JP3635156B2 - 硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物 - Google Patents
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- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 title claims description 78
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 36
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 52
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 44
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 44
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 29
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 22
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 22
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 16
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 14
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 10
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 47
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 46
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 13
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 11
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- -1 alkali metal carboxylate Chemical class 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 6
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 4
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Chemical compound CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNZVFASWDSMJER-UHFFFAOYSA-N acetic acid;lead Chemical compound [Pb].CC(O)=O PNZVFASWDSMJER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M (2r)-2-ethylhexanoate Chemical compound CCCC[C@@H](CC)C([O-])=O OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M 0.000 description 1
- ZMTWFOKZRDNMEJ-SUKNRPLKSA-L (z)-4-oxopent-2-en-2-olate;oxotitanium(2+) Chemical compound [Ti+2]=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O ZMTWFOKZRDNMEJ-SUKNRPLKSA-L 0.000 description 1
- ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L (z)-but-2-enedioate;dibutyltin(2+) Chemical compound [O-]C(=O)\C=C/C([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZZYRBJEGRIYIF-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-yloxyoctane-1,8-diol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)OC(O)CCCCCCCO NZZYRBJEGRIYIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-3-ylpyrrolidine Chemical compound C1CCCN1C1CNCC1 HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-] KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVKFNYWCEGQKPN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanoic acid zirconium Chemical compound [Zr].C(C)C(C(=O)O)CCCC.C(C)C(C(=O)O)CCCC.C(C)C(C(=O)O)CCCC.C(C)C(C(=O)O)CCCC XVKFNYWCEGQKPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMJINPOBNZQUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanoic acid;zinc Chemical compound [Zn].CCCCC(CC)C(O)=O.CCCCC(CC)C(O)=O YMJINPOBNZQUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLDSHFDRKHPKBN-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;zirconium Chemical compound [Zr].CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O CLDSHFDRKHPKBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005133 29Si NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020388 SiO1/2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020447 SiO2/2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020487 SiO3/2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020485 SiO4/2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCOPSVHEGTJRH-UHFFFAOYSA-J [Ti+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O Chemical compound [Ti+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O GSCOPSVHEGTJRH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VXPYSZQGFPMWQU-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(diphenyl)stannyl] acetate Chemical compound CC([O-])=O.CC([O-])=O.C=1C=CC=CC=1[Sn+2]C1=CC=CC=C1 VXPYSZQGFPMWQU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LVILMLNOLVAYLR-UHFFFAOYSA-N [dibutyl(triethoxysilyloxy)stannyl] triethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)O[Si](OCC)(OCC)OCC LVILMLNOLVAYLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWFFJJAOMMAGFE-BGSQTJHASA-L [dibutyl-[(z)-octadec-9-enoyl]oxystannyl] (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCC[Sn+2]CCCC.