JP3653957B2

JP3653957B2 - プレス成形用金型

Info

Publication number: JP3653957B2
Application number: JP31298997A
Authority: JP
Inventors: 邦男日比野; 梅谷　　誠; 秀直片岡
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1997-11-14
Filing date: 1997-11-14
Publication date: 2005-06-02
Anticipated expiration: 2017-11-14
Also published as: JPH11147725A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気ディスクなどの記録媒体に最適な磁気ディスク用ガラス基板を大量かつ安価に生産するプレス成形用金型に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気記録の分野、特に磁気ディスクにおいては、小型化、薄型化、高容量化などの高性能化が進んでいるが、それに伴って、高密度磁気記録媒体への要求が高まり、高剛性、高硬度で平滑化が容易なガラス基板は、高密度化、高信頼性化に極めて有利なことから盛んに検討されている。
【０００３】
従来、磁気ディスク用ガラス基板は、所定のサイズに切り抜かれた後、平滑な表面を得るために１枚１枚ガラス基板を研磨する研磨法により製造されてきた。しかしながら、研磨工程に高い精度が要求され、かつ、工程数も多いという欠点があった。
【０００４】
それに対して、高品質かつ高生産性の可能なプレス成形法は光学ガラス素子製造の分野では、数多くの検討がなされ、既に実用化が図られている。
【０００５】
ところで、プレス成形に用いられる金型は、ガラスを繰り返し成形しても劣化しない特殊な金型が必要であり、種々の検討がなされている。
【０００６】
プレス成形金型母材としては、超硬合金（タングステンカーバイド）や、サーメット、ジルコニア、炭化珪素その他セラミックスが使用され、金型は母材保護と離型時のガラスの粘着を防止するため、離型性、耐酸化性、耐反応性の良い保護膜がコーティングされるものが開発されている。
【０００７】
例えば、特開平２−１３７９１４号公報に記載では、超硬合金表面に貴金属合金薄膜を設け、合金表面上に微細パターンを形成した成形用金型が提案されている。しかしながら、母材として用いれれる超硬合金（タングステンカーバイド）やサーメットは加工性が悪く、磁気ディスク用基板の型として十分な平滑性（ｎｍオーダの平滑性）を得ることは難しく、加工時表面に欠陥ができやすいという課題があった。
【０００８】
また、貴金属合金薄膜は微細加工が非常に困難であり、所望のパターンが得られ難く、得られる磁気ディスク基板の品質が劣るという欠陥があった。
【０００９】
さらに、光学レンズやプリズムなどの光学素子においても、金型の表面の微小な凹凸は散乱光の増加につながり、より表面平滑性の良いレンズが求められているが、従来の金型では限界に来ていた。
【００１０】
また、磁気ディスク用基板として十分な平滑性の得る事が容易なガラス材を成形母材として使用する技術については、特開平１−１４８７１４号公報の記載では、ガラスをプレス成形用母材とし、セラミックスまたは貴金属物質で保護膜を作製して使用する試みがなされ、また、特開昭６４−３３０２２号公報の記載では、ＭｇＦ₂などのフッ化物またはＳｉＯ₂などの酸化物を離型被膜として使用した光学素子成形用金型として提案されている。また、特開平２−５１４３４号公報の記載では、ガラスをプレス成形用母材とし、表面に微細加工用による微細パターンを形成した薄膜を有し、炭化珪素、窒化珪素からなる中間膜を介して、保護膜として炭素膜を形成した成形用金型が、光ディスク成形用金型として提案されている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、いずれも、プレス成形における過酷な高温加圧下の繰り返し使用に対して、十分な耐久性を有しておらず、長期間の繰り返し使用によりプレス面の荒れによる表面粗さの増加、また、ミクロな保護膜の剥離が発生する場合があり、微細パターンの変形など品質の劣化がおこり、近年の高耐久、長寿命化の要求には、十分に答えていないという課題を有していた。
【００１２】
