形状に偏光層が形成されたものである。従って、上記偏光層の上面側が絶縁膜により保護され、偏光層に劣化を生じ難い、信頼性に優れたものである。
また、絶縁膜をマスクにして偏光層の選択配置を行うため、工程の簡略化による製造コストの低減を実現するものである。
【００１７】
次に、本発明に係る製造方法においては、前記偏光層の外周端が、前記上下基板を接合するシール材の外周端よりも内側になるように形成することが好ましい。
係る製造方法によれば、前記絶縁膜をマスクとして行われるパターニングにより、偏光層がシール材の内側に配置され、偏光層と外気とがシール材により遮断された液晶表示装置を製造することができる。
【００１８】
次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法においては、前記偏光層及び絶縁膜を覆うように、配向膜を形成することが好ましい。
係る構成とすることで、上記配向膜により偏光層の端面部が覆われるため、偏光層の劣化をより効果的に防止し得る液晶表示装置を製造することができる。
【００１９】
次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法においては、前記偏光層を、前記反射層上に形成した電極層上に形成することもできる。
係る製造方法によれば、電極層上に偏光層が形成され、この偏光層上に絶縁膜が形成されるので、上下基板の電極層どうしが電気的に接触するのを前記絶縁膜により効果的に防止し得る液晶表示装置を容易に製造することができる。表示領域内で平坦面を形成する電極層上に偏光層を形成するので、表示領域内における偏光層を構成する液晶の配向の乱れが生じにくく、偏光特性に優れた偏光層とすることができる。従って、係る製造方法によれば、表示品質にも優れた液晶表示装置を製造することが可能である。
【００２０】
次に、本発明に係る電子機器は、先のいずれかに記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする。係る構成によれば、表示が明るく、かつ信頼性に優れた液晶表示部を備えた電子機器を提供することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
図１Ａ、及び図１Ｂは、本発明の一実施の形態である液晶表示装置の断面構成を示す図であり、図１Ａは、液晶パネル１０と、バックライト３０とを備えた構成の液晶表示装置の断面図であり、図１Ｂは下基板２の平面図（但し、カラーフィルタ２２、反射層２１、平坦化膜２３は省略）である。また、図２は、本発明の一実施の形態である液晶表示装置のドット部を拡大した各構成要素の平面的な配置関係を示した図である。尚、本実施形態では、本発明をパッシブマトリクス型の液晶表示装置に適用した場合について説明する。また、以下で参照する図面については、図面を見易くするため、各構成要素の膜厚や寸法などを適宜異ならせて図示している。
【００２２】
図１Ａに示すように、液晶パネル１０は、上基板１と下基板２とが互いに対向して配置され、これらの基板１，２間に、液晶層４が挟持されるとともに、シール材５により封止されて構成されている。
上基板１の内面側（液晶層４側）に、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる複数の電極が平面視ストライプ状に配置された電極層１１と、この電極層１１を覆って形成された配向膜１２とが備えられている。また、上基板１の外面側には、前方散乱板１７と、位相差板１８と、偏光板１９とが積層されている。
一方、下基板２の内面側（液晶層４側）には、ＡｌやＡｇ等の高反射率の金属薄膜からなる反射層２１と、この反射層上に設けられた複数のカラーフィルタ２２と、カラーフィルタ２２を覆って形成された透光性の平坦化膜２３と、平坦化膜２３上に形成され、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる複数の電極が平面視ストライプ状に配置された電極層２５が備えられている。そして、図１Ｂに示すように、シール材５で囲まれた領域内において、更に電極２５を覆って形成された偏光層２６と、この偏光層２６と平面視略同一位置に形成された絶縁膜２７と、前記偏光層２６及び絶縁膜２７を覆って形成された配向膜２８とが備えられている。
また、下基板２の外面側には、偏光板２９と、反射偏光板３３とが設けられている。そして、液晶パネル３０の背面側に設けられたバックライト３０の外面側（液晶パネル１０と反対側）には、ＡｌやＡｇ等の高反射率の金属膜からなる反射膜３１が形成されている。
【００２３】
図２は、上基板１と下基板２を液晶層４を挟持した状態でシール材５によって貼り合わせた際の、拡大したドット部における各構成要素の平面的な配置関係を示したものである。上基板１側の電極１２と、下基板２の電極２５とが平面的に互いに交差する向きに形成され、交差した領域に表示ドットを構成している。反射層２１はＡｌ膜やＡｇ膜（あるいは銀合金）などの金属材料が用いられ、シール材５で囲まれた領域内のＣで示される境界から内側の方向に向けて下基板２上にパターン形成されている。反射層２１は、上記によって構成される全ての表示ドットを含む領域に形成されている。そして、各ドット領域内には反射層２１を貫通して形成された開口部２１ａが対応して配置されている。更に、各ドット毎に対応してカラーフィルタ２２が上記開口部２１ａを充填するように形成され、このカラーフィルタ２２により生じた凹凸が平坦化膜２３により平坦化されている。そして、ストライプ状に電極２５が形成され、シール材５で囲まれた領域内のＤで示される境界から内側の方向に向けて電極２５を含む平坦化膜２３上に偏光層２６がパターン形成されている。また、この偏光層２６上には、偏光層２６と平面視略同一形状の絶縁膜２７が平面視略同一位置に形成されている。前記絶縁膜２７は、ＳｉＯ2を主体とする無機材料や、樹脂材料などにより構成することができ、その膜厚は、ＳｉＯ2を主体とする無機材料の場合、誘電率が大きいため、１５０Å以上１５００Å以下とすることが好ましく、樹脂材料により構成される場合には、前記無機材料よりも誘電率が小さくなるため、１５０Å以上１０００Å以下とすることが好ましい。また、更に、シール材５で囲まれた領域内のＥで示される境界から内側の方向に向けて絶縁膜２７上に配向膜２８がパターン形成されている。この配向膜２８は、Ｄで示された偏光層２６及び絶縁膜２７の平面領域よりも面積的に広い領域で覆う形状で形成されている。
【００２４】
また、下基板２の外面側には、下基板２側から順に偏光板２９と、この偏光板２９の透過軸とほぼ平行な透過軸を有する反射偏光板３３とが積層して設けられており、バックライト３０から出射される光を効率良く表示に利用できるようになっている。具体的には、バックライト３０から出射された光のうち、反射偏光板３３の透過軸と平行な偏光成分は反射偏光板３３を透過し、さらに反射偏光板３３の透過軸とほぼ平行な透過軸を有する偏光板２９を透過して反射層２１の裏面側（下基板２側）に入射する。その際、開口部２１ａに入射した光は、そのまま液晶層４へ入射して標示に利用されるが、反射層２１の開口部２１ａ以外の領域に入射した光は反射層２１により反射されて偏光板２９側へ戻される。そして、偏光板２９と反射偏光板３３の透過軸に平行なこの光は、これらを透過してバックライト３０へ戻され、バックライト３０の外面側に設けられた反射膜３１により反射され、再び液晶パネル１０へ向かう光として再利用される。