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O AWFFJJAOMMAGFE-BGSQTJHASA-L 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001515 alkali metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001618 alkaline earth metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- XCTMSCBHFJLFCT-UHFFFAOYSA-N benzyltin Chemical class [Sn]CC1=CC=CC=C1 XCTMSCBHFJLFCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L diacetyloxytin Chemical compound CC(=O)O[Sn]OC(C)=O PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N dibutyltin(2+);methanolate Chemical compound CCCC[Sn](OC)(OC)CCCC ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGKDAFJDYSMACD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[SiH](OC)OC SGKDAFJDYSMACD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- PYBNTRWJKQJDRE-UHFFFAOYSA-L dodecanoate;tin(2+) Chemical compound [Sn+2].CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O PYBNTRWJKQJDRE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- LNOZJRCUHSPCDZ-UHFFFAOYSA-L iron(ii) acetate Chemical compound [Fe+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O LNOZJRCUHSPCDZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- INYYFFJLLWWJOT-UHFFFAOYSA-N oxalic acid;potassium Chemical compound [K].OC(=O)C(O)=O.OC(=O)C(O)=O INYYFFJLLWWJOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;potassium Chemical compound [K].OP(O)(O)=O PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000734 polysilsesquioxane polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- IWZKICVEHNUQTL-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogen phthalate Chemical compound [K+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O IWZKICVEHNUQTL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011008 sodium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- GPMKKHIGAJLBMZ-UHFFFAOYSA-J titanium(4+);tetraacetate Chemical compound [Ti+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O GPMKKHIGAJLBMZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YJGJRYWNNHUESM-UHFFFAOYSA-J triacetyloxystannyl acetate Chemical compound [Sn+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O YJGJRYWNNHUESM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAASNKQYFKTYTR-UHFFFAOYSA-N tris(trimethylsilyloxy)silicon Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C XAASNKQYFKTYTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- DJWUNCQRNNEAKC-UHFFFAOYSA-L zinc acetate Chemical compound [Zn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O DJWUNCQRNNEAKC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- 235000013904 zinc acetate Nutrition 0.000 description 1
- PIMBTRGLTHJJRV-UHFFFAOYSA-L zinc;2-methylprop-2-enoate Chemical compound [Zn+2].CC(=C)C([O-])=O.CC(=C)C([O-])=O PIMBTRGLTHJJRV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LFOXXKXKYHIANI-UHFFFAOYSA-L zinc;7,7-dimethyloctanoate Chemical compound [Zn+2].CC(C)(C)CCCCCC([O-])=O.CC(C)(C)CCCCCC([O-])=O LFOXXKXKYHIANI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GGSOCIMBTRWRJF-UHFFFAOYSA-L zinc;undec-2-enoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCC=CC([O-])=O.CCCCCCCCC=CC([O-])=O GGSOCIMBTRWRJF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、撥水性、耐食性、物理的性質に優れた硬化皮膜を与えるポリメチルシルセスキオキサン組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】
ポリシルセスキオキサンは、ケイ素原子数に対する酸素原子数の比が1.5であるようなシリコーンレジンの総称である。これは耐熱性、電気絶縁性、耐炎性等にすぐれ、半導体製造時のレジスト材料、層間絶縁膜等として使用されている〔伊藤邦雄編「シリコーンハンドブック」日刊工業新聞社(1990)等参照〕。
【0003】
ポリメチルシルセスキオキサンの合成法としては、メチルトリクロロシランをアミンの存在下でケトンとエーテルの混合もしくは単独溶媒中に溶解し、これに水を滴下して加水分解後、加熱縮合させて合成する方法(特公昭60−17214号公報、特公平1−43773号公報、米国特許No. 4399266参照)、三官能性のメチルシランを有機溶剤中に溶解し、これに−20℃から−50℃の温度で1000〜3000Paの不活性ガス加圧下、水を滴下して加水分解後、加熱縮合させて合成する方法(EP第0406911A1参照)、有機溶剤中でメチルトリアセトキシシラン及びこれと等量の、アルコール及び/又は水とを反応させアルコキシアセトキシシランを合成し、これを有機溶剤中で炭酸水素ナトリウム存在下に重縮合させてプレポリマーを得、さらに該プレポリマーをアルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属フッ化物、アルカリ土類金属フッ化物及びトリエチルアミンの中から選択される少なくとも一種の触媒の存在下に加熱縮合させて合成する方法(特開平3−20331号公報参照)、及び水と炭化水素溶媒の二層を形成する混合液にアルカリ金属カルボン酸塩と低級アルコールを溶存させ、これにメチルトリハロシランを滴下して加水分解し、加熱縮合させて合成する方法〔特開平3−227321号公報参照〕などが知られている。
