JP3577546B2 - 基板の組立方法及び組立装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示パネル等に用いられる基板を真空チャンバ内で貼り合わせる基板の組立方法及び組立装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネルの製造工程には、透明電極や薄膜トランジスタアレイなどを設けた２枚のガラス基板の間に、基板間の距離が数μｍであるような空間を設け、その空間に液晶を封入する基板組立工程がある。この基板組立工程には、例えば特開２０００−２８４２９５号公報記載のものがある。以下に従来の基板組立工程について説明する。
【０００３】
まず、基板の一方の表面の周縁に、該周縁に沿って前記表面を囲うようにシール剤を塗布し、その内側に液晶を滴下する。この時、基板に滴下された液晶は、上記シール剤によって基板表面から外部に漏れないようになっている。
【０００４】
次に、この基板（以下、下側基板という）を真空チャンバ内の下側のテーブル（以下、テーブルという）に載置し、静電吸着によってテーブル上に固定すると共に、この基板に対向して貼り合わせる他方の基板（以下、上側基板という）を、テーブルの上方に位置した上側のテーブル（以下、加圧板という）に静電吸着させて保持する。
【０００５】
以上の作業終了後、２つの基板の位置決めをしてから、テーブルもしくは加圧板の内の一方を他方に向けて相対的に移動させ、シール剤の接着力を利用して貼り合わせを行う。ここで、シール剤の外周位置に接着剤を設けた後に基板を貼り合わせるようにしてもよい。以上のようにして、２枚のガラス基板の間に液晶が封入された基板（以下、セルという）が組み立てられる。
【０００６】
ここで、上記組立工程の中の一工程である、上側基板を加圧板に静電吸着させる工程について以下に説明する。上側基板の加圧板への静電吸着は、まず移載装置等により上側基板の周縁部を保持しながら上側基板を加圧板に近付け、大気中で上側基板を加圧板に吸引吸着させた後に、真空チャンバ内の減圧（真空化）を行い、所望の真空度のところで吸引吸着から静電吸着に切り替える、という手順で行われている。尚、上側基板の下面には既に表示用の各種機能膜等が設けられており、保持において何らかのものが接触すると、これら機能膜等を破損する危険性が高いという理由から、基板移載の際は、基板の周縁部を保持するようにしている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、真空チャンバ内を減圧する過程で、上側基板と加圧板との間に閉じ込められた微量の空気が放出されることによって上側基板に力が作用し、その結果、加圧板に対して上側基板が動いたり落下したりするという不具合があった。
【０００８】
また、上側基板と加圧板との間に空気が残っていると、静電吸着するために印加している電圧や、残っている空気の真空度や、上側基板と加圧板との距離等の条件によって、加圧板の静電吸着用電極と上側基板との間で放電が発生し、その結果、放電中の電荷の移動・消滅によって静電吸着力が失われ、上側基板が落下するという不具合があった。
【０００９】
ここで、上記の不具合を解消する方法として、まず上側基板の周縁部を保持した状態で真空チャンバ内の真空引きを行い、所望の真空度以下になったところで保持した上側基板を加圧板に近付け、上側基板を加圧板に静電吸着させるという方法がある。
【００１０】
しかしながら、この場合、基板寸法が大きくなり、更には薄板化すると、上側基板は周縁部のみを保持されているために基板中間部が自重により下方向へ撓み、その結果、周縁部を加圧板に押し付けた状態でも中間部に静電吸着力が及ばず、上側基板を確実に加圧板に静電吸着させることができないという不具合があった。また、基板寸法が小さい場合には、周縁部を保持した時に生じる中間部の僅かな撓みが残った状態で、基板の周縁部から中央に向かって上側基板が加圧板に吸着されてしまうこともあり、この場合、吸着されたガラス基板にはひずみが残るという不具合があった。このように基板にひずみが残ると、軽い応力や衝撃力によってセルが破損したり、繰り返し応力の負荷でセルの液晶表示パネルとしての表示機能が劣化することがあるという不都合が生じる。
【００１１】
本発明の目的は、上記の不具合を解消し、基板が大型化あるいは薄板化しても、基板にひずみを残さず、確実に基板を組み立てることができる基板の組立方法及び組立装置を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するため、請求項１の発明では、貼り合わせる一方の基板を真空チャンバ内の下側へ配設したテーブルに載置すると共に、該一方の基板と貼り合わせる他方の基板を前記テーブルの基板載置面と対向して配設した真空チャンバ内の加圧板に静電吸着によって保持し、該各基板を、真空中で間隔を狭め且つ当該各基板のいずれかに設けた接着剤により貼り合わせる基板の組立方法において、大気下で該他方の基板をその上面が外側となる円筒面形の弓そりとし、該上面の中間部を減圧下において前記加圧板で静電吸着により保持し、該他方の基板の自由端となっている一方の辺部を前記加圧板で静電吸着により保持してから、該他方の基板の自由端となっている残りの辺部を前記加圧板で静電吸着により保持して前記加圧板で静電吸着により他方の基板をその全面で保持し前記一方の基板と対向させる。
【００１３】
請求項２の発明では、貼り合わせる一方の基板を真空チャンバ内の下側へ配設したテーブルに載置すると共に、該一方の基板と貼り合わせる他方の基板を前記テーブルの基板載置面と対向して配設した真空チャンバ内の加圧板に静電吸着によって保持し、該各基板を、真空中で間隔を狭め且つ当該各基板のいずれかに設けた接着剤により貼り合わせる基板の組立方法において、大気下で他方の基板を前記加圧板で吸引吸着により他方の基板をその全面で保持し、他方の基板を一組の対辺の中間部を機械的に保持し、残りの対辺側の吸引吸着を解除してその各辺側を自由端としてから、該一組の対辺の両中間部に掛けての吸引吸着を解除し、真空チャンバの真空化を進め、所望の真空度のところで前記加圧板に静電吸着の電圧を印加して他方の基板を該一組の対辺の両中間部に掛けて前記加圧板で静電吸着で保持し、自由端となっている残りの対辺側における各辺側を順次前記加圧板に静電吸着で保持させることで前記加圧板で静電吸着により他方の基板をその全面で保持し一方の基板と対向させる。
【００１４】
請求項３の発明では、請求項２に記載の基板の組立方法において、他方の基板の一組の対辺の自由端となっている一方の端部を機械的に保持している中間部の位置よりも下の位置で機械的に保持してから該一組の対辺の両中間部に掛けての吸引吸着を解除する。
【００１５】
請求項４の発明では、請求項１又は請求項２に記載の基板の組立方法において、他方の基板の自由端となっている各辺部は前記加圧板における静電吸着力が及ぶ位置まで上昇させて前記加圧板で静電吸着させる。
【００１６】
