JP3692380B2

JP3692380B2 - 容器の洗浄方法および装置

Info

Publication number: JP3692380B2
Application number: JP18933998A
Authority: JP
Inventors: 者孝典武; 本兆山; 田貴志武
Original assignee: AZ Electronic Materials Japan Co Ltd
Current assignee: AZ Electronic Materials Japan Co Ltd
Priority date: 1998-07-03
Filing date: 1998-07-03
Publication date: 2005-09-07
Anticipated expiration: 2018-07-03
Also published as: US20020026953A1; KR100533435B1; JP2000015199A; TW450841B; US6347637B1; US6616770B2; KR20000011437A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばレジストを収容する缶のような容器の洗浄方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤ用基板に塗布するレジストは、ユーザーに対しナウパック缶（商品名）と呼ばれる容器に詰めて供給されている。この容器は、その内側にライナーを入れ、その内部にレジストを充填し、容器にキャップ、クロージャー、ディップチューブを装着してユーザーに発送される。そして、ユーザーはレジストを使用後、容器を発送元へ返送してくる。発送元では空の容器を受け取った後、ライナーを抜き出して捨て、容器、キャップ、クロージャ、ディップチューブを洗浄し、洗浄された容器に新しいライナーを施してレジストを充填し、さらにキャップ、クロージャー、ディップチューブを装着して再びユーザーに発送する。
【０００３】
上記のように容器を洗浄する場合、従来は、人手により容器をまず溶剤で洗浄し、次いで水洗浄をした後乾燥を行い、容器を再使用している。そして、従来の溶剤洗浄では、溶剤として、アセトン、メチルエチルケトン、アルコール類等を使用して洗浄を行っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、これらの溶剤洗浄は，溶剤の引火点が低く（アセトンは−１８℃、メチルエチルケトンは−７℃、アルコール類は１２〜１４℃）、引火、爆発の危険性があり、また揮発性のために瞬時に蒸発し臭いがきつく防毒マスク等の保護具の着用が求められ、さらに人体への危害がある等、作業環境上も問題のある作業であった。
【０００５】
よって、本発明は、上述の手洗いによる溶剤洗浄を無くして自動洗浄を可能にし、しかも溶剤洗浄に続いて水洗浄を自動的に行うことを可能にする容器の洗浄方法および装置を得ることを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、洗浄すべきレジスト収容容器を溶剤洗浄室内で、水溶性或いは部分水溶性溶剤である１・２エタンジオール、１・２プロパンジオール、アセトニルアセトン、エチレンカーボネイト、プロピレンカーボネイト、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール及びトリエチレングリコールモノメチルエーテルのいずれかを噴射することにより洗浄し、次いで、溶剤により洗浄された容器を水洗浄室内に送り、水洗浄室内で容器に洗浄水を噴射して洗浄することを特徴とするレジスト収容容器の洗浄方法を提供する。
【０００７】
