JP3630245B2 - 半導体製造装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、半導体製造装置、特にウェーハに成膜処理する等の半導体製造装置の制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図３は従来装置の１例の構成を示すブロック図、図４は従来におけるメモリの内部構成図である。
図３において１はウェーハに成膜等のプロセス処理を行う半導体製造装置の外部入力インターフェイス、２は反応室内に導入する反応ガスの流量を制御するガス流量制御部、３は反応室内の温度を制御する温度制御部、４は外部インターフェイス１，ガス流量制御部２及び温度制御部３に接続されたメインコントローラ７のメイン処理部、５，６はそれぞれメイン処理部４に接続されたシステムＲＯＭ及びＲＡＭ、８は処理部４に接続された表示部である。
【０００３】
従来は、図４に示すようにエラー発生時やレシピによる生産での装置稼働状態をコントローラ７内部のＲＡＭ６のメモリ領域９を割り当てて書込み、バッファ領域９Ａがなくなり次第、古いログ１０１ 〜１０ｎ から順に上書きする構成になっている。
本発明でいうレシピはウェーハプロセス処理の制御を行うために各プロセス装置へのプロセスミーケンス及び制御パラメータ（温度、圧力、ガスの種類及びガス流量、時間等の制御目標値）に関する装置個別の処理プログラムのことをいい、ログはレシピＩＤ、エラー名称、日時、イベントＩＤ、インターロック情報、温度情報、メカ情報、ガス流量等の変分情報を時系列的に記憶した内容をいう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来例にあっては、装置の自動化に伴い、ログ内容の数も増えることからメモリ増設にも限界があるのと、一度に多数のエラーが発生した時や多数の生産情報すべての履歴をストックしておけないという課題があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体製造装置は、ウェーハプロセス処理を行うためのレシピによる生産情報の履歴であって、少なくともエラー名称を含むエラー発生時の情報や、レシピＩＤ、温度情報、ガス流量を含む前記生産情報の履歴を、クリーンルーム以外でのデータ解析を行うための外部記憶媒体に対して前記レシピの実行中に書き込み、前記エラー情報、生産情報は直接、前記外部記憶媒体よりアクセスされることを特徴とする。この場合、前記生産情報の履歴には、さらに圧力、ガスの種類を含むことを特徴とする。また、前記生産情報の履歴には、さらにイベントＩＤを含むことを特徴とする。
【０００６】
【作 用】
上記のような構成であるから、エラー情報や生産情報は直接、外部記憶媒体１２に書込まれ、又書込まれたこれらの情報はこれより直接、アクセスされることになる。
【０００７】
【実施例】
図１は本発明装置の１実施例の構成を示すブロック図、図２は本発明におけるメモリの内部構成図である。
図１において図３と同一符号を付した部品は同じ機能を有しており、その説明を省略する。
本実施例は、メイン処理部４に、エラー発生時の情報やレシピ等による生産情報を直接、外部記憶用インターフェイス１１を介して入力する外部記憶媒体１２を接続し、かつ外部記憶媒体１２が万一接続されていない場合を考慮してＲＡＭ６にエラー情報、生産情報を書込む最小限のメモリ室間９とバッファ領域９Ａを設けておく。
本発明における外部記憶媒体１２としては、ＩＣメモリカード、フロッピーディスクメモリ、ハードディスクメモリ、書換え可能なＣＤ−ＲＯＭなどを用いることができる。
【０００８】
上記構成においてエラー情報や生産情報は直接、外部記憶媒体１２に書込まれ、又書込まれたこれらの情報はこれより直接、アクセスされることになる。又、本実施例においては、ログの読出しを、メイン処理部４を通さず、表示部８から直接、アクセスすることで、処理部４の負担を軽くするようにしている。これによりメインコントローラ７のＲＡＭ６をシステムパラメータとして拡張することができ、機能アップを図ることができる。
【０００９】
【発明の効果】
上記の説明より明らかなように本発明によれば、エラー情報、生産情報を外部記憶媒体に書込むようにしたので、一度に多数のエラーが発生した時のエラー情報の履歴や多数の生産情報すべての履歴をストックしておくことができ、エラー情報メモリ領域と生産情報メモリ領域が拡大でき、またシステムパラメータ拡張による機能アップを計ることができると共にエラー情報や生産情報の履歴を手軽に交換、持運びができるメディアを使用することで、データの解析をクリーンルーム以外でも使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明装置の１実施例の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明におけるメモリの内部構成図である。
【図３】従来装置の１例の構成を示すブロック図である。
【図４】従来におけるメモリの内部構成図である。
【符号の説明】
１ 外部入力インターフェイス
２ ガス流量制御部
３ 温度制御部
４ メイン処理部
５ システムＲＯＭ
６ ＲＡＭ
７ メインコントローラ
８ 表示部
９ エラー・生産情報記憶領域
９Ａ バッファ記憶領域
１０１ 〜１０ｎ ログ
１１ 外部記憶用インターフェイス
１２ 外部記憶媒体
Claims (3)
- ウェーハプロセス処理を行うためのレシピによる生産情報の履歴であって、少なくともエラー名称を含むエラー発生時の情報や、レシピＩＤ、温度情報、ガス流量を含む前記生産情報の履歴を、クリーンルーム以外でのデータ解析を行うための外部記憶媒体に対して前記レシピの実行中に書き込み、前記エラー情報、生産情報は直接、前記外部記憶媒体よりアクセスされることを特徴とする半導体製造装置。
- 前記生産情報の履歴には、さらに圧力、ガスの種類を含むことを特徴とする請求項１記載の半導体製造装置。
- 前記生産情報の履歴には、さらにイベントＩＤを含むことを特徴とする請求項１記載の半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18210694A JP3630245B2 (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18210694A JP3630245B2 (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 半導体製造装置 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002297554A Division JP4204841B2 (ja) | 2002-10-10 | 2002-10-10 | 半導体製造装置における生産情報のデータ解析方法 |
| JP2003119228A Division JP2004006843A (ja) | 2003-04-24 | 2003-04-24 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845853A JPH0845853A (ja) | 1996-02-16 |
| JP3630245B2 true JP3630245B2 (ja) | 2005-03-16 |
Family
ID=16112448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18210694A Expired - Lifetime JP3630245B2 (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3630245B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8266095B2 (en) | 2006-06-19 | 2012-09-11 | Hitachi Kokusai Electric, Inc. | Substrate processing system and operation inspecting method |
| US8712730B2 (en) | 2010-06-08 | 2014-04-29 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Control system of substrate processing apparatus, collecting unit, substrate processing apparatus and control method of the substrate processing apparatus |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101312507B1 (ko) * | 2006-11-10 | 2013-10-01 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 블랙박스가 구비된 플라즈마 처리장치 |
-
1994
- 1994-08-03 JP JP18210694A patent/JP3630245B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8266095B2 (en) | 2006-06-19 | 2012-09-11 | Hitachi Kokusai Electric, Inc. | Substrate processing system and operation inspecting method |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0845853A (ja) | 1996-02-16 |
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