一方、バックライト３０から出射された後、反射偏光板３３を透過しなかった光は、反射偏光板３３により反射されてバックライト３０に入射し、バックライト３０の反射膜３１で反射される。従って、反射偏光板３３により反射された光は、反射膜３１との間で反射を繰り返すようになる。そして、この反射を繰り返すうちに、その偏光方向が徐々に変化され、その一部は反射偏光板３３を透過できるようになる。このようにして、反射偏光板３３により反射された光も表示に利用することが可能となる。
このように、本実施形態の液晶表示装置では、バックライト３０から出射される光のほぼ全てを液晶パネル１０の透過表示の光源として利用することができるため。透過モードにおいても明るい表示が得られるようになっている。
【００２５】
上記構成を備えた本実施形態の液晶表示装置は、図１Ｂ及び図２に示すように偏光層２６が、シール材５の内側に配置されるとともに、水溶性の二色性染料リオトロピック液晶により構成される偏光層２６が絶縁膜２７及び配向膜２８により覆われた構成とすることができるので、外気に含まれる水分等により偏光層２６が劣化することが無く、信頼性に優れた液晶表示装置とすることができる。図１Ｂでは、シール材５で囲まれた領域内で上記偏光層２６が絶縁膜と同形状でパターン形成されており、該偏光層２６と絶縁膜２７の形成された領域の面積より大きい面積で更に配向膜２８で覆う構成となっている。
また、平坦化膜２３により平坦化された面上に形成された電極層２５上に偏光層２６が形成されていることで、電極層２５上で偏光層２６が平坦に形成されるため、偏光層２６を構成するリオトロピック液晶の配向に乱れを生じることが無く、良好な偏光特性を得ることができる。このように、本実施形態の液晶表示装置は、上記構成を備えたことで、優れた信頼性と表示品質とを得ることができる。
【００２６】
更に、図３Ａ、及び図３Ｂにおいて、本発明の他の実施の形態である液晶表示装置の断面構成を示す。図１Ａは、液晶表示装置と、液晶パネル１０と、バックライト３０とを備えた構成の断面図を示すものであり、図２Ｂは下基板２の平面図（但し、カラーフィルタ２２、反射層２１、平坦化膜２３は省略）である。尚、本実施形態の説明では、上記において説明した実施構成と共通した構成においては、同様の符号を付して説明するものとする。また、以下で参照する図面については、図面を見易くするため、各構成要素の膜厚や寸法などを適宜異ならせて図示している。
上記において説明した実施構成では、偏光層２６の外端部が、シール材５の内周端よりも内側に位置する場合について説明したが、本発明に係る他の実施の形態による液晶表示装置では、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、偏光層２６の外端部が、少なくともシール材５の外周端よりも内側に配置されている構成を示すものである。
上記構成を平面視して観察すると、図３Ｂに示すように偏光層２６及び絶縁膜２７が、シール材５が配置された領域とオーバーラップして重なる部分が存在している。更に、水溶性の二色性染料リオトロピック液晶により構成される偏光層２６が絶縁膜２７及び配向膜２８により覆われた構成とすることができるので、外気に含まれる水分等により偏光層２６が劣化することが無く、信頼性に優れた液晶表示装置とすることができる。そして、偏光層２６と絶縁膜は同形状でパターン形成されており、該偏光層２６と絶縁膜２７の形成された領域の面積より大きい面積で更に配向膜２８で覆う構成となっている。図３Ｂにおいて、配向膜２８の形成領域の境界はシール材５の外周部と一致しているが、シール材５の外周部を越えて面積的に広く形成してもよいものである。そして、本構成の実施においても上述された同様の効果を得ることが可能である。
また、本実施の形態では、半透過反射型の液晶表示装置とした場合について説明したが、本発明はこの構成に限定されず、液晶表示装置の表示形式を透過型、あるいは反射型としてもよいのは勿論である。
【００２７】
（液晶表示装置の製造方法）
図４は、本発明に係る製造方法の一実施の形態を示す断面工程図である。図４に示す工程図では、本発明に係る製造方法の特徴的な点である液晶表示装置の下基板の製造方法についてのみ示している。
本実施形態の製造方法により液晶表示装置を製造するには、まず、図４Ａに示すように、透明なガラスや樹脂などからなる下基板２を用意し、この下基板２上に電極層２５を形成する。尚、電極層２５と、下基板２との間には、実際には図１Ａに示すように反射層やカラーフィルタ、平坦化膜が形成されているが、図４ではその図示を省略している。
次に、電極層２５を形成したならば、図４Ｂに示すように、電極層２５を覆うように、リオトロピック液晶の溶液を所定方向に圧力を印加しながら塗布し、その後固化させることで偏光層２６を形成する。
次に、図４Ｃに示すように、偏光層２６上に部分的に絶縁膜２７を形成する。この絶縁膜は例えばアクリル系樹脂などで形成することができ、フォトリソグラフィ工程を用いたパターニングにより容易に図示するように部分的に形成することが可能である。また例えば、ＳｉＯ2を含有する有機溶剤を凸版印刷等で形成することにより、より容易にパターニングすることが出来る。
次に、前記絶縁膜２７が形成された下基板２を絶縁膜２７側から水洗浄することで、絶縁膜２７が形成されていない領域の偏光層２６を除去する。偏光層２６は水溶性であり、水洗浄により極めて容易に除去することが可能である。図４Ｄに示すように、一部を除去された本実施形態では、下基板２上でシール材５が設けられる領域の偏光層２６を部分的に除去し、偏光層２６がシール材５の内側に配置されるようになっている。
このようにして、偏光層２６のパターニングが終了したならば、図４Ｅに示すように、絶縁膜２７及び偏光層２６を覆う配向膜２８を形成する。このようにして配向膜２８を形成することで偏光層２６が保護され、偏光層２６の劣化が極めて生じ難い、信頼性に優れる液晶表示装置を製造することができる。また、偏光層２６を保護する絶縁膜２７をマスクに利用して偏光層２６を選択配置するので、工程を簡素化と製造コストの低減を実現することができる。
【００２８】
尚、図４に示した下基板２上への各層の形成工程以外の液晶表示装置の製造工程は、従来から用いられている液晶表示装置の製造工程を適用することができるのは勿論である。
【００２９】
（電子機器）
上記実施の形態の液晶表示装置を備えた電子機器の例について説明する。
図５Ａは、携帯電話の一例を示した斜視図である。図５Ａにおいて、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００３０】
図５Ｂは、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図５Ｂにおいて、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００３１】