請求項５の発明では、貼り合わせる一方の基板を真空チャンバ内の下側へ配設したテーブルに載置すると共に、該一方の基板と貼り合わせる他方の基板を前記テーブルの基板載置面と対向して配設した真空チャンバ内の加圧板に静電吸着によって保持し、該各基板を、真空中で間隔を狭め且つ当該各基板のいずれかに設けた接着剤により貼り合わせる基板の組立装置において、大気下において前記加圧板で吸引吸着により他方の基板をその全面で保持する手段と、該他方の基板における一組の対辺の中間部を機械的に保持する手段と、該他方の基板における残りの対辺側の吸引吸着を解除してその各辺側を自由端としてから該一組の対辺の両中間部に掛けての吸引吸着を解除する手段と、真空チャンバが所望の真空度になったところで前記加圧板に静電吸着の電圧を印加する手段と、該一組の対辺の両中間部に掛けて前記加圧板で静電吸着で保持した該他方の基板の自由端となっている残りの対辺側における各辺側を、順次前記加圧板に静電吸着で保持させることで前記加圧板で静電吸着により他方の基板をその全面で保持させる手段とを有する。
【００１７】
請求項６の発明では、請求項５に記載の基板の組立装置において、前記加圧板は、該他方の基板における該一組の対辺の両中間部に掛けての領域を吸引吸着する手段とが領域から該他方の基板における残りの各対辺に掛けての領域を個別に吸引吸着する手段を備える。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の基板組立装置の一実施形態を図１から図４を参照して詳細に説明する。図１は本発明の基板組立装置の構成を示す概略図であり、図２は図１に示した基板組立装置における真空チャンバ部の上面図である。また、図３は図２の真空チャンバ部における保持爪（保持体）機構部の構成を示す要部拡大図であり、図４は図２の真空チャンバ部におけるテーブル，加圧板及び補助爪（補助体）機構部の構成を示す図である。
【００１９】
本発明の基板組立装置１００は、図１に示す如く、ステージ部Ｓ１と、基板組立部Ｓ２と、Ｚ軸方向移動ステージ部Ｓ３とから構成されている。架台１上には基板組立部Ｓ２を支持するフレーム２とＺ軸方向移動ステージ部Ｓ３を支持するフレーム３とがあり、架台１の上面に、ステージ部Ｓ１が備えられている。
【００２０】
ステージ部Ｓ１には、駆動モータ５を具備するＸステージ４ａが設けられており、この駆動モータ５によって、Ｘステージ４ａ上に設けられているＹステージ４ｂを、図１のＸ軸方向に移動できるようにしている。また、Ｙステージ４ｂは駆動モータ６を具備しており、この駆動モータ６によって、Ｙステージ４ｂ上のθステージ４ｃを、図１のＸ軸及びＺ軸と直交するＹ軸方向に移動できるようにしている。更に、駆動モータ８を具備するθステージ４ｃ上には、シャフト９を支持する支持体９ａが設けられており、前記駆動モータ８によって、支持体９ａが、回転ベアリング７を介してＹステージ４ｂに対し回転できるように構成されている。
【００２１】
前記シャフト９の上端には、下側基板を搭載するテーブル１０が設けられている。また、アーム１１を介して真空ベローズ１２の下端がθステージ４ｃに固定されている。アーム１１によって、回転ベアリング７と真空シールを有する気密保持体１３とがシャフト９に対し固定されているため、シャフト９の良好な回転と気密性とを保証すると共に、シャフト９が回転しても、アーム１１と真空ベローズ１２とがシャフト９と共に回転しないように構成されている。
【００２２】
また基板組立部Ｓ２は、真空チャンバ１４と、その真空チャンバ１４内部に配置されたテーブル１０及び加圧板１５と、後述するように基板の保持および昇降を行う保持爪機構部４０及び補助爪機構部６０と、真空チャンバ１４の出入口に設けられたゲートバルブ１６とから構成されている。ここで、加圧板１５は、図１に示すようにシャフト２５を介してＺ軸方向移動ステージ部Ｓ３に固定されている。このシャフト２５は真空ベローズ２６により周囲が囲まれており、真空チャンバ１４内の真空状態を保持できるように構成されている。
【００２３】
前記真空チャンバ１４の下部には真空排気するための配管２０が設けられ、この配管２０は切換バルブ（図示せず）を介して真空ポンプ（図示せず）に接続されている。また、真空チャンバ１４の上部には、チャンバ内を真空状態から大気圧にするための配管２１ならびにベント用切換バルブ２２が設けられている。更に真空チャンバ１４上部には、２枚の基板をずれのないように貼り合わせるための位置合わせマーク（図示せず）を観測するための窓２３が設けられている。この窓２３と図示していない加圧板１５のマーク認識用穴とを通して、認識用カメラ２４によって上下両基板の位置合わせマークのずれが測定され、得られた測定結果に基づき、両基板の位置のずれを修正する位置合わせが行われる。
【００２４】
ここで、真空チャンバ１４部分の構成を、図４を参照して詳細に説明する。テーブル１０は下側基板を真空吸着するための吸着孔を有し、各吸着孔は配管１７を用いて真空チャンバ１４の外部にある吸着バルブ（図示せず）に接続されている。また、テーブル１０は静電吸着用の静電チャック１０ａ〜１０ｃを備えており、正電極及び負電極へのリード線が真空チャンバ１４から外部に引き出されている。
【００２５】
一方、加圧板１５の吸引吸着孔１８ａ,１８ｂ，1８ｃは配管１９ａ,１９ｂ，1９ｃを用いて真空チャンバ１４の外部にある個別吸着バルブ（図示せず）に接続されている。尚、前記各吸引吸着孔１８ａ〜1８ｃの吸着範囲は、例えば図４の如く、図面に向かって右，中央,左の３つに分割して設けられており、前記個別吸着バルブによって、各吸引吸着孔１８ａ〜1８ｃの上記吸着範囲が切替えられるようになっている。また、前記各配管１９ａ〜１９ｃには真空破壊用のバルブも接続されており、このバルブが開放されることによって基板の吸着領域が限定されたり解除されたりする。更に、加圧板１５は静電吸着用の静電チャック１５ａ〜１５ｃを備えており、正電極及び負電極へのリード線が真空チャンバ１４から外部に引き出されている。
【００２６】
また、Ｚ軸方向移動ステージ部Ｓ３は、Ｚ軸方向移動ベース２７とリニアガイド２８とボールネジ２９と電動モータ３０とから構成され、Ｚ軸方向移動ベース２７によって前記加圧板１５の昇降が行われる。
【００２７】
尚、上記のステージ部Ｓ１、基板組立部Ｓ２及びＺ軸方向移動ステージ部Ｓ３における駆動モータ５からエアシリンダ６２ａ，６２ｂまでの各種駆動手段は、図示しない制御装置によって制御されている。
【００２８】
次に、本発明の基板組立装置の保持爪機構部及び補助爪機構部について、図２から図４を参照して説明する。
【００２９】
図２の如く、保持爪機構部４０はゲートバルブ１６から見て基板の左右両側に各１つずつ、真空チャンバ１４内に設けられており、一方の補助爪機構部６０は、ゲートバルブ１６から見て基板の手前と奥に各１つずつ、真空チャンバ１４内に設けられている。
【００３０】
以下、保持爪機構部４０の構成について説明する。保持爪４１ａは、保持爪４１ｂより上側基板Ｂ１に与える撓み分（図３中寸法ｄに相当）だけ高い位置に配置して連結板４２に固定されている。これは、後述するように、図４において点線で示した如く、保持爪４１ａ，４１ｂによって上側基板Ｂ１が上に凸の状態で保持されるようにするためである。ここで、前記連結板４２はリニヤガイド４３に取り付けられており、このリニヤガイド４３は図中矢印イの方向に水平移動できるように昇降板４４に取付けられている。また、連結板４２は金具４５を介してリニヤガイド４６に固定されており、更にリニヤガイド４６は案内板４７に沿って図中矢印ロの方向に昇降できるように構成されている。
【００３１】