【0004】
これらの方法によって得られるポリメチルシルセスキオキサンの特徴は、共通して、硬いが脆いことである。これらの中にはこの欠点を解決すべく工夫をこらしたものがあり、特公平1−43773号公報では、ポリメチルシルセスキオキサンの15〜30%(重量)が、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)による標準ポリスチレン換算分子量20000以下の部分で占められるよう調整しているが、それでも1.8〜2.0μm程度の膜厚の塗膜が製造できるに過ぎず、EP第0406911A1でも最大3〜3.5μmの塗膜がクラックなしで得られているに過ぎない。これ以上の厚膜ではクラックが生じ、ましてや独立フィルムを得られるほどの柔軟性はない。
【0005】
発明者らは特願平7−208087号および特願平7−208143号に開示したように、特定の分子量範囲および水酸基含量範囲にあり、好ましくは特定の方法により製造されたポリメチルシルセスキオキサンを硬化させることにより柔軟性と高い耐熱性を合わせ持つ皮膜が得られることを見いだした。
【0006】
特開昭51−2736号公報に、RSi(OH)3 の部分的縮合物の低級脂肪族アルコール−水の溶液に、水性コロイダルシリカを分散させたものが開示されているが、pH3〜6の酸性のため鋼板等には塗装できない。また、後に実施例(比較例)で示すように硬化皮膜の撥水性はあまり高くない。
【0007】
RSi(OH)3 の部分的縮合物の脂肪族アルコール−水の溶液に、水性コロイダルシリカを分散させた分散液で、pHが7.1〜7.8の水性被覆組成物が特公昭62−55554号公報に開示されているが、撥水性については触れていない。
【0008】
オルガノトリアルコキシシランと酸性コロイダルシリカ(水性)を含む組成物からの塗膜が特開平5−163463号公報に開示されているが、他にオルガノトリアルコキシシラン、アルコール、顔料を必須成分とし、硬度、耐水性、耐汚染性、耐候性等には優れるが、撥水性(水の接触角)や加工性(柔軟性)については不明で、顔料を含むため透明でもない。
【0009】
撥水性塗膜としては、たとえば特開平3−244679号公報に示されているように、粒径が1μmを超えるような比較的大きな粒子により表面に微細な凹凸を付与することにより、高い撥水性を発現させるものがある。しかし、塗膜の膜厚を超える大きな粒子を含むために、硬度や加工性といった塗膜の物理的性質が劣り、当然透明でもない。
【0010】
フッ化炭素樹脂を用いれば、透明な撥水性皮膜が得られるが、一般に表面硬度が低いため必ずしも耐汚染性などがよくなく、また高価である。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、安価な原料から得られるポリメチルシルセスキオキサンを用い、高はっ水性でかつ表面硬度や加工性といった塗膜としての物理的性質を保持しつつ、耐食性に優れ、透明な硬化皮膜を与えるポリメチルシルセスキオキサン組成物を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、撥水性皮膜について鋭意研究した結果、特定の分子量範囲および水酸基含量範囲にあり、好ましくは特定の方法により製造されたポリメチルシルセスキオキサンと、一次粒子径が10nm程度のコロイダルシリカの組み合わせにより、高撥水性でかつ表面硬度や加工性といった塗膜としての物理的性質を保持しつつ、耐食性に優れ、透明な硬化皮膜が得られることを見いだし本発明に達した。
【0013】
本発明におけるポリメチルシルセスキオキサンは、ポリスチレン換算数平均分子量(Mn)が380から2000の範囲にあり、式
【0014】
〔CH3 SiO3/2 〕n 〔CH3 Si(OH)O2/2 〕m
【0015】
〔m,nは上記分子量を与える正の数で、m/(m+n)の値は図1のA領域にある。このA領域は、横軸が1/(Mn×10-3)、縦軸がm/(m+n)で表される図1のグラフにおいて、次の式1〜4で表される各直線によって囲まれる領域であり、各直線上も含み、また各直線の交点も含むものである。
【0016】
(式1):m/(m+n)=0.152/(Mn×10-3)+0.10
(式2):1/(Mn×10-3)=1000/2000
(式3):1/(Mn×10-3)=1000/380
(式4):m/(m+n)=0.034/(Mn×10-3)〕
【0017】
で示される。分子量が上記の範囲外、またはシラノール含量が上記の上限を超える場合、その硬化物は少なくとも独立フィルムとして得ようとするとひび割れが生じやすくなる。シラノール含量が上記の下限を下回るときは、硬化性が不十分となる。
【0018】
本発明に使用される硬化性ポリメチルシルセスキオキサンは、好適には(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの溶媒に対して50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかと水との2相系中にて、式:MeSiX3 (Meはメチル基であり、XはF,Cl,Br及びIから選ばれるハロゲン原子である)で表されるメチルトリハロシランの加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応を行うことにより製造され、前記分子量範囲及びシラノール基含量範囲にあるものが使用されるものであり、これにより本発明の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物は、硬化してより優れた柔軟性、耐熱性、撥水性、耐食性等を発揮するものである。
【0019】
本発明に使用されるコロイダルシリカは本発明の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物に使用されて所定の効果を示すものであれば、格別限定されるものではないが、通常は粒径が10〜50ナノメーターでありイソプロピルアルコール、エチレングリコールモノn−プロピルエーテル、メチルエチルケトン(MEK)、キシレン/n−ブタノール、メチルイソブチルケトン(MIBK)などを分散溶媒とする有機溶媒系コロイダルシリカが使用される。
【0020】
コロイダルシリカは、ポリメチルシルセスキオキサン100重量部に対して5から250重量部であることが好ましい。これより少ないと添加効果が明確でなく、多いと硬化皮膜が脆くなるなどの欠点が生じる。本発明に使用するポリメチルシルセスキオキサンは、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、クロロホルム、トリクロロエチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素溶媒等に溶解するので、上記有機溶媒系コロイダルシリカを用いて本発明組成物の溶液を得ることができる。また、水性コロイダルシリカを用いても、イソプロピルアルコール等の有機溶媒を併用することにより本発明組成物を得ることができる。ポリメチルシルセスキオキサンとシリカのよりよい相溶性の点から、有機溶媒系コロイダルシリカの方が好ましい。この組成物溶液の固形分濃度は特に限定されず、乾燥膜厚、塗工方法によって最適値は異なるが、実際上0.5から60容量%が適当である。
【0021】
本発明組成物の硬化は、触媒または架橋剤を用いることにより、もしくは加熱により行うことができる。触媒または架橋剤を用いる場合には、上記組成物溶液に触媒または架橋剤を加えた後、加熱硬化させる。加熱のみによる硬化は、50℃〜350℃、好ましくは80℃〜250℃で行う。50℃以下であると反応が進行せず、350℃以上であるとシロキサンの分解が起こるおそれがある。
【0022】
硬化触媒としては、二酢酸錫、ジオクチル酸錫、ジラウリル酸錫、四酢酸錫、二酢酸ジブチル錫、ジオクチル酸ジブチル錫、ジラウリル酸ジブチル錫、ジオレイン酸ジブチル錫、ジメトキシジブチル錫、ジブチル錫オキサイド、ベンジルマレイン酸ジブチル錫、ビス(トリエトキシシロキシ)ジブチル錫、二酢酸ジフェニル錫などの錫化合物や、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−i−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−i−ブトキシチタン、テトラキス(2−エチルヘキソキシ)チタン、ジ−i−プロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン、チタンジプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタン、ジ−i−プロポキシビス(アセチルアセトナート)チタン、ジブトキシビス(アセチルアセトナート)チタン、トリ−i−プロポキシアリルアセテートチタン、チタニウムイソプロポキシオクチレングリコール、ビス(アセチルアセトナート)チタンオキサイド等のチタン化合物、二酢酸鉛、ビス(2−エチルヘキサン酸)鉛、ジネオデカン酸鉛、四酢酸鉛、テトラキス(n−プロピオン酸)鉛、二酢酸亜鉛、ビス(2−エチルヘキサン酸)亜鉛、ジネオデカン酸亜鉛、ジウンデセン酸亜鉛、ジメタクリル酸亜鉛、二酢酸鉄、テトラキス(2−エチルヘキサン酸)ジルコニウム、テトラキス(メタクリル酸)ジルコニウム、二酢酸コバルトなどの金属脂肪酸類、アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、テトラメチルグアニジン、テトラメチルグアニジルプロピルトリメトキシシラン、テトラメチルグアニジルプロピルジメトキシシラン、テトラメチルグアニジルプロピルトリス(トリメチルシロキサン)シラン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0.〕−7−ウンデセン等のアミノ基含有化合物等が用いられる。前記硬化触媒は、通常、ポリメチルシルセスキオキサン100重量部に対して0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜5重量部の範囲で用いられる。