図５Ｃは、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図５Ｃにおいて、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００３２】
図５Ａ〜Ｃに示す電子機器は、上記実施の形態の液晶表示装置を用いた液晶表示部を備えているので、透過モードで明るい表示が得られるとともに、信頼性に優れた表示部を有する電子機器を実現することができる。
【００３３】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明に係る液晶表示装置は、前記下基板の内面側に設けられた電極層の上側に前記偏光層が形成され、前記下基板側の前記偏光層が、前記液晶層を前記上下基板の間に封止しているシール材の外周端よりも内側に形成されたことで、偏光層と外気とをシール材により隔離することができるので、外気中の水分により偏光層が劣化するのを防ぎ、信頼性に優れる液晶表示装置を提供することができる。
【００３４】
次に、本発明によれば、前記反射層上に偏光層を形成する工程と、前記偏光層上に、部分的に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜をマスクにして前記偏光層を部分的に除去する工程と、を備えることで、反射層上に部分的に偏光層が形成され、その直上に絶縁膜が形成された液晶表示装置を容易に製造することができる液晶表示装置の製造方法を提供することができる。係る方法により製造される液晶表示装置は、偏光層上に絶縁膜を備えるとともに、係る絶縁膜と平面視略同一形状に偏光層が形成されたものである。従って、上記偏光層の上面側が絶縁膜により保護され、偏光層に劣化を生じ難い、信頼性に優れたものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、本発明の一実施の形態である液晶表示装置の断面構成図である。図１Ａは、液晶パネルと、バックライトとを備えた構成の液晶表示装置の断面図であり、図１Ｂは下基板２の平面図（但し、カラーフィルタ、反射層、平坦化膜は省略）である。
【図２】 図２は、本発明の一実施の形態である液晶表示装置のドット部を拡大した各構成要素の平面的な配置関係を示した図である。
【図３】 図３は、本発明の他の実施の形態である液晶表示装置の断面構成を示す。図３Ａは、液晶パネルと、バックライトとを備えた構成の液晶表示装置の断面図であり、図３Ｂは下基板２の平面図（但し、カラーフィルタ、反射層、平坦化膜は省略）である。
【図４】 図２は、本発明の一実施の形態である液晶表示装置の製造方法を示す断面工程図である。
【図５】 図５Ａ〜Ｃは、本発明に係る電子機器の複数の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１ 上基板
２ 下基板
４ 液晶層
５ シール材
１０ 液晶パネル
２１ 反射層
２１ａ 開口部
２２ カラーフィルタ
２３ 平坦化膜
１１，２５ 電極層
２６ 偏光層
２７ 絶縁膜
２８ 配向膜
３０ バックライト
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置および電子機器に係り、特に信頼性に優れた液晶表示装置、及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
最近、液晶表示装置を構成する基板の内面側（液晶層側）に偏光層を設けたものが提案されている。偏光層を基板内面側に設けることで、従来基板の外側に接着していた偏光板を不要とすることができるので、製造コストの低減及び液晶表示装置の薄型化を実現する技術として注目されている。また、半透過反射型の液晶表示装置においては、基板内面側に偏光層を設けることで、透過モードにおける偏光板での光の吸収を低減し、表示輝度を向上させることができるという利点もある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記構成の液晶表示装置では、下基板内面側に偏光層を形成するために、水溶性材料を基板内面側に塗布するのが一般的であり、このような製造方法により形成された偏光層は外気に含まれる水分により容易に劣化する可能性があった。そこで、偏光層が劣化し難く、信頼性に優れる液晶表示装置の開発が求められていた。
【０００４】
本発明は、上記課題を解決するために成されたものであって、信頼性に優れる液晶表示装置を提供することにある。
また本発明の他の目的は、工数の著しい増加を伴うことなく、上記液晶表示装置を製造することができる液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
さらに本発明の他の目的は、信頼性に優れ、表示が明るい液晶表示部を備えた電子機器を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向して配置された上基板と下基板との間に液晶層が挟持された液晶表示装置であって、前記下基板の内面側に設けられた電極層の上側に偏光層が形成され、前記下基板側の前記偏光層上に絶縁膜が形成され、前記偏光層の外周端と、前記絶縁膜の外周端とが、平面視略同一位置とされており、前記偏光層および前記絶縁膜の形成された領域の面積より大きい面積で、前記絶縁膜および前記偏光層の側面を覆って配向膜が形成され、前記下基板側の前記偏光層および前記絶縁膜は、前記上下基板を接合するシール材の外周端よりも内側に形成されたことを特徴とする。
【０００６】
前記上下基板間に内蔵される偏光層には、水溶性のリオトロピック液晶が用いられており、この偏光層が水分を含む外気中に曝されると、偏光層の寿命を縮め、液晶表示装置の信頼性を低下させる原因になると考えられる。そこで、上記構成を採用することで、偏光層と外気とをシール材により隔離することができるので、外気中の水分により偏光層が劣化するのを防ぎ、信頼性に優れる液晶表示装置を提供することができる。
【０００７】
また、上記構成の液晶表示装置は、下基板の内面側に偏光層が形成された液晶表示装置であり、かつその偏光層が液晶層を駆動する電極層の上側に形成されていることで、反射モード、透過モードのいずれにおいても明るい表示が得られるようになっている。
上下基板間に偏光層が内蔵された半透過反射型液晶表示装置においては、偏光層を形成する方法として、通常、水溶性の二色性染料であるリオトロピック液晶の溶液を、所定方向の圧力を印加しながら基板上に塗布する方法が用いられる。この方法では、前記リオトロピック液晶を所定方向に配向させて、偏光層の透過軸と吸収軸を制御するようになっているため、塗布時又は塗布後に、リオトロピック液晶の配向に乱れが生じると、偏光層の透過率、吸収率が低下することとなり好ましくない。従来、この種の液晶表示装置では、透過表示用の開口部が設けられた反射層上に偏光層を形成するようになっていたため、反射層と開口部との間の段差部分でリオトロピック液晶に配向の乱れが生じて偏光層の特性が劣化し、液晶表示装置の透過率が低下する問題があった。
これに対して、本発明の液晶表示装置では、上記偏光層が電極層上に形成されているので、表示領域内での偏光層を平坦にすることができ、開口部を有する反射層上に偏光層を形成する場合のように、表示領域内で偏光層の配向に乱れが生じ、偏光特性が劣化することがない。従って、透過表示、反射表示ともに明るい表示が可能な、表示品質に優れた液晶表示装置とすることができる。