上記構成を、以下詳細に説明する。前記案内板４７にはボールネジ４８ａが貫通し、このボールネジ４８ａがナット４８ｂと螺合しており、このボールネジ４８ａをモータ４９で回すことによって、案内板４７が図中矢印イ方向に水平移動できるように構成されている。更に、モータ４９の回転で案内板４７の下端部が振れないようにすると共に、案内板４７が矢印イの方向に円滑に移動するように、リニヤガイド５２が案内板４７の下端部に設けられている。
【００３２】
これより、前記案内板４７がモータ４９により水平移動すると、リニヤガイド４６が図中イ方向に水平移動し、この結果、リニヤガイド４６に固定されている連結板４２も、昇降板４４に取り付けられたリニヤガイド４３を介して図中イ方向に水平移動する、即ち、連結板４２に固定された保持爪４１ａ，４１ｂが矢印イの方向に水平移動する。
【００３３】
また昇降板４４は、リニヤガイド５０を介して、真空チャンバ１４の底面から垂直に固定されている支持板５１に沿って昇降できるように構成されている。昇降板４４の両端にはラックギヤ５４が取付けられており、このラックギア５４に、モータ５５の駆動力が、ネジ歯車５６，シャフト５７及びピニオンギヤ５８を介して伝達され、昇降板４４の昇降動作が行われる。以上より、昇降板４４に取り付けられた連結板４２が昇降動作する、即ち、連結板４２に固定された保持爪４１ａ，４１ｂが矢印ロの方向に昇降移動する。
【００３４】
次に、補助爪機構部６０について説明する。補助爪６１ａ，６１ｂはエアシリンダ６２ａ，６２ｂに取付けられており、昇降（図４の矢印ハ方向の移動）及び９０度旋回（図２の矢印ニ方向の移動）を行うことができる。尚、上側基板Ｂ１の下面に接した場合にその下面を傷付けないようにするため、保持爪４１ａ，４１ｂや補助爪６１ａ，６１ｂの上面は、丸みを帯びた面としておくことが望ましい。
【００３５】
また、図１に戻って、７０は以上示したステージ部Ｓ１，基板組立部Ｓ２及びＺ軸移動ステージ部Ｓ３における駆動モータ５〜エアシリンダ６２ａ，６２ｂなどの各種駆動手段へ操作信号を送出する制御装置である。そして、それら操作信号の送出の判断は、図示を省略した各種駆動手段に付設してある検出センサの出力や認識用カメラ２４による両基板の位置合わせマークの測定結果などに基いて、組立装置１００の操作者が行い、一部のものについては、制御装置７０に組み込んであるシーケンスプログラム（後述する組立工程の適宜部分をプログラム化したもの）で実行する。
【００３６】
上記の如く構成された基板組立装置による基板の組立工程について、以下詳細に説明する。まず、ゲートバルブ１６を開いた後、真空チャンバ１４の外部に設置されている図示していない移載機の基板移載ハンドによって、膜面を下側にした上側基板Ｂ１をゲートバルブ１６から真空チャンバ１４内に挿入する。次に、前記基板移載ハンドによって上側基板Ｂ１の上面を加圧板１５の下面に押付けると共に、加圧板１５の吸引吸着孔１８ａ〜１８ｃにより上側基板Ｂ１を吸引吸着保持する。このようにして上側基板Ｂ１を吸着保持した後、基板移載ハンドを真空チャンバ１４外に退避させる。
【００３７】
続いて、モータ５５で保持爪４１ａ，４１ｂを加圧板１５とテーブル１０との間の高さに移動させると共に、モータ４９で上側基板Ｂ１を受け取れるような位置に保持爪４１ａ，４１ｂを移動させ、この保持爪４１ａ，４１ｂの上に真空チャンバ１４外の基板移載ハンドで下側基板Ｂ２を移載する。移載後、下側基板Ｂ２を載せた保持爪４１ａ，４１ｂをテーブル１０に設けた爪干渉よけ溝（図示せず）までモータ５５により下降させることにより、下側基板Ｂ２がテーブル１０上へ移載される。ここで、下側基板Ｂ２上面には予め枠を形成するようにシール剤が上面周縁部に塗布され、前記シール剤の枠内に所望量の液晶が滴下されている。
【００３８】
以上の工程終了後、保持爪４１ａ，４１ｂは、モータ４９によって水平にテーブル１０から離れる方向に水平移動し、待機状態とする。また、基板移載ハンドを真空チャンバ１４の外に退避させ、ゲートバルブ１６を閉じる。
【００３９】
次に、補助爪６１ａ，６１ｂをエアシリンダ６２ａ，６２ｂで上昇させ、上昇端で９０度旋回させた後に降下させる。これにより、下側基板Ｂ２が補助爪６１ａ，６１ｂとテーブル１０とで挟持された状態となる。このような状態で、テーブル１０の吸引吸着配管１７を用いて下側基板Ｂ２のテーブル１０への真空吸着が行われる。ここで、補助爪６１ａ，６１ｂとテーブル１０とによって下側基板Ｂ２を挟持するのは、真空チャンバ１４内の減圧を進める過程で、テーブル１０と下側基板Ｂ２との間に残っている微量な空気が放出される際に、下側基板Ｂ２がテーブル１０に対して動かないようにするためである。
【００４０】
上記の下側基板Ｂ２のテーブル１０への真空吸着後、加圧板１５とテーブル１０との間の高さで待機していた保持爪４１ａ，４１ｂを水平移動させ、保持爪４１ａが加圧板１５に吸引吸着されている上側基板Ｂ１の下面に接触するまで、保持爪４１ａ，４１ｂを上昇させる。尚、上側基板Ｂ１は加圧板１５に水平に吸着されており、且つ保持爪４１ｂが保持爪４１ａより距離ｄだけ下方に位置しているため、この時点では保持爪４１ｂは上側基板Ｂ１の下面には接触していない状態である。
【００４１】
上記上側基板Ｂ１と保持爪４１ａとの接触後、加圧板１５の３箇所の吸引吸着エリアのうち両側の吸引吸着孔１８ａ，１８ｃを真空破壊し、中間部の吸着孔１８ｂのみを吸引吸着した状態にする。これによって、上側基板Ｂ１が自重により撓み、上側基板Ｂ１の両端部が垂下した状態、即ち保持爪４１ａを結んだ所を中心とした上に凸の形状となり、この結果、図４の点線で示したように、上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６側の辺縁が保持爪４１ｂ上に載るようになる。このような状態になった後、加圧板１５における中央の吸引吸着１８ｂを真空破壊する。
【００４２】
以上の工程の後に、配管２０に接続した真空ポンプを用いて真空チャンバ１４内の排気を開始し、真空チャンバ１４内を減圧する。減圧開始後、真空チャンバ１４内の真空状態が所望の真空度に到達したら、加圧板１５と上側基板Ｂ１との静電吸着、及びテーブル１０と下側基板Ｂ２との静電吸着を行う。ここで、下側基板Ｂ２はテーブル１０上に直に搭載されているので吸引吸着から静電吸着に切り替えることでそのままテーブル１０上に固定される。
【００４３】
一方、上側基板Ｂ１は保持爪４１ａ，４１ｂによって上に凸の形状になっているため、加圧板１５の静電吸着を働かせただけでは上側基板Ｂ１を加圧板１５に水平に吸着させることはできない。そこで、まず中間部の静電チャック１５ｂを動作させ基板中間部の静電吸着を行う。次に、ゲートバルブ１６側の補助爪６１ａを上昇させ、保持爪４１ｂで撓みを抑えていた上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６側の垂れている部分を持ち上げる。こうして補助爪６１ａによって、静電吸着力が働く距離まで上側基板Ｂ１の垂れている部分を加圧板１５に近付け、しかる後に静電チャック１５ａに電圧を印加すると、上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６側を加圧板１５に、静電吸着によって固定保持することができる。この後、上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６と反対側の垂れている部分についても上記と同様に、補助爪６１ｂを上昇させ静電吸着力が働く距離まで近付けた状態で静電チャック１５ｃに電圧を掛け、加圧板１５に静電吸着させることで、上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６と反対側の垂れている部分を加圧板１５に静電吸着させることができる。以上のようにして、上側基板Ｂ１を加圧板１５に水平に静電吸着させることができる。
