JP3647219B2 - 磁性記録媒体の信号再生方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、磁性材料の磁化の配向状態によって情報を記録した磁性記録媒体の信号再生方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
書き換え可能な高密度記録媒体及びその記録再生装置として、磁気記録媒体や光磁気記録媒体等、磁性材料の磁化の配向状態によって情報を記録する磁性記録媒体及びその記録再生装置が注目されている。近年これらの磁性記録媒体の記録密度を高めて更に大容量の記録媒体とする要求が高まっている。
【0003】
光磁気記録媒体とその記録再生装置を用いて行われる光磁気記録方式では、半導体レーザの熱エネルギーを利用して磁性薄膜に磁区を書き込んで情報を記録し、磁気光学効果を使って記録情報を読み出す。一般に、光記録媒体の線記録密度は、再生光学系のレーザ波長及び対物レンズの開口数NAに大きく依存する。すなわち、再生光学系のレーザ波長λと対物レンズの開口数NAが決まるとビームウエストの径が決まるため、信号再生可能な記録ピットの空間周波数は2NA/λ程度が限界となってしまう。
【0004】
したがって、従来の光ディスクで高密度化を実現するためには、再生光学系のレーザ波長λを短くするか対物レンズの開口数NAを大きくする必要がある。しかしながら、レーザ波長λを短くするのはレーザ素子の効率、発熱などの問題で容易ではなく、また対物レンズの開口数NAを大きくすると、焦点深度が浅くなるなどして機械的精度に対する要求が厳しくなるという問題が生じる。
【0005】
このため、レーザ波長や対物レンズの開口数を変えずに、記録媒体の構成や再生方法を工夫して記録密度を改善する、いわゆる超解像技術が種々開発されている。
【0006】
ところで、特開平3−93058号公報に記載の信号再生方法においては、磁気的に結合される再生層と記録保持層とを有してなる多層膜の、記録保持層に信号記録を行うとともに、再生層の磁化の向きを揃えた後、レーザ光を照射して加熱し、再生層の昇温領域に、記録保持層に記録された信号を転写しながら読み取る信号再生方法が提案されている。
【0007】
この方法によれば、再生用のレーザのスポット径に対して、このレーザによって加熱されて転写温度に達し信号が検出される領域は、より小さな領域に限定できるため、再生時の符号間干渉を減少させ、光学的な回折限界以下の周期の信号が再生可能となる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来の超解像方式のいずれの方式も再生光の一部をマスクし、実質的ピットを読み取るアパーチャを小さな領域に制限する事により解像能力を上げるという方法をとっていたため、マスクした部分の光は無駄になり、再生信号振幅が小さくなるという問題があった。つまり、マスクした部分の光は再生信号に寄与しないため、分解能を上げようとしてアパーチャを狭めるほど有効に使われる光が減少し、信号レベルが下がるという問題があった。
【0009】
かかる問題点に鑑みて、本発明者は既に、特開平6−290496号公報に記載の高密度記録信号再生方法において、特殊な磁性記録媒体を用いて、記録マークの境界部に存在する磁壁を温度勾配によって高温側に移動させ、この磁壁移動を検出することにより、高密度記録信号を再生する方法を提案している。
【0010】
しかし、この方法は、上述の温度勾配を再生用の光ビーム自身による媒体の加熱によって得ようとすると、温度分布のピークが再生光スポット内部に形成されるため、磁壁移動可能な温度領域の移動方向前方端部からの磁壁の移動と、後方端部からの磁壁の移動とが、共に再生スポットで読み出されてしまい、良好な再生信号が得られなかった。このため再生用の光ビームとは別に所望の温度分布を得るための手段を設ける必要があり、再生装置が複雑化するという問題点があった。
【0011】
図9に従来例を示す構成図を示す。図中、101はガラスあるいはプラスチックを素材とした基板102に、光ビームの照射による温度勾配を利用し、記録層の記録データを変化させることなく再生層の記録マークの磁壁を移動させ、再生スポット内のほぼ全域を同一磁化にして、光ビームの反射光の偏向面の変化を検出し、光の回折限界以下の記録マークを再生することが可能な光磁気記録媒体103を被着し、さらに保護膜104を形成した光磁気ディスクである。この光磁気ディスク101はマグネットチャッキング等でスピンドルモータに支持され、回転軸に対して回転自在の構造となっている。
【0012】
また、105〜117は光磁気ディスク101にレーザ光を照射し、さらに反射光から情報を得る光ヘッドを構成する個々の部品であり、106は対物レンズとしての集光レンズ、105は集光レンズ106を駆動するアクチュエータ、107は記録再生用の波長680nmの半導体レーザ、108は加熱用の波長1.3μmの半導体レーザ、109,110はコリメータレンズ、111は680nm光を100%通過し1.3μm光を100%反射するダイクロイックミラー、112はビームスプリッタ、113は1.3μm光が信号検出系に漏れ込まないようにするためのもので1.3μm光は透過しないが、680nm光は100%透過するダイクロイックミラーである。114はλ/2板、115はレーザの偏光角で2方向に分ける偏光ビームスプリッタ、117はフォトセンサ、116はフォトセンサへの集光レンズである。また、118は偏光方向によりそれぞれ集光・検出された信号を差動増幅する差動増幅回路である。