また、従来、金型加工は円盤状のダイヤモンド砥石を回転させ加工を行う研削法が用いられていたが、用いる円盤状のダイヤモンド砥石は、直径２ミリ以下のものは現状では製造することが出来ず、この径以下の凹形状を有する金型の加工は出来ず、プレス成形法による光学ガラス素子の製造には限界があった。
【００１３】
従って、本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を解消し、製造されるべき磁気ディスク用基板および光学ガラス素子に対応した超平滑な表面性ならびに高精度な精密形状を有し、プレス成形において金型形状を精密かつ高精度に転写した磁気ディスク用ガラス基板製造および光学ガラス素子の製造が可能であり、かつ長期間の繰り返し使用においても、金型劣化の少ない磁気ディスク用基板および光学ガラス素子のプレス用金型およびその製造方法、更にそれを用いて製造した磁気ディスク用ガラス基板および光学ガラス素子を提供するものである。
【００１４】
また、従来、プレス成形法では製造することが出来なかった直径２ミリ以下の凸形状を有する光学ガラス素子用のプレス用金型およびその製造方法ならびに光学ガラス素子を提供するものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するため、本発明は、ガラスまたは単結晶アルミナからなる成形用金型の母材のプレス成形面に、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）のうち、少なくとも一種類以上の金属或いは合金からなる下地層を形成し、且つ、前記下地層の表面にタングステン（Ｗ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニュウム（Ｒｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、オスミウム（Ｏｓ）、レニウム（Ｒｅ）、タンタル（Ｔａ）のうち少なくとも一種類以上の金属或いは合金からなる薄膜状の保護膜を形成したことを特徴とするプレス成形用金型である。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００２５】
（実施形態の１）
図１は本発明で使用した磁気ディスク用基板のプレス成形用金型の構成を示す拡大断面図である。
【００２６】
１はガラス転移温度がガラス成形温度よりも高いガラスからなるプレス成形用金型の母材で、この母材１に使用するガラス種類は、特に限定する物ではないが、金型の繰り返し使用による変形を防止するため、できるだけ高温時の機械強度の優れたものがよく、熱膨張係数が小さい物が望ましい。
【００２７】
例えば、石英ガラスは、ガラス転移温度が高く、プレス成形用母材として好適である。
【００２８】
また、二酸化珪素を主成分とし、酸化アルミ、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物などの成分を含有したものも必要に応じて母材１として使用することができる。この場合には、成形されるガラス素材の成形温度よりも転移温度が高いガラス材が必要であり、望ましくは成形温度よりも５０℃以上高くなるように成分を調節したガラスを使用する必要がある。
【００２９】
更に、母材１のプレス成形面の平滑性は、磁気ディスク用としては、５ｎｍ以下が適当で、望ましくは２ｎｍ以下、さらに望ましくは、１ｎｍ以下が適当で、で、このような平滑面は酸化セリウムの微粒子を用いた研磨によって得ることができる。
【００３０】
また、単結晶アルミナもプレス成形用金型の母材として、使用することができる。２０００℃を越える耐熱性を有しており、ダイヤモンド砥粒を用いたラッピングの後、ＳｉＯ２の球状微粒子を用いた精密研磨により、ガラスの場合と同様に、磁気ディスク用として必要な５ｎｍ以下、望ましくは２ｎｍ以下、さらに望ましくは、１ｎｍ以下の平滑面を得ることができる。
【００３１】
２はチタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、ハフニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）の耐熱性金属うちで少なくとも一種類以上の成分を含有させた材料からなるターゲットをスパッタして、母材１の表面に形成した薄膜状の下地層で、この下地層２は、母材１と後述する保護膜３との付着強度を増加させて、高温、高圧下でのプレス成形用金型の繰り返し使用による保護膜３の膜剥がれを防止するものである。
【００３２】