【0023】
架橋剤としては以下に示す化合物が例示される。
【0024】
【化1】
【0025】
【化2】
【0026】
架橋剤は通常、ポリメチルシルセスキオキサン100重量部に対して0.1〜80重量部、好ましくは1〜70重量部の範囲で用いられる。硬化温度は、触媒、架橋剤のいずれを用いた場合にも20〜350℃、好ましくは20〜250℃である。350℃を超えるとシロキサンの分解が起こるおそれがある。
【0027】
上記の分子量範囲および水酸基含量のポリメチルシルセスキオキサンの好適な合成法として次の例が挙げられる。
(1)(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの溶媒に対して50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかから選ばれるものと水との2相系を形成させ、これに下記(A)又は(B)を滴下させて該メチルトリハロシランの加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応を行なう方法。
(A)MeSiX3 (Meはメチル基であり、XはF,Cl,Br及びIから選ばれるハロゲン原子である)で表されるメチルトリハロシラン
(B)該メチルトリハロシランを(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの溶媒に対し50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかから選ばれるものに溶解させた溶液
(2)水のみに、上記(1)の(B)に示した溶液を滴下することにより結果として2相系で反応させる以外は、上記(1)と同様である方法。
(3)空の反応容器に水と上記(1)の(B)に示した溶液とを同時に滴下させて、結果として2相系で反応させる以外は、上記(1)と同様である方法。
ここにXは、好ましくは臭素、塩素、さらに好ましくは塩素である。ここに、水と有機溶媒が2相を形成するというのは、水と有機溶媒が混和せず、均一溶液とならない状態のことをいい、攪拌を低速にすることにより有機層と水層が層状態を保つようにしてもよいし、激しく攪拌して懸濁状態にしてもよい。以下、前者のことを、「2層を形成する」と表現する。
【0028】
この製造方法において使用される有機溶媒は、メチルトリハロシランを溶解し、水に多少溶解してもよいが、水と2相を形成できる含酸素有機溶媒が用いられ、さらに50容量%以下の炭化水素溶媒を含んでもよい。炭化水素溶媒の含量がこれより多いとゲルの生成量が増え、目的生成物の収率が減少し、実用的でなくなる。この有機溶媒は、水に無制限に溶解する溶媒であっても、水溶性無機塩基、または緩衝能を有する弱酸の塩の水溶液とは2相を形成するものであれば使用できる。
【0029】
含酸素有機溶媒としては、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、ジエチルエーテル、ジノルマルプロピルエーテル、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル等のエステル系溶媒、n−ブタノール、ヘキサノール等のアルコール系溶媒などが挙げられるがこれらに限定されるものではなく、中でもケトン、エーテル、およびアルコール系溶媒がより好ましい。これら溶媒は二種以上混合して用いてもよい。炭化水素溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、クロロホルム、トリクロロエチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素溶媒などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、有機溶剤の使用量は特に制限されないが、好ましくはメチルトリハロシラン100重量部に対して50〜2000重量部の範囲である。これは有機溶剤がメチルトリハロシラン100重量部に対して50重量部未満であると生成したポリメチルシルセスキオキサンを溶解させるには不十分であり、場合によっては高分子量化のため目的とする分子量範囲のポリメチルシルセスキオキサンが得られず、また2000重量部を超えるとメチルトリハロシランの加水分解、縮合が速やかに進行せず目的とする分子量範囲のポリメチルシルセスキオキサンが得られないことがあるからである。水の使用量も特に制限されないが、好ましくはメチルトリハロシラン100重量部に対して10〜3000重量部の範囲である。
【0030】
水相には何も加えない水を用いても反応は可能であるが、生成するポリメチルシルセスキオキサンの分子量は高めになる。これはクロロシランから生成する塩化水素により反応が促進されるためで、このため酸性度を抑制する水溶性無機塩基または緩衝能を有する弱酸の塩を加えることにより、より分子量の低いポリメチルシルセスキオキサンを合成できる。
【0031】
水溶性無機塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の水溶性アルカリ等が挙げられ、緩衝能を有する弱酸の塩としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素塩、ビス(シュウ酸)三水素カリウム等のシュウ酸塩、フタル酸水素カリウム、酢酸ナトリウム等のカルボン酸塩、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム等のリン酸塩、四ホウ酸ナトリウム等のホウ酸塩などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの使用量は、トリハロシラン1分子中のハロゲン原子1モルに対して、1.8グラム当量以下が望ましい。即ち、ハロシランが完全に加水分解された場合に生じるハロゲン化水素をちょうど中和する量の1.8倍以下が望ましい。これより多いと不溶性のゲルが生じやすくなる。これら水溶性無機塩基または緩衝能を有する弱酸の塩は、上記の量的範囲内であれば二種以上混合して用いてもよい。
【0032】
メチルトリハロシランの加水分解において、反応液の攪拌速度は水相と有機溶剤の2層を保持することができる程度に低速にしてもよいし、また強く攪拌して懸濁状態にしてもさしつかえない。反応温度は室温(20℃)〜120℃の範囲内が適当であるが、40〜100℃程度が望ましい。
【0033】
尚、本願発明の硬化性ポリメチルシルセスキオキサンは、原料物質に含まれる不純物に起因して、前記第1の態様で規定する構造に含まれない単位を若干含むことが有り得る。この様な例の中には、例えばメチル基以外の低級アルキル基を有する単位、R3 SiO1/2 (Rは前記低級アルキル基)で表される様な1官能性単位、R2 SiO2/2 (Rは前記低級アルキル基)で表される様な2官能性単位、SiO4/2 で表される様な4官能性単位等が含まれる。また該硬化性ポリメチルシルセスキオキサンはOH基を含むものであり、その構造は前記構造式で示されている通りであるが、極微量のレベルでこれ以外の構造にてOH基を有する単位が存在することも有り得る。本発明の硬化性ポリメチルシルセスキオキサンは前記化学式で示した構造を有するものであるが、そのような原因等で発生する構造単位については、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、その存在を否定するものでない。
【0034】
【実施例】
次に実施例、比較例により本発明をさらに詳しく説明するが、この発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
【0035】
(基材)
鋼板:JIS G−3141(SPCC−SB)0.3mm×50mm×150mm、アルミニウム板:JIS H−4000(A1050P)0.3mm×50mm×150mm、ガラス板:JIS R−3202(フロート板硝子)2.0mm×50mm×50mm。
【0036】
(塗膜試験方法)
膜厚は万能型膜厚計(ケット科学研究所製LZ−200)を用い、鋼板が基材の場合は電磁式で、アルミニウム板またはガラス板が基材の場合は高周波式で測定した。