【0013】
ここで、記録再生用・加熱用の半導体レーザ107,108から出射された波長680nmと波長1.3μmのそれぞれのレーザ光は、コリメータレンズ109,110、ダイクロイックミラー111、ビームスプリッタ112、集光レンズ106を介して、光磁気ディスク101に照射される。このとき集光レンズ106はアクチュエータ105の制御によってフォーカシング方向、及び、トラッキング方向に移動して、レーザ光が光磁気記録媒体103上に逐次焦点を結ぶように制御され、かつ、光磁気ディスク101上に刻まれた案内溝に沿ってトラッキングする構成になっている。また、1.3μm光の光束系は集光レンズ106の開口径よりも小さくなるようにしてあり、全開口部を通過して集光される680nm光に比べて、NAが小さくなるようにしてある。
【0014】
したがって、図11に示すように、加熱用スポットは波長が長く、NAが小さいので、加熱用ビームとして示すように、記録再生ビームの記録再生用スポットよりも径が大きくなる。これにより、移動している媒体面上の記録再生用のスポット領域に、図中最下段に示してあるような所望の温度勾配を形成することが可能となる。光磁気ディスク1で反射されたレーザ光はビームスプリッタ112により、偏光ビームスプリッタ115の方向に光路が変えられ、ダイクロイックミラー113、λ/2板114、偏光ビームスプリッタ115を介して光磁気記録媒体の磁化の極性によって、それぞれセンサ117にレンズ116によって集められる。ここで、1.3μ光はダイクロイックミラー113を透過することができないため、これ以降は、680nm光レーザのみとなる。それぞれのフォトセンサ117の出力は差動増幅器118により差動増幅され、光磁気信号を出力する構成となっている。コントローラ120は光磁気ディスク101の回転数、及び、記録半径・記録セクタ情報等を入力情報として、LDPOWER設定とする記録パワー、記録信号等を出力し、LDドライバ119、磁気ヘッドドライバ124等を制御するものである。LDドライバ119は半導体レーザ107,108を駆動し、本例では半導体レーザ107に所望の記録パワー、再生パワー、さらに、半導体レーザ108に加熱用ビームパワーを印加、制御している。
【0015】
さらに、123は記録動作時に光磁気ディスク101のレーザ照射部位に変調磁界を印加するための磁気ヘッドであり、光磁気ディスク101をはさみ集光レンズ106と対向して配置されている。記録時、記録再生用半導体レーザ107がLDドライバ119により記録レーザパワーをDC光で照射し、これと同時にこの磁気ヘッド123は磁界変調の磁気ヘッドドライバ124により記録信号に対応して極性の異なる磁界を発生するようになっている。また、この磁気ヘッド123は光ヘッドと連動して光磁気ディスク101の半径方向に移動し、記録時には逐次光磁気記録媒体103のレーザ照射部位に磁界を印加することで情報を記録する構成になっている。なお、光磁気記録媒体103は図11(3)に示すように、記録層と中間層、再生層の3層から構成され、それぞれ矢印で示す磁壁構造を有している。
【0016】
図10を用いて記録再生動作に関して説明する。図中、(a)は記録信号、(b)は記録パワー、(c)は変調磁界、(d)は記録マーク、(e)は再生信号、(f)は2値化信号である。図10(a)に示すような記録信号を記録する場合、記録動作開始とともに、半導体レーザ107のレーザパワーは所定の記録パワーにし、さらに、記録信号に基づく変調磁界が印加される。これら動作により記録媒体の冷却過程において記録マーク列(d)が形成される。なお、斜線部は本明細書中表記の記録マークに相当する磁化の向きを持つ磁区を表し、網掛け部はこれとは逆の磁化の向きを持つ磁区を表している。
【0017】
再生動作に関して、さらに図11を用いて説明する。加熱用ビームにより磁壁移動媒体の再生層の磁壁が移動する温度条件まで加熱される。この温度条件下において、磁壁が移動を開始する主要条件である記録媒体温度Tsの等温線をみると、ビーム移動(進行)方向前方と、ビーム移動(進行)方向後方の両方に記録媒体温度Tsの等温線が存在しており、磁壁はビーム移動方向前方からの移動と、ビーム移動方向後方からの移動との2つが存在することとなる。したがって、図中(1)に示すようにビーム移動方向前方に記録再生用ビームを配置することにより前方からの磁壁移動信号のみの検出ができる。また、同様に図中(2)に示すようにビーム移動方向後方に再生用ビームを配置した場合でも、後方からの磁壁移動信号のみの検出が可能となる。
【0018】
どちらの場合においても、図10(d)に示すような記録マーク列を記録再生用ビーム再生することにより再生信号(e)、さらに2値化信号(f)が得られる。なお、光ビームの照射による温度勾配を利用し、記録層の記録データを変化させることなく再生層の記録マークの磁壁を移動させ、該光ビームの反射光の偏光面の変化を検出し、記録マークを再生するこの光磁気記録再生方法によれば、図11に示すように再生用ビーム中に含まれる磁化状態は全て同じになるため、図10(e)に示すように再生信号が矩形状になり、再生信号振幅を低下させることなく光の回折限界以下の周期の記録マークの再生が可能となり、記録密度ならびに転送速度を大幅に向上できる光磁気記録媒体、再生方法が可能となる。
【0019】