【００４４】
ここで、上記上側基板の静電吸着工程の際に、保持爪で撓みを抑えていない側の補助爪６１ｂを補助爪６１ａより先に上昇させたり、あるいは補助爪６１ａと補助爪６１ｂとを同時に加圧板１５に向けて上昇させたりすると、上側基板Ｂ１は保持爪４１ａと補助爪６１ａ，６１ｂで支えた状態になるが、この時、上に凸の形状が下に凸の撓みに逆転変形してしまう。この結果、この撓み部分から加圧板１５までの距離が遠くなり、上側基板Ｂ１を加圧板１５に水平に静電吸着させることができなくなってしまう。よって、このような逆転変形が起こらないように、まず保持爪４１ｂのある側の補助爪６１ａを上昇させる。静電チャック１５ａが上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６側を静電吸着してしまえば、その後補助爪６１ｂで残りの側を上昇させても、上側基板Ｂ１は上記逆転変形現象を起こすことはなく、上側基板Ｂ１は加圧板１５で水平に保持されることになる。
【００４５】
尚、上記静電吸着工程では、各静電チャック１５ａ〜１５ｃへの電圧印加に順序があるが、上側基板Ｂ１が保持爪４１ａ，４１ｂによって上に凸の形状であり、且つ中間部以外の垂れている部分に静電吸着力が働かないため、静電チャック１５ｂへの電圧印加時に他の静電チャック１５ａ，１５ｃに同時に電圧を印加しても良い。
【００４６】
以上のように、上側基板Ｂ１を加圧板１５に、下側基板Ｂ２をテーブル１０にそれぞれ静電吸着した後、補助爪６１ａ，６１ｂを回転して基板の面内から退避させ、更に、保持爪４１ａ，４１ｂも水平移動させて基板から離れさせた後、待機させる。
【００４７】
この状態で電動モータ３０でＺ軸方向移動ベース２７を下降し、上側基板Ｂ１を下側基板Ｂ２に接近させる。この時、認識用カメラ２４を用いて上下各基板Ｂ１，Ｂ２につけた位置合わせマークを検出し、基板相互の位置ずれを測定する。こうして得られた測定値を基にステージ部Ｓ１を制御し、下側基板Ｂ２の位置を所望量だけ移動することによって、上側基板Ｂ１と下側基板Ｂ２とが精度良く貼り合わせられるように、上側基板Ｂ１及び下側基板Ｂ２の位置合せを行う。
【００４８】
位置合わせが終了後、Ｚ軸方向移動ベース２７を更に下降し、上側基板Ｂ１を予めシール剤が塗布されている下側基板Ｂ２に重ねる。以上のようにしてシール剤で形成された枠内に液晶を封入した基板の貼り合わせが行われる。尚、この基板の貼り合わせ後に上側基板Ｂ１と下側基板Ｂ２との相対位置がずれないよう、予め基板の膜面に光硬化性の接着剤を打点塗布しておいてもよい。
【００４９】
上記の組立工程の後、加圧板１５の静電チャック１５ａ〜１５ｃへの電圧印加を停止し、Ｚ軸方向移動ベース２７を上昇した後、テーブル１０の静電チャックへの電圧印加を停止させると共に、ベント用切換えバルブ２２を開けて真空チャンバ１４内を大気圧にする。
【００５０】
真空チャンバ１４内を大気圧にした後、ゲートバルブ１６を開け、テーブル１０の真空吸着孔１７を開放する。その後、保持爪４１ａ，４１ｂでセルを持ち上げ、図示していない移載機の基板移載ハンドをセルの下に挿入してセルを基板移載ハンド上に移載し、しかる後に基板移載ハンドを後退させることによってセルを真空チャンバ１４から取り出す。
【００５１】
ここで、上記の真空チャンバ１４内を真空状態から大気圧にする際に、真空チャンバ１４内に気流が発生し、この気流によってテーブル１０上のセルが移動することがある。このようにテーブル１０上のセルが移動してしまった場合、保持爪４１ａ，４１ｂでセルを持ち上げて基板移載ハンドに移載しようとしても、セルが保持爪４１ａ，４１ｂから外れた位置にあって持ち上げられなくなってしまう。よって、真空チャンバ１４内の大気解放の際には、退避してあった補助爪６１ａ，６１ｂとテーブル１０とによりセルを軽く挟持し、セルが移動しないようにしておくと良い。
【００５２】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の基板組立方法及び基板組立装置によれば、基板寸法が大型化し、更には薄板化しても、基板にひずみを残すことなく、寿命の長い基板を確実に組み立てることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す基板組立装置の構成を示す概略図である。
【図２】図１に示した基板組立装置における真空チャンバ部の上面図である。
【図３】図２で示した真空チャンバ部における保持爪機構部の構成を示す要部拡大図である。
【図４】図２で示した真空チャンバ部におけるテーブル，加圧板及び補助爪機構部の構成を示す図である。
【符号の説明】
１００…基板組立装置、Ｓ１…ステージ部、Ｓ２…基板組立部、Ｓ３…Ｚ軸方向移動ステージ部、Ｂ１…上側基板、Ｂ２…下側基板、１０…テーブル（下側のテーブル）、１４…真空チャンバ、１５…加圧板（上側のテーブル）、１５ａ〜１５ｃ…静電チャック、１８ａ〜１８ｃ…吸引吸着孔、１６…ゲートバルブ、４０…保持爪機構部、４１ａ，４１ｂ…保持爪、６０…補助爪機構部、６１ａ，６１ｂ…補助爪。
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示パネル等に用いられる基板を真空チャンバ内で貼り合わせる基板の組立方法及び組立装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネルの製造工程には、透明電極や薄膜トランジスタアレイなどを設けた２枚のガラス基板の間に、基板間の距離が数μｍであるような空間を設け、その空間に液晶を封入する基板組立工程がある。この基板組立工程には、例えば特開２０００−２８４２９５号公報記載のものがある。以下に従来の基板組立工程について説明する。
【０００３】
まず、基板の一方の表面の周縁に、該周縁に沿って前記表面を囲うようにシール剤を塗布し、その内側に液晶を滴下する。この時、基板に滴下された液晶は、上記シール剤によって基板表面から外部に漏れないようになっている。
【０００４】
次に、この基板（以下、下側基板という）を真空チャンバ内の下側のテーブル（以下、テーブルという）に載置し、静電吸着によってテーブル上に固定すると共に、この基板に対向して貼り合わせる他方の基板（以下、上側基板という）を、テーブルの上方に位置した上側のテーブル（以下、加圧板という）に静電吸着させて保持する。
【０００５】
以上の作業終了後、２つの基板の位置決めをしてから、テーブルもしくは加圧板の内の一方を他方に向けて相対的に移動させ、シール剤の接着力を利用して貼り合わせを行う。ここで、シール剤の外周位置に接着剤を設けた後に基板を貼り合わせるようにしてもよい。以上のようにして、２枚のガラス基板の間に液晶が封入された基板（以下、セルという）が組み立てられる。
【０００６】