鉛筆硬度は、日本塗料検査協会検査済の鉛筆引かき値試験用鉛筆を用い、JIS K−5400の手かき法により、すなわち芯が折れない程度にできるだけ強く押しつけてひっかき、塗膜にまったくすり傷のつかない鉛筆の濃度記号を示した。ただし、アルミニウム板の場合には基材が柔らかいため、この方法では基材のへこみ等により、見掛け上低い値となった。
付着性は、JIS K−5400の基盤目テープ法により、10点満点で評価した。
耐屈曲性は、JIS K−5400の屈曲試験器で、心棒の直径が2mmのときの割れ・はがれを10点満点で評価した。
水の接触角は、接触角計(協和界面科学製CA−D型)を用いて測定した。
塩水噴霧試験は、JIS K−5400記載の装置を用い、5重量%の塩水を35℃で噴霧した。鋼板が基材の場合は錆面積が50%に達するまでの試験時間、アルミニウム板基材の場合は錆発生までの時間で評価した。
【0037】
(参考例1)
還流冷却管、滴下ロート、及び攪拌器を備えた反応容器に、炭酸ナトリウム63.5g(0.60mol )と水400mlを入れて攪拌し、これにメチルイソブチルケトン400mlを加えた。攪拌速度は有機層と水層が保持できる程度に低速にした。次いで、メチルトリクロロシラン74.7g(0.5mol )を滴下ロートからゆっくり滴下した。この際反応混合物の温度は50℃まで上昇した。さらに60℃の油浴上で、反応混合物を24時間加熱攪拌した。反応終了後、有機層を洗浄水が中性になるまで洗浄し、次いで有機層を乾燥剤を用いて乾燥した。乾燥剤を除去した後、溶媒を減圧で留去し、一夜真空乾燥を行ないポリメチルシルセスキオキサンを白色の固体として得た。このポリメチルシルセスキオキサンの分子量分布をGPC〔東ソー(株)製HLC−8020、カラムは東ソー製TSKgelGMHHR−L(商標)を2本使用し、溶媒としてクロロホルムを用いた〕により測定したところ、標準ポリスチレン換算での重量平均分子量は3270であり、数平均分子量は920であった。また29Si NMRスペクトル〔ブルカー製ACP−300により測定〕から求めた水酸基の量は、ケイ素1原子当たり0.22個であった(この0.22がm/(m+n)の値に相当する)。
【0038】
(参考例2)
参考例1と同様の反応装置で、水2Lとメチルイソブチルケトン1.5Lを二層を形成しないよう激しく攪拌しておき、メチルイソブチルケトン0.5Lに溶解したメチルトリクロロシラン745g(5.0mol )を、反応混合物の温度が50℃を超えないようにゆっくり滴下した。さらに50℃の油浴上で、反応混合物を2時間加熱攪拌し、参考例1と同様の処理を行ってポリメチルシルセスキオキサンを白色固体として得た。このようにして得たポリメチルシルセスキオキサンの分子量分布を参考例1と同様の方法で分析したところ、重量平均分子量は9180であり、数平均分子量は1060であった。また水酸基の量は、ケイ素1原子当たり0.22個であった。
【0039】
(参考例3)
還流冷却管、滴下ロート二個、及び攪拌器を備えた反応容器をセットし、一方の滴下ロートにメチルイソブチルケトン40mlとメチルトリクロロシラン14.9g(0.1mol )の混合液を、もう一方の滴下ロートに水40mlを入れ氷浴上で冷却した空の反応容器に両方の滴下ロートから同時に滴下した。攪拌は二層を形成しないよう激しく行った。滴下終了後、50℃の油浴上で、反応混合物を2時間加熱攪拌した。反応終了後、参考例1と同様の処理を行ない、ポリメチルシルセスキオキサンを白色の固体として得た。このようにして得たポリメチルシルセスキオキサンの分子量分布を参考例1と同様の方法で分析したところ、重量平均分子量は1320であり、数平均分子量は600であった。また水酸基の量は、ケイ素1原子当たり0.24個であった。
【0040】
(実施例1)
参考例1のポリメチルシルセスキオキサン100重量部に、日産化学工業製メチルエチルケトン分散コロイダルシリカ(MEK−ST、固形分30重量%)333重量部、メチルエチルケトン124重量部を加え(ポリメチルシルセスキオキサンの比重を1と仮定すると固形分25容量%、シリカはポリメチルシルセスキオキサン100重量部に対して100重量部)、さらに触媒としてジオクチル酸錫を0.25重量部加えて塗料組成物を得た。これをバーコーターを用いて鋼板に塗布し、200℃のオーブンで1.5時間硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。
【0041】
(実施例2)
参考例2のポリメチルシルセスキオキサンを用いて、実施例1と同様の塗料組成物を作り、アルミニウム板に塗布し、実施例1と同様に硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。
【0042】
(実施例3)
実施例1と同様の塗料組成物をガラス板に塗布し、同様に硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。
【0043】
(実施例4)
実施例1と同様の塗料組成物で、ただしポリメチルシルセスキオキサン100重量部に対してシリカを150重量部とした塗料組成物を、実施例1と同様に鋼板に塗布・硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。
【0044】
(実施例5)
実施例1と同様の塗料組成物をアルミニウム板に塗布し、同様に硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。
【0045】
(実施例6)
実施例1と同様の塗料組成物をアルミニウム板に塗布し、同様に硬化させ、1μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。
【0046】
(実施例7)
参考例3のポリメチルシルセスキオキサンを用いて、実施例1と同様の塗料組成物を作り、鋼板に塗布し、実施例1と同様に硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。
【0047】
(比較例1)
参考例1のポリメチルシルセスキオキサン100重量部にメチルエチルケトン186重量部を加え(ポリメチルシルセスキオキサンの比重を1と仮定すると固形分30容積%)、さらに触媒としてジオクチル酸錫を0.25重量部加えて塗料組成物を得た。これを実施例1と同様に鋼板に塗布・硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。実施例の塗膜に比べて水の接触角および耐食性が低かった。
【0048】
(比較例2)
前述の特開昭51−2736の実施例1に対応するコーティング剤をバーコーターを用いて鋼板に塗布し、150℃のオーブンで30分硬化させたが、鋼板は錆び、塗膜は割れて剥離し、試験に供することのできるサンプルは得られなかった。
【0049】
(比較例3)
比較例2と同じコーティング剤をアルミニウム板に塗布し、150℃のオーブンで30分硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。付着性が悪く、水の接触角および耐食性も低かった。
【0050】
(参考例4)
文献(S. Nakahama ら、Contemp. Top. Polym. Sci.,1984年、4巻、105ページ;Y. Abeら、J. Polym. Sci. Part A Polym. Chem., 1995年、33巻、751ページ等)記載の方法で、メチルトリメトキシシランを塩酸を用いて加水分解・縮合させることにより、ポリメチルシルセスキオキサンを得た。このポリメチルシルセスキオキサンの分子量分布を参考例1と同様の方法で分析したところ、重量平均分子量は2150であり、数平均分子量は660であった。このポリメチルシルセスキオキサンは水酸基とメトキシ基をもっており、29SiNMRスペクトルと 1H NMRスペクトルから求めた水酸基およびメトキシ基の量は、それぞれケイ素1原子当たり0.216個および0.057個であった。
【0051】
(比較例4)
参考例4のポリメチルシルセスキオキサンを用いて比較例1と同様のシリカを含まない塗料組成物を調製し、実施例1と同様に鋼板に塗布・硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。実施例の塗膜に比べて水の接触角および耐食性が低かった。
【0052】
(比較例5)
参考例4のポリメチルシルセスキオキサンと、このレジンとは上記MEK−STより相溶性のよい日産化学工業(株)製メチルイソブチルケトン分散コロイダルシリカ(MIBK−ST、固形分30重量%)を用いて実施例1と同様のシリカを含む塗料組成物を調製し、実施例1と同様に鋼板に塗布・硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。コロイダルシリカ添加による水の接触角の増大は見られなかった。
【0053】
(比較例6)
東レダウコーニングシリコーン(株)製メチルシリコーンレジンSR2400を用いて比較例1と同様のシリカを含まない塗料組成物を調製し、実施例1と同様に鋼板に塗布・硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。実施例の塗膜に比べて鉛筆硬度、水の接触角および耐食性が低かった。
【0054】
(比較例7)