そこで本発明は、上記開示の高密度記録信号再生方法の問題点を解決するためになされたものであり、再生装置を複雑化することなく、再生用の光ビーム自身による媒体の加熱によって良好な高密度記録信号が得られる磁壁移動検出型の信号再生方法を提供することを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】
上記目的は下記の信号再生方法によって達成される。
【0021】
少なくとも、第1、第2、第3の磁性層が室温において交換結合して順次積層されており、該第1の磁性層は、該第3の磁性層に比べて相対的に磁壁抗磁力が小さな磁性膜からなり、該第2の磁性層は、該第1の磁性層および第3の磁性層よりもキュリー温度の低い磁性膜からなる磁性記録媒体からの記録信号の再生方法であって、磁性記録媒体面上に、光ビームを照射して、該第2の磁性層のキュリー温度以上の温度領域を有する温度分布を形成し、該温度領域を該磁性記録媒体に対して相対的に移動させると共に、該温度領域の移動方向前方端部においては、該第1の磁性層の磁壁を該温度領域内高温側へ該磁性記録媒体に対して相対的に移動させ、かつ、該温度領域の移動方向後方端部においては、該第1の磁性層の磁壁を該温度領域内に移動させない強度の再生磁界を印加することを特徴とする信号再生方法である。
【0022】
更に、上記信号再生方法において、上記再生磁界の磁化配向方向の大きさをHrとし、上記温度領域の移動方向前方端部における、上記磁性記録媒体面上の移動方向の温度勾配をG1、上記温度領域の移動方向後方端部における、上記磁性記録媒体面上の移動方向の温度勾配をG2とし、第1の磁性層の磁壁エネルギー密度、飽和磁化、及び磁壁抗磁力を、それぞれσ、Ms、及びHwとし、媒体温度をTとした時、
|G1|>|G2|
を満たす温度分布を形成し、かつ、少なくとも上記第2の磁性層のキュリー温度において、
(|G1×dσ/dT|/2Ms)−Hw > Hr
> (|G2×dσ/dT|/ 2Ms)−Hw
を満たす再生磁界Hrを印加することを特徴とする信号再生方法である。
【0023】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の再生方法における作用を説明するめたの模式図である。
【0024】
図1(a)は、本発明の再生方法に用いる磁性記録媒体の模式的断面図である。この媒体の磁性層は、第1の磁性層11、第2の磁性層12、第3の磁性層13が順次積層されてなる。各層中の縦矢印14は原子スピンの向きを表している。スピンの向きが相互に逆向きの領域の境界部には磁壁15が形成されている。
【0025】
図1(b)は、光ビームに対して相対的に移動している上記の磁性記録媒体面上に形成される温度分布を示す図である。この温度分布は、再生用に照射される光ビーム自身によって媒体上に誘起される。ここで、光ビームに対して固定された位置X1,X2において、媒体温度が第2の磁性層のキュリー温度Tsに達しており、位置X1と位置X2の間の領域では、第1の磁性層と第3の磁性層との間の交換結合が切断されている。この領域を結合切断領域という。
【0026】
結合切断領域に第1の磁性層中に存在する磁壁が侵入すると、矢印17で示すように温度のピークに向かって第1の磁性層中の磁壁が媒体上で移動する。この動作原理について以下に説明する。
【0027】
図2(b)は、図2(a)の温度分布が媒体上に形成されている時に、位置Xに存在する第1の磁性層中の磁壁に対して作用する力を示した図である。この図では、“+”の力は図の左側方向への作用、“−”の力は右側方向への作用を示すことにする。
【0028】
温度分布に対応して、第1の磁性層の磁壁エネルギー密度σの分布(図示せず)が形成される。そしてX方向に磁壁エネルギー密度σの勾配が生じることにより、位置Xに存在する第1の磁性層の磁壁に対して下記式から求められる力Fg(図2(b))が作用する。
【0029】
Fg=|dσ/dX|=|dσ/dT|×|dT/dX| ・・・(1)
この力は、磁壁エネルギーの低い方に磁壁を移動させるように作用する。
【0030】
磁壁に作用する他の力として、外部磁界による力Fe(図2(b))、第3の磁性層との交換相互作用により第1の磁性層が受ける力Fi(図2(b))がある。
【0031】
ここで、温度Tにおける第1の磁性層の飽和磁化、磁壁抗磁力、及び膜厚を、それぞれMs,Hw、及びhとし、第1の磁性層と第3の磁性層との間の界面磁壁エネルギー密度をσwとし、外部磁界の磁化容易軸方向の大きさをHrとすると、
Fe=2Ms×Hr ・・・(2)
となり、この力は、外部磁界に対して安定な方向の磁化配向領域が拡大する方向に磁壁を移動させるように作用する。
【0032】
また、
Fi=σw/h ・・・(3)
となり、この力は、第1の磁性層と第3の磁性層との間の界面磁壁が消滅する方向に磁壁を移動させるように作用する。第1の磁性層と第3の磁性層との間の界面磁壁が存在せず、第1の磁性層中の磁壁が、第3の磁性層中の磁壁と同じ位置に形成されている場合は、磁壁の移動を妨げる力として作用する。
【0033】
更に、常に磁壁の移動を妨げる力として、下記式で表せる力Fc(図2(b))がある。
【0034】
Fc=2Ms×Hw ・・・(4)
この他にも磁壁の挙動に影響を与える要因として、反磁界や浮遊磁界の影響、及び、記録マークの側部に形成される磁壁の影響が考えられる。記録マークが閉じた磁壁で囲まれている場合、磁壁の移動方向が磁区拡大方向か縮小方向かによって、磁壁が生成したり消滅したりするため、これが磁壁の挙動に影響を及ぼす。
【0035】