【０００８】
さらに、上下基板の間に封止しているシール材の内周端よりも内側に形成されることにより、シールと基板との密着性を増すことができる。
また、偏光層の表面を絶縁膜で覆い、側面を配向膜で覆っていることにより、上下基板の電極層どうしの電気的接触を効果的に防止することができ、優れた信頼性を得ることができる。すなわち、導電性の異物が液晶層中に存在する場合に、電極層上の配向膜を貫通して前記異物が電極層に到達するおそれがあり、この異物を介して上下の電極層が電気的に接触する可能性があるが、本構成のように電極層の上側に絶縁膜が設けられていれば、この絶縁膜により前記異物を遮断することができる。さらに、比較的耐久性に劣る水溶性の偏光層の端部を配向膜により覆ことができるので、偏光層の劣化を効果的に防止することができ、優れた信頼性を備える液晶表示装置とすることができる。
【０００９】
次に、本発明に係る液晶表示装置は、各ドット内に部分的に形成された反射層を、前記下基板側の偏光層よりも下基板側に備えた半透過反射型の液晶表示装置とすることができる。上記構成によれば、透過モードの明表示において上側の偏光層により光の吸収が生じなくすることができるので、表示輝度の高い半透過反射型の液晶表示装置を提供することができる。
【００１１】
上記本発明に係る液晶表示装置においては、前記絶縁膜が、ＳｉＯ2を主体とする材料で構成されていることが好ましい。また、上記構成の液晶表示装置においては、前記絶縁膜の膜厚が、１５０ｎｍ以上１５００ｎｍ以下とされることが好ましい。
前記絶縁膜がＳｉＯ2を主体とする材料で構成されている場合、その膜厚が、１５０ｎｍ以下の場合には、絶縁性が確保出来ず、１５００ｎｍを越えると、液晶層に印加する電圧がかなり降下してしまいコントラスト等の光学特性が劣化してしまうこととなり好ましくない。
【００１２】
次に、本発明に係る液晶表示装置においては、前記絶縁膜が、透光性の樹脂材料で構成されていても良い。
本発明に係る絶縁膜を構成し得る前記樹脂材料としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等を用いることができ、このうちでも、アクリル系樹脂を用いるのがよい。また、上記構成の液晶表示装置においては、前記絶縁膜の膜厚が、１５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とされることが好ましい。
前記絶縁膜が樹脂材料より構成されている場合には、その膜厚が、１５０ｎｍｎｍ以下では、絶縁性が確保出来ず、１０００ｎｍを越えると、液晶層に印加する電圧がかなり降下してしまいコントラスト等の光学特性が劣化してしまうこととなり好ましくない。
【００１３】
次に、本発明に係る液晶表示装置は、前記絶縁膜上に配向膜が形成されており、前記配向膜の膜厚が、１００ｎｍ以上８００ｎｍ以下とされた構成とすることができる。
前記配向膜は１００ｎｍ以下では、液晶層の初期配向を良好に制御することができず、８００ｎｍを越えると、液晶層に印加する電圧がかなり降下してしまいコントラスト等の光学特性が劣化してしまうため好ましくない。
【００１５】
次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、上記課題を解決するために、互いに対向して配置された上基板と下基板との間に液晶層が挟持された液晶表示装置の製造方法であって、前記反射層上に偏光層を形成する工程と、前記偏光層上に、部分的に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜をマスク材として、前記偏光層の外周端が、前記上下基板を接合するシール材の外周端よりも内側になるように、前記偏光層を部分的に除去する工程と、前記偏光層および前記絶縁膜の形成された領域の面積より大きい面積で、前記絶縁膜および前記偏光層の側面を覆うように、配向膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１６】
上記製造方法によれば、反射層上に偏光層が形成され、その直上に絶縁膜が形成された液晶表示装置を容易に製造することができる。係る方法により製造される液晶表示装置は、偏光層上に絶縁膜を備えるとともに、係る絶縁膜と平面視略同一形状に偏光層が形成されたものである。従って、上記偏光層の上面側が絶縁膜により保護され、偏光層に劣化を生じ難い、信頼性に優れたものである。
また、絶縁膜をマスクにして偏光層の選択配置を行うため、工程の簡略化による製造コストの低減を実現するものである。
【００１７】
次に、本発明に係る製造方法においては、前記偏光層の外周端が、前記上下基板を接合するシール材の外周端よりも内側になるように形成することが好ましい。
係る製造方法によれば、前記絶縁膜をマスクとして行われるパターニングにより、偏光層がシール材の内側に配置され、偏光層と外気とがシール材により遮断された液晶表示装置を製造することができる。
【００１８】
次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法においては、前記偏光層及び絶縁膜を覆うように、配向膜を形成することが好ましい。
係る構成とすることで、上記配向膜により偏光層の端面部が覆われるため、偏光層の劣化をより効果的に防止し得る液晶表示装置を製造することができる。
【００１９】
次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法においては、前記偏光層を、前記反射層上に形成した電極層上に形成することもできる。
係る製造方法によれば、電極層上に偏光層が形成され、この偏光層上に絶縁膜が形成されるので、上下基板の電極層どうしが電気的に接触するのを前記絶縁膜により効果的に防止し得る液晶表示装置を容易に製造することができる。表示領域内で平坦面を形成する電極層上に偏光層を形成するので、表示領域内における偏光層を構成する液晶の配向の乱れが生じにくく、偏光特性に優れた偏光層とすることができる。従って、係る製造方法によれば、表示品質にも優れた液晶表示装置を製造することが可能である。
【００２０】
次に、本発明に係る電子機器は、先のいずれかに記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする。係る構成によれば、表示が明るく、かつ信頼性に優れた液晶表示部を備えた電子機器を提供することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
図１Ａ、及び図１Ｂは、本発明の一実施の形態である液晶表示装置の断面構成を示す図であり、図１Ａは、液晶パネル１０と、バックライト３０とを備えた構成の液晶表示装置の断面図であり、図１Ｂは下基板２の平面図（但し、カラーフィルタ２２、反射層２１、平坦化膜２３は省略）である。また、図２は、本発明の一実施の形態である液晶表示装置のドット部を拡大した各構成要素の平面的な配置関係を示した図である。尚、本実施形態では、本発明をパッシブマトリクス型の液晶表示装置に適用した場合について説明する。また、以下で参照する図面については、図面を見易くするため、各構成要素の膜厚や寸法などを適宜異ならせて図示している。