この下地層２は、直流スパッタ法，高周波スパッタ法、マグネトロンスパッタ法或いはイオンビーム法により、ガス圧が１ｘ１０^-2〜１ｘ１０^-4Torr、パワー密度が1〜10Ｗ／cm²の製膜条件でスパッタして、膜厚を０．０５〜３μｍとするのが適当で、これ以下の膜厚では、下地層２として十分な付着強度が得られなくなり、又、これ以上の膜厚では、下地層２の表面が荒れて母材１の表面平滑性が損なわれる。
【００３３】
３は、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニュウム（Ｒｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、オスミウム（Ｏｓ）、レニウム（Ｒｅ）、タンタル（Ｔａ）の元素を一種類以上含有する貴金属系金属或いは合金の材料からなるターゲットをスパッタして、下地層２の表面に形成した薄膜状の保護膜で、この保護膜３は高温、高圧下でのガラスのプレス成形の繰り返しによるガラスの母材１のプレス面への付着及び母材１のプレス成形面の面荒れによる表面平滑性の低下を防止する。
【００３４】
この保護膜３は、直流スパッタ法，高周波スパッタ法、マグネトロンスパッタ法或いはイオンビーム法により、ガス圧が１ｘ１０^-2〜１ｘ１０^-4Torr、パワー密度が1〜10Ｗ／cm²の製膜条件でスパッタして、膜厚を０．１〜５μｍとするのが適当で、対応する材料から成るターゲットをスパッタし、形成することができる。スパッタ法としては、直流スパッタ法、高周波スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法が適用でき、これ以下の膜厚では、保護膜３として十分な付着強度が得られなくなり、又、これ以上の膜厚では、下地層２と同様に、保護膜３の表面が荒れて母材１の表面平滑性が損なわれる。
【００３５】
なお、母材１の表面に下地層２と保護膜３を形設する前に、母材１の表面をアルゴンなどの高周波プラズマによって表面をドライエッチングしておくと、母材１と下地層２と保護膜３との付着強度を高めることができるが、この場合には、母材１の表面がドライエッチングで荒れないように条件を最適化する必要がある。
【００３６】
図２は、本発明のプレス成形用金型を使用するプレス成形機の基本的な構成図である。
【００３７】
４は磁気ディスク用ガラス基板となるガラス素材、５は、磁気ディスク用ガラス基板の外径及び厚みを規制する胴型、６は胴型５の内側下部に配設されたプレス成形用金型の下型、７は図中上下方向に移動可能な状態で胴型５の内側上部に挿入された上型、８は胴型５を加熱する胴型用ヒータ部、１１は上型７を押し下げて下型６に載置されたガラス素材４を加圧するピストンシリンダ、１２はプレス成形機の本体を覆うチャンバ、１３はチャンバ１２の中に窒素ガスを導入する窒素導入口である。
【００３８】
このように構成されたプレス成形機において、胴型５、下型６及び上型７をそれぞれ胴型用ヒータ部８、下型用ヒータ部９及び上型用ヒータ部１０によって加熱し、かつ、窒素ガスを窒素ガス導入口１３からチャンバ１２の中に導入した上、下型６に載置されたガラス素材４を、ピストンシリンダ１１によって押し下げられる上型７で加圧して、磁気ディスク用ガラス基板を製造する。
【００３９】
ところで、磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形は低い酸素濃度雰囲気中で行うため、プレス成形の高温による金型の酸化防止され、金型の耐久性が向上する。
【００４０】
（実施例１）
つぎに、本発明の表面が平滑な磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型の製造方法について図１及び図２により具体的に説明する。
【００４１】
先ず、直径４８mm、厚み１５mmの円柱状の石英ガラスからなる一対のプレス成形用金型の母材１のプレス成形面を、粒径０．１μｍの微細なダイヤモンド砥粒で鏡面研磨した上、酸化セリウムを用い表面粗さ０．５nmになるまで研磨する。そして、研磨された母材１のプレス成形面を、アルゴンガスの高周波プラズマによって、アルゴンガス圧８ｘ１０^-3Ｔｏｒｒ、パワー密度２Ｗ／cm²の条件でエッチングする。
【００４２】
次に、研磨、マグネトロン高周波スパッタ法により、アルゴンガス圧５ｘ１０^-3Ｔｏｒｒ、パワー密度５Ｗ／cm²の条件で、各種材料をターゲットとして、膜厚０．２μｍの下地層２を形成した上、その下地層２の表面を、アルゴンガスの高周波プラズマにより、アルゴンガス圧８ｘ１０^-3Ｔｏｒｒ、パワー密度２Ｗ／cm²の条件でエッチングする。
【００４３】