しかし、反磁界や浮遊磁界による影響は、飽和磁化を小さくしておけば抑制することができる。また、磁壁の生成/消滅の影響は、記録マークの前後の磁壁が独立して形成されるようにすれば排除できる。例えば、記録トラックの両側部において、第1の磁性層の膜面方向の交換相互作用による結合が切断もしくは低減されている媒体を用いて、記録トラックの両側部に跨って記録マークを形成すればよい。
【0036】
ここでは、反磁界や浮遊磁界の影響、及び、記録マークの側部に形成される磁壁の影響は、上述のように媒体が調整され、無視できるレベルに抑制されているものとして、考慮に入れないで議論する。
【0037】
いま、第1の磁性層の磁化は、着目した原子スピンの向きと同一方向に発現しているものとし、外部磁界を、膜面垂直下向き方向に印加した場合を考える。また、説明の簡略化のために下向きの磁化状態の領域中に上向きの微小磁区が孤立して形成されている場合について説明する。
【0038】
図3及び図4に、加熱領域に対して相対的に、図の右から左に媒体が移動して、孤立磁区が結合切断領域を通過する際の、磁区の前後の磁壁に作用する力とそれによる磁壁の挙動の関係を示す。
【0039】
図3(a)に、加熱領域前方において第1の磁性層中の磁壁に作用する力を示す。
【0040】
結合切断領域よりも充分右側の領域では、第3の磁性層との交換相互作用により第1の磁性層が受ける力Fiが支配的であり、第1の磁性層中の磁壁は、第3の磁性層中の磁壁と同一の位置に固定され、界面磁壁が存在しない状態になっている。この場合、Fiは媒体上での磁壁の移動を妨げる力として作用している。
【0041】
前方の磁壁31(図3(b))の場合、磁壁の左側領域の第1の磁性層の磁化配向が下向きになっており右側領域の磁化配向が上向きになっている。この磁壁には、外部磁界によって右側方向へ磁壁を移動させようとする力 −Fe が作用している。
【0042】
この磁壁が加熱領域の右側から結合切断領域に近づいてくると、温度勾配に伴う磁壁エネルギーの勾配により、高温側即ち左側方向へ磁壁を移動させようとする力 +Fg が作用する。
【0043】
従って、図3(b)に示したように、
−Fe+Fg>Fi+Fc ・・・(5)
(図3(a)参照)が満たされる位置X3に磁壁が到達すると、第1の磁性層中の磁壁が、左側方向へ媒体に対して相対的に移動する。位置X4まで移動すると式(5)の関係が成立しなくなり(図3(a)参照)、媒体上では磁壁の移動が停止する。その後、媒体の移動に伴って、図3(c)に示したように、位置X5まで移動するが、これより左側まで移動しようとすると右側方向へ作用する力によって位置X5に戻される。即ち、磁壁はこの位置で加熱領域に対して相対的に停止して、媒体に対しては相対的に右側方向へ移動し続けることになる。
【0044】
次に、この状態から後続の磁壁32が結合切断領域に侵入するときの磁壁の挙動を考える。
【0045】
この場合、磁壁の左側領域の第1の磁性層の磁化配向が上向きになっており右側領域の磁化配向が下向きになっている。この磁壁には、外部磁界によって左側方向へ磁壁を移動させようとする力 +Fe が作用している。
【0046】
また、温度勾配に伴う磁壁エネルギーの勾配により、高温側即ち左側方向へ磁壁を移動させようとする力 +Fg が作用する。
【0047】
従って、図3(d)に示したように、
+Fe+Fg>Fi+Fc ・・・(6)
が満たされる位置X6に後続の磁壁が到達すると、第1の磁性層中の磁壁が、左側方向へ媒体に対して相対的に移動する。位置X5には既に前方の磁壁が存在するのでここまで移動すると両方の磁壁が消滅し、加熱領域内の磁化配向が全部下向きになる。
【0048】
さて一方、第3の磁性層は磁壁抗磁力が充分に大きいため、第3の磁性層中の磁壁は媒体に対して相対的に移動することなく初期状態を保持する。そして媒体の移動に伴って加熱領域に対しては相対的に左側方向へ移動して行く。
【0049】
次に前方向について説明する。
【0050】
第3の磁性層中の孤立磁区の媒体進行方向前方の磁壁41(図4(b))が位置X2に到達して更に左側に抜けて行くと、第1の磁性層と第3の磁性層との間に再び交換相互作用が働き始める。第3の磁性層中の孤立磁区内のスピンは上向きであるが、前方の磁壁41が位置X2(図4(b))に到達した時点では位置X2の近傍領域の第1の磁性層のスピンは下向きになっているため、この磁壁41(図4(b))の右側領域ではスピンが反平行になって第1の磁性層に界面磁壁が形成される。ある程度の領域にわたって界面磁壁が形成されると、蓄積された界面磁壁エネルギーが磁区の核形成に必要なエネルギーを上まわってこの部分の第1の磁性層が磁化反転する(図4(b))。
【0051】
この時、まず、核形成した部分の周囲に磁壁が形成される。記録トラックの側部の磁壁は無視できるものとしてトラック方向のみに着目すると、界面磁壁が形成されている領域の第1の磁性層中の前後二カ所に磁壁43及び44(図4(b))が形成されることになる。以下に述べるように、これらの磁壁が、瞬時にそれぞれ左と右に移動することにより第1の磁性層が磁化反転する。
【0052】
左側に移動した磁壁43は第3の磁性層中の磁壁41に対応した位置まで移動すると界面磁壁が消滅して停止し、その後は媒体の移動に伴って、第3の磁性層中の磁壁と共に加熱領域に対して相対的に左側方向へ移動して行く。(左側の磁壁43は最初から第3の磁性層中の磁壁41に対応した位置に形成されるとも考えられる。)