また、本発明は、水溶性溶剤の噴射手段を内部に備えた溶剤洗浄室と、溶剤洗浄室に接続されるとともに、内部に洗浄水噴射装置を備えた水洗浄室と、溶剤洗浄室および水洗浄室を経て走行可能に設けられたコンベヤと、前記溶剤の噴射手段および洗浄水噴射装置からそれぞれ噴射される溶剤および洗浄水により容器が順次洗浄されるように、容器を支持してコンベヤと共に走行する容器支持装置と、前記溶剤洗浄室の入口、および溶剤洗浄室と前記水洗浄室の間を仕切る仕切り位置と、前記容器支持装置およびそれに支持される容器が前記溶剤洗浄室から前記水洗浄室へ通過することを可能にする待機位置との間で移動可能なシャッターと、を備え、前記シャッターが、前記待機位置と前記仕切り位置の間で上下方向回転軸線周りでほぼ９０度にわたり回動可能に支持され、前記待機位置では、シャッターは前記溶剤洗浄室および前記水洗浄室のいずれかの洗浄室の、前記コンベヤ走行方向に関しての側部に、コンベヤ走行方向に沿って位置することを特徴とする容器の洗浄装置を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態につき説明する。
図１は本発明の容器の洗浄装置の正面図を示す。図１において、容器の洗浄装置は全体的に直方体形状のハウジング２を備えており、このハウジング２は外気に対し基本的に遮断されている。洗浄すべき容器は典型的には前述のナウパック缶（商品名）であり、通常、Ｃ１、Ｃ２で示すように２種類の寸法のものがある。容器Ｃ１は背が高いが径が小さく、容器Ｃ２は背が低いが径が大きい。これらの容器Ｃ１、Ｃ２は同時に重ねて洗浄されるわけではないが、以下の説明では便宜的に重ねて図示してあり、共通の符号Ｃにより示してある。なお、容器Ｃは各図に示すように底部を上向きに、開口部を下向きにした状態で支持されて洗浄される。
【０００９】
容器Ｃはハウジング２の図１における右側からハウジング２内へ送り込まれ左方へ向けて間欠送りされ、ハウジング２の左端から送り出される。ハウジング２の内部は図１の右側から左側へ向かって溶剤洗浄部Ｓ、市水洗浄部Ｗ１、純水洗浄部Ｗ２および乾燥部Ｄが順次配列され、これらの部分は互いに区画されている。洗浄される容器Ｃは最初容器受入部３上に開口部を上に向けた状態で送り込まれ、次いで無端コンベア４上に反転移載されて矢印で示すように左方へ送られ、溶剤洗浄部Ｓ内で溶剤の噴射により溶剤洗浄され、次に市水洗浄部Ｗ１で市水の噴射による洗浄を受け、さらに純水洗浄部Ｗ２で純水の噴射による洗浄を受け、最後に乾燥部Ｄで乾燥されて、容器取出部５上に移載されて洗浄ずみ容器として外部へ取り出される。溶剤洗浄部Ｓの上部には蒸発した溶剤の回収用フード７が、また乾燥Ｄの上部には乾燥用水蒸気の取出し用フード８がそれぞれ設けられている。
【００１０】
図２は図１に示した容器洗浄装置の平面図を示す。図２において、ハウジング２の一側には、溶剤タンク１０が配置され、溶剤タンク１０内に貯められた溶剤は、ハウジング２内の配管１１を経て溶剤噴射ノズル（後述）へ送られる。また、ハウジング２の一側には、市水タンク１２および純水タンク１３が配置され、これらの市水タンクおよび純水タンクからの市水および純水は、それぞれ、ハウジング２内の配管１４および１５を経て、市水噴射ノズルおよび純水噴射ノズル（いずれも図示しない）へ送られるようになっている。
【００１１】
図３は図１の右端部分を拡大して示している。コンベア４の無端チェーンはスプロケット１７に掛けられて矢印に示す方向に間欠駆動される。容器受入部３上に載置された容器Ｃは、水平回転軸１８周りに回転する移載レバー１９（原理的に示す）の支持部１９ａに保持され、移載レバー１９の矢印Ｍ方向への回動によって、コンベヤ４に支持された容器支持装置２０上へ上下に反転させられた状態で移載され、コンベヤ４の走行によって左方へ送られる。容器支持装置２０については後述する。
【００１２】
図３に示すように、溶剤洗浄部Ｓは溶剤洗浄室２２を備えている。溶剤洗浄室２２は天井壁２３と前後の仕切りシャッター２４によって区画され、基本的に外部とは遮断されている。なお、同様な仕切りシャッター２４は前記純水洗浄部Ｗ２と乾燥部Ｄの間にも設けられる。溶剤洗浄室２２の底は溶剤受けシンク２６により仕切られており、溶剤洗浄室２２内の容器Ｃに向かって噴射された溶剤は落下してシンク２６により集められ、シンク２６の回収孔２７から回収されて再使用されるようになっている。回収経路については後述する。前記コンベヤ４のチェーンは、溶剤洗浄室２２内を図３において右方から左方へ向かって走行するように樋状のチェーンガイド２８に支持されている。