ここで、上記組立工程の中の一工程である、上側基板を加圧板に静電吸着させる工程について以下に説明する。上側基板の加圧板への静電吸着は、まず移載装置等により上側基板の周縁部を保持しながら上側基板を加圧板に近付け、大気中で上側基板を加圧板に吸引吸着させた後に、真空チャンバ内の減圧（真空化）を行い、所望の真空度のところで吸引吸着から静電吸着に切り替える、という手順で行われている。尚、上側基板の下面には既に表示用の各種機能膜等が設けられており、保持において何らかのものが接触すると、これら機能膜等を破損する危険性が高いという理由から、基板移載の際は、基板の周縁部を保持するようにしている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、真空チャンバ内を減圧する過程で、上側基板と加圧板との間に閉じ込められた微量の空気が放出されることによって上側基板に力が作用し、その結果、加圧板に対して上側基板が動いたり落下したりするという不具合があった。
【０００８】
また、上側基板と加圧板との間に空気が残っていると、静電吸着するために印加している電圧や、残っている空気の真空度や、上側基板と加圧板との距離等の条件によって、加圧板の静電吸着用電極と上側基板との間で放電が発生し、その結果、放電中の電荷の移動・消滅によって静電吸着力が失われ、上側基板が落下するという不具合があった。
【０００９】
ここで、上記の不具合を解消する方法として、まず上側基板の周縁部を保持した状態で真空チャンバ内の真空引きを行い、所望の真空度以下になったところで保持した上側基板を加圧板に近付け、上側基板を加圧板に静電吸着させるという方法がある。
【００１０】
しかしながら、この場合、基板寸法が大きくなり、更には薄板化すると、上側基板は周縁部のみを保持されているために基板中間部が自重により下方向へ撓み、その結果、周縁部を加圧板に押し付けた状態でも中間部に静電吸着力が及ばず、上側基板を確実に加圧板に静電吸着させることができないという不具合があった。また、基板寸法が小さい場合には、周縁部を保持した時に生じる中間部の僅かな撓みが残った状態で、基板の周縁部から中央に向かって上側基板が加圧板に吸着されてしまうこともあり、この場合、吸着されたガラス基板にはひずみが残るという不具合があった。このように基板にひずみが残ると、軽い応力や衝撃力によってセルが破損したり、繰り返し応力の負荷でセルの液晶表示パネルとしての表示機能が劣化することがあるという不都合が生じる。
【００１１】
本発明の目的は、上記の不具合を解消し、基板が大型化あるいは薄板化しても、基板にひずみを残さず、確実に基板を組み立てることができる基板の組立方法及び組立装置を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するため、請求項１の発明では、貼り合わせる一方の基板を真空チャンバ内の下側へ配設したテーブルに載置すると共に、該一方の基板と貼り合わせる他方の基板を前記テーブルの基板載置面と対向して配設した真空チャンバ内の加圧板に静電吸着によって保持し、該各基板を、真空中で間隔を狭め且つ当該各基板のいずれかに設けた接着剤により貼り合わせる基板の組立方法において、大気下で該他方の基板をその上面が外側となる円筒面形の弓そりとし、該上面の中間部を減圧下において前記加圧板で静電吸着により保持し、該他方の基板の自由端となっている一方の辺部を前記加圧板で静電吸着により保持してから、該他方の基板の自由端となっている残りの辺部を前記加圧板で静電吸着により保持して前記加圧板で静電吸着により他方の基板をその全面で保持し前記一方の基板と対向させる。
【００１３】
請求項２の発明では、貼り合わせる一方の基板を真空チャンバ内の下側へ配設したテーブルに載置すると共に、該一方の基板と貼り合わせる他方の基板を前記テーブルの基板載置面と対向して配設した真空チャンバ内の加圧板に静電吸着によって保持し、該各基板を、真空中で間隔を狭め且つ当該各基板のいずれかに設けた接着剤により貼り合わせる基板の組立方法において、大気下で他方の基板を前記加圧板で吸引吸着により他方の基板をその全面で保持し、他方の基板を一組の対辺の中間部を機械的に保持し、残りの対辺側の吸引吸着を解除してその各辺側を自由端としてから、該一組の対辺の両中間部に掛けての吸引吸着を解除し、真空チャンバの真空化を進め、所望の真空度のところで前記加圧板に静電吸着の電圧を印加して他方の基板を該一組の対辺の両中間部に掛けて前記加圧板で静電吸着で保持し、自由端となっている残りの対辺側における各辺側を順次前記加圧板に静電吸着で保持させることで前記加圧板で静電吸着により他方の基板をその全面で保持し一方の基板と対向させる。
【００１４】
請求項３の発明では、請求項２に記載の基板の組立方法において、他方の基板の一組の対辺の自由端となっている一方の端部を機械的に保持している中間部の位置よりも下の位置で機械的に保持してから該一組の対辺の両中間部に掛けての吸引吸着を解除する。
【００１５】
請求項４の発明では、請求項１又は請求項２に記載の基板の組立方法において、他方の基板の自由端となっている各辺部は前記加圧板における静電吸着力が及ぶ位置まで上昇させて前記加圧板で静電吸着させる。
【００１６】
請求項５の発明では、貼り合わせる一方の基板を真空チャンバ内の下側へ配設したテーブルに載置すると共に、該一方の基板と貼り合わせる他方の基板を前記テーブルの基板載置面と対向して配設した真空チャンバ内の加圧板に静電吸着によって保持し、該各基板を、真空中で間隔を狭め且つ当該各基板のいずれかに設けた接着剤により貼り合わせる基板の組立装置において、大気下において前記加圧板で吸引吸着により他方の基板をその全面で保持する手段と、該他方の基板における一組の対辺の中間部を機械的に保持する手段と、該他方の基板における残りの対辺側の吸引吸着を解除してその各辺側を自由端としてから該一組の対辺の両中間部に掛けての吸引吸着を解除する手段と、真空チャンバが所望の真空度になったところで前記加圧板に静電吸着の電圧を印加する手段と、該一組の対辺の両中間部に掛けて前記加圧板で静電吸着で保持した該他方の基板の自由端となっている残りの対辺側における各辺側を、順次前記加圧板に静電吸着で保持させることで前記加圧板で静電吸着により他方の基板をその全面で保持させる手段とを有する。
【００１７】
請求項６の発明では、請求項５に記載の基板の組立装置において、前記加圧板は、該他方の基板における該一組の対辺の両中間部に掛けての領域を吸引吸着する手段とが領域から該他方の基板における残りの各対辺に掛けての領域を個別に吸引吸着する手段を備える。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の基板組立装置の一実施形態を図１から図４を参照して詳細に説明する。図１は本発明の基板組立装置の構成を示す概略図であり、図２は図１に示した基板組立装置における真空チャンバ部の上面図である。また、図３は図２の真空チャンバ部における保持爪（保持体）機構部の構成を示す要部拡大図であり、図４は図２の真空チャンバ部におけるテーブル，加圧板及び補助爪（補助体）機構部の構成を示す図である。
【００１９】
本発明の基板組立装置１００は、図１に示す如く、ステージ部Ｓ１と、基板組立部Ｓ２と、Ｚ軸方向移動ステージ部Ｓ３とから構成されている。架台１上には基板組立部Ｓ２を支持するフレーム２とＺ軸方向移動ステージ部Ｓ３を支持するフレーム３とがあり、架台１の上面に、ステージ部Ｓ１が備えられている。
【００２０】
