JP2000015199A - 容器の洗浄方法および装置 - Google Patents

容器の洗浄方法および装置

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JP2000015199A JP10189339A JP18933998A JP2000015199A JP 2000015199 A JP2000015199 A JP 2000015199A JP 10189339 A JP10189339 A JP 10189339A JP 18933998 A JP18933998 A JP 18933998A JP 2000015199 A JP2000015199 A JP 2000015199A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レジスト缶のような容器の洗浄のうちの溶剤
洗浄を自動化し、水による自動洗浄を続いて行って容器
洗浄の能率を向上させる。 【解決手段】 ハウジング(2)内で無端状に走行する
コンベヤ(4)のチェーンに容器支持装置(20)を架
設し、それによって開口部を下向きにした状態で容器
(C)を支持しつつ、溶剤洗浄部(S)、市水洗浄部
(W1)、純水洗浄部(W2)、乾燥部(D)を経て搬
送する。洗浄部(S、W1)には開閉可能なシャッター
(24)を設け、噴射による洗浄中は、溶剤洗浄部
(S)と外部、溶剤洗浄部(S)と、市水洗浄部(W
1)が連通しないようにする。溶剤洗浄部(S)内で噴
射する溶剤としては安全性を考慮して引火点が55℃以
上の水溶性溶剤或いは部分水溶性溶剤を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばレジストを
収容する缶のような容器の洗浄方法および装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】LCD用基板に塗布するレジストは、ユ
ーザーに対しナウパック缶(商品名)と呼ばれる容器に
詰めて供給されている。この容器は、その内側にライナ
ーを入れ、その内部にレジストを充填し、容器にキャッ
プ、クロージャー、ディップチューブを装着してユーザ
ーに発送される。そして、ユーザーはレジストを使用
後、容器を発送元へ返送してくる。発送元では空の容器
を受け取った後、ライナーを抜き出して捨て、容器、キ
ャップ、クロージャ、ディップチューブを洗浄し、洗浄
された容器に新しいライナーを施してレジストを充填
し、さらにキャップ、クロージャー、ディップチューブ
を装着して再びユーザーに発送する。
【0003】上記のように容器を洗浄する場合、従来
は、人手により容器をまず溶剤で洗浄し、次いで水洗浄
をした後乾燥を行い、容器を再使用している。そして、
従来の溶剤洗浄では、溶剤として、アセトン、メチルエ
チルケトン、アルコール類等を使用して洗浄を行ってい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの溶剤
洗浄は,溶剤の引火点が低く(アセトンは−18℃、メ
チルエチルケトンは−7℃、アルコール類は12〜14
℃)、引火、爆発の危険性があり、また揮発性のために
瞬時に蒸発し臭いがきつく防毒マスク等の保護具の着用
が求められ、さらに人体への危害がある等、作業環境上
も問題のある作業であった。
【0005】よって、本発明は、上述の手洗いによる溶
剤洗浄を無くして自動洗浄を可能にし、しかも溶剤洗浄
に続いて水洗浄を自動的に行うことを可能にする容器の
洗浄方法および装置を得ることを課題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明による容器の洗浄方法では、従来用いている