【００１３】
図３の４−４線断面を示す図４から明らかなように、容器はこの実施形態では２列をなして送られる。そして、コンベヤ４のチェーンは、容器Ｃ、Ｃの進行方向の両側に平行に設けられた樋状の前記チェーンガイド２８、２８によって案内されつつ走行する。コンベヤ４の平行な１対のチェーンの間には容器支持装置２０が架設されており、この容器支持装置２０上に左右１対の容器Ｃ、Ｃが支持される。
【００１４】
容器支持装置２０の詳細は図５ないし図７に示す通りである。左右１対のコンベヤ４のチェーンにわたって長方形枠状の容器支持枠２９が架け渡されてボルト３０によってチェーンに固定されている。したがって、チェーンの走行によって容器支持枠２９も同じ方向に走行する。容器支持枠２９の対向するビーム２９ａ、２９ａからは斜め内側へ向かって２組の容器支持バー３１が放射状配置で突設されている。各組の容器支持バー３１は基端がビーム２９ａに固定され、先端部には、図７に示すように小径容器Ｃ１に適応する容器支持段部３３および大径容器Ｃ２に適応する容器支持段部３４が形成されている。これら２つの容器支持段部３３、３４を有することによって、容器Ｃ１、Ｃ２のいずれを洗浄する場合にも対応することができる。図５からわかるように、１組４本の容器支持バー３１はその先端部で１個の容器を支持する。そして、この場合容器は、図３に示した移載レバー１９による移載作用により開口部が下方を向く反転状態で支持されることになる。
【００１５】
図４に示すように２列をなして容器支持装置２０上に支持されて搬送される容器Ｃ、Ｃが溶剤洗浄室２２内へ送り込まれて停止すると、容器Ｃ、Ｃの外面に溶剤が噴射される。このための、溶剤噴射装置は次のように構成される。図４に示すように、溶剤噴射装置は、前記溶剤タンク１０（図２）に接続された溶剤供給管１１を有し、この溶剤供給管１１は分配管３７を介して各容器Ｃの周面に沿って下降するノズル管３８に接続され、各ノズル管３８にはノズル３９が容器周壁に向けて突設されている。ノズル管３８は平面図である図８に示すように、各容器Ｃの外周に４本ずつ配設され、これらのノズル管３８内からノズル３９によって容器Ｃの外周壁に向けて溶剤が吹きつけられ、これによって容器外面が洗浄される。
【００１６】
一方、溶剤洗浄室２２内にある容器の内面を洗浄するために、容器支持装置２０上に支持されている各容器Ｃの下向き開口から上方に向けて溶剤を噴射する溶剤噴射管が設けられる。溶剤噴射管は図３で符号４１で示されている。溶剤噴射管４１は前記溶剤タンク１０（図２）に接続されていて、上向きに設けられており、その先端および周面に多数の溶剤噴射孔を有している。
【００１７】
図３に示すエアシリンダ４２を上方へ伸長させる、リンク４３が固定軸４４周りでレバー４５を上方へ回動させることにより、スライダ４６が上昇し、このスライダ４６に支持されている上向き溶剤噴射管４１が上昇して、図３に示すように容器Ｃの開口部を通って容器内に挿入され、溶剤噴射管４１から上向きおよび半径方向外方へ噴射される溶剤によって、容器内面が洗浄される。洗浄が終わると、溶剤噴射管４１はエアシリンダ４２の収縮によって下降する。そして、容器の外面および内面を洗浄した溶剤は落下し、シンク２６により集められて回収孔２７を経て回収される。図４において、左側の溶剤噴射管４１は容器Ｃの内部へ上昇した位置にあり、また右側の溶剤噴射管４１は容器Ｃの内部へ挿入されていない通常位置にある。
【００１８】
以上のようにして、溶剤洗浄室２２内で容器を洗浄している間、噴射された溶剤が溶剤洗浄室２２外へ漏れないように、溶剤洗浄室２２内の空間を他の空間に対し隔離しなければならない。このために、図３について既に説明したように、シャッター２４が溶剤洗浄室２２の容器導入側および市水洗浄室Ｗ１との接続部に設けられる。ただし、このシャッター２４は、溶剤洗浄室２２内へ洗浄すべき使用ずみ容器を導入する時、および溶剤洗浄室２２内で溶剤洗浄を終った容器を、次に続く市水洗浄部Ｗ１へ送る時に、図３に示す位置にあったのでは容器が通過できなくなるので邪魔にならない位置へ移動させなければならない。