ステージ部Ｓ１には、駆動モータ５を具備するＸステージ４ａが設けられており、この駆動モータ５によって、Ｘステージ４ａ上に設けられているＹステージ４ｂを、図１のＸ軸方向に移動できるようにしている。また、Ｙステージ４ｂは駆動モータ６を具備しており、この駆動モータ６によって、Ｙステージ４ｂ上のθステージ４ｃを、図１のＸ軸及びＺ軸と直交するＹ軸方向に移動できるようにしている。更に、駆動モータ８を具備するθステージ４ｃ上には、シャフト９を支持する支持体９ａが設けられており、前記駆動モータ８によって、支持体９ａが、回転ベアリング７を介してＹステージ４ｂに対し回転できるように構成されている。
【００２１】
前記シャフト９の上端には、下側基板を搭載するテーブル１０が設けられている。また、アーム１１を介して真空ベローズ１２の下端がθステージ４ｃに固定されている。アーム１１によって、回転ベアリング７と真空シールを有する気密保持体１３とがシャフト９に対し固定されているため、シャフト９の良好な回転と気密性とを保証すると共に、シャフト９が回転しても、アーム１１と真空ベローズ１２とがシャフト９と共に回転しないように構成されている。
【００２２】
また基板組立部Ｓ２は、真空チャンバ１４と、その真空チャンバ１４内部に配置されたテーブル１０及び加圧板１５と、後述するように基板の保持および昇降を行う保持爪機構部４０及び補助爪機構部６０と、真空チャンバ１４の出入口に設けられたゲートバルブ１６とから構成されている。ここで、加圧板１５は、図１に示すようにシャフト２５を介してＺ軸方向移動ステージ部Ｓ３に固定されている。このシャフト２５は真空ベローズ２６により周囲が囲まれており、真空チャンバ１４内の真空状態を保持できるように構成されている。
【００２３】
前記真空チャンバ１４の下部には真空排気するための配管２０が設けられ、この配管２０は切換バルブ（図示せず）を介して真空ポンプ（図示せず）に接続されている。また、真空チャンバ１４の上部には、チャンバ内を真空状態から大気圧にするための配管２１ならびにベント用切換バルブ２２が設けられている。更に真空チャンバ１４上部には、２枚の基板をずれのないように貼り合わせるための位置合わせマーク（図示せず）を観測するための窓２３が設けられている。この窓２３と図示していない加圧板１５のマーク認識用穴とを通して、認識用カメラ２４によって上下両基板の位置合わせマークのずれが測定され、得られた測定結果に基づき、両基板の位置のずれを修正する位置合わせが行われる。
【００２４】
ここで、真空チャンバ１４部分の構成を、図４を参照して詳細に説明する。テーブル１０は下側基板を真空吸着するための吸着孔を有し、各吸着孔は配管１７を用いて真空チャンバ１４の外部にある吸着バルブ（図示せず）に接続されている。また、テーブル１０は静電吸着用の静電チャック１０ａ〜１０ｃを備えており、正電極及び負電極へのリード線が真空チャンバ１４から外部に引き出されている。
【００２５】
一方、加圧板１５の吸引吸着孔１８ａ,１８ｂ，1８ｃは配管１９ａ,１９ｂ，1９ｃを用いて真空チャンバ１４の外部にある個別吸着バルブ（図示せず）に接続されている。尚、前記各吸引吸着孔１８ａ〜1８ｃの吸着範囲は、例えば図４の如く、図面に向かって右，中央,左の３つに分割して設けられており、前記個別吸着バルブによって、各吸引吸着孔１８ａ〜1８ｃの上記吸着範囲が切替えられるようになっている。また、前記各配管１９ａ〜１９ｃには真空破壊用のバルブも接続されており、このバルブが開放されることによって基板の吸着領域が限定されたり解除されたりする。更に、加圧板１５は静電吸着用の静電チャック１５ａ〜１５ｃを備えており、正電極及び負電極へのリード線が真空チャンバ１４から外部に引き出されている。
【００２６】
また、Ｚ軸方向移動ステージ部Ｓ３は、Ｚ軸方向移動ベース２７とリニアガイド２８とボールネジ２９と電動モータ３０とから構成され、Ｚ軸方向移動ベース２７によって前記加圧板１５の昇降が行われる。
【００２７】
尚、上記のステージ部Ｓ１、基板組立部Ｓ２及びＺ軸方向移動ステージ部Ｓ３における駆動モータ５からエアシリンダ６２ａ，６２ｂまでの各種駆動手段は、図示しない制御装置によって制御されている。
【００２８】
次に、本発明の基板組立装置の保持爪機構部及び補助爪機構部について、図２から図４を参照して説明する。
【００２９】
図２の如く、保持爪機構部４０はゲートバルブ１６から見て基板の左右両側に各１つずつ、真空チャンバ１４内に設けられており、一方の補助爪機構部６０は、ゲートバルブ１６から見て基板の手前と奥に各１つずつ、真空チャンバ１４内に設けられている。
【００３０】
以下、保持爪機構部４０の構成について説明する。保持爪４１ａは、保持爪４１ｂより上側基板Ｂ１に与える撓み分（図３中寸法ｄに相当）だけ高い位置に配置して連結板４２に固定されている。これは、後述するように、図４において点線で示した如く、保持爪４１ａ，４１ｂによって上側基板Ｂ１が上に凸の状態で保持されるようにするためである。ここで、前記連結板４２はリニヤガイド４３に取り付けられており、このリニヤガイド４３は図中矢印イの方向に水平移動できるように昇降板４４に取付けられている。また、連結板４２は金具４５を介してリニヤガイド４６に固定されており、更にリニヤガイド４６は案内板４７に沿って図中矢印ロの方向に昇降できるように構成されている。
【００３１】
上記構成を、以下詳細に説明する。前記案内板４７にはボールネジ４８ａが貫通し、このボールネジ４８ａがナット４８ｂと螺合しており、このボールネジ４８ａをモータ４９で回すことによって、案内板４７が図中矢印イ方向に水平移動できるように構成されている。更に、モータ４９の回転で案内板４７の下端部が振れないようにすると共に、案内板４７が矢印イの方向に円滑に移動するように、リニヤガイド５２が案内板４７の下端部に設けられている。
【００３２】
これより、前記案内板４７がモータ４９により水平移動すると、リニヤガイド４６が図中イ方向に水平移動し、この結果、リニヤガイド４６に固定されている連結板４２も、昇降板４４に取り付けられたリニヤガイド４３を介して図中イ方向に水平移動する、即ち、連結板４２に固定された保持爪４１ａ，４１ｂが矢印イの方向に水平移動する。
【００３３】
また昇降板４４は、リニヤガイド５０を介して、真空チャンバ１４の底面から垂直に固定されている支持板５１に沿って昇降できるように構成されている。昇降板４４の両端にはラックギヤ５４が取付けられており、このラックギア５４に、モータ５５の駆動力が、ネジ歯車５６，シャフト５７及びピニオンギヤ５８を介して伝達され、昇降板４４の昇降動作が行われる。以上より、昇降板４４に取り付けられた連結板４２が昇降動作する、即ち、連結板４２に固定された保持爪４１ａ，４１ｂが矢印ロの方向に昇降移動する。
【００３４】
次に、補助爪機構部６０について説明する。補助爪６１ａ，６１ｂはエアシリンダ６２ａ，６２ｂに取付けられており、昇降（図４の矢印ハ方向の移動）及び９０度旋回（図２の矢印ニ方向の移動）を行うことができる。尚、上側基板Ｂ１の下面に接した場合にその下面を傷付けないようにするため、保持爪４１ａ，４１ｂや補助爪６１ａ，６１ｂの上面は、丸みを帯びた面としておくことが望ましい。
【００３５】
また、図１に戻って、７０は以上示したステージ部Ｓ１，基板組立部Ｓ２及びＺ軸移動ステージ部Ｓ３における駆動モータ５〜エアシリンダ６２ａ，６２ｂなどの各種駆動手段へ操作信号を送出する制御装置である。そして、それら操作信号の送出の判断は、図示を省略した各種駆動手段に付設してある検出センサの出力や認識用カメラ２４による両基板の位置合わせマークの測定結果などに基いて、組立装置１００の操作者が行い、一部のものについては、制御装置７０に組み込んであるシーケンスプログラム（後述する組立工程の適宜部分をプログラム化したもの）で実行する。
【００３６】
上記の如く構成された基板組立装置による基板の組立工程について、以下詳細に説明する。まず、ゲートバルブ１６を開いた後、真空チャンバ１４の外部に設置されている図示していない移載機の基板移載ハンドによって、膜面を下側にした上側基板Ｂ１をゲートバルブ１６から真空チャンバ１４内に挿入する。次に、前記基板移載ハンドによって上側基板Ｂ１の上面を加圧板１５の下面に押付けると共に、加圧板１５の吸引吸着孔１８ａ〜１８ｃにより上側基板Ｂ１を吸引吸着保持する。このようにして上側基板Ｂ１を吸着保持した後、基板移載ハンドを真空チャンバ１４外に退避させる。
【００３７】
続いて、モータ５５で保持爪４１ａ，４１ｂを加圧板１５とテーブル１０との間の高さに移動させると共に、モータ４９で上側基板Ｂ１を受け取れるような位置に保持爪４１ａ，４１ｂを移動させ、この保持爪４１ａ，４１ｂの上に真空チャンバ１４外の基板移載ハンドで下側基板Ｂ２を移載する。移載後、下側基板Ｂ２を載せた保持爪４１ａ，４１ｂをテーブル１０に設けた爪干渉よけ溝（図示せず）までモータ５５により下降させることにより、下側基板Ｂ２がテーブル１０上へ移載される。ここで、下側基板Ｂ２上面には予め枠を形成するようにシール剤が上面周縁部に塗布され、前記シール剤の枠内に所望量の液晶が滴下されている。
【００３８】
以上の工程終了後、保持爪４１ａ，４１ｂは、モータ４９によって水平にテーブル１０から離れる方向に水平移動し、待機状態とする。また、基板移載ハンドを真空チャンバ１４の外に退避させ、ゲートバルブ１６を閉じる。
【００３９】
次に、補助爪６１ａ，６１ｂをエアシリンダ６２ａ，６２ｂで上昇させ、上昇端で９０度旋回させた後に降下させる。これにより、下側基板Ｂ２が補助爪６１ａ，６１ｂとテーブル１０とで挟持された状態となる。このような状態で、テーブル１０の吸引吸着配管１７を用いて下側基板Ｂ２のテーブル１０への真空吸着が行われる。ここで、補助爪６１ａ，６１ｂとテーブル１０とによって下側基板Ｂ２を挟持するのは、真空チャンバ１４内の減圧を進める過程で、テーブル１０と下側基板Ｂ２との間に残っている微量な空気が放出される際に、下側基板Ｂ２がテーブル１０に対して動かないようにするためである。
【００４０】
上記の下側基板Ｂ２のテーブル１０への真空吸着後、加圧板１５とテーブル１０との間の高さで待機していた保持爪４１ａ，４１ｂを水平移動させ、保持爪４１ａが加圧板１５に吸引吸着されている上側基板Ｂ１の下面に接触するまで、保持爪４１ａ，４１ｂを上昇させる。尚、上側基板Ｂ１は加圧板１５に水平に吸着されており、且つ保持爪４１ｂが保持爪４１ａより距離ｄだけ下方に位置しているため、この時点では保持爪４１ｂは上側基板Ｂ１の下面には接触していない状態である。
【００４１】
上記上側基板Ｂ１と保持爪４１ａとの接触後、加圧板１５の３箇所の吸引吸着エリアのうち両側の吸引吸着孔１８ａ，１８ｃを真空破壊し、中間部の吸着孔１８ｂのみを吸引吸着した状態にする。これによって、上側基板Ｂ１が自重により撓み、上側基板Ｂ１の両端部が垂下した状態、即ち保持爪４１ａを結んだ所を中心とした上に凸の形状となり、この結果、図４の点線で示したように、上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６側の辺縁が保持爪４１ｂ上に載るようになる。このような状態になった後、加圧板１５における中央の吸引吸着１８ｂを真空破壊する。
【００４２】
以上の工程の後に、配管２０に接続した真空ポンプを用いて真空チャンバ１４内の排気を開始し、真空チャンバ１４内を減圧する。減圧開始後、真空チャンバ１４内の真空状態が所望の真空度に到達したら、加圧板１５と上側基板Ｂ１との静電吸着、及びテーブル１０と下側基板Ｂ２との静電吸着を行う。ここで、下側基板Ｂ２はテーブル１０上に直に搭載されているので吸引吸着から静電吸着に切り替えることでそのままテーブル１０上に固定される。
【００４３】
一方、上側基板Ｂ１は保持爪４１ａ，４１ｂによって上に凸の形状になっているため、加圧板１５の静電吸着を働かせただけでは上側基板Ｂ１を加圧板１５に水平に吸着させることはできない。そこで、まず中間部の静電チャック１５ｂを動作させ基板中間部の静電吸着を行う。次に、ゲートバルブ１６側の補助爪６１ａを上昇させ、保持爪４１ｂで撓みを抑えていた上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６側の垂れている部分を持ち上げる。こうして補助爪６１ａによって、静電吸着力が働く距離まで上側基板Ｂ１の垂れている部分を加圧板１５に近付け、しかる後に静電チャック１５ａに電圧を印加すると、上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６側を加圧板１５に、静電吸着によって固定保持することができる。この後、上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６と反対側の垂れている部分についても上記と同様に、補助爪６１ｂを上昇させ静電吸着力が働く距離まで近付けた状態で静電チャック１５ｃに電圧を掛け、加圧板１５に静電吸着させることで、上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６と反対側の垂れている部分を加圧板１５に静電吸着させることができる。以上のようにして、上側基板Ｂ１を加圧板１５に水平に静電吸着させることができる。
【００４４】
ここで、上記上側基板の静電吸着工程の際に、保持爪で撓みを抑えていない側の補助爪６１ｂを補助爪６１ａより先に上昇させたり、あるいは補助爪６１ａと補助爪６１ｂとを同時に加圧板１５に向けて上昇させたりすると、上側基板Ｂ１は保持爪４１ａと補助爪６１ａ，６１ｂで支えた状態になるが、この時、上に凸の形状が下に凸の撓みに逆転変形してしまう。この結果、この撓み部分から加圧板１５までの距離が遠くなり、上側基板Ｂ１を加圧板１５に水平に静電吸着させることができなくなってしまう。よって、このような逆転変形が起こらないように、まず保持爪４１ｂのある側の補助爪６１ａを上昇させる。静電チャック１５ａが上側基板Ｂ１のゲートバルブ１６側を静電吸着してしまえば、その後補助爪６１ｂで残りの側を上昇させても、上側基板Ｂ１は上記逆転変形現象を起こすことはなく、上側基板Ｂ１は加圧板１５で水平に保持されることになる。
【００４５】
尚、上記静電吸着工程では、各静電チャック１５ａ〜１５ｃへの電圧印加に順序があるが、上側基板Ｂ１が保持爪４１ａ，４１ｂによって上に凸の形状であり、且つ中間部以外の垂れている部分に静電吸着力が働かないため、静電チャック１５ｂへの電圧印加時に他の静電チャック１５ａ，１５ｃに同時に電圧を印加しても良い。
【００４６】
以上のように、上側基板Ｂ１を加圧板１５に、下側基板Ｂ２をテーブル１０にそれぞれ静電吸着した後、補助爪６１ａ，６１ｂを回転して基板の面内から退避させ、更に、保持爪４１ａ，４１ｂも水平移動させて基板から離れさせた後、待機させる。
【００４７】
この状態で電動モータ３０でＺ軸方向移動ベース２７を下降し、上側基板Ｂ１を下側基板Ｂ２に接近させる。この時、認識用カメラ２４を用いて上下各基板Ｂ１，Ｂ２につけた位置合わせマークを検出し、基板相互の位置ずれを測定する。こうして得られた測定値を基にステージ部Ｓ１を制御し、下側基板Ｂ２の位置を所望量だけ移動することによって、上側基板Ｂ１と下側基板Ｂ２とが精度良く貼り合わせられるように、上側基板Ｂ１及び下側基板Ｂ２の位置合せを行う。
【００４８】
位置合わせが終了後、Ｚ軸方向移動ベース２７を更に下降し、上側基板Ｂ１を予めシール剤が塗布されている下側基板Ｂ２に重ねる。以上のようにしてシール剤で形成された枠内に液晶を封入した基板の貼り合わせが行われる。尚、この基板の貼り合わせ後に上側基板Ｂ１と下側基板Ｂ２との相対位置がずれないよう、予め基板の膜面に光硬化性の接着剤を打点塗布しておいてもよい。
【００４９】
上記の組立工程の後、加圧板１５の静電チャック１５ａ〜１５ｃへの電圧印加を停止し、Ｚ軸方向移動ベース２７を上昇した後、テーブル１０の静電チャックへの電圧印加を停止させると共に、ベント用切換えバルブ２２を開けて真空チャンバ１４内を大気圧にする。
【００５０】
真空チャンバ１４内を大気圧にした後、ゲートバルブ１６を開け、テーブル１０の真空吸着孔１７を開放する。その後、保持爪４１ａ，４１ｂでセルを持ち上げ、図示していない移載機の基板移載ハンドをセルの下に挿入してセルを基板移載ハンド上に移載し、しかる後に基板移載ハンドを後退させることによってセルを真空チャンバ１４から取り出す。
【００５１】
ここで、上記の真空チャンバ１４内を真空状態から大気圧にする際に、真空チャンバ１４内に気流が発生し、この気流によってテーブル１０上のセルが移動することがある。このようにテーブル１０上のセルが移動してしまった場合、保持爪４１ａ，４１ｂでセルを持ち上げて基板移載ハンドに移載しようとしても、セルが保持爪４１ａ，４１ｂから外れた位置にあって持ち上げられなくなってしまう。よって、真空チャンバ１４内の大気解放の際には、退避してあった補助爪６１ａ，６１ｂとテーブル１０とによりセルを軽く挟持し、セルが移動しないようにしておくと良い。
【００５２】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の基板組立方法及び基板組立装置によれば、基板寸法が大型化し、更には薄板化しても、基板にひずみを残すことなく、寿命の長い基板を確実に組み立てることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す基板組立装置の構成を示す概略図である。
【図２】図１に示した基板組立装置における真空チャンバ部の上面図である。
【図３】図２で示した真空チャンバ部における保持爪機構部の構成を示す要部拡大図である。
【図４】図２で示した真空チャンバ部におけるテーブル，加圧板及び補助爪機構部の構成を示す図である。
【符号の説明】
１００…基板組立装置、Ｓ１…ステージ部、Ｓ２…基板組立部、Ｓ３…Ｚ軸方向移動ステージ部、Ｂ１…上側基板、Ｂ２…下側基板、１０…テーブル（下側のテーブル）、１４…真空チャンバ、１５…加圧板（上側のテーブル）、１５ａ〜１５ｃ…静電チャック、１８ａ〜１８ｃ…吸引吸着孔、１６…ゲートバルブ、４０…保持爪機構部、４１ａ，４１ｂ…保持爪、６０…補助爪機構部、６１ａ，６１ｂ…補助爪。
Claims (6)
- 貼り合わせる一方の基板を真空チャンバ内の下側へ配設したテーブルに載置すると共に、該一方の基板と貼り合わせる他方の基板を前記テーブルの基板載置面と対向して配設した真空チャンバ内の加圧板に静電吸着によって保持し、該各基板を、真空中で間隔を狭め且つ当該各基板のいずれかに設けた接着剤により貼り合わせる基板の組立方法において、
大気下で該他方の基板をその上面が外側となる円筒面形の弓そりとし、該上面の中間部を減圧下において前記加圧板で静電吸着により保持し、該他方の基板の自由端となっている一方の辺部を前記加圧板で静電吸着により保持してから、該他方の基板の自由端となっている残りの辺部を前記加圧板で静電吸着により保持して前記加圧板で静電吸着により他方の基板をその全面で保持し前記一方の基板と対向させることを特徴とする基板の組立方法。 - 貼り合わせる一方の基板を真空チャンバ内の下側へ配設したテーブルに載置すると共に、該一方の基板と貼り合わせる他方の基板を前記テーブルの基板載置面と対向して配設した真空チャンバ内の加圧板に静電吸着によって保持し、該各基板を、真空中で間隔を狭め且つ当該各基板のいずれかに設けた接着剤により貼り合わせる基板の組立方法において、
大気下において他方の基板を前記加圧板で吸引吸着により他方の基板をその全面で保持し、他方の基板を一組の対辺の中間部を機械的に保持し、残りの対辺側の吸引吸着を解除してその各辺側を自由端としてから、該一組の対辺の両中間部に掛けての吸引吸着を解除し、真空チャンバの真空化を進め、所望の真空度のところで前記加圧板に静電吸着の電圧を印加して他方の基板を該一組の対辺の両中間部に掛けて前記加圧板で静電吸着で保持し、自由端となっている残りの対辺側における各辺側を順次前記加圧板に静電吸着で保持させることで前記加圧板で静電吸着により他方の基板をその全面で保持し一方の基板と対向させることを特徴とする基板の組立方法。 - 請求項２に記載の基板の組立方法において、他方の基板の一組の対辺の自由端となっている一方の端部を機械的に保持している中間部の位置よりも下の位置で機械的に保持してから該一組の対辺の両中間部に掛けての吸引吸着を解除することを特徴とする基板の組立方法。
- 請求項１又は請求項２に記載の基板の組立方法において、他方の基板の自由端となっている各辺部は前記加圧板における静電吸着力が及ぶ位置まで上昇させて前記加圧板で静電吸着させることを特徴とする基板の組立方法
- 貼り合わせる一方の基板を真空チャンバ内の下側へ配設したテーブルに載置すると共に、該一方の基板と貼り合わせる他方の基板を前記テーブルの基板載置面と対向して配設した真空チャンバ内の加圧板に静電吸着によって保持し、該各基板を、真空中で間隔を狭め且つ当該各基板のいずれかに設けた接着剤により貼り合わせる基板の組立装置において、
大気下において前記加圧板で吸引吸着により他方の基板をその全面で保持する手段と、
該他方の基板における一組の対辺の中間部を機械的に保持する手段と、
該他方の基板における残りの対辺側の吸引吸着を解除してその各辺側を自由端としてから該一組の対辺の両中間部に掛けての吸引吸着を解除する手段と、
真空チャンバが所望の真空度になったところで前記加圧板に静電吸着の電圧を印加する手段と、
該一組の対辺の両中間部に掛けて前記加圧板で静電吸着で保持した該他方の基板の自由端となっている残りの対辺側における各辺側を、順次前記加圧板に静電吸着で保持させることで前記加圧板で静電吸着により他方の基板をその全面で保持させる手段と、
を有することを特徴とする基板の組立装置。 - 請求項５に記載の基板の組立装置において、前記加圧板は、該他方の基板における該一組の対辺の両中間部に掛けての領域を吸引吸着する手段とが領域から該他方の基板における残りの各対辺に掛けての領域を個別に吸引吸着する手段を備えていることを特徴とする基板の組立装置。
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