低引火点の溶剤に代えて、引火点が55℃以上で比較的
安全なうえに水溶性或いは部分水溶性の溶剤を用いる。
この容器の洗浄方法は、洗浄すべき容器を溶剤洗浄室内
で引火点が55℃以上の水溶性或いは部分水溶性溶剤を
噴射することにより洗浄し、次いで、溶剤により洗浄さ
れた容器を水洗浄室内に送り、水洗浄室内で容器に洗浄
水を噴射して洗浄することを特徴とする。
【0007】また、本発明の容器の洗浄装置は、水溶性
溶剤の噴射手段を内部に備えた溶剤洗浄室と、溶剤洗浄
室に接続されるとともに、内部に洗浄水噴射装置を備え
た水洗浄室と、溶剤洗浄室および水洗浄室を経て走行可
能に設けられたコンベヤと、前記溶剤洗浄手段および水
洗浄手段からそれぞれ噴射される溶剤および洗浄水によ
り容器が順次洗浄されるように、容器を支持してコンベ
ヤと共に走行する容器支持装置と、前記溶剤洗浄室の入
口、および溶剤洗浄室と前記水洗浄室の間を仕切る仕切
り位置と、前記容器支持装置およびそれに支持される容
器が前記溶剤洗浄室から前記水洗浄室へ通過することを
可能にする待機位置との間で移動可能なシャッターと、
を備えることを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態につき説明する。図1は本発明の容器の洗浄装
置の正面図を示す。図1において、容器の洗浄装置は全
体的に直方体形状のハウジング2を備えており、このハ
ウジング2は外気に対し基本的に遮断されている。洗浄
すべき容器は典型的には前述のナウパック缶(商品名)
であり、通常、C1、C2で示すように2種類の寸法の
ものがある。容器C1は背が高いが径が小さく、容器C
2は背が低いが径が大きい。これらの容器C1、C2は
同時に重ねて洗浄されるわけではないが、以下の説明で
は便宜的に重ねて図示してあり、共通の符号Cにより示
してある。なお、容器Cは各図に示すように底部を上向
きに、開口部を下向きにした状態で支持されて洗浄され
る。
【0009】容器Cはハウジング2の図1における右側
からハウジング2内へ送り込まれ左方へ向けて間欠送り
され、ハウジング2の左端から送り出される。ハウジン
グ2の内部は図1の右側から左側へ向かって溶剤洗浄部
S、市水洗浄部W1、純水洗浄部W2および乾燥部Dが
順次配列され、これらの部分は互いに区画されている。
洗浄される容器Cは最初容器受入部3上に開口部を上に
向けた状態で送り込まれ、次いで無端コンベア4上に反
転移載されて矢印で示すように左方へ送られ、溶剤洗浄
部S内で溶剤の噴射により溶剤洗浄され、次に市水洗浄
部W1で市水の噴射による洗浄を受け、さらに純水洗浄
部W2で純水の噴射による洗浄を受け、最後に乾燥部D
で乾燥されて、容器取出部5上に移載されて洗浄ずみ容
器として外部へ取り出される。溶剤洗浄部Sの上部には
蒸発した溶剤の回収用フード7が、また乾燥Dの上部に
は乾燥用水蒸気の取出し用フード8がそれぞれ設けられ
ている。
【0010】図2は図1に示した容器洗浄装置の平面図
を示す。図2において、ハウジング2の一側には、溶剤
タンク10が配置され、溶剤タンク10内に貯められた
溶剤は、ハウジング2内の配管11を経て溶剤噴射ノズ
ル(後述)へ送られる。また、ハウジング2の一側に
は、市水タンク12および純水タンク13が配置され、
これらの市水タンクおよび純水タンクからの市水および
純水は、それぞれ、ハウジング2内の配管14および1
5を経て、市水噴射ノズルおよび純水噴射ノズル(いず
れも図示しない)へ送られるようになっている。
【0011】図3は図1の右端部分を拡大して示してい
る。コンベア4の無端チェーンはスプロケット17に掛
けられて矢印に示す方向に間欠駆動される。容器受入部