【００１９】
このようにシャッター２４を、仕切り作用を果たす図３の仕切り位置と邪魔にならない待機位置との間で変位させる機構について次に説明する。図９に示すようにシャッター２４は全体的に横断面円弧形状をなす主体２４ａと、主体２４ａの上下端を塞ぐように溶接された天板２４ｂおよび底板２４ｃとからなり、天板２４ｂには、主体２４ａの円弧の中心方向に突出する回転アーム５０の基部が固定されている。回転アーム５０の先端はロータリアクチュエータ５１の駆動軸５２に固定されている。したがって、アクチュエータ５１の作動により、シャッター２４は実線で示す仕切り位置と仮想線で示す待機位置との間で回動可能となる。実線で示す仕切り位置では、容器の送り方向を示す矢印Ｔの方向をシャッター２４が横切ることになり、これにより仕切り作用が果たされ、一方、仮想線で示す待機位置では、シャッター２４は容器の送り通路の側方に退避して容器の通過を可能にする。
【００２０】
シャッター２４の溶剤洗浄室２２との関係位置は図３、図４、図８に示す通りである。図３では既に説明したようにシャッター２４は溶剤洗浄室２２の上流側を仕切るとともに、溶剤洗浄室２２と市水洗浄部Ｗ１とを仕切っている。一方、図４の状態では、ロータリアクチュエータ５１の作用で、シャッター２４は容器側部の待機位置へ退避している。図８ではシャッター２４の待機位置は仮想線で、仕切り位置は実線で示されている。シャッター２４が実線で示す仕切り位置に回動した状態では、シャッター２４の外側端部は仕切り壁５４（図８）に近接して遮断状態を維持する。シャッター２４の外面を駆動軸５２（図９）を中心とする円筒形状に形成しておくことによって、シャッター２４が仕切り位置と待機位置との間で回動する時にも仕切り壁５４とシャッター２４の外面の間隙は一定の僅かな空隙のクリアランスに保たれる。ロータリアクチュエータ５１は容器が停止する位置の真上に設置される。
【００２１】
図１０ないし図１２は、コンベヤ４のチェーン間に架設した容器支持装置２０上に支持されて間欠搬送されるために、容器Ｃを溶剤洗浄部Ｓの手前で検出して位置決めをする位置決めセンサーを示している。図１０に仮想線で示す位置に右方から左方へ向かって容器Ｃが送り込まれると、両側２箇所に設置した容器位置決めセンサー６０が容器Ｃの外周面に接触してそれを止め不動状態にする。位置決めセンサー６０は、容器Ｃが左方へさらに送られる時には軸６１周りで外方へ回動して退避する。容器Ｃが送られる左方位置には固定の位置決めセンサー６２が設置されている。図１１および図１２に示すように、位置決めセンサ６０、６２は容器Ｃの下側周面に接触する高さ位置に設置されている。
【００２２】
溶剤洗浄部Ｓに続く市水洗浄部Ｗ１および純水洗浄部Ｗ２も、基本的には前述した溶剤洗浄部Ｓと同様な構成をもっている。ただし、溶剤に代って、市水および純水が容器の内外面に噴射される点が主として異なっている。市水洗浄部Ｗ１および純水洗浄部Ｗ２は従来使用されているものであるから、その詳細な説明は省略する。純水洗浄部Ｗ２に続く乾燥部Ｄでは水蒸気の熱で加熱された温風が吹き込まれて容器の水分を蒸発させて乾燥を行う。
【００２３】
図１３は以上に説明した容器洗浄装置の配管図を示す。この図では左側に示したハウジング２内に下方から上方へ向かって溶剤洗浄部Ｓ、市水洗浄部Ｗ１、純水洗浄部Ｗ２および乾燥部Ｄが配設されており、容器は下方から上方へ向かってハウジング２内を搬送される。前記溶剤タンク１０は右下に示されており、順次上方へ向かって前記市水タンク１２および純水タンク１３が示されている。溶剤はポンプ７０により溶剤タンク１０内に供給され、必要に応じて溶剤タンク１０内の溶剤はポンプ７１により取り出され、廃棄される。溶剤タンク１０内の溶剤はポンプ７２により取り出され、熱交換器７３で加熱されて昇温し、配管７４を経て溶剤洗浄室２２内に噴射されて容器Ｃを洗浄する。