では、右側に移動した磁壁44はどこで停止するか。それは、この磁壁44に作用する力の支配関係で以下のように決まる。
【0053】
まず、磁壁44の左側領域の第1の磁性層の磁化配向が上向きになっており右側領域の磁化配向が下向きになっているので、外部磁界によって左側方向へ磁壁44を移動させようとする力 +Fe が作用している。また、温度勾配に伴う磁壁エネルギーの勾配により、高温側即ち右側方向へ磁壁44を移動させようとする力 −Fg が作用する。更に、第3の磁性層との交換相互作用により、第1の磁性層と第3の磁性層との間の界面磁壁が消滅する方向即ち右側方向へ磁壁44を移動させようとする力 −Fi が作用する。
【0054】
従って、図4(b)に示したように、
+Fe−Fg−Fi>−Fc ・・・(7)
(図4(a)参照)が満たされる位置X7まで移動すると停止する。媒体の移動に伴って、加熱領域に対して相対的に左側方向へ移動しようとすると式(7)の関係が崩れて再び位置X7まで戻される。即ち、加熱領域に対して相対的に停止して、媒体に対しては相対的に右側方向へ移動し続けることになる。
【0055】
次に、第3の磁性層中の孤立磁区の媒体進行方向後方の磁壁42が位置X2に到達して更に左側に抜けて行くと、第1の磁性層と第3の磁性層との間に再び交換相互作用が働き始める。
【0056】
後方の磁壁42の左側領域の第3の磁性層のスピンは上向きであるが、この磁壁42が位置X2に到達した時点では、第1の磁性層中の位置X7に磁壁44が存在し、この磁壁44の右側領域の第1の磁性層の磁化配向は下向きになっているため、位置X2と位置X7の間の領域ではスピンが反平行になっており界面磁壁が形成されている(図4(c))。
【0057】
しかし、第3の磁性層中の磁壁が位置X7に到達すると、形成されていた界面磁壁は消滅し、第3の磁性層との交換相互作用による力Fiが磁壁44の媒体上での移動を妨げる力として作用するようになり、この後はFiが支配的となって、媒体の移動に伴って、第1の磁性層中の磁壁44も、第3の磁性層中の磁壁42と共に加熱領域に対して相対的に左側方向へ移動して行く(図4(d))。
【0058】
この結果、再生用に照射される光ビームのスポット内では、情報に対応した間隔で形成された磁壁が順次位置X3及び位置X6に到達する度に位置X5へ移動するのが検出される。スポット内で位置X5より後方の部分は常に下向きに磁化配向しており、後方から磁壁が移動して来ないので、再生用に照射される光ビーム以外の手段を用いることなく、再生用光ビーム自身で所要の温度分布を形成しても、良好な再生信号を得ることができる。
【0059】
なお、初期状態においてスポット内後方部分の第1の磁性層の磁化配向が上向きになっている場合、下向きに磁化配向している領域が初めて通過するときだけは、後方からの磁壁の移動が発生することになる。第1の磁性層の磁化配向が再生磁界に対して安定に配向している磁化領域を少なくとも1回は通過させた後に再生を行えばなんら問題はない。
【0060】
図3において、位置X3及び位置X6に対応する温度の等温線が記録パターンを分解して行くので、磁壁の移動距離を再生スポットサイズに見合った距離にしておくだけで、分解能は再生スポットサイズと無関係に向上させることが可能であり、光学的回折限界の制約から完全に解放される。
【0061】
上記式(5)〜(7)を満たすためには、少なくとも第3の磁性層との交換相互作用により第1の磁性層が受ける力Fi=0となる位置X1(図2(a))において
Fg−Fe>Fc ・・・(8)
を満たし、かつ、少なくともFi=0となる位置X2(図2(a))において
Fg−Fe<Fc ・・・(9)
を満たす必要がある。
【0062】
即ち、位置X1における温度勾配をG1、位置X2における温度勾配をG2とした時、
|dσ/dT|×|G1|−2Ms×Hr > 2Ms×Hw
> |dσ/dT|×|G2|−2Ms×Hr ・・・(10)
を満たす必要がある。
【0063】
そのためには、
|G1|>|G2| ・・・(11)
を満たす温度分布を形成し、かつ、
(|G1×dσ/dT|/2Ms)−Hw > Hr
> (|G2×dσ/dT|/2Ms)−Hw ・・・(12)
を満たす再生磁界Hrを印加する必要がある。
【0064】
但し、上述の説明は、あくまでも簡略化したモデルで動作を記述したものである。実際には、第1の磁性層で起こる磁化反転の態様は、磁壁移動モードと一斉回転モードとが混在したような態様をとっているのではないかと考えている。上述の説明では、磁壁の厚さを考慮してないが、第3の磁性層との結合が切れたときに第1の磁性層中の磁壁の厚さが広がって状態遷移して行くことも考えられる。
【0065】
上述の説明で着目した原子スピンの向きと、発現する磁化の向きとは、各磁性層ごとに、平行の場合と反平行の場合とがありうる。また、原子スピンの向きは、必ずしも膜面に垂直である必要はない。
【0066】
【実施例】
以下、本発明を適用した実施例について図面を参照しながら説明する。
【0067】
図5は、本発明の再生方法に用いる磁性記録媒体の層構成の一実施態様を示す模式的断面図である。この態様においては、基板56上に、下地層55、第1の磁性層51、第2の磁性層52、第3の磁性層53、上地層54が順次積層されている。基板56としては、例えば、ポリカーボネート、アクリル、ガラス等を用いることができる。下地層55や上地層54としては、例えば、SiN,AiN,SiO,ZnS,MgF,TaOなどの誘電体材料が使用できる。磁壁の移動を光学的に検出するのでなければ、必ずしも透光性材料である必要はない。磁性層以外の層は必須のものではない。磁性層の積層順序を逆にしてもよい。また、この構成に、更にAl,AlTa,AlTi,AlCr,Cu,Pt,Auなどからなる金属層を付加して、熱的な特性を調整してもよい。また、高分子樹脂からなる保護コートを付与してもよい。あるいは、成膜後の基板を貼り合わせてもよい。