【００２２】
図１Ａに示すように、液晶パネル１０は、上基板１と下基板２とが互いに対向して配置され、これらの基板１，２間に、液晶層４が挟持されるとともに、シール材５により封止されて構成されている。
上基板１の内面側（液晶層４側）に、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる複数の電極が平面視ストライプ状に配置された電極層１１と、この電極層１１を覆って形成された配向膜１２とが備えられている。また、上基板１の外面側には、前方散乱板１７と、位相差板１８と、偏光板１９とが積層されている。
一方、下基板２の内面側（液晶層４側）には、ＡｌやＡｇ等の高反射率の金属薄膜からなる反射層２１と、この反射層上に設けられた複数のカラーフィルタ２２と、カラーフィルタ２２を覆って形成された透光性の平坦化膜２３と、平坦化膜２３上に形成され、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる複数の電極が平面視ストライプ状に配置された電極層２５が備えられている。そして、図１Ｂに示すように、シール材５で囲まれた領域内において、更に電極２５を覆って形成された偏光層２６と、この偏光層２６と平面視略同一位置に形成された絶縁膜２７と、前記偏光層２６及び絶縁膜２７を覆って形成された配向膜２８とが備えられている。
また、下基板２の外面側には、偏光板２９と、反射偏光板３３とが設けられている。そして、液晶パネル３０の背面側に設けられたバックライト３０の外面側（液晶パネル１０と反対側）には、ＡｌやＡｇ等の高反射率の金属膜からなる反射膜３１が形成されている。
【００２３】
図２は、上基板１と下基板２を液晶層４を挟持した状態でシール材５によって貼り合わせた際の、拡大したドット部における各構成要素の平面的な配置関係を示したものである。上基板１側の電極１２と、下基板２の電極２５とが平面的に互いに交差する向きに形成され、交差した領域に表示ドットを構成している。反射層２１はＡｌ膜やＡｇ膜（あるいは銀合金）などの金属材料が用いられ、シール材５で囲まれた領域内のＣで示される境界から内側の方向に向けて下基板２上にパターン形成されている。反射層２１は、上記によって構成される全ての表示ドットを含む領域に形成されている。そして、各ドット領域内には反射層２１を貫通して形成された開口部２１ａが対応して配置されている。更に、各ドット毎に対応してカラーフィルタ２２が上記開口部２１ａを充填するように形成され、このカラーフィルタ２２により生じた凹凸が平坦化膜２３により平坦化されている。そして、ストライプ状に電極２５が形成され、シール材５で囲まれた領域内のＤで示される境界から内側の方向に向けて電極２５を含む平坦化膜２３上に偏光層２６がパターン形成されている。また、この偏光層２６上には、偏光層２６と平面視略同一形状の絶縁膜２７が平面視略同一位置に形成されている。前記絶縁膜２７は、ＳｉＯ2を主体とする無機材料や、樹脂材料などにより構成することができ、その膜厚は、ＳｉＯ2を主体とする無機材料の場合、誘電率が大きいため、１５０Å以上１５００Å以下とすることが好ましく、樹脂材料により構成される場合には、前記無機材料よりも誘電率が小さくなるため、１５０Å以上１０００Å以下とすることが好ましい。また、更に、シール材５で囲まれた領域内のＥで示される境界から内側の方向に向けて絶縁膜２７上に配向膜２８がパターン形成されている。この配向膜２８は、Ｄで示された偏光層２６及び絶縁膜２７の平面領域よりも面積的に広い領域で覆う形状で形成されている。
【００２４】
また、下基板２の外面側には、下基板２側から順に偏光板２９と、この偏光板２９の透過軸とほぼ平行な透過軸を有する反射偏光板３３とが積層して設けられており、バックライト３０から出射される光を効率良く表示に利用できるようになっている。具体的には、バックライト３０から出射された光のうち、反射偏光板３３の透過軸と平行な偏光成分は反射偏光板３３を透過し、さらに反射偏光板３３の透過軸とほぼ平行な透過軸を有する偏光板２９を透過して反射層２１の裏面側（下基板２側）に入射する。その際、開口部２１ａに入射した光は、そのまま液晶層４へ入射して標示に利用されるが、反射層２１の開口部２１ａ以外の領域に入射した光は反射層２１により反射されて偏光板２９側へ戻される。そして、偏光板２９と反射偏光板３３の透過軸に平行なこの光は、これらを透過してバックライト３０へ戻され、バックライト３０の外面側に設けられた反射膜３１により反射され、再び液晶パネル１０へ向かう光として再利用される。
一方、バックライト３０から出射された後、反射偏光板３３を透過しなかった光は、反射偏光板３３により反射されてバックライト３０に入射し、バックライト３０の反射膜３１で反射される。従って、反射偏光板３３により反射された光は、反射膜３１との間で反射を繰り返すようになる。そして、この反射を繰り返すうちに、その偏光方向が徐々に変化され、その一部は反射偏光板３３を透過できるようになる。このようにして、反射偏光板３３により反射された光も表示に利用することが可能となる。
このように、本実施形態の液晶表示装置では、バックライト３０から出射される光のほぼ全てを液晶パネル１０の透過表示の光源として利用することができるため。透過モードにおいても明るい表示が得られるようになっている。
【００２５】
上記構成を備えた本実施形態の液晶表示装置は、図１Ｂ及び図２に示すように偏光層２６が、シール材５の内側に配置されるとともに、水溶性の二色性染料リオトロピック液晶により構成される偏光層２６が絶縁膜２７及び配向膜２８により覆われた構成とすることができるので、外気に含まれる水分等により偏光層２６が劣化することが無く、信頼性に優れた液晶表示装置とすることができる。図１Ｂでは、シール材５で囲まれた領域内で上記偏光層２６が絶縁膜と同形状でパターン形成されており、該偏光層２６と絶縁膜２７の形成された領域の面積より大きい面積で更に配向膜２８で覆う構成となっている。
また、平坦化膜２３により平坦化された面上に形成された電極層２５上に偏光層２６が形成されていることで、電極層２５上で偏光層２６が平坦に形成されるため、偏光層２６を構成するリオトロピック液晶の配向に乱れを生じることが無く、良好な偏光特性を得ることができる。このように、本実施形態の液晶表示装置は、上記構成を備えたことで、優れた信頼性と表示品質とを得ることができる。
【００２６】
更に、図３Ａ、及び図３Ｂにおいて、本発明の他の実施の形態である液晶表示装置の断面構成を示す。図１Ａは、液晶表示装置と、液晶パネル１０と、バックライト３０とを備えた構成の断面図を示すものであり、図２Ｂは下基板２の平面図（但し、カラーフィルタ２２、反射層２１、平坦化膜２３は省略）である。尚、本実施形態の説明では、上記において説明した実施構成と共通した構成においては、同様の符号を付して説明するものとする。また、以下で参照する図面については、図面を見易くするため、各構成要素の膜厚や寸法などを適宜異ならせて図示している。