最後に、このエッチングされた下地層２の表面に、マグネトロン高周波スパッタ法により、各種貴金属をターゲットとし貴金属合金からなる薄膜状の保護膜３を形成することによって、後記「表１」に示す試料１〜８のプレス成形用金型を製造する。なお、試料１〜８のプレス成形用金型に形成した下地層２及び保護膜３の具体的な組成は「表１」に示す。
【００４４】
又、この比較例として、下地層２のないプレス成形用金型（「表１」の試料９）と、粒径０．１μｍの微細なダイヤモンド砥粒によって鏡面研磨した超硬合金の表面に保護膜３を形成したプレス成形用金型（「表１」の試料１０）とを製造する。
【００４５】
そして、試料１，２，・・・・・，９或いは１０のプレス成形用金型を図２のプレス成形機に取り付けて、ソーダライムガラスからなる直径３５mmの円柱状のガラス素材４を、酸素濃度０．１％以下の窒素雰囲気中において、温度７００℃、プレス圧力６０Kg／cm²の条件で２分間プレス成形した上、その温度が４５０℃に冷却されるまで更にプレス成形を継続して、プレス成形機から取り出せば、円盤状のガラス基板が製造され、この円盤状のガラス基板に内径加工を施せば、磁気ディスク用ガラス基板ができる。
【００４６】
そこで、このようなプレス成形を３０００回行った後、成形用金型及びプレス成形した磁気ディスク用ガラス基板の表面をＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により３４μｍ角の範囲で５ヶ所測定した上、その表面粗さ（ＳＲａ）の平均を算出し評価し、又、プレス成形した磁気ディスク用ガラス基板の表面を光干渉方式の３次元表面粗さ計にて測定し、高さ５０nm以上の粗大突起の数を測定すると、「表１」のような結果になる。
【００４７】
【表１】

【００４８】
「表１」から明らかなように、本発明のプレス成形用金型（試料１〜８）で製造された磁気ディスク用ガラス基板は、３０００回目のプレス成形品でも初期の成形品と比較して、表面粗さに変化はほとんどなく、粗大突起の形成も見られなかった。
【００４９】
これに対し、下地層２のないプレス成形用金型（試料９）では、表面粗さが大きくなると共に、５０nm以上の粗大突起の発生が見られる。
【００５０】
又超硬合金の母材の表面に保護膜３を形成したプレス成形用金型（試料１０）では、初期の成形品から表面荒さが荒くて、粗大突起が形成されている上に、このプレス成形用金型の表面を光学顕微鏡で倍率４００倍で金型表面を観察したところ、ミクロな膜剥離が部分的に発生しているのが見られた。
【００５１】
なお、本実施例では、ガラスを金型母材としたプレス成形による磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型の製造方法について説明したが、光学ガラス素子についても同様の結果が得られる。
【００５２】
更に、単結晶アルミナを金型母材としたプレス成形用金型においても、磁気ディスク用ガラス基板および光学ガラス素子の製造において同様の結果が得られる。
【００５３】
（実施形態の２）
次に、本発明の微細パターンを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及びその磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型の製造方法について図１及び図２により具体的に説明する。
【００５４】
プレス成形用金型の母材１の表面に、微細パターンを形成する方法としては、レジストをスピンコートして、プリベイクした後、従来の紫外線露光、または、レーザビームで描画するレーザビーム露光、電子ビームで描画する電子ビーム露光により、レジストパターンを形成する。そして、パターン形成したレジストをマスクにしてドライエッチングを行うと、母材１の表面にパターンが形成される。
【００５５】
ドライエッチングには、アルゴンガス、ＣＦ₄等のフッ素系ガス又はフッ素系ガスと酸素との混合系ガスが使用できるイオンビームエッチング、電子サイクロトロン（ＥＣＲ）共鳴イオンエッチング法など指向性の良いエッチング法が適当である。
【００５６】
（実施例２）
以下、微細パターンを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及びその磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型の製造方法について具体的に説明する。
【００５７】