【0068】
これら各層は、例えばマグネトロンスパッタ装置による連続スパッタリング、または連続蒸着などによって被着形成できる。特に各磁性層は、真空を破ることなく連続成膜されることで、互いに交換結合をしている。
【0069】
上記媒体において、各磁性層51〜53は、磁気記録媒体や光磁気記録媒体に一般的に用いられている材料の他、磁気バブル材料や反強磁性材料等、種々の磁性材料によって構成することが考えられる。
【0070】
例えば、Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Erなどの希土類金属元素の一種類あるいは二種類以上が10〜40原子%と、Fe,Co,Niなどの鉄族元素の一種類あるいは二種類以上が90〜60原子%とで構成される希土類−鉄族非晶質合金によって構成し得る。また、耐食性向上などのために、これらの合金にCr,Mn,Cu,Ti,Al,Si,Pt,Inなどの元素を少量添加してもよい。
【0071】
また、Pt/Co、Pd/Coなどの白金族−鉄族周期構造膜や、白金族−鉄族合金膜、Co−Ni−OやFe−Rh系合金等の反強磁性材料、磁性ガーネット等の材料も使用可能である。
【0072】
重希土類−鉄族非晶質合金の場合、飽和磁化は、希土類元素と鉄族元素との組成比により制御することが可能である。補償組成にすれば、室温での飽和磁化を0emu/ccにできる。
【0073】
キュリー温度も、組成比により制御することが可能である。飽和磁化と独立に制御するためには、鉄族元素として、Feの一部をCoで置き換えた材料を用い、置換量を制御する方法がより好ましく利用できる。即ち、Fe1原子%をCoで置換することにより、6℃程度のキュリー温度上昇が見込めるので、この関係を用いて所望のキュリー温度となるようにCoの添加量を調整する。Cr,Ti,Alなどの非磁性元素を微量添加することにより、逆にキュリー温度を低下させることも可能である。また、二種類以上の希土類元素を用いてそれらの組成比を調整することでもキュリー温度を制御できる。
【0074】
磁壁抗磁力や磁壁エネルギー密度は、主として材料元素の選択によって制御するが、下地の状態や、スパッタガス圧等の成膜条件によっても調整可能である。TbやDy系の材料は磁壁抗磁力や磁壁エネルギー密度が大きく、Gd系材料は小さい。不純物の添加等によって調整することもできる。
【0075】
膜厚は、成膜速度と成膜時間で制御できる。
【0076】
本発明の磁性記録媒体へのデータ信号の記録は、磁気記録もしくは熱磁気記録によって、第3の磁性層の磁化配向状態をデータ信号に対応させることによって行う。熱磁気記録には、媒体を移動させながら、第3の磁性層がキュリー温度以上になるようなパワーのレーザ光を照射しながら外部磁界を変調する方式と、一定方向の磁界を印加しながらレーザパワーを変調する方式とがある。後者の場合、光スポット内の所定領域のみが第3の磁性層のキュリー温度以上になる様にレーザ光の強度を調整すれば、光スポットの径以下の記録磁区が形成でき、光の回折限界以上の周期の信号も記録できる。
【0077】
以下に具体的な実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はその主旨を逸脱しない限りにおいて以下の実施例に限定されるものではない。
【0078】
[実施例1]
直流マグネトロンスパッタリング装置に、BドープしたSi、及びGd,Tb,Fe,Co,Crの各ターゲットを取り付け、トラッキング用の案内溝の形成されたポリカーボネート基板を基板ホルダーに固定した後、1×10-5Pa以下の高真空になるまでチャンバー内をクライオポンプで真空排気した。真空排気をしたままArガスを0.5Paとなるまでチャンバー内に導入し、基板を回転させながら、ターゲットをスパッタして各層を成膜した。
【0079】
まず最初に、下地層としてSiN層を80nm成膜した。引き続き、第1の磁性層としてGdFeCr層を膜厚(h1)30nm、第2の磁性層としてTbFeCr層を膜厚(h2)10nm、第3の磁性層としてTbFeCoCr層を膜厚(h3)80nmに順次成膜した。最後に、保護層としてSiN層を60nm成膜した。
【0080】
SiN層成膜時にはArガスに加えてN2ガスを導入し、直流反応性スパッタにより成膜した。各磁性層は、Gd,Tb,Fe,Co,Crの各ターゲットに投入するパワーの比によって組成比を制御した。
【0081】
組成比は、各磁性層とも補償組成近傍の組成になるように調整し、また、第1の磁性層のキュリー温度(Tc1)が220℃、第2の磁性層のキュリー温度(Tc2)が160℃、第3の磁性層のキュリー温度(Tc3)が290℃程度となるように調整した。
【0082】
記録再生は、従来より一般的に使用されている磁界変調記録用の磁気ヘッドの搭載されている光磁気ディスク評価装置を用いて、媒体を線速1.5m/secで回転させて行なった。
【0083】
記録時には、記録再生用レーザを4mWで直流照射しながら磁界を±200 Oeで変調することにより、第3の磁性層のキュリー温度以上に加熱した後の冷却過程で、磁界の変調に対応した上向き磁化領域と下向き磁化領域とのパターンを形成した。