上記において説明した実施構成では、偏光層２６の外端部が、シール材５の内周端よりも内側に位置する場合について説明したが、本発明に係る他の実施の形態による液晶表示装置では、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、偏光層２６の外端部が、少なくともシール材５の外周端よりも内側に配置されている構成を示すものである。
上記構成を平面視して観察すると、図３Ｂに示すように偏光層２６及び絶縁膜２７が、シール材５が配置された領域とオーバーラップして重なる部分が存在している。更に、水溶性の二色性染料リオトロピック液晶により構成される偏光層２６が絶縁膜２７及び配向膜２８により覆われた構成とすることができるので、外気に含まれる水分等により偏光層２６が劣化することが無く、信頼性に優れた液晶表示装置とすることができる。そして、偏光層２６と絶縁膜は同形状でパターン形成されており、該偏光層２６と絶縁膜２７の形成された領域の面積より大きい面積で更に配向膜２８で覆う構成となっている。図３Ｂにおいて、配向膜２８の形成領域の境界はシール材５の外周部と一致しているが、シール材５の外周部を越えて面積的に広く形成してもよいものである。そして、本構成の実施においても上述された同様の効果を得ることが可能である。
また、本実施の形態では、半透過反射型の液晶表示装置とした場合について説明したが、本発明はこの構成に限定されず、液晶表示装置の表示形式を透過型、あるいは反射型としてもよいのは勿論である。
【００２７】
（液晶表示装置の製造方法）
図４は、本発明に係る製造方法の一実施の形態を示す断面工程図である。図４に示す工程図では、本発明に係る製造方法の特徴的な点である液晶表示装置の下基板の製造方法についてのみ示している。
本実施形態の製造方法により液晶表示装置を製造するには、まず、図４Ａに示すように、透明なガラスや樹脂などからなる下基板２を用意し、この下基板２上に電極層２５を形成する。尚、電極層２５と、下基板２との間には、実際には図１Ａに示すように反射層やカラーフィルタ、平坦化膜が形成されているが、図４ではその図示を省略している。
次に、電極層２５を形成したならば、図４Ｂに示すように、電極層２５を覆うように、リオトロピック液晶の溶液を所定方向に圧力を印加しながら塗布し、その後固化させることで偏光層２６を形成する。
次に、図４Ｃに示すように、偏光層２６上に部分的に絶縁膜２７を形成する。この絶縁膜は例えばアクリル系樹脂などで形成することができ、フォトリソグラフィ工程を用いたパターニングにより容易に図示するように部分的に形成することが可能である。また例えば、ＳｉＯ2を含有する有機溶剤を凸版印刷等で形成することにより、より容易にパターニングすることが出来る。
次に、前記絶縁膜２７が形成された下基板２を絶縁膜２７側から水洗浄することで、絶縁膜２７が形成されていない領域の偏光層２６を除去する。偏光層２６は水溶性であり、水洗浄により極めて容易に除去することが可能である。図４Ｄに示すように、一部を除去された本実施形態では、下基板２上でシール材５が設けられる領域の偏光層２６を部分的に除去し、偏光層２６がシール材５の内側に配置されるようになっている。
このようにして、偏光層２６のパターニングが終了したならば、図４Ｅに示すように、絶縁膜２７及び偏光層２６を覆う配向膜２８を形成する。このようにして配向膜２８を形成することで偏光層２６が保護され、偏光層２６の劣化が極めて生じ難い、信頼性に優れる液晶表示装置を製造することができる。また、偏光層２６を保護する絶縁膜２７をマスクに利用して偏光層２６を選択配置するので、工程を簡素化と製造コストの低減を実現することができる。
【００２８】
尚、図４に示した下基板２上への各層の形成工程以外の液晶表示装置の製造工程は、従来から用いられている液晶表示装置の製造工程を適用することができるのは勿論である。
【００２９】
（電子機器）
上記実施の形態の液晶表示装置を備えた電子機器の例について説明する。
図５Ａは、携帯電話の一例を示した斜視図である。図５Ａにおいて、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００３０】
図５Ｂは、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図５Ｂにおいて、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００３１】
図５Ｃは、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図５Ｃにおいて、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００３２】
図５Ａ〜Ｃに示す電子機器は、上記実施の形態の液晶表示装置を用いた液晶表示部を備えているので、透過モードで明るい表示が得られるとともに、信頼性に優れた表示部を有する電子機器を実現することができる。
【００３３】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明に係る液晶表示装置は、前記下基板の内面側に設けられた電極層の上側に前記偏光層が形成され、前記下基板側の前記偏光層が、前記液晶層を前記上下基板の間に封止しているシール材の外周端よりも内側に形成されたことで、偏光層と外気とをシール材により隔離することができるので、外気中の水分により偏光層が劣化するのを防ぎ、信頼性に優れる液晶表示装置を提供することができる。
【００３４】
次に、本発明によれば、前記反射層上に偏光層を形成する工程と、前記偏光層上に、部分的に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜をマスクにして前記偏光層を部分的に除去する工程と、を備えることで、反射層上に部分的に偏光層が形成され、その直上に絶縁膜が形成された液晶表示装置を容易に製造することができる液晶表示装置の製造方法を提供することができる。係る方法により製造される液晶表示装置は、偏光層上に絶縁膜を備えるとともに、係る絶縁膜と平面視略同一形状に偏光層が形成されたものである。従って、上記偏光層の上面側が絶縁膜により保護され、偏光層に劣化を生じ難い、信頼性に優れたものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、本発明の一実施の形態である液晶表示装置の断面構成図である。図１Ａは、液晶パネルと、バックライトとを備えた構成の液晶表示装置の断面図であり、図１Ｂは下基板２の平面図（但し、カラーフィルタ、反射層、平坦化膜は省略）である。
【図２】 図２は、本発明の一実施の形態である液晶表示装置のドット部を拡大した各構成要素の平面的な配置関係を示した図である。
【図３】 図３は、本発明の他の実施の形態である液晶表示装置の断面構成を示す。図３Ａは、液晶パネルと、バックライトとを備えた構成の液晶表示装置の断面図であり、図３Ｂは下基板２の平面図（但し、カラーフィルタ、反射層、平坦化膜は省略）である。
【図４】 図２は、本発明の一実施の形態である液晶表示装置の製造方法を示す断面工程図である。
【図５】 図５Ａ〜Ｃは、本発明に係る電子機器の複数の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１ 上基板