実施例１と同様に、直径４８mm、厚み１５mmの円柱状の石英ガラスからなる一対のプレス成形用金型の母材と１のプレス成形面を、微細なダイヤモンド砥粒を用いて鏡面研磨した上、酸化セリウムで表面粗さ０．５nmになるまで研磨する。そして、研磨された母材１のプレス成形面に、ポジ型電子ビームレジストＰＭＭＡをスピンコーティング法で塗布して、７０℃の条件でプリベイクした後、０．２μｍランド形状と１．０μｍのグルーブ形状とを同心円状に交互に有する微細パターンを電子ビーム露光法で描画して、現像することにより、レジストパターンを形成する。
【００５８】
つぎに、母材１の研磨されたプレス成形面を、アルゴンガスを用いた電子サイクロトロン（ＥＣＲ）共鳴イオンエッチング法により、真空度６ｘ１０^-4Ｔｏｒｒ、電力１０００Ｗの条件でドライエッチングして、母材１のプレス成形面に深さ２００nm微細パターンを形成する。実施例１と同様に、研磨され且つ微細パターンが形成された母材１のプレス成形面を、アルゴンガスの高周波プラズマでエッチングした後、マグネトロン高周波スパッタ法により、各種材料をターゲットとし下地層２を形成した上、その下地層２の表面をアルゴンガスの高周波プラズマでエッチングする。
【００５９】
最後に、このエッチングされた下地層２の表面に、マグネトロン高周波スパッタ法により、各種貴金属をターゲットとし貴金属合金からなる薄膜状の保護膜３を形成することによって、後記「表２」に示す試料１１〜１９のプレス成形用金型を製造する。なお、試料１１〜１９のプレス成形用金型に形成した下地層２及び保護膜３の具体的な組成は「表２」に示す。
【００６０】
又、この比較例として、鏡面研磨された円柱状の石英ガラスのプレス成形面に、酸化珪素のスパッタ膜を形成して、電子ビーム露光法によりパターン形成した上、ＣＦ₄ガスでドライエッチングして、微細パターンを形成する。そして、研磨され且つ微細パターンが形成された母材１のプレス成形面に、炭化珪素のスパッタ膜を形成した上、メタンと水素との混合ガスのプラズマＣＶＤ法で炭素からなる保護膜３を形成したプレス成形用金型（「表２」の試料２０）を製造する。
【００６１】
そして、試料１１，１２，・・・・・，１９或いは２０のプレス成形用金型を図２のプレス成形機に取り付けて、ソーダライムガラスからなる直径３５mmの円柱状のガラス素材４を、酸素濃度０．１％以下の窒素雰囲気中において、温度７００℃、プレス圧力６０Kg／cm²の条件で２分間プレス成形した上、その温度が４５０℃に冷却されるまで更にプレス成形を継続して、プレス成形機から取り出せば、円盤状のガラス基板が製造され、この円盤状のガラス基板に内径加工を施せば、磁気ディスク用ガラス基板ができる。
【００６２】
なお、磁気ディスク用ガラス基板の表面及び断面を走査型電子顕微鏡を用いて評価した結果、磁気ディスク用ガラス基板にはプレス成形用金型のプレス成形面のランド形状及びグルーブ形状の精度は寸法誤差が１０％の範囲内できれいに転写しており、ランド形状部の表面の粗さ（ＳＲａ）も０．８nmとプレス成形用金型のプレス成形面の表面の粗さと同レベルであった。
【００６３】
そこで、このようなプレス成形を３０００回行った後、成形用金型及びプレス成形面の微細パターンのグルーブ形状部の表面及びプレス成形した磁気ディスク用ガラス基板のランド部の表面をＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により３４μｍ角の範囲で５ヶ所測定した上、その表面粗さ（ＳＲａ）の平均を算出し評価し、又、プレス成形した磁気ディスク用ガラス基板の表面を光干渉方式の３次元表面粗さ計にて測定し、高さ５０nm以上の粗大突起の数を測定すると、「表２」のような結果になる。
【００６４】
【表２】

【００６５】
「表２」から明らかなように、本発明のプレス成形用金型（試料１１〜１９）によって製造された磁気ディスク用ガラス基板は、３０００回目のプレス成形品でも初期のプレス成形品と比較して、表面粗さに変化はなく、粗大突起の形成も見られなかった。
【００６６】
これに対し、炭素膜からなる保護膜３を母材１のプレス成形面に形成した比較例（試料２０）では、このプレス成形用金型の表面を光学顕微鏡で倍率８００倍で観察したところ、微細パターンのエッヂ部に保護膜３の剥がれと思われる欠陥が発生しており、又、微細パターンの変形も見られた。
【００６７】
なお、本実施例では、ガラスを金型母材としたプレス成形による磁気ディスク用ガラス基板の製造方法と、ランド形状及びグルーブ形状の微細パターンを有する磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型の製造方法とについて説明したが、微細パターンを有する光学ガラス素子についても同様の結果が得られる。
【００６８】