【0084】
初めに、0.45μmのマークを4.5μm周期で記録して、再生用レーザのパワーPrを、0.8mW及び1.5mWとして再生した。この時オシロスコープ上で観察された信号波形を、それぞれ図6(a)及び(b)に示す。
【0085】
再生用レーザ自身で加熱した場合、通常、媒体面上の照射スポットの内部に温度分布のピークが形成される。そして、照射スポットの前方と後方とに温度Tsの等温線が形成される。この結果、前後の温度Tsの等温線からのピーク温度位置への磁壁の移動が重畳されて、再生スポットで検出されることになる。このため再生信号のノイズが高くなる。
【0086】
そして、加熱再生スポットが媒体に対して相対的に移動していると、熱は加熱再生スポットの後方により多く蓄積される。このため、温度分布のピークは、加熱再生スポット内部の、中心より後方に偏った位置に形成される。
【0087】
再生パワー0.8mWでは、磁壁移動開始可能な温度Tsに達しておらず、従来の再生方式と同様の再生が行われている。図6(a)のように、4.5μm周期の孤立マークは従来の再生方式でも充分再生可能であるから、通常の再生波形が観察されている。
【0088】
再生パワーを1.5mWまで上昇させると、温度Ts以上に達する領域ができ、図6(b)のように、磁壁移動による、本発明の再生方式に特有の矩形波形が現れた。この時、振幅の異なる二つの矩形波形が、同時に一定の遅延を持って観察された。振幅の大きな矩形波形が、再生スポット進行方向前方に形成される温度Tsの等温線からの磁壁移動による信号波形であり、振幅の小さな矩形波形が、後方の温度Tsの等温線からの磁壁移動による信号波形である。磁壁移動の終着点となる温度分布のピークが、再生スポットの中心より後方に偏った位置に形成されるため、後方の温度Tsの等温線からの磁壁移動による信号波形は振幅が小さくなる。各信号波形の立ち上がりは記録マークの前部の磁壁の移動による信号レベルの変化であり、立ち下がりは記録マークの後部の磁壁の移動による信号レベルの変化である。前方からの信号の立ち上がりと立ち下がりがなまっているのは、前方の温度Tsの等温線が、再生スポットの内部に形成されているため、磁壁移動開始前の磁化状態も検出されるためである。
【0089】
さて、ここで、再生パワーを1.5mWにしたまま、膜面垂直方向に200 Oeの再生磁界を印加したところ、図7のように、振幅の小さな矩形波形は全く見られなくなり、前方のTs等温線からの磁壁移動のみを検出できるようになった。即ち、再生磁界を印加することにより、レーザスポット後方の温度Tsの等温線からの磁壁移動を抑止し、前方のTs等温線からのみ磁壁移動させることができた。
【0090】
膜面垂直下向き500〜0 Oe、上向き0〜500 Oeの範囲で再生磁界強度を変化させたところ、上向き下向きとも180〜350 Oeの範囲で良好な再生信号が得られた。180 Oe以下では後方からの磁壁移動を完全に抑止できず、350 Oe以上では前方からの磁壁移動も安定に行われなくなった。
【0091】
次に、最短マーク長0.3μmの1−7変調ランダム信号を同様に記録して、再生パワー1.5mWで再生した。この時のアイパターンを図8に示す。図8(a)は再生磁界を印加しないで再生した時、図8(b)は膜面垂直方向に200Oeの再生磁界を印加して再生した時のアイパターンである。再生磁界を印加して再生した時のジッターを測定したところ、ウィンドー幅の10%程度の良好な値が得られた。
【0092】
以上のように、適正な強度の再生磁界を印加することにより、再生用レーザと加熱用レーザとを同一のレーザビームで兼用して1ビームで再生しても、良好な再生信号を得ることができた。
【0093】
[実施例2]
実施例1と同様の媒体を用いて、同様の記録を行った後、媒体の回転数を変えて、線速3m/sec及び6m/secとして、良好な再生信号の得られる再生磁界強度の範囲を調べた。この結果、それぞれ160〜380 Oe及び130〜440 Oeの範囲で良好な再生信号が得られた。
【0094】
温度分布のシミュレーションによると、線速が早くなるほど前方の温度勾配が急峻になり、後方の温度勾配が緩くなる。
【0095】
これらの結果は、再生磁界をHrとし、前方の温度勾配をG1、後方の温度勾配をG2とし、第1の磁性層の磁壁エネルギー密度、飽和磁化、及び磁壁抗磁力を、それぞれσ、Ms、及びHwとし、媒体温度をTとした時、
|G1|>|G2|
を満たしており、かつ、少なくとも第2の磁性層のキュリー温度において、
(|G1×dσ/dT|/2Ms)−Hw > Hr
> (|G2×dσ/dT|/2Ms)−Hw
を満たしていた。
【0096】
実験データ例を示すと、
キューリー温度 = 160 ℃
dσ/dT = −7.0×10-3 erg/cm2・℃
Ms = 20 emu/cm3
Hw = 20 Oe
G1 = −2.32×106 ℃/cm(線速3 m/secの場合)
G2 = 1.02×106 ℃/cm(線速3 m/secの場合)
G1 = −2.66×106 ℃/cm(線速6 m/secの場合)
G2 = 0.85×106 ℃/cm(線速6 m/secの場合)
となる。
【0097】
[実施例3]
実施例1と同様の媒体を用いて、最短マーク長0.3μmの1−7変調ランダム信号を同様に記録して、再生パワー1.5mWで再生した。この時、実施例1と同様の膜面垂直成分に加えて、面内方向成分を有する再生磁界を印加して再生したところ、ウィンドー幅の7%程度の良好な値が得られ、ジッターが改善された。