比較例6と同じSR2400と、このレジンとは上記MEK−STより相溶性のよいMIBK−STを用いて実施例1と同様のシリカを含む塗料組成物を調製し、実施例1と同様に鋼板に塗布・硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。塗膜は白色で、脆いため鉛筆硬度は極めて低く、付着性も悪かった。
【0055】
(比較例8)
参考例1のポリメチルシルセスキオキサン100重量部、日本アエロジル(株)製フュームドシリカR972を100重量部、メチルイソブチルケトン760重量部の混合物(ポリメチルシルセスキオキサンの比重を1と仮定すると固形分13.3容量%、シリカはポリメチルシルセスキオキサン100重量部に対して100重量部)にガラスビーズを800重量部加えて攪拌し、シリカを分散させた。これに実施例1と同様に触媒を加えて塗料組成物を得、実施例1と同様に鋼板に塗布・硬化させ、6μmの膜厚の塗膜を得た。塗膜の試験結果を表1に示す。塗膜は白色で、脆いため鉛筆硬度は極めて低く、付着性・耐食性も悪かった。
【0056】
【表1】
【0057】
本願発明の実施態様としては、例えば次の様な例が推奨される。
(推奨例1)
請求項1、請求項2、又は請求項3記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物からなる撥水性被膜形成用処理剤。
(推奨例2)
請求項1、請求項2、又は請求項3記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物からなる耐食性被膜形成用処理剤。
(推奨例3)
請求項1、請求項2、又は請求項3記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物からなる耐擦傷被膜形成用処理剤。
(推奨例4)
請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサンが、(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの溶媒に対し50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかかから選ばれるものと水との2相系に、次に示す(A)又は(B)のいずれかを滴下して前記メチルトリハロシランの加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応を行なって製造されたものである請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(A)前記メチルトリハロシラン
(B)前記メチルトリハロシランを(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの溶媒に対し50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかから選ばれるものに溶解させた溶液。
(推奨例5)
請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサンが、水のみに前記メチルトリハロシランを(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの同溶媒に対し50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかから選ばれるものに溶解させた溶液を滴下させて前記メチルトリハロシランの加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応を行なって製造されたものである請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例6)
請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサンが、空の反応容器に水と前記メチルトリハロシランを(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの溶媒に対し50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかから選ばれるものに溶解させた溶液とを同時に滴下させて前記メチルトリハロシランの加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応を行なって製造されたものである請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例7)
請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサンが、前記メチルトリハロシランの加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応を、(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの溶媒に対し50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかから選ばれるものと水との2相系を懸濁状態にさせて行なって製造されたものである請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例8)
請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサンが、(イ)ケトン系溶媒、エーテル系溶媒及びエステル系溶媒から選ばれる1種以上の含酸素有機溶媒又は(ロ)該含酸素有機溶媒とこの溶媒に対して50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかから選ばれるものと水(但し、下記(A)又は(B)に規定されるメチルトリハロシラン1分子中のハロゲン原子1モルに対して、1.8グラム当量以下の水溶性無機塩基又は緩衝能を有する弱酸の塩が溶解しているもの)との2相系を形成させ、これに下記(A)又は(B)を滴下させて該メチルトリハロシランの加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応を行なう請求項3に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(A)MeSiX3 (Meはメチル基であり、XはF,Cl,Br及びIから選ばれるハロゲン原子である)で表されるメチルトリハロシラン
(B)該メチルトリハロシランを(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの溶媒に対して50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかから選ばれるものに溶解させた溶液。
(推奨例9)
前記含酸素有機溶媒がケトン系溶媒である推奨例8に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例10)
前記含酸素有機溶媒がメチルイソブチルケトンである推奨例8に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサンの製造方法。
(推奨例11)
前記水に溶解されている物質が水溶性無機塩基である推奨例8に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例12)
前記水に溶解されている物質が緩衝能を有する弱酸の塩である推奨例8に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例13)
前記水に溶解されている物質が炭酸ナトリウムである推奨例8に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例14)
前記含酸素有機溶媒がケトン系溶媒であり、前記水に溶解されている物質が緩衝能を有する弱酸の塩である推奨例8に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例15)
前記含酸素有機溶媒がメチルイソブチルケトンであり、前記水に溶解されている物質が炭酸ナトリウムである推奨例8に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例16)
前記メチルトリハロシランの加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応を懸濁状態にて行なう推奨例8に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
(推奨例17)
前記含酸素有機溶媒がメチルイソブチルケトンであり、前記水に溶解されている物質が炭酸ナトリウムであり、前記メチルトリハロシランの加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応が懸濁状態にて行なわれる推奨例8に記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
【0058】
【発明の効果】