洗浄に用いられた溶剤はシンク２６で集められ、配管７５を経て溶剤タンク１０内に戻される。なお、熱交換器７３を出た後の溶剤の一部は配管７６を経て溶剤タンク１０に戻すことができるようになっている。溶剤タンク１０内の溶剤は４０℃程度またはそれ以上の温度に保持され、また溶剤タンク１０内の溶剤のレベルは液面制御装置７７によって一定レベルに保持される。即ち、系内の溶剤は溶剤タンク１０の液面レベルを保持するために新たに供給される新しい溶剤により、また必要に応じてポンプ７１により溶剤タンク１０内の溶剤を廃棄、補給することにより徐々に置換される。したがって、特にライン中にフィルターの設置を要しない。なお、７８で示す位置は、溶剤洗浄後に容器に付着した溶剤の溜切り部を示す。
【００２４】
前記市水タンク１２には配管７９を経て新しい市水が供給される。溶剤タンクの場合と同様に市水タンク１２内の市水レベルも一定値に維持される。市水タンク１２内の市水の一部はポンプ８０により取り出されて熱交換器８１で水蒸気との熱交換により加熱され、再び市水タンク１２内へ戻される。そして、市水タンク１２内の市水は例えば７０℃程度の温度に維持されている。この７０℃程度の市水は前記ポンプ８０によって配管８２を経て前記熱交換器７３へ送られて溶媒を加熱する。熱交換器７３からの市水は管配８３を経て市水タンク１２内に戻されるようになっている。市水タンク１２内の市水は前記ポンプ８０で熱交換器８１へ送られる途中から分岐して、配管８５を経て市水洗浄部Ｗ１の洗浄室内へ送られて噴射され、溶剤洗浄後の容器Ｃの内外面を洗浄する。洗浄後の市水はシンク８７で集められ、配管８６を経て市水タンク１２内へ戻される。
【００２５】
純水タンク１３へは配管９０を経て純水が供給される。純水タンク１３内の純水は、加熱されることなく常温のままでポンプ９１の作用で配管９２を経て純水洗浄部Ｗ２内へ送られて噴射され、市水洗浄後の容器を純水洗浄する。使用された純水は全量市水タンク１２へ送られ、市水の消費を補う。
【００２６】
乾燥部Ｄ内へは、送風機９４によりヒーター９５およびフィルター９６を経て温風が送り込まれて洗浄後の容器Ｃが乾燥され、次いで送風機９７によりフィルター９８を経て冷風が送り込まれて容器Ｃが室温付近にまで冷却される。ヒーター９５へは配管９９を経て水蒸気が送られる。水蒸気はさらに配管１００を経て前記市水加熱用交換器８１に送られる。
【００２７】
次に、以上に説明した容器洗浄装置の作用、すなわち容器洗浄方法を説明する。図３において容器受入部３上に置かれた容器Ｃは、移載レバー１９の回動によって容器支持装置２０上に２個ずつ同時に載置され、コンベヤ４の間欠移動によって、まず溶剤洗浄部Ｓ内へ送り込まれる。この時、溶剤洗浄部Ｓの溶剤洗浄室２２入口のシャッター２４は側方の待機位置へアクチュエータ５１の作用で自動的に退避して容器Ｃの進入を可能にする。容器Ｃが溶剤洗浄室２２内の所定位置に停止すると、シャッター２４はアクチュエータ５１の作用で自動的に仕切り位置へ回動して、溶剤洗浄室２２を外部に対し隔離する。この時、溶剤洗浄室２２とその下流側の市水洗浄部Ｗ１の洗浄室との間にあるシャッター２４も仕切り位置へ回動して、溶剤洗浄室２２を市水洗浄部Ｗ１の洗浄室に対して隔離する。
【００２８】
そして、この状態で溶剤洗浄室２２内のノズル３９および上向き溶剤噴射管４１から溶剤が噴射され、下向きに支持されている容器Ｃの内外面が溶剤により洗浄される。この溶剤洗浄時には、シャッター２４が閉じているので、噴射される溶剤は下流側の市水洗浄部Ｗ１内へ入ることがない。また、溶剤は図１３について説明したように溶剤タンク１０内で約４０℃に維持されているので、この温度で噴射される。このように加温された溶剤による洗浄により、容器Ｃの洗浄は好適に行われる。洗浄に用いた溶剤はシンク２６上に落下し、図１３について説明したように再び溶剤タンク１０に戻される。
【００２９】