【0098】
以上述べた例の他、本発明の再生方法は、磁気光学効果による偏光面の変化に限らず、磁壁の移動によって生ずる別の変化を検出して再生するものであってもよい。本発明の再生方法に用いられる磁性記録媒体の記録膜は、磁性材料であれば垂直磁化膜でなくてもよい。また、各磁性層の界面は必ずしも明瞭急峻である必要はなく、膜厚方向に徐々に特性の変化している構成であってもよい。
【0099】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明の効果は、再生装置を複雑化することなく、再生用の光ビーム自身による媒体の加熱によって、光学的な回折限界を越えた高密度記録信号が再生可能な再生方法を提供できることにある。また、その再生信号品質を向上できることにある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による第1〜第3の磁性層を有する磁性記録媒体を使用した場合の再生方法の概念を模式的に示した図である。(a)は、再生状態における媒体の断面を示し、各磁性層のスピンの配向状態を模式的に示してある。(b)は、(a)に示されている位置における媒体上の温度分布を示している。
【図2】(a)は、本発明による媒体上に形成されるX方向の温度分布の例を示す。(b)は、本発明による(a)で示された温度分布が媒体上に形成されている時に、位置Xに存在する第1の磁性層中の磁壁に対して作用する力を示した図である。“+”の力は図の左側方向への作用、“−”の力は右側方向への作用を示す。
【図3】本発明による、加熱領域前方において、加熱領域に対して相対的に、図の右から左に媒体が移動して、孤立磁区が結合切断領域に侵入する際の、磁区の前後の磁壁に作用する力とそれによる磁壁の挙動の関係を示した図である。
【図4】本発明による、加熱領域後方において、加熱領域に対して相対的に、図の右から左に媒体が移動して、孤立磁区が結合切断領域を抜けて行く際の、磁区の前後の磁壁に作用する力とそれによる磁壁の挙動の関係を示した図である。
【図5】本発明の磁性記録媒体の層構成の一実施態様を示す模式的断面図である。
【図6】0.45μmのマークを4.5μm周期で記録した時の、オシロスコープ上で観察された再生信号波形を示す図である。図6(a)は、再生用レーザのパワーPrを0.8mWとした時、図6(b)は、Prを1.5mWとした時の信号波形である。
【図7】0.45μmのマークを4.5μm周期で記録した後、膜面垂直方向に200Oeの再生磁界を印加した時の、オシロスコープ上で観察された再生信号波形を示す図である。再生用レーザのパワーPrを1.5mWとした時の信号波形である。
【図8】最短マーク長0.3μmの1−7変調ランダム信号を記録して、再生パワー1.5mWで再生した時のアイパターンを示す。図8(a)は再生磁界を印加しないで再生した時、図8(b)は膜面垂直方向に200 Oeの再生磁界を印加して再生した時のアイパターンである。
【図9】光磁気記録装置の構成を示す図である。
【図10】光磁気記録装置の記録再生動作を説明するための図である。
【図11】光磁気記録装置の再生動作を説明するための図である。
【符号の説明】
11 第1の磁性層
12 第2の磁性層
13 第3の磁性層
14 原子スピンの向き
15 磁壁
16 加熱兼再生用光ビーム
17 磁壁の移動方向
18 媒体の移動方向

Claims (3)

  1. 少なくとも、第1、第2、第3の磁性層が室温において交換結合して順次積層されており、該第1の磁性層は、該第3の磁性層に比べて相対的に磁壁抗磁力が小さな磁性膜からなり、該第2の磁性層は、該第1の磁性層および第3の磁性層よりもキュリー温度の低い磁性膜からなる磁性記録媒体からの記録信号の再生方法であって、該磁性記録媒体面上に、光ビームを照射して、該第2の磁性層のキュリー温度以上の温度領域を有する温度分布を形成し、該温度領域を該磁性記録媒体に対して相対的に移動させると共に、該温度領域の移動方向前方端部においては、該第1の磁性層の磁壁を該温度領域内高温側へ該磁性記録媒体に対して相対的に移動させ、かつ、該温度領域の移動方向後方端部においては、該第1の磁性層の磁壁を該温度領域内に移動させない強度の再生磁界を印加することを特徴とする信号再生方法。
  2. 請求項1に記載の信号再生方法において、前記再生磁界の磁化配向方向の大きさをHrとし、前記温度領域の移動方向前方端部における前記磁性記録媒体面上の移動方向の温度勾配をG1、前記温度領域の移動方向後方端部における前記磁性記録媒体面上の移動方向の温度勾配をG2とし、前記第1の磁性層の磁壁エネルギー密度、飽和磁化、及び磁壁抗磁力を、それぞれσ、Ms、及びHwとし、媒体温度をTとした時、
    |G1|>|G2|
    を満たす温度分布を形成し、かつ、少なくとも前記第2の磁性層のキュリー温度において、
    (|G1×dσ/dT|/2Ms)−Hw > Hr
    > (|G2×dσ/dT|/2Ms)−Hw
    を満たす再生磁界Hrを印加することを特徴とする信号再生方法。
  3. 請求項1に記載の信号再生方法において、前記再生磁界は、磁化配向方向に垂直な方向の成分を含有することを特徴とする信号再生方法。
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