２ 下基板
４ 液晶層
５ シール材
１０ 液晶パネル
２１ 反射層
２１ａ 開口部
２２ カラーフィルタ
２３ 平坦化膜
１１，２５ 電極層
２６ 偏光層
２７ 絶縁膜
２８ 配向膜
３０ バックライト
Claims (10)
- 互いに対向して配置された上基板と下基板との間に液晶層が挟持された液晶表示装置であって、
前記下基板の内面側に設けられた電極層の上側に偏光層が形成され、
前記下基板側の前記偏光層上に絶縁膜が形成され、
前記偏光層の外周端と、前記絶縁膜の外周端とが、平面視略同一位置とされており、
前記偏光層および前記絶縁膜の形成された領域の面積より大きい面積で、前記絶縁膜および前記偏光層の側面を覆って配向膜が形成され、
前記下基板側の前記偏光層および前記絶縁膜は、前記上下基板を接合するシール材の外周端よりも内側に形成されたことを特徴とする液晶表示装置。 - 各ドット内に部分的に形成された反射層を、前記下基板側の偏光層よりも下基板側に備えたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記絶縁膜が、ＳｉＯ2を主体とする材料で構成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
- 前記絶縁膜の膜厚が、１５０Å以上１５００Å以下とされたことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
- 前記絶縁膜が、透光性の樹脂材料で構成されたことを特徴とする請求請求項１または２に記載の液晶表示装置。
- 前記絶縁膜の膜厚が、１５０Å以上１０００Å以下とされたことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
- 前記絶縁膜上に配向膜が形成されており、前記配向膜の膜厚が、１００Å以上８００Å以下とされたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
- 互いに対向して配置された上基板と下基板との間に液晶層が挟持された液晶表示装置の製造方法であって、
前記反射層上に偏光層を形成する工程と、
前記偏光層上に、部分的に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜をマスク材として、前記偏光層の外周端が、前記上下基板を接合するシール材の外周端よりも内側になるように、前記偏光層を部分的に除去する工程と、
前記偏光層および前記絶縁膜の形成された領域の面積より大きい面積で、前記絶縁膜および前記偏光層の側面を覆うように、配向膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記偏光層を、前記反射層上に形成した電極層上に形成することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 請求項１ないし９のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003135995A JP3757956B2 (ja) | 2002-05-17 | 2003-05-14 | 液晶表示装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
| US10/438,220 US7072008B2 (en) | 2002-05-17 | 2003-05-15 | Liquid crystal display device, method for manufacturing the same, and electronic apparatus |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002143230 | 2002-05-17 | ||
| JP2003135995A JP3757956B2 (ja) | 2002-05-17 | 2003-05-14 | 液晶表示装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004046121A JP2004046121A (ja) | 2004-02-12 |
| JP3757956B2 true JP3757956B2 (ja) | 2006-03-22 |
Family
ID=31719483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003135995A Expired - Lifetime JP3757956B2 (ja) | 2002-05-17 | 2003-05-14 | 液晶表示装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7072008B2 (ja) |
| JP (1) | JP3757956B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4154940B2 (ja) * | 2002-07-22 | 2008-09-24 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
| JP4292132B2 (ja) * | 2004-09-24 | 2009-07-08 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 液晶表示装置 |
| US20070115247A1 (en) * | 2005-09-07 | 2007-05-24 | Zhan Chen | Programmable picture frame |
| TWI333580B (en) * | 2006-02-08 | 2010-11-21 | Chimei Innolux Corp | Backlight module and liquid crystal display using the same |
| CN101454711A (zh) * | 2006-06-02 | 2009-06-10 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置 |
| JP4920646B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2012-04-18 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 液晶表示装置 |
| US9182491B2 (en) | 2011-05-06 | 2015-11-10 | Waikatolink Limited | Selective distance range imaging |
| KR101303595B1 (ko) * | 2011-12-21 | 2013-09-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 방열 인쇄회로기판, 방열 인쇄회로기판 제조방법, 방열 인쇄회로기판을 포함하는 백라이트 유닛 및 액정표시장치 |
| KR101598673B1 (ko) * | 2012-12-14 | 2016-03-02 | 주식회사 엘지화학 | 중합성 조성물 |
| CN106526958A (zh) * | 2017-01-20 | 2017-03-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板及液晶显示设备 |
| KR102118359B1 (ko) | 2017-04-25 | 2020-06-04 | 주식회사 엘지화학 | 광학 디바이스 |
| JP6747754B2 (ja) | 2017-04-25 | 2020-08-26 | エルジー・ケム・リミテッド | 光学デバイス |
| WO2018199616A1 (ko) * | 2017-04-25 | 2018-11-01 | 주식회사 엘지화학 | 광학 디바이스 |
| EP3779581A4 (en) * | 2018-03-27 | 2021-04-28 | Lg Chem, Ltd. | OPTICAL DEVICE |
| KR102183673B1 (ko) * | 2018-05-17 | 2020-11-27 | 주식회사 엘지화학 | 광학 디바이스의 제조 방법 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5310448A (en) | 1976-07-16 | 1978-01-30 | Seiko Epson Corp | Liquid crystal display device |
| JPS5320948A (en) | 1976-08-11 | 1978-02-25 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Liquid crystal display device |
| JPS5834816B2 (ja) | 1976-10-07 | 1983-07-29 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| US4241984A (en) * | 1979-06-04 | 1980-12-30 | Timex Corporation | Simplified field effect, twisted nematic liquid crystal display construction |
| JPS5754925A (en) | 1980-09-19 | 1982-04-01 | Toshiba Corp | Sealing method of liquid crystal display element |
| JPS5823312A (ja) | 1981-07-31 | 1983-02-12 | Nec Home Electronics Ltd | デイジタル・オ−デイオデイスクの同期信号取出し回路 |
| JPS58205181A (ja) | 1982-05-26 | 1983-11-30 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | マトリクス液晶表示装置 |
| JPS6026303A (ja) | 1983-07-22 | 1985-02-09 | Alps Electric Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
| JPS6284021U (ja) | 1985-11-15 | 1987-05-28 | ||
| JPH0723784Y2 (ja) | 1989-10-13 | 1995-05-31 | 石川島播磨重工業株式会社 | 映写スクリーン用水幕形成装置 |
| JPH0475025A (ja) | 1990-07-17 | 1992-03-10 | Nec Corp | Ｌｃｄパネル |
| JPH07261169A (ja) | 1994-03-24 | 1995-10-13 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JPH07270782A (ja) | 1994-03-29 | 1995-10-20 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示装置 |
| RU2120651C1 (ru) | 1996-04-15 | 1998-10-20 | Поларайзер Интернэшнл, ЛЛСи | Жидкокристаллический индикаторный элемент |
| TWI245950B (en) * | 1999-03-19 | 2005-12-21 | Sharp Kk | Liquid crystal display apparatus |
| JP2001305526A (ja) | 2000-04-25 | 2001-10-31 | Seiko Epson Corp | 液晶装置および電子機器 |
-
2003
- 2003-05-14 JP JP2003135995A patent/JP3757956B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-15 US US10/438,220 patent/US7072008B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004046121A (ja) | 2004-02-12 |
| US7072008B2 (en) | 2006-07-04 |
| US20040090568A1 (en) | 2004-05-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050602 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110113 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110113 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120113 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120113 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130113 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140113 Year of fee payment: 8 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
| R371 | Transfer withdrawn |
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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