以上のようにして、溶剤洗浄部Ｓでの容器の洗浄がなされた後、溶剤洗浄室２２の前後のシャッター２４が待機位置へ回動されて開き、溶剤洗浄ずみ容器は市水洗浄部Ｗ１の洗浄室内へコンベヤ４により送られ、一方、コンベヤ４によって新しい容器が溶剤洗浄室２２内へ送り込まれて停止する。そして、再びシャッター２４が閉じて前述のように溶剤洗浄が行われる。
【００３０】
市水洗浄部Ｗ１における市水による洗浄作用は、基本的に溶剤による洗浄の場合と異なるところはない。市水洗浄部Ｗ１では、約７０℃に加熱された市水が容器の内外面に噴射され、容器に付着している水溶性溶剤が洗い流され、残留している汚れ等が洗い流される。使用された洗浄水は排水される。
【００３１】
純水洗浄部Ｗ２では、常温の純水が純水タンク１３から送られて容器に対し噴射され、最終洗浄が行われる。
【００３２】
次の乾燥部Ｄでは温風が容器に吹きつけられ、次いで常温空気が容器に吹きつけられて乾燥が行われる。
【００３３】
本発明では、溶剤として引火点が５５℃以上の水溶性または部分水溶性溶剤が用いられる。このような溶剤としては、アルコール、ケトン、脂肪酸、エステル、アミド、２つ以上の官能基をもつ種々の化合物等がある。
【００３４】
アルコールでは１・２エタンジオール、１・２プロパンジオール、ケトンではアセトニルアセトン、脂肪酸ではプロピオン酸酪酸、エステルとしてはジメトキシブチルアセテート、エチレンカーボネイト、プロピレンカーボネイト、アミドではＮ・Ｎ−ジメチルアセトアミド、また２つ以上の官能基を持つ化合物では２エトキシエタノール、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、フルフリルアルコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテルなどがある。
【００３５】
溶剤の洗浄能力と洗浄温度は密接な関係にあり、温度を上げると洗浄力は大幅に増大する。これは被洗浄物に付着している油の粘度が温度の上昇により低くなり、その溶解性が増すことによると考えられる。しかし、洗浄温度を上げさえすれば洗浄能力が向上するというわけではなく、４０℃程度より高くしても洗浄力は上がらない傾向がある。一方、溶剤、特に炭化水素系溶剤の洗浄温度は引火点より最低１５℃程度低く設定することが安全対策上望ましいとされている。この理由は爆発下限界の２５％以下の溶剤蒸気濃度が引火点マイナス１５℃以下の溶剤温度で達成されることによるものである（株式会社産業技術サービスセンター発行「最新洗浄技術総覧」第５編工業用洗浄剤及び洗浄第１章化学的洗浄及び洗浄方法第１節洗浄剤参照）。
【００３６】
上述のように洗浄力を高めるために溶剤４０℃にまで加温した場合、それより１５℃高い５５℃より引火点が低くない溶剤を選択することが、上記の条件を満たすためには必要である。よって本発明では溶剤の引火点を５５℃以上にする。また、溶剤が少くとも部分水溶性を有することが、後に続く水洗浄の効果を得るために必要である。
【００３７】
４０℃未満の引火点をもつ可燃物を扱う場合、消防当局の指導では、モータ、照明等は防爆仕様のものを用いる必要がある。ところが、防爆品は非防爆品に比較して２倍程度のコストがかかる。したがって、溶剤の引火点が高い程コスト面で有利で、しかも安全である。本発明のように溶剤の引火点を５５℃以上にすると、防爆仕様を用いる必要がない利点がある。
【００３８】
【発明の効果】
以上に述べたように本発明の容器洗浄方法では、外部に対して隔離された溶剤洗浄室内で引火点が５５℃以上の水溶性溶剤或いは部分水溶性を噴射することにより、溶剤洗浄室内で容器を溶剤洗浄し、溶剤洗浄後に直ちに水洗浄室内に容器を送って水洗浄を行うので、溶剤洗浄を含むすべての洗浄を自動化することができ、手洗い作業のような、汚れ易くしかも揮発性溶剤雰囲気中での劣悪環境作業を無くすることができる。そして、特に本発明の方法では引火点が５５℃以上の溶媒を用いるので、従来のように引火、爆発の危険がなく、溶剤洗浄室内で噴射を行うことができ、溶剤を加熱して洗浄能力を高めることもでき、従来の手洗いに比し溶剤洗浄能力を飛躍的に向上させることができる。そして、溶剤は水溶性であるため溶媒洗浄に続く水洗浄工程で、容器に付着している溶剤を洗い流すことができ、能率が向上する。また、防爆仕様にする必要がないのでコストが高くなるのを抑えることができる。