3上に載置された容器Cは、水平回転軸18周りに回転
する移載レバー19(原理的に示す)の支持部19aに
保持され、移載レバー19の矢印M方向への回動によっ
て、コンベヤ4に支持された容器支持装置20上へ上下
に反転させられた状態で移載され、コンベヤ4の走行に
よって左方へ送られる。容器支持装置20については後
述する。
【0012】図3に示すように、溶剤洗浄部Sは溶剤洗
浄室22を備えている。溶剤洗浄室22は天井壁23と
前後の仕切りシャッター24によって区画され、基本的
に外部とは遮断されている。なお、同様な仕切りシャッ
ター24は前記純水洗浄部W2と乾燥部Dの間にも設け
られる。溶剤洗浄室22の底は溶剤受けシンク26によ
り仕切られており、溶剤洗浄室22内の容器Cに向かっ
て噴射された溶剤は落下してシンク26により集めら
れ、シンク26の回収孔27から回収されて再使用され
るようになっている。回収経路については後述する。前
記コンベヤ4のチェーンは、溶剤洗浄室22内を図3に
おいて右方から左方へ向かって走行するように樋状のチ
ェーンガイド28に支持されている。
【0013】図3の4−4線断面を示す図4から明らか
なように、容器はこの実施形態では2列をなして送られ
る。そして、コンベヤ4のチェーンは、容器C、Cの進
行方向の両側に平行に設けられた樋状の前記チェーンガ
イド28、28によって案内されつつ走行する。コンベ
ヤ4の平行な1対のチェーンの間には容器支持装置20
が架設されており、この容器支持装置20上に左右1対
の容器C、Cが支持される。
【0014】容器支持装置20の詳細は図5ないし図7
に示す通りである。左右1対のコンベヤ4のチェーンに
わたって長方形枠状の容器支持枠29が架け渡されてボ
ルト30によってチェーンに固定されている。したがっ
て、チェーンの走行によって容器支持枠29も同じ方向
に走行する。容器支持枠29の対向するビーム29a、
29aからは斜め内側へ向かって2組の容器支持バー3
1が放射状配置で突設されている。各組の容器支持バー
31は基端がビーム29aに固定され、先端部には、図
7に示すように小径容器C1に適応する容器支持段部3
3および大径容器C2に適応する容器支持段部34が形
成されている。これら2つの容器支持段部33、34を
有することによって、容器C1、C2のいずれを洗浄す
る場合にも対応することができる。図5からわかるよう
に、1組4本の容器支持バー31はその先端部で1個の
容器を支持する。そして、この場合容器は、図3に示し
た移載レバー19による移載作用により開口部が下方を
向く反転状態で支持されることになる。
【0015】図4に示すように2列をなして容器支持装
置20上に支持されて搬送される容器C、Cが溶剤洗浄
室22内へ送り込まれて停止すると、容器C、Cの外面
に溶剤が噴射される。このための、溶剤噴射装置は次の
ように構成される。図4に示すように、溶剤噴射装置
は、前記溶剤タンク10(図2)に接続された溶剤供給
管11を有し、この溶剤供給管11は分配管37を介し
て各容器Cの周面に沿って下降するノズル管38に接続
され、各ノズル管38にはノズル39が容器周壁に向け
て突設されている。ノズル管38は平面図である図8に
示すように、各容器Cの外周に4本ずつ配設され、これ
らのノズル管38内からノズル39によって容器Cの外
周壁に向けて溶剤が吹きつけられ、これによって容器外
面が洗浄される。
【0016】一方、溶剤洗浄室22内にある容器の内面
を洗浄するために、容器支持装置20上に支持されてい
る各容器Cの下向き開口から上方に向けて溶剤を噴射す
る溶剤噴射管が設けられる。溶剤噴射管は図3で符号4
1で示されている。溶剤噴射管41は前記溶剤タンク1
0(図2)に接続されていて、上向きに設けられてお