更に、単結晶アルミナを金型母材としたプレス成形用金型においても、磁気ディスク用ガラス基板および光学ガラス素子の製造において同様の結果が得られる。
【００６９】
（実施形態の３）
更に、プレス成形法では製造することができなかった直径２mm以下の凸形状の光学ガラス素子の製造方法及びその光学ガラス素子のプレス成形用金型の製造方法について図３により具体的に説明する。
【００７０】
図３は、本発明の光学ガラス素子のプレス成形用金型の製造工程の概念を示すものである。
【００７１】
１４は製造するレンズの見本（以下「レンズ見本」という）、１５は円柱状のガラスのプレス成形面を研削法で加工し且つ研磨して、レンズ見本１４の図３において上面或いは下面の曲面或いは平面と同一の形状、同等の平滑性を有する曲面或いは平面に形成した成形用母型の母材、１６は母材１５の表面に下地層１７と保護膜１８とを順次形成してなる成形用母型である。
【００７２】
１９は、加熱された円柱状のガラスの一平面に成形用母型１６のプレス成形面を押圧して、レンズ見本１４の上面或いは下面の曲面或いは平面と同一の形状、同等の平滑性を有する面を形成してなる成形用金型の母材で、この母材１９は、成形用母型の母材１５に使用するガラスの成形温度よりも５０℃以上低い転移温度のガラスからなる。２０は母材１９の表面に下地層２１と保護膜２２とを順次形成してなる成形用金型である。
【００７３】
成形用金型２０を製造するには、先ず、レンズ見本１４の一方の面の曲面或いは平面と同一の形状、同等の平滑性を有するように、円柱状のガラスのプレス成形面を研削法で加工し且つ研磨して成形用母型の母材１５を形成した上、その母材１５の表面に下地層１７と保護膜１８とを順次形成することにより、成形用母型１６を製造する。
【００７４】
次に、加熱された円柱状のガラスのプレス成形面を成形用母型１６のプレス成形面で押圧して、レンズ見本１４の一方の面の曲面或いは平面と同一の形状、同等の平滑性を有する凹み或いは平面を形成して成形用金型の母材１９を形成した上、その母材１９の表面に下地層２１と保護膜２２とを順次形成することにより、成形用金型２０を製造する。
【００７５】
又、レンズ見本１４の他方の面の平面或いは曲面と同一の形状、同等の平滑性を有する平面或いは凹みを形成した成形用金型２０も前述の如き製造方法で製造することにより、一対の成形用金型２０ができあがる。
【００７６】
この結果、従来製造できなかったガラスの研磨表面と同等の平滑表面性を有する小径の凸状或いは凹状のレンズを製造することができる。
【００７７】
（実施例３）
以下、直径２mm以下の凸形状の光学ガラス素子の製造方法及びその光学ガラス素子のプレス成形金型の製造方法について図３により更に具体的に説明する。
【００７８】
先ず、直径1.８mm、長さ５mmの２つの円柱状の石英ガラスをそれぞれ研削加工して、曲率半径が0.9mmの凸面形状のプレス成形面を有するマイクロレンズの成形用母型の母材１５と、平面形状のプレス成形面を有するマイクロレンズのプレス成形用母型の母材１５とをそれぞれ形成した上、これらの母材１５のプレス成形面をそれぞれ表面の粗さが1nmになるまで酸化セリウム砥粒で研磨する。
【００７９】
そして、これらの母材１５の研磨されたプレス面を、実施例１と同様に、アルゴンガスの高周波プラズマでエッチングした後、マグネトロン高周波スパッタ法によって、炭化珪素−白金（ＳｉＣ−Ｐｔ、Ｐｔ含有率５０ｗｔ％）からなる下地層１７を形成し、且つ、その下地層１７の表面をアルゴンガスの高周波プラズマによってエッチングする。その上、下地層１７の表面にマグネトロン高周波スパッタ法によって白金−ロジウム（Pt−Rh、Rh含有率２０ｗｔ％）合金薄膜からなる保護膜１８を形成することにより、成形用母型１６を製造する。
【００８０】
次に、この成形用母型１６を図２のプレス成形機に取り付けてマイクロレンズの成形用金型２０を製造する。すなわち、直径が６mm厚さが６mmの円柱状のパイレックスガラス素材を、成形母型１６とプレス成形面が平らな金型の間に設置して、温度が７５０℃、プレス圧力が５０Kg／cm²の条件で５分間プレス成形した上、その温度が５００℃に冷却されるまで更にプレスを継続した後、ガラス素材をプレス成形機から取り出すと、曲率半径が0.9mmの凹面形状のプレス成形面を有する成形用金型の母材１９が形成される。
【００８１】
また、直径が６mm厚さが６mmの円柱状のパイレックスガラス素材の１面を研磨して、平面形状をプレス成形面に有する成形用金型の母材１９を形成する。
【００８２】