本発明は、十分な柔軟性を有するためこれまで得られなかった厚膜の塗膜、独立フィルム等として実用可能なポリメチルシルセスキオキサン硬化物の、表面硬度や加工性といった塗膜としての物理的性質および透明性を損なうことなく、撥水性、耐食性に優れた硬化皮膜を与えるポリメチルシルセスキオキサン組成物を提供するものである。硬化物皮膜は、これらの特性のため、広範な用途で応用が可能なものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に用いる硬化性ポリメチルシルセスキオキサンの数平均分子量の範囲と、m/(m+n)の範囲とを示すグラフ。
Claims (3)
- ポリスチレン換算数平均分子量(Mn)が380から2000の範囲にあり、式
〔CH3 SiO3/2 〕n 〔CH3 Si(OH)O2/2 〕m
〔m,nは上記分子量を与える正の数で、m/(m+n)の値は図1のA領域にある。このA領域は、横軸が1/(Mn×10-3)、縦軸がm/(m+n)で表される図1のグラフにおいて、次の式1〜4で表される各直線によって囲まれる領域であり、各直線上も含み、また各直線の交点も含むものである。
(式1):m/(m+n)=0.152/(Mn×10-3)+0.10
(式2):1/(Mn×10-3)=1000/2000
(式3):1/(Mn×10-3)=1000/380
(式4):m/(m+n)=0.034/(Mn×10-3)〕で示される硬化性ポリメチルシルセスキオキサンと、このポリメチルシルセスキオキサン100重量部に対して5から250重量部のコロイダルシリカを含むことを特徴とする硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。 - 請求項1のコロイダルシリカが有機溶媒系コロイダルシリカである請求項1記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
- 請求項1又は2の硬化性ポリメチルシルセスキオキサンが、(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの溶媒に対し50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒のいずれかから選ばれるものと水との2相系中にて、式:MeSiX3 (Meはメチル基であり、XはF,Cl,Br及びIから選ばれるハロゲン原子である)で表されるメチルトリハロシランを加水分解及びその加水分解生成物の縮合反応を行なって製造されたものである請求項1又は請求項2記載の硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21743696A JP3635156B2 (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物 |
| DE69726068T DE69726068T2 (de) | 1996-08-19 | 1997-08-18 | Härtbare Polymethylsilsesquioxanzusammensetzung |
| US08/912,514 US6153689A (en) | 1996-08-19 | 1997-08-18 | Curable polymethylsiloxane composition |
| EP97114222A EP0825230B1 (en) | 1996-08-19 | 1997-08-18 | Curable polymethylsilsesquioxane composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21743696A JP3635156B2 (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1060279A JPH1060279A (ja) | 1998-03-03 |
| JP3635156B2 true JP3635156B2 (ja) | 2005-04-06 |
Family
ID=16704206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21743696A Expired - Fee Related JP3635156B2 (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 硬化性ポリメチルシルセスキオキサン組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6153689A (ja) |
| EP (1) | EP0825230B1 (ja) |
| JP (1) | JP3635156B2 (ja) |
| DE (1) | DE69726068T2 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6890987B2 (en) * | 2000-10-18 | 2005-05-10 | Nanofilm, Ltd. | Product for vapor deposition of films of amphiphilic molecules or polymers |
| US20040198898A1 (en) * | 2001-08-03 | 2004-10-07 | Arora Pramod K. | Method for vapor deposition of hydrophobic films on surfaces |
| AU2002366260A1 (en) * | 2001-12-06 | 2003-06-30 | Degussa Ag | Structured surfaces having elevations and depressions, method for producing surfaces of this type and the use thereof |
| SG102047A1 (en) * | 2002-05-02 | 2004-02-27 | Dso Nat Lab | Ladder-like silicone polymers |
| EP1452569B1 (en) * | 2003-02-26 | 2007-01-10 | Agfa-Gevaert | Radiation curable ink compositions suitable for ink-jet printing. |
| KR100572801B1 (ko) * | 2003-12-23 | 2006-04-19 | 삼성코닝 주식회사 | 기계적 특성이 우수한 절연막 코팅 조성물 |
| KR100680680B1 (ko) * | 2003-12-23 | 2007-02-08 | 삼성코닝 주식회사 | 실리카 졸 및 그 제조 방법 |
| US20070099005A1 (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-03 | Honeywell International Inc. | Thick crack-free silica film by colloidal silica incorporation |
| US20080221263A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-09-11 | Subbareddy Kanagasabapathy | Coating compositions for producing transparent super-hydrophobic surfaces |
| DE102008055093A1 (de) * | 2008-12-22 | 2010-06-24 | BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH | Haushaltsgerätesieb, Haushaltsgerät mit einem solchen Sieb und Verfahren zum Herstellen eines solchen Siebs |
| TWI660008B (zh) * | 2014-08-26 | 2019-05-21 | 日商琳得科股份有限公司 | 硬化性組合物、硬化性組合物之製造方法、硬化物、硬化性組合物之使用方法以及光裝置 |
| TWI735496B (zh) * | 2015-12-22 | 2021-08-11 | 日商琳得科股份有限公司 | 硬化性組合物、硬化性組合物的製造方法、硬化物及硬化性組合物的使用方法 |
| ES2715553T3 (es) | 2016-05-11 | 2019-06-04 | Bsh Hausgeraete Gmbh | Electrodoméstico con un tamiz de malla con recubrimiento funcional, tamiz de malla usado en el mismo y proceso para la fabricación del tamiz de malla |
| CN107400238B (zh) * | 2016-05-19 | 2020-05-26 | 中国科学院化学研究所 | 一种多臂硅氧烷桥基梯形聚硅氧烷共聚物及其制备方法和应用 |