【００３９】
また、本発明の容器洗浄装置では、溶剤洗浄室内での溶剤噴射による溶剤洗浄の自動化の利点に加えて、開閉可能なシャッターにより、溶剤洗浄時に溶剤洗浄室を外部および水洗浄室に対し隔離し、溶剤が水と混じらないようにして、溶剤洗浄を行うことができ、洗浄溶剤の回収、循環が可能となる。またさらに、容器をコンベヤ搬送するため、容器の溶剤洗浄室に対する出し入れの時にのみ、容器搬送の邪魔にならない位置へシャッターを合理的に退避させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による容器の洗浄装置の正面図。
【図２】図１の容器の洗浄装置の平面図。
【図３】図１の右端部の拡大詳細図。
【図４】図３の４−４線断面図。
【図５】容器支持装置の平面図。
【図６】同側面図。
【図７】容器支持装置の容器支持バーの説明図。
【図８】図３の平面図。
【図９】シャッターの斜視図。
【図１０】容器位置決めセンサーの構造を説明する平面図。
【図１１】図１０の側面図。
【図１２】容器位置決めセンサーの容器との関係の説明図。
【図１３】本発明の容器洗浄装置の配管図。
【符号の説明】
２ハウジング
４コンベヤ
Ｃ容器
Ｓ溶剤洗浄部
Ｗ１市水洗浄部
Ｗ２純水洗浄部
Ｄ乾燥部
１０溶剤タンク
１２市水タンク
１３純水タンク
１７スプロケット
１９移載レバー
２０容器支持装置
２２溶剤洗浄室
２３天井壁
２４シャッター
２６溶剤受けシンク
２７溶剤回収孔
２８チェーンガイド
２９容器支持枠
３１容器支持バー
３６溶剤供給管
３８ノズル管
３９ノズル
４１溶剤噴射管
４２エアシリンダ
５０回転アーム
５１ロータリアクチュエータ
６０容器位置決めセンサー

Claims

洗浄すべきレジスト収容容器を溶剤洗浄室内で、水溶性或いは部分水溶性溶剤である１・２エタンジオール、１・２プロパンジオール、アセトニルアセトン、エチレンカーボネイト、プロピレンカーボネイト、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール及びトリエチレングリコールモノメチルエーテルのいずれかを噴射することにより洗浄し、次いで、溶剤により洗浄された容器を水洗浄室内に送り、水洗浄室内で容器に洗浄水を噴射して洗浄する、ことを特徴とするレジスト収容容器の洗浄方法。
前記洗浄水を温水とし、この温水とした洗浄水との熱交換により前記溶剤を加熱することを特徴とする請求項１記載のレジスト収容容器の洗浄方法。
水溶性溶剤の噴射手段を内部に備えた溶剤洗浄室と、
溶剤洗浄室に接続されるとともに、内部に洗浄水噴射装置を備えた水洗浄室と、
溶剤洗浄室および水洗浄室を経て走行可能に設けられたコンベヤと、
前記溶剤の噴射手段および洗浄水噴射装置からそれぞれ噴射される溶剤および洗浄水により容器が順次洗浄されるように、容器を支持してコンベヤと共に走行する容器支持装置と、
前記溶剤洗浄室の入口、および溶剤洗浄室と前記水洗浄室の間を仕切る仕切り位置と、前記容器支持装置およびそれに支持される容器が前記溶剤洗浄室から前記水洗浄室へ通過することを可能にする待機位置との間で移動可能なシャッターと、
を備え、
前記シャッターが、前記待機位置と前記仕切り位置の間で上下方向回転軸線周りでほぼ９０度にわたり回動可能に支持され、前記待機位置では、シャッターは前記溶剤洗浄室および前記水洗浄室のいずれかの洗浄室の、前記コンベヤ走行方向に関しての側部に、コンベヤ走行方向に沿って位置することを特徴とする容器の洗浄装置。
前記シャッターが、前記上下方向回転軸線と同軸をなす回転駆動軸に径方向回転アームによって連結され、前記シャッターは径方向外面が前記回転軸線を中心とする円弧面に形成され、シャッターが前記仕切り位置にある時に、シャッターの両側縁に接して溶剤洗浄室および水洗浄室の仕切り壁が位置していることを特徴とする請求項３記載の容器の洗浄装置。