り、その先端および周面に多数の溶剤噴射孔を有してい
る。
【0017】図3に示すエアシリンダ42を上方へ伸長
させる、リンク43が固定軸44周りでレバー45を上
方へ回動させることにより、スライダ46が上昇し、こ
のスライダ46に支持されている上向き溶剤噴射管41
が上昇して、図3に示すように容器Cの開口部を通って
容器内に挿入され、溶剤噴射管41から上向きおよび半
径方向外方へ噴射される溶剤によって、容器内面が洗浄
される。洗浄が終わると、溶剤噴射管41はエアシリン
ダ42の収縮によって下降する。そして、容器の外面お
よび内面を洗浄した溶剤は落下し、シンク26により集
められて回収孔27を経て回収される。図4において、
左側の溶剤噴射管41は容器Cの内部へ上昇した位置に
あり、また右側の溶剤噴射管41は容器Cの内部へ挿入
されていない通常位置にある。
【0018】以上のようにして、溶剤洗浄室22内で容
器を洗浄している間、噴射された溶剤が溶剤洗浄室22
外へ漏れないように、溶剤洗浄室22内の空間を他の空
間に対し隔離しなければならない。このために、図3に
ついて既に説明したように、シャッター24が溶剤洗浄
室22の容器導入側および市水洗浄室W1との接続部に
設けられる。ただし、このシャッター24は、溶剤洗浄
室22内へ洗浄すべき使用ずみ容器を導入する時、およ
び溶剤洗浄室22内で溶剤洗浄を終った容器を、次に続
く市水洗浄部W1へ送る時に、図3に示す位置にあった
のでは容器が通過できなくなるので邪魔にならない位置
へ移動させなければならない。
【0019】このようにシャッター24を、仕切り作用
を果たす図3の仕切り位置と邪魔にならない待機位置と
の間で変位させる機構について次に説明する。図9に示
すようにシャッター24は全体的に横断面円弧形状をな
す主体24aと、主体24aの上下端を塞ぐように溶接
された天板24bおよび底板24cとからなり、天板2
4bには、主体24aの円弧の中心方向に突出する回転
アーム50の基部が固定されている。回転アーム50の
先端はロータリアクチュエータ51の駆動軸52に固定
されている。したがって、アクチュエータ51の作動に
より、シャッター24は実線で示す仕切り位置と仮想線
で示す待機位置との間で回動可能となる。実線で示す仕
切り位置では、容器の送り方向を示す矢印Tの方向をシ
ャッター24が横切ることになり、これにより仕切り作
用が果たされ、一方、仮想線で示す待機位置では、シャ
ッター24は容器の送り通路の側方に退避して容器の通
過を可能にする。
【0020】シャッター24の溶剤洗浄室22との関係
位置は図3、図4、図8に示す通りである。図3では既
に説明したようにシャッター24は溶剤洗浄室22の上
流側を仕切るとともに、溶剤洗浄室22と市水洗浄部W
1とを仕切っている。一方、図4の状態では、ロータリ
アクチュエータ51の作用で、シャッター24は容器側
部の待機位置へ退避している。図8ではシャッター24
の待機位置は仮想線で、仕切り位置は実線で示されてい
る。シャッター24が実線で示す仕切り位置に回動した
状態では、シャッター24の外側端部は仕切り壁54
(図8)に近接して遮断状態を維持する。シャッター2
4の外面を駆動軸52(図9)を中心とする円筒形状に
形成しておくことによって、シャッター24が仕切り位
置と待機位置との間で回動する時にも仕切り壁54とシ
ャッター24の外面の間隙は一定の僅かな空隙のクリア
ランスに保たれる。ロータリアクチュエータ51は容器
が停止する位置の真上に設置される。
【0021】図10ないし図12は、コンベヤ4のチェ
ーン間に架設した容器支持装置20上に支持されて間欠
搬送されるために、容器Cを溶剤洗浄部Sの手前で検出
して位置決めをする位置決めセンサーを示している。図
10に仮想線で示す位置に右方から左方へ向かって容器
Cが送り込まれると、両側2箇所に設置した容器位置決
めセンサー60が容器Cの外周面に接触してそれを止め
不動状態にする。位置決めセンサー60は、容器Cが左
方へさらに送られる時には軸61周りで外方へ回動して
退避する。容器Cが送られる左方位置には固定の位置決
めセンサー62が設置されている。図11および図12
に示すように、位置決めセンサ60、62は容器Cの下
側周面に接触する高さ位置に設置されている。
【0022】溶剤洗浄部Sに続く市水洗浄部W1および
純水洗浄部W2も、基本的には前述した溶剤洗浄部Sと
同様な構成をもっている。ただし、溶剤に代って、市水
および純水が容器の内外面に噴射される点が主として異
なっている。市水洗浄部W1および純水洗浄部W2は従
来使用されているものであるから、その詳細な説明は省
略する。純水洗浄部W2に続く乾燥部Dでは水蒸気の熱
で加熱された温風が吹き込まれて容器の水分を蒸発させ
て乾燥を行う。
【0023】図13は以上に説明した容器洗浄装置の配
管図を示す。この図では左側に示したハウジング2内に
下方から上方へ向かって溶剤洗浄部S、市水洗浄部W
1、純水洗浄部W2および乾燥部Dが配設されており、
容器は下方から上方へ向かってハウジング2内を搬送さ
れる。前記溶剤タンク10は右下に示されており、順次
上方へ向かって前記市水タンク12および純水タンク1
3が示されている。溶剤はポンプ70により溶剤タンク
10内に供給され、必要に応じて溶剤タンク10内の溶
剤はポンプ71により取り出され、廃棄される。溶剤タ
ンク10内の溶剤はポンプ72により取り出され、熱交
換器73で加熱されて昇温し、配管74を経て溶剤洗浄
室22内に噴射されて容器Cを洗浄する。洗浄に用いら
れた溶剤はシンク26で集められ、配管75を経て溶剤
タンク10内に戻される。なお、熱交換器73を出た後
の溶剤の一部は配管76を経て溶剤タンク10に戻すこ
とができるようになっている。溶剤タンク10内の溶剤
は40℃程度またはそれ以上の温度に保持され、また溶
剤タンク10内の溶剤のレベルは液面制御装置77によ
って一定レベルに保持される。即ち、系内の溶剤は溶剤
タンク10の液面レベルを保持するために新たに供給さ
れる新しい溶剤により、また必要に応じてポンプ71に
より溶剤タンク10内の溶剤を廃棄、補給することによ
り徐々に置換される。したがって、特にライン中にフィ
ルターの設置を要しない。なお、78で示す位置は、溶
剤洗浄後に容器に付着した溶剤の溜切り部を示す。
【0024】前記市水タンク12には配管79を経て新
しい市水が供給される。溶剤タンクの場合と同様に市水
タンク12内の市水レベルも一定値に維持される。市水
タンク12内の市水の一部はポンプ80により取り出さ
れて熱交換器81で水蒸気との熱交換により加熱され、
再び市水タンク12内へ戻される。そして、市水タンク
12内の市水は例えば70℃程度の温度に維持されてい
る。この70℃程度の市水は前記ポンプ80によって配
管82を経て前記熱交換器73へ送られて溶媒を加熱す
る。熱交換器73からの市水は管配83を経て市水タン
ク12内に戻されるようになっている。市水タンク12
内の市水は前記ポンプ80で熱交換器81へ送られる途
中から分岐して、配管85を経て市水洗浄部W1の洗浄
室内へ送られて噴射され、溶剤洗浄後の容器Cの内外面
を洗浄する。洗浄後の市水はシンク87で集められ、配
管86を経て市水タンク12内へ戻される。
【0025】純水タンク13へは配管90を経て純水が
供給される。純水タンク13内の純水は、加熱されるこ
となく常温のままでポンプ91の作用で配管92を経て
純水洗浄部W2内へ送られて噴射され、市水洗浄後の容
器を純水洗浄する。使用された純水は全量市水タンク1
2へ送られ、市水の消費を補う。
【0026】乾燥部D内へは、送風機94によりヒータ
ー95およびフィルター96を経て温風が送り込まれて
洗浄後の容器Cが乾燥され、次いで送風機97によりフ
ィルター98を経て冷風が送り込まれて容器Cが室温付
近にまで冷却される。ヒーター95へは配管99を経て
水蒸気が送られる。水蒸気はさらに配管100を経て前
記市水加熱用交換器81に送られる。
【0027】次に、以上に説明した容器洗浄装置の作
用、すなわち容器洗浄方法を説明する。図3において容
器受入部3上に置かれた容器Cは、移載レバー19の回
動によって容器支持装置20上に2個ずつ同時に載置さ
れ、コンベヤ4の間欠移動によって、まず溶剤洗浄部S
内へ送り込まれる。この時、溶剤洗浄部Sの溶剤洗浄室
22入口のシャッター24は側方の待機位置へアクチュ
エータ51の作用で自動的に退避して容器Cの進入を可
能にする。容器Cが溶剤洗浄室22内の所定位置に停止
すると、シャッター24はアクチュエータ51の作用で
自動的に仕切り位置へ回動して、溶剤洗浄室22を外部
に対し隔離する。この時、溶剤洗浄室22とその下流側
の市水洗浄部W1の洗浄室との間にあるシャッター24
も仕切り位置へ回動して、溶剤洗浄室22を市水洗浄部
W1の洗浄室に対して隔離する。
【0028】そして、この状態で溶剤洗浄室22内のノ
ズル39および上向き溶剤噴射管41から溶剤が噴射さ
れ、下向きに支持されている容器Cの内外面が溶剤によ
り洗浄される。この溶剤洗浄時には、シャッター24が
閉じているので、噴射される溶剤は下流側の市水洗浄部
W1内へ入ることがない。また、溶剤は図13について
説明したように溶剤タンク10内で約40℃に維持され
ているので、この温度で噴射される。このように加温さ
れた溶剤による洗浄により、容器Cの洗浄は好適に行わ
れる。洗浄に用いた溶剤はシンク26上に落下し、図1
3について説明したように再び溶剤タンク10に戻され
る。
【0029】以上のようにして、溶剤洗浄部Sでの容器
の洗浄がなされた後、溶剤洗浄室22の前後のシャッタ
ー24が待機位置へ回動されて開き、溶剤洗浄ずみ容器
は市水洗浄部W1の洗浄室内へコンベヤ4により送ら
れ、一方、コンベヤ4によって新しい容器が溶剤洗浄室
22内へ送り込まれて停止する。そして、再びシャッタ
ー24が閉じて前述のように溶剤洗浄が行われる。
【0030】市水洗浄部W1における市水による洗浄作
用は、基本的に溶剤による洗浄の場合と異なるところは
ない。市水洗浄部W1では、約70℃に加熱された市水
が容器の内外面に噴射され、容器に付着している水溶性
溶剤が洗い流され、残留している汚れ等が洗い流され
る。使用された洗浄水は排水される。
【0031】純水洗浄部W2では、常温の純水が純水タ
ンク13から送られて容器に対し噴射され、最終洗浄が
行われる。
【0032】次の乾燥部Dでは温風が容器に吹きつけら
れ、次いで常温空気が容器に吹きつけられて乾燥が行わ
れる。
【0033】本発明では、溶剤として引火点が55℃以
上の水溶性または部分水溶性溶剤が用いられる。このよ
うな溶剤としては、アルコール、ケトン、脂肪酸、エス
テル、アミド、2つ以上の官能基をもつ種々の化合物等
がある。
【0034】アルコールでは1・2エタンジオール、1
・2プロパンジオール、ケトンではアセトニルアセト
ン、脂肪酸ではプロピオン酸酪酸、エステルとしてはジ
メトキシブチルアセテート、エチレンカーボネイト、プ
ロピレンカーボネイト、アミドではN・N−ジメチルア
セトアミド、また2つ以上の官能基を持つ化合物では2
エトキシエタノール、ジメチルスルホキシド、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、フル
フリルアルコール、トリエチレングリコールモノメチル
エーテルなどがある。
【0035】溶剤の洗浄能力と洗浄温度は密接な関係に
あり、温度を上げると洗浄力は大幅に増大する。これは
被洗浄物に付着している油の粘度が温度の上昇により低
くなり、その溶解性が増すことによると考えられる。し
かし、洗浄温度を上げさえすれば洗浄能力が向上すると
いうわけではなく、40℃程度より高くしても洗浄力は
上がらない傾向がある。一方、溶剤、特に炭化水素系溶
剤の洗浄温度は引火点より最低15℃程度低く設定する
ことが安全対策上望ましいとされている。この理由は爆
発下限界の25%以下の溶剤蒸気濃度が引火点マイナス
15℃以下の溶剤温度で達成されることによるものであ
る(株式会社 産業技術サービスセンター発行「最新洗
浄技術総覧」第5編工業用洗浄剤及び洗浄 第1章化学
的洗浄及び洗浄方法第1節洗浄剤参照)。
【0036】上述のように洗浄力を高めるために溶剤4
0℃にまで加温した場合、それより15℃高い55℃よ
り引火点が低くない溶剤を選択することが、上記の条件
を満たすためには必要である。よって本発明では溶剤の
引火点を55℃以上にする。また、溶剤が少くとも部分
水溶性を有することが、後に続く水洗浄の効果を得るた
めに必要である。
【0037】40℃未満の引火点をもつ可燃物を扱う場
合、消防当局の指導では、モータ、照明等は防爆仕様の
ものを用いる必要がある。ところが、防爆品は非防爆品
に比較して2倍程度のコストがかかる。したがって、溶
剤の引火点が高い程コスト面で有利で、しかも安全であ
る。本発明のように溶剤の引火点を55℃以上にする
と、防爆仕様を用いる必要がない利点がある。
【0038】
【発明の効果】以上に述べたように本発明の容器洗浄方
法では、外部に対して隔離された溶剤洗浄室内で引火点
が55℃以上の水溶性溶剤或いは部分水溶性を噴射する
ことにより、溶剤洗浄室内で容器を溶剤洗浄し、溶剤洗
浄後に直ちに水洗浄室内に容器を送って水洗浄を行うの
で、溶剤洗浄を含むすべての洗浄を自動化することがで
き、手洗い作業のような、汚れ易くしかも揮発性溶剤雰
囲気中での劣悪環境作業を無くすることができる。そし
て、特に本発明の方法では引火点が55℃以上の溶媒を
用いるので、従来のように引火、爆発の危険がなく、溶
剤洗浄室内で噴射を行うことができ、溶剤を加熱して洗
浄能力を高めることもでき、従来の手洗いに比し溶剤洗
浄能力を飛躍的に向上させることができる。そして、溶
剤は水溶性であるため溶媒洗浄に続く水洗浄工程で、容
器に付着している溶剤を洗い流すことができ、能率が向
上する。また、防爆仕様にする必要がないのでコストが
高くなるのを抑えることができる。
【0039】また、本発明の容器洗浄装置では、溶剤洗
浄室内での溶剤噴射による溶剤洗浄の自動化の利点に加
えて、開閉可能なシャッターにより、溶剤洗浄時に溶剤
洗浄室を外部および水洗浄室に対し隔離し、溶剤が水と
混じらないようにして、溶剤洗浄を行うことができ、洗
浄溶剤の回収、循環が可能となる。またさらに、容器を
コンベヤ搬送するため、容器の溶剤洗浄室に対する出し
入れの時にのみ、容器搬送の邪魔にならない位置へシャ
ッターを合理的に退避させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による容器の洗浄装置の正面図。
【図2】図1の容器の洗浄装置の平面図。
【図3】図1の右端部の拡大詳細図。
【図4】図3の4−4線断面図。
【図5】容器支持装置の平面図。
【図6】同側面図。
【図7】容器支持装置の容器支持バーの説明図。
【図8】図3の平面図。
【図9】シャッターの斜視図。
【図10】容器位置決めセンサーの構造を説明する平面
図。
【図11】図10の側面図。
【図12】容器位置決めセンサーの容器との関係の説明
図。
【図13】本発明の容器洗浄装置の配管図。
【符号の説明】
2 ハウジング 4 コンベヤ C 容器 S 溶剤洗浄部 W1 市水洗浄部 W2 純水洗浄部 D 乾燥部 10 溶剤タンク 12 市水タンク 13 純水タンク 17 スプロケット 19 移載レバー 20 容器支持装置 22 溶剤洗浄室 23 天井壁 24 シャッター 26 溶剤受けシンク 27 溶剤回収孔 28 チェーンガイド 29 容器支持枠 31 容器支持バー 36 溶剤供給管 38 ノズル管 39 ノズル 41 溶剤噴射管 42 エアシリンダ 50 回転アーム 51 ロータリアクチュエータ 60 容器位置決めセンサー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武 田 貴 志 静岡県小笠郡大東町干浜3810 クラリアン トジャパン株式会社内 Fターム(参考) 3B201 AA28 AB14 AB49 AB50 BB23 BB92 BB95 4H003 BA12 DC02 DC04 ED02 ED28 ED29 ED30 ED32 FA45

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】洗浄すべき容器を溶剤洗浄室内で引火点が
    55℃以上の水溶性或いは部分水溶性溶剤を噴射するこ
    とにより洗浄し、 次いで、溶剤により洗浄された容器を水洗浄室内に送
    り、水洗浄室内で容器に洗浄水を噴射して洗浄する、こ
    とを特徴とする容器の洗浄方法。
  2. 【請求項2】前記洗浄水を温水とし、前記溶剤を洗浄水
    との熱交換により加熱することを特徴とする請求項1記
    載の容器の洗浄方法。
  3. 【請求項3】水溶性溶剤の噴射手段を内部に備えた溶剤
    洗浄室と、 溶剤洗浄室に接続されるとともに、内部に洗浄水噴射装
    置を備えた水洗浄室と、 溶剤洗浄室および水洗浄室を経て走行可能に設けられた
    コンベヤと、 前記溶剤洗浄手段および水洗浄手段からそれぞれ噴射さ
    れる溶剤および洗浄水により容器が順次洗浄されるよう
    に、容器を支持してコンベヤと共に走行する容器支持装
    置と、 前記溶剤洗浄室の入口、および溶剤洗浄室と前記水洗浄
    室の間を仕切る仕切り位置と、前記容器支持装置および
    それに支持される容器が前記溶剤洗浄室から前記水洗浄
    室へ通過することを可能にする待機位置との間で移動可
    能なシャッターと、を備えることを特徴とする容器の洗
    浄装置。
  4. 【請求項4】前記シャッターが、前記待機位置と前記仕
    切り位置の間で上下方向回転軸線周りでほぼ90度にわ
    たり回動可能に支持され、前記待機位置では、シャッタ
    ーは前記溶剤洗浄室および前記水洗浄室のいずれかの洗
    浄室の、前記コンベヤ走行方向に関しての側部に、コン
    ベヤ走行方向に沿って位置することを特徴とする請求項
    3記載の容器の洗浄装置。
  5. 【請求項5】前記シャッターが、前記上下方向回転軸線
    と同軸をなす回転駆動軸に径方向回転アームによって連
    結され、前記シャッターは径方向外面が前記回転軸線を
    中心とする円弧面に形成され、シャッターが前記仕切り
    位置にある時に、シャッターの両側縁に接して溶剤洗浄
    室および水洗浄室の仕切り壁が位置している請求項4記
    載の容器の洗浄装置。
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