| JP2020157176A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | セイコーエプソン株式会社 | 粉砕機および粉砕分級装置 |
| CN120570809A (zh) * | 2020-01-22 | 2025-09-02 | 株式会社资生堂 | 美容组合物 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA868996A (en) * | 1971-04-20 | F. Merrill Duane | Silanol-containing organopolysiloxane resins and a method for making them | |
| US3986997A (en) * | 1974-06-25 | 1976-10-19 | Dow Corning Corporation | Pigment-free coating compositions |
| US4349609A (en) * | 1979-06-21 | 1982-09-14 | Fujitsu Limited | Electronic device having multilayer wiring structure |
| EP0046695B1 (en) * | 1980-08-26 | 1986-01-08 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Ladder-like lower alkylpolysilsesquioxanes and process for their preparation |
| US4408009A (en) * | 1982-02-17 | 1983-10-04 | Union Carbide Corporation | Co-condensates of alkyl silicates and alkoxy silanes |
| JPS6017214A (ja) * | 1983-07-11 | 1985-01-29 | Toyota Motor Corp | 内燃機関の動弁装置 |
| US4670299A (en) * | 1984-11-01 | 1987-06-02 | Fujitsu Limited | Preparation of lower alkyl polysilsesquioxane and formation of insulating layer of silylated polymer on electronic circuit board |
| JPS6255554A (ja) * | 1985-09-03 | 1987-03-11 | Honda Motor Co Ltd | 内燃エンジンの空燃比制御装置 |
| JP2530436B2 (ja) * | 1986-09-18 | 1996-09-04 | 住友化学工業株式会社 | コ−テイング組成物 |
| JPH0767617B2 (ja) * | 1987-11-30 | 1995-07-26 | 松下電器産業株式会社 | 溶接電源用遠隔制御装置 |
| JPH0320331A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶剤可溶性ポリオルガノシルセスキオキサンの製造方法 |
| US5045592A (en) * | 1989-07-28 | 1991-09-03 | Dow Corning Corporation | Metastable silane hydrolyzates |
| FR2656617A1 (fr) * | 1989-12-28 | 1991-07-05 | Thomson Csf | Procede de synthese de polysilsesquioxanes et applications des produits contenus. |
| JP2977218B2 (ja) * | 1990-02-01 | 1999-11-15 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | シルセスキオキサンの製造方法 |
| JP2507119B2 (ja) * | 1990-02-22 | 1996-06-12 | 松下冷機株式会社 | 撥水性コ―ティング用組成物及び撥水性コ―ティング用組成物を塗布した熱交換器 |
| JP2991786B2 (ja) * | 1990-11-22 | 1999-12-20 | 三菱電機株式会社 | シリコーン樹脂組成物 |
| JPH0539357A (ja) * | 1991-08-06 | 1993-02-19 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | フエニルポリシルセスキオキサンおよびその製造方法 |
| JPH05163463A (ja) * | 1991-12-12 | 1993-06-29 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | コーティング用組成物の製造方法 |
| US5412053A (en) * | 1993-08-12 | 1995-05-02 | The University Of Dayton | Polymers containing alternating silsesquioxane and bridging group segments and process for their preparation |
| CA2202665A1 (en) * | 1995-08-15 | 1997-02-27 | Akihito Saitoh | Curable polymethylsilsesquioxane, method for curing the same and products of curing thereof |
| DE69620575T2 (de) * | 1995-08-15 | 2002-10-31 | Dow Corning Asia, Ltd. | Härtbare polymethylsilsesquioxanzusammensetzung |
-
1996
- 1996-08-19 JP JP21743696A patent/JP3635156B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-08-18 DE DE69726068T patent/DE69726068T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-18 EP EP97114222A patent/EP0825230B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-18 US US08/912,514 patent/US6153689A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6153689A (en) | 2000-11-28 |
| EP0825230A1 (en) | 1998-02-25 |
| EP0825230B1 (en) | 2003-11-12 |
| JPH1060279A (ja) | 1998-03-03 |
| DE69726068D1 (de) | 2003-12-18 |
| DE69726068T2 (de) | 2004-08-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040611 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040824 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041021 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041130 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041228 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080107 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090107 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100107 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120107 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130107 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130107 Year of fee payment: 8 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |
