JP3566166B2 - ツール位置測定方法、オフセット測定方法、基準部材およびボンディング装置 - Google Patents

ツール位置測定方法、オフセット測定方法、基準部材およびボンディング装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体デバイス組立装置などの処理装置において、処理対象を処理するツールの位置を精度よく測定するためのツール位置測定方法、およびこれと関連するオフセット測定方法、基準部材およびボンディング装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
以下、一例としてワイヤボンディング装置について説明する。XYテーブル上に搭載されたボンディングヘッドには、半導体デバイスなどのボンディング部品上のボンディング点を特定するためにボンディング部品上の基準パターンを撮像する位置検出用カメラと、ボンディングを行うツールが一端に取り付けられたボンディングアームとが設けられている。そして、位置検出用カメラがボンディング部品上の基準パターンを撮像する際に、ツールおよびボンディングアームが位置検出用カメラの視野の妨げにならないように、位置検出用カメラの光軸とツールの軸心とは一定距離ずらしてボンディングヘッドに組付けられている。一般に、位置検出用カメラの光軸とツールの軸心との距離をオフセットと呼んでいる。
【0003】
位置検出用カメラはツールを移動させる位置を知るための基準点を求めるものであるから、位置検出用カメラがツールからどれだけオフセットされているかを知ることは非常に重要である。しかし、実際のオフセット量は、高温のボンディングステージからの輻射熱によるカメラホルダやボンディングアームの変形により刻々変化するため、ボンディング作業の開始の際や作業の合間の適宜のタイミングで、オフセット量を較正する必要がある。
【0004】
この目的から従来、ボンディング範囲内の適当な場所にツールにより圧痕をつけ、その圧痕の位置を位置検出用カメラで検出することにより、ツールの位置を検出し、これに基づいてオフセット量を較正する方法が提案されている(例えば、特開昭59−69939号公報)。この方法では、位置検出用カメラからの光電変換された画像データに所定の画像処理を施すことにより圧痕の中心の座標を求め、これに基づいてオフセット量を算出している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、この従来の構成では、ツールの圧痕は必ずしも明瞭でない上、画像処理に適した専用のパターンとは異なり個々の圧痕の形状は互いに異なるため、検出が必ずしも正確でないという問題点があった。
【0006】
本発明は上記課題を解決すべくなされたものであって、その目的は、ツールの位置の検出を正確に実行できる新規な手段を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
の本発明は、処理対象を撮像する位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられ前記処理対象に処理作用を行うツールとを備えた処理装置におけるオフセット測定方法であって、前記位置検出用撮像器を定位置に配置された基準部材に対向させた第一の姿勢において前記位置検出用撮像器と前記基準部材との位置関係を前記位置検出用撮像器で測定するステップと、前記ツールを前記基準部材に対向させた第二の姿勢において前記ツールを前記基準部材に近接させて前記ツールと前記基準部材との当接を前記ツール側から検出することにより前記ツールと前記基準部材との位置関係を測定するステップと、これら測定結果と前記第一の姿勢と第二の姿勢との間における前記位置検出用撮像器および前記ツールの移動量とに基づいてオフセット量を求めるステップと、を含むことを特徴とするオフセット測定方法である。
【0010】
の本発明では、位置検出用撮像器を基準部材に対向させた第一の姿勢において位置検出用撮像器と基準部材との位置関係を位置検出用撮像器で測定し、他方、ツールを基準部材に対向させた第二の姿勢においてツールを基準部材に近接させてツールと基準部材との当接をツール側から検出することによりツールと基準部材との位置関係を測定する。そして、これら測定結果と、第一の姿勢と第二の姿勢との間における位置検出用撮像器およびツールの移動量とに基づいて、オフセット量を求める。なお、第一の姿勢における測定と第二の姿勢における測定との順番は、どちらが先であってもよい。第1の本発明では、第一の姿勢におけるツールと基準部材との位置関係の測定を、ツールを基準部材に近接させてツールと基準部材との当接をツール側から検出することにより実行することとしたので、従来の圧痕の測定による場合に比して、ツールの位置を明瞭かつ正確に求めることが可能となる。なお基準部材はそれ専用に設けられたものでも、既存の部材の一部を基準部材として利用してもよく、また処理対象を基準部材として用いてもよい。
【0011】
の本発明は、第の本発明のオフセット測定方法であって、前記第二の姿勢において、前記ツールと前記基準部材とは、位置検出に係る座標軸方向に近接することを特徴とするオフセット測定方法である。
【0012】
の本発明では、第二の姿勢において、ツールと基準部材とが、位置検出に係る座標軸方向に近接するので、第1の本発明と同様の効果を得ることができる。
【0013】
の本発明は、第または第の本発明のオフセット測定方法であって、前記ツールと前記基準部材との当接の検出を、前記ツールに印加する振動の変化に基づいて実行することを特徴とするオフセット測定方法である。
【0014】
の本発明では、ツールと基準部材との当接の検出を、ツールに印加する振動の変化に基づいて実行するので、とくにツールと処理対象との当接の検出をツールに印加する振動の変化に基づいて実行するような装置において、本発明の方法を容易に適用することができる。
【0015】
の本発明は、位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられたツールと、を備えた処理装置で処理される処理対象を保持するクランプ部材であって、第1の発明のオフセット測定方法に用いられる基準部材を有することを特徴とするクランプ部材である。の本発明では、第1の本発明と同様の効果を得ることができる。
【0020】
の本発明は、ボンディング部品を撮像する位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられ前記ボンディング部品を処理するツールと、を備えたボンディング装置において、前記位置検出用撮像器を定位置に設置された基準部材に近接させた第一の姿勢において前記位置検出用撮像器と前記基準部材との位置関係を前記位置検出用撮像器で測定した測定値と、前記ツールを前記基準部材に近接させた第二の姿勢において前記ツールと前記基準部材との当接を検出することにより前記ツールと前記基準部材との位置関係を測定した測定値と、これらの測定結果と前記第一の姿勢と第二の姿勢との間における前記位置検出用撮像器および前記ツールの移動量と、に基づいてオフセット量を求める演算制御装置を備えたボンディング装置である。第の本発明では、第の本発明と同様の効果を得ることができる。
【0021】
の本発明は、ボンディング部品を撮像する位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられ前記ボンディング部品を処理するツールと、前記位置検出用撮像器と前記ツールとを一体的に移動させるXYテーブルと、前記ツールに印加された超音波振動の変化に基づいて前記ツールと前記ボンディング部品との当接を検出する検出手段とを備えたボンディング装置において、前記位置検出用撮像器を前記XYテーブルにより定位置に設置された基準部材に近接させた第一の姿勢において前記位置検出用撮像器と前記基準部材との位置関係を前記位置検出用撮像器で測定した測定値と、前記ツールを前記XYテーブルにより前記基準部材に近接させた第二の姿勢において前記ツールに印加された超音波振動の変化に基づいて前記ツールと前記基準部材との当接を前記検出手段で検出することにより前記ツールと前記基準部材との位置関係を測定した測定値と、これらの測定結果と前記第一の姿勢と第二の姿勢との間における前記XYテーブルの移動量と、に基づいてオフセット量を求める演算制御装置を備えたボンディング装置である。第の本発明では、第および第の本発明と同様の効果を得ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を以下に図面に従って説明する。図1は本発明の実施形態に係るワイヤボンダを示す。図示のように、XYテーブル1に搭載されたボンディングヘッド2にはボンディングアーム3が設けられ、ボンディングアーム3は図示しない上下駆動手段で上下方向(すなわち、本発明における処理作用方向であるZ方向)に駆動される。ボンディングアーム3の先端部にはツール4が取り付けられ、ツール4にはワイヤ5が挿通されている。またボンディングヘッド2にはカメラホルダ6が固定されており、カメラホルダ6の先端部には、電荷結合素子(CCD)を備えた光電変換式の撮像器である位置検出用カメラ7が固定されている。位置検出用カメラ7の光軸7a、およびツール4の軸心4aはいずれも垂直に下方、すなわちZ方向に向かっている。光軸7aと軸心4aはXY方向にオフセット量Xt、Ytだけオフセットされている。XYテーブル1は、その近傍に設置された図示しない2個のパルスモータによりX方向およびY方向に正確に移動できるように構成されており、これにより位置検出用カメラ7とツール4とが、オフセット量を維持したまま、一体的にX方向およびY方向に移動する。これらは周知の構造である。
【0023】
処理対象である半導体チップ57は、図示しないリードフレームの表面に固着保持されている。このリードフレームを搬送するためにリードフレーム搬送用レール32が設けられており、リードフレーム搬送用レール32の上にはウインドウクランパ55が跨設されている。リードフレームの下面側には、半導体チップ57を加熱すべきヒータが内蔵された図示しない治具が配置されており、この治具は、適宜の駆動機構(図示せず)により昇降自在に構成されている。なお、ウインドウクランパ55にもこれを昇降するための適宜の駆動機構(図示せず)が設けられており、両者の昇降によって、ボンディング作業中にウインドウクランパ55と治具との間でリードフレームがクランプされるように構成されている。
【0024】
ウインドウクランパ55には、半導体チップ57およびその周囲のリードフレームを上方に覗かせるための窓59が形成され、また、窓59の近傍には、鉛直方向の通孔である基準穴30が形成されている。図2に示すように、基準穴30の口縁は長方形をなしており、その図中縦方向の辺30a,30bおよび横方向の辺30c,30dは、それぞれツール4の位置検出に係る座標軸方向であるY軸およびX軸と平行をなしている。
【0025】
図3に示すように、ボンディングアーム3の基部には、ボンディング作業の際にツール4に超音波振動を印加するための超音波トランスデューサ27が内蔵されている。この超音波トランスデューサ27は、電歪素子(圧電素子)と電極とを複数組交互に積層してなるものである。この超音波トランスデューサ27は、半導体チップ57のボンディング部に対しボンディングアーム3とツール4を介して超音波振動を与え、これとツール4からの荷重とによりボンディング作用を行うためのものである。超音波トランスデューサ27にはこれに交番電流を印加するためのUS駆動装置25と、電流値を検出するための信号検出装置26とが接続されている。信号検出装置26は、ツール4と半導体チップ57との当接があった場合のツール4の振動の変化に伴う電流変化に基づいて、ツール4の荷重を調節するためのものであり、この種のワイヤボンダに通常用いられているものと略同様の構成を有する。
【0026】
XYテーブル1は、コンピュータからなる演算制御装置20の指令によりXYテーブル制御装置21を介して駆動される。位置検出用カメラ7により撮像した画像は、電気信号に変換されて画像処理装置22により処理され、これを利用して演算制御装置20によって後述する方法で正確なオフセット量Xt、Ytが算出される。メモリ23には予めオフセット量Xw、Ywが記憶されている。なお、図中24は入出力装置を示す。
【0027】
ここで、正確なオフセット量Xt、Ytとメモリ23に予め記憶されたオフセット量Xw、Ywとの差、すなわちオフセット較正量をΔX、ΔYとすると、これら正確なオフセット量Xt、Yt、予め記憶されたオフセット量Xw、Yw、およびオフセット較正量ΔX、ΔYは数1の関係になる。
【0028】
【数1】
Xt=Xw+ΔX
Yt=Yw+ΔY
次に、オフセット量Xt、Ytの算出方法を説明する。まず、図4中点線で示すように、位置検出用カメラ7を基準穴30の上方に移動させる。この時点で位置検出用カメラ7の光軸7aと、基準穴30の中心30aとが一致する必要はない。そして、この状態で基準穴30を撮影し、その画像に適宜の画像処理を施すことにより、基準穴30の軸心30aと、位置検出用カメラ7の光軸7aとのずれ量ΔX、ΔYを算出する。なお、この撮影の際の姿勢が本発明における第一の姿勢である。
【0029】
このようにして位置検出用カメラ7と基準穴30との位置関係すなわちΔX、ΔYが測定されると、演算制御装置20は、XYテーブル制御装置21を介してXYテーブル1を駆動し、位置検出用カメラ7を(−ΔX,−ΔY)だけ移動させる。これにより、図5において点線で示すように、位置検出用カメラ7の光軸7aは基準穴30の中心30aに一致させられる。
【0030】
次に演算制御装置20は、メモリ23に予め記憶されたオフセット量Xw、Ywにより、XYテーブル制御装置21を介してXYテーブル1を駆動し、位置検出用カメラ7およびツール4を(Xw,Yw)だけ移動させる。さらに、ツール4を下降させて、ツール4の先端を、図5において実線で示すように基準穴30の上縁内に挿入する。
【0031】
そして、US駆動装置25により超音波トランスデューサ27を駆動し、ツール4に超音波振動を印加した状態で、XYテーブル1の駆動によりツール4を一定の小さい速度、例えば0.1μmピッチ×毎秒数ピッチ程度の速度で、X方向に移動させる。ここでツール4が基準穴30の口縁に触れるまでの間は、ツール4は外力の影響を受けないので、超音波トランスデューサ27に印加される電流の波形に変化はない。しかしツール4が基準穴30の口縁に触れると、この接触に伴って超音波振動が拘束されるため、超音波トランスデューサ27におけるインピーダンスと位相との変化が生じる。このインピーダンスと位相との変化が信号検出装置26から演算制御装置20に入力されると、演算制御装置20では、変化が所定の基準値を超えた場合に、ツール4と基準穴30の口縁とが当接したものと判断し、ツール4の移動を停止すると共に、当接時点でのツール4の移動量をメモリ23に記録する。
【0032】
次に、ツール4を同速度で−X方向に駆動し、基準穴30の逆側の口縁に当接させて、当接時点でのツール4の移動量を記録する。
【0033】
そして、移動開始点を基準としたX方向の移動量と、同じく移動開始点を基準とした−X方向の移動の際の移動量との平均値、すなわち基準穴30の中心30aのX座標を算出し、この中心30aのX座標と、X方向移動前のツール4の位置座標との差を、ずれ量ΔXとして記録する。なお、このツール4と基準穴30との当接を検出する際の姿勢が、本発明における第二の姿勢である。
【0034】
同様に、Y方向および−Y方向の移動および測定を行い、これにより基準穴30の中心30aのY座標を算出し、この中心30aのY座標と、Y方向移動前のツール4の位置座標との差を、ずれ量ΔYとして記録する。
【0035】
もし、予め記憶されたオフセット量Xw、Ywが正確なオフセット量Xt、Ytであれば、ΔX,ΔY(図4参照)はΔX,ΔYに一致するので、オフセット較正量ΔX、ΔYは0となる筈である。しかし、予め記憶されたオフセット量Xw、Ywが大体の値であった場合、また熱的影響によるカメラホルダ6やボンディングアーム3の変形などによりオフセット量Xt、Ytが変化した場合には、ΔX,ΔYはΔX,ΔYに一致せず、両者の誤差としてオフセット較正量ΔX、ΔYが生じる。そして数1により、このオフセット較正量ΔX、ΔYを予め記憶されたオフセット量Xw、Ywに加算して、正確なオフセット量Xt、Ytを算出し、メモリ23に記憶されたオフセット量Xw、Ywを正確なオフセット量Xt、Ytに補正(更新)する。このようにして求められたオフセット量Xw、Ywは、以後のボンディング作業において位置検出用カメラ7とツール4のオフセット量として用いられる。
【0036】
このように、本実施形態では、ツール4を、所定位置に配置された基準穴30にツール4の処理作用方向すなわち略鉛直方向(Z方向)に対し交差する方向である水平方向(XY方向)に近接させ、ツール4と基準穴30との当接をツール4側から検出することにより、ツール4と基準穴30との位置関係を測定する。すなわち、ツール4と基準穴30との位置関係の測定を、ツール4を基準穴30に近接させた場合のツール4と基準穴30との当接により実行することとしたので、従来の圧痕の測定による場合に比して、ツール4の位置を明瞭かつ正確に求めることが可能となる。
【0037】
また、本実施形態では、ツール4と基準穴30との当接の検出を、ツール4に印加する超音波振動の変化に基づいて実行するので、とくにツール4と半導体チップ57との当接の検出をツール4に印加する振動の変化に基づいて実行するような装置において、本発明の方法を容易に適用することができる。
【0038】
また本実施形態では、半導体チップ57を保持するウインドウクランパ55に基準穴30を形成することとしたので、その構成がきわめて簡易である上、基準穴30を半導体チップ57に近接して配置でき、処理作業とオフセット補正作業との間におけるツール4の移動量をきわめて小さくすることができる。
【0039】
また本実施形態では、基準穴30の口縁はツール4の位置検出に係る座標軸方向すなわちX方向およびY方向に沿った辺30a,30b,30c,30dを有することとしたので、位置検出作業における位置情報の位置座標への変換処理をきわめて容易に実行することができる。
【0040】
なお、本実施形態では、第一の姿勢において位置検出用カメラ7と基準穴30との位置関係を測定してから、第二の姿勢においてツール4と基準穴30との位置関係を測定する構成としたが、第一の姿勢における測定と第二の姿勢における測定との順番は、どちらが先であってもよい。
【0041】
また、本実施形態では、第一の姿勢において位置検出用カメラ7と基準穴30との位置関係を測定してから、いったん位置検出用カメラ7の光軸7aと基準穴30の中心30aとを一致させ、この状態から位置検出用カメラ7とツール4とを予め記憶されたオフセット量Xw、Ywだけ移動させる構成としたが、かかる構成に代えて、第一の姿勢において位置検出用カメラ7と基準穴30との位置関係を測定してから、すぐに位置検出用カメラ7とツール4とを予め記憶されたオフセット量Xw、Ywだけ移動させる構成としてもよい。この場合には、測定値ΔX、ΔYと測定値ΔX、ΔYとを用いて、数2によりオフセット較正量ΔX、ΔYを算出し、このようにして算出されたオフセット較正量ΔX、ΔYを用いて数1の演算を行い、正確なオフセット量を算出すればよいことになる。
【0042】
【数2】
ΔX=ΔX−ΔX
ΔY=ΔY−ΔY
また、本実施形態では基準部材としてウインドウクランパ55に設けた基準穴30を用いたが、本発明における基準部材はウインドウクランパ55以外のどのような場所に設けてもよい。また基準部材としての基準穴30を矩形の通孔としたが、本発明における基準部材の形状は矩形でなく三角形や円形でもよく、また通孔でなく有底の穴(凹部)でもよく、さらには平面上に形成されたボス状・畝状ないし柱状の突起であってもよい。また、図6に示すように、ウインドウクランパ55の窓59の口縁から内側に突出した基準突起40の外縁に、ツール4を水平方向の各向きから順次当接させることによって、ツール4と基準突起40との位置関係を検出してもよい。さらに、ツール4の尖端部の傾斜面を利用するか、あるいは基準部材の口縁を鉛直面でなく傾斜面に形成すれば、ツール4の鉛直方向の下降に伴いツール4と基準部材との位置関係に応じて異なるツール4の高さ位置でツール4と基準部材とが当接するから、これによりツール4と基準部材との位置関係を測定することができる。
【0043】
さらに、本実施形態では基準部材としてそれ専用に設けられた基準穴30を用いたが、本発明における基準部材はこのような構成に限られず、既存の部材の一部、例えばウインドウクランパ55の窓59の口縁の任意の部分を基準部材として利用でき、また処理対象である半導体チップ57の外縁を基準部材として用いてもよい。
【0044】
また、上記実施形態では基準穴30の画像にその外形を基準とした画像処理を施すことによりその位置を検出する構成としたが、かかる構成に代えて、基準穴30の近傍に画像処理に適した基準パターンを印刷、刻設ないし突設し、これを基準とした画像処理により位置検出用カメラ7と基準穴30との位置関係を測定する構成としてもよい。
【0045】
また、上記実施形態では位置検出用撮像器としてカメラを用いたが、本発明における位置検出用撮像器はラインセンサなどの光を検出しうる他の構成であってもよく、さらに撮像器に代えて、基準部材の位置を検出できる他のどのような非接触式または接触式の検出器を採用してもよい。また上記実施形態では、本発明をワイヤボンディング装置に適用した場合について説明したが、本発明をダイボンディング装置、テープボンディング装置、フリップチップボンディング装置などの他の各種のボンディング装置に適用できることは勿論であり、さらには撮像器とツールとがオフセットされた他のあらゆる処理装置においても適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係るボンディング装置の要部を示す斜視図である。
【図2】第1実施形態におけるウインドウクランパを示す平面図である。
【図3】制御系を示すブロック図である。
【図4】オフセット補正におけるツール、位置検出用カメラおよび基準穴の配置状態を示す平面図である。
【図5】オフセット補正の要部を示す平面図である。
【図6】ウインドウクランパの他の構成例を示す平面図である。
【符号の説明】
1 XYテーブル、2 ボンディングヘッド、3 ボンディングアーム、4 ツール、4a 軸心、7 位置検出用カメラ、7a 光軸、30 基準穴、30a 中心、40 基準突起、55 ウインドウクランパ、57 半導体チップ、59 窓。

Claims (6)

  1. 処理対象を撮像する位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられ前記処理対象に処理作用を行うツールとを備えた処理装置におけるオフセット測定方法であって、
    前記位置検出用撮像器を定位置に配置された基準部材に対向させた第一の姿勢において前記位置検出用撮像器と前記基準部材との位置関係を前記位置検出用撮像器で測定するステップと、
    前記ツールを前記基準部材に対向させた第二の姿勢において前記ツールを前記基準部材に近接させて前記ツールと前記基準部材との当接を前記ツール側から検出することにより前記ツールと前記基準部材との位置関係を測定するステップと、
    これら測定結果と前記第一の姿勢と第二の姿勢との間における前記位置検出用撮像器および前記ツールの移動量とに基づいてオフセット量を求めるステップと、を含むことを特徴とするオフセット測定方法。
  2. 請求項に記載のオフセット測定方法であって、
    前記第二の姿勢において、前記ツールと前記基準部材とは、位置検出に係る座標軸方向に近接することを特徴とするオフセット測定方法。
  3. 請求項またはに記載のオフセット測定方法であって、
    前記ツールと前記基準部材との当接の検出を、前記ツールに印加する振動の変化に基づいて実行することを特徴とするオフセット測定方法。
  4. 位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられたツールと、を備えた処理装置で処理される処理対象を保持するクランプ部材であって、
    請求項1に記載のオフセット測定方法に用いられる基準部材を有することを特徴とするクランプ部材。
  5. ボンディング部品を撮像する位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられ前記ボンディング部品を処理するツールと、を備えたボンディング装置において、
    前記位置検出用撮像器を定位置に設置された基準部材に近接させた第一の姿勢において前記位置検出用撮像器と前記基準部材との位置関係を前記位置検出用撮像器で測定した測定値と、
    前記ツールを前記基準部材に近接させた第二の姿勢において前記ツールと前記基準部材との当接を検出することにより前記ツールと前記基準部材との位置関係を測定した測定値と、
    これらの測定結果と前記第一の姿勢と第二の姿勢との間における前記位置検出用撮像器および前記ツールの移動量と、
    に基づいてオフセット量を求める演算制御装置を備えたボンディング装置。
  6. ボンディング部品を撮像する位置検出用撮像器と、当該位置検出用撮像器に対しオフセットして設けられ前記ボンディング部品を処理するツールと、前記位置検出用撮像器と前記ツールとを一体的に移動させるXYテーブルと、前記ツールに印加された超音波振動の変化に基づいて前記ツールと前記ボンディング部品との当接を検出する検出手段とを備えたボンディング装置において、
    前記位置検出用撮像器を前記XYテーブルにより定位置に設置された基準部材に近接させた第一の姿勢において前記位置検出用撮像器と前記基準部材との位置関係を前記位置検出用撮像器で測定した測定値と、
    前記ツールを前記XYテーブルにより前記基準部材に近接させた第二の姿勢において前記ツールに印加された超音波振動の変化に基づいて前記ツールと前記基準部材との当接を前記検出手段で検出することにより前記ツールと前記基準部材との位置関係を測定した測定値と、
    これらの測定結果と前記第一の姿勢と第二の姿勢との間における前記XYテーブルの移動量と、
    に基づいてオフセット量を求める演算制御装置を備えたボンディング装置。
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