そこで、２つの成形用金型の母材１９のプレス成形面を、それぞれ、実施例１と同様に、アルゴンガスの高周波プラズマでエッチングした後、各種材料をターゲットとしマグネトロン高周波スパッタ法により下地層２１を形成する。そして、その下地層２１の表面をアルゴンガスの高周波プラズマでエッチングした上、各種貴金属をターゲットとしマグネトロン高周波スパッタ法により保護膜２２を形成することにより、後記「表３」に示す試料２１〜２９の上型或いは下型となる一対の成形用金型２０を製造する。なお、試料２１〜２９の成形用金型２０に形成した下地層２１及び保護膜２２の具体的な組成は「表３」に示す。
【００８３】
又、比較例として、フッ化マグネシウムをプレス成形面に蒸着した成形用金型（「表３」の試料３０）を製造する。
【００８４】
そして、試料２１，２２，・・・・・，２９或いは３０のプレス成形用金型を図２のプレス成形機に取り付けて、PbＯの含有率が７０ｗｔ％、SiＯ₂の含有率が２７ｗｔ％、残りが微量成分から成る酸化鉛系光学ガラスを直径0.7mmの球状に加工したガラス素材を、酸素濃度０．１％以下の窒素雰囲気中において、温度が５２０℃、プレス圧力が４０Kg／cm²の条件で２分間プレス成形した上、その温度が３００℃に冷却されるまで更にプレス成形を継続して、プレス成形機から取り出せば、マイクロレンズが製造される。
【００８５】
そこで、このようなプレス成形を３０００回行った後に、成形用金型２０の表面および成形用金型２０によって成形したマイクロレンズの表面をそれぞれ光干渉方式の３次元表面粗さ計で５ヶ所測定した上、その表面粗さ（ＲＭＳ値）の平均を算出し評価する。この結果および成形用金型２０の表面状態の観察結果「表３」のようになる。
【００８６】
【表３】

【００８７】
「表３」から明らかなように、本発明のプレス用金型（試料２１〜２９）で製造されたマイクロレンズは、３０００回目のプレス成形品でも、初期の成形品と比較して表面粗さ（ＲＳＭ値）に変化がなかったのに対し、フッ化マグネシウムからなる保護膜を形成した比較例（試料３０）では、プレス成形が３０００回に達するまでに膜の剥離とガラス素材の溶着が発生した。
【００８８】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、下地層としてジルコニウム、ハフニウムを用いた成形用金型であり、磁気ディスク用ガラス基板あるいは光学ガラス素子に対応する超平滑な表面性と高精度な微細パターン或いは精密形状を有するプレス成形用金型が簡単に製造することができるものである。
【００８９】
また、本発明によれば、本発明のプレス成形用金型を使用してプレス成形を行うと、金型形状が精密且つ高精度に転写された磁気ディスク用ガラス基板あるいは光学ガラス素子が容易に製造できるという効果がある。更に、本発明によれば、従来のプレス成形法では製造できなかったマイクロレンズのプレス成形用金型をプレス成形法によって安価に且つ大量に製造できるという効果がある。
【００９０】
更に、本発明によれば、プレス成形用金型を長期間に亘って繰り返し使用しても、金型の劣化を防止それて、金型の寿命が長くなるという効果がある。
【００９１】
更に、本発明によれば、前述の効果から、高品質な磁気ディスク用ガラス基板或いは光学ガラス素子が安価に且つ大量に製造できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型の断面図
【図２】本発明のプレス成形用金型を使用するプレス成形機の基本的な構成図
【図３】本発明の光学ガラス素子のプレス成形用金型の製造工程の概念図
【符号の説明】
１，１９成形用金型の母材
２，１７，２１下地層
３，１８，２２保護膜
４ガラス素材
５胴型
６下型
７上型
８胴型用ヒータ部
９下型用ヒータ部
１０上型用ヒータ部
１１ピストンシリンダ
１２チャンバ
１３窒素ガス導入口
１４レンズ見本
１５成形用母型の母材
１６成形用母型
２０成形用金型

Claims

ガラスまたは単結晶アルミナからなる成形用金型の母材のプレス成形面に、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）のうち、少なくとも一種類以上の金属或いは合金からなる下地層を形成し、且つ、前記下地層の表面にタングステン（Ｗ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニュウム（Ｒｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、オスミウム（Ｏｓ）、レニウム（Ｒｅ）、タンタル（Ｔａ）のうち少なくとも一種類以上の金属或いは合金からなる薄膜状の保護膜を形成したことを特徴とするプレス成形用金型。