JP3551048B2 - 超純水製造装置の運転方法及び超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置の運転方法及び超純水製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3551048B2 JP3551048B2 JP34405598A JP34405598A JP3551048B2 JP 3551048 B2 JP3551048 B2 JP 3551048B2 JP 34405598 A JP34405598 A JP 34405598A JP 34405598 A JP34405598 A JP 34405598A JP 3551048 B2 JP3551048 B2 JP 3551048B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- hydrogen
- ppb
- ultrapure water
- catalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、より高純度化された超純水水質、即ち、TOC 0.5ppb 以下を満足させる超純水製造装置の運転方法及び超純水製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の超純水製造装置に要求される水質として、DO 5ppb(μg/L)以下(時々 1ppb以下)、TOC 2ppb以下が主体であった。
この超純水製造装置は、前処理装置、一次純水製造装置、サブシステムからなり、その一連の構成単位装置として、水中の塩類を除去するためのイオン交換樹脂純水装置(IE)又は逆浸透膜脱塩装置(RO)等の脱塩装置、溶存酸素(DO)を除去するための真空脱気装置、窒素脱気装置、膜脱気装置等の脱気装置、触媒充填脱酸素装置等の脱酸素装置、及びTOCの一部を酸化分解するためのUV酸化装置などが配置されている。そして、触媒充填脱酸素装置の入口では、被処理水のDO濃度に応じて(通常被処理水のDO値の理論当量の 1.5倍量程度に相当する)水素を供給して貴金属触媒と接触させて脱酸素処理している。その結果、触媒充填脱酸素装置出口のDOは5ppb 以下(ケースによっては1ppb 以下)に処理できるが、過剰の水素が後置システムにリーク(リークした溶存水素濃度は20〜2000ppb である)し、サブシステムにほぼそのまま流入していく。サブシステム内でも安定に運転されていれば、この濃度は大幅に変動することなく維持され、UV酸化装置入口での濃度も20〜2000ppb のままであるが、最終限外ろ過装置(UF)出口のTOCは 2ppb以下を維持できる。
また、待機(回復工程)後運転切替のあるIE装置やRO装置では、イオン交換樹脂及びROが有機材でその全てが構成されているので、水浸漬状態で待機していると、これらの有機構成材からTOCが溶出し、装置内に貯め込まれた状態になり、そのまま運転(採水工程)に入ったのでは蓄積したTOCが瞬時に下流側へ流入し、超純水のTOC変化のチャートに一時的なピークを持ち、被処理水のTOCを0.1ppb程度上昇させていたが、全体のTOC 2ppb以下については維持でき、問題を生じなかった。
このように従来のDO 5ppb以下、TOC 2ppb以下の水質での超純水製造においてはUV酸化装置入口の溶存水素濃度に関わらず上述の水質が維持されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、最近の半導体製造等においては、従来よりさらに高純度化した超純水が求められており、DO 1ppb以下及びTOC 0.5ppb 以下の高水質の超純水を安定的に製造できる超純水製造装置が必要とされている。そして、前記従来の方法では、DO 1ppb以下は実現できるが、TOC 0.5ppb 以下には安定に維持できなかった。
また、前処理の凝集(アルミ系凝集剤添加量増加、pHの最適TOC除去値設定)の適正化、活性炭(AC)の交換、IE装置の運転時間の短縮等を試みたが、その何れかの実施或いは全ての実施によっても解決できなかった。
さらに、前述のように従来の水質(DO 5ppb以下、TOC 2ppb以下)では問題とならなかった待機(回復工程)後運転切替のあるIE装置やRO装置が新しく運転(採水工程)に入る場合の、一時的にTOCを上昇させる現象についても、より高純度化したDO 1ppb以下及びTOC 0.5ppb 以下の高水質の超純水製造においては大きな問題であった。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、触媒充填脱酸素装置による溶存酸素(DO)の除去を行う場合の水素の供給量に着目し、DO 1ppb以下及びTOC 0.5ppb 以下の高水質の超純水製造においては、余剰の水素が後段のUV酸化装置におけるTOC除去に多大な影響を及ぼすことを見出してなされたものである。
UV酸化装置では、H2OにUVがあたり、・OHラジカルが生成し、この ・OHラジカルがTOC分解する。UV酸化装置の入口における溶存水素濃度が高いと、これが有機物分解する前に ・OHラジカルを消費してTOC分解に寄与しなくなる。そのためTOC分解量が減り、目的のTOC 0.5ppb を維持できなくなる。そこで、余剰水素濃度を所定値(15ppb)以下に抑制することにより、UV酸化装置によるTOC除去効果を十分に発揮できるようにした。
【0005】
即ち、本発明は、脱塩装置とともに、被処理水に水素を供給して貴金属触媒と接触させて被処理水中の溶存酸素を除去する触媒充填脱酸素装置と、その下流側に設けられたUV酸化装置とを有する超純水製造装置の運転方法において、UV酸化装置に流入する被処理水の溶存水素濃度が 15ppb以下となるように、触媒充填脱酸素装置に供給する水素量を調節することを特徴とする超純水製造装置の運転方法を提案するものである。
さらに、好ましい態様は、脱塩装置に由来するTOCを極力抑制し、上記TOC除去効果と併せ得られる超純水のTOCを0.5ppb以下にする。
また、前記脱塩装置はイオン交換樹脂純水装置又は逆浸透膜装置であり、超純水製造装置を運転して超純水を得る採水工程と、脱塩装置の性能が劣化したときに脱塩装置を再生或いは洗浄する回復工程とを有し、回復工程から採水工程に復帰した際、採水工程初期の脱塩水を系外に排出することが望ましい。
【0006】
また、本発明は、前記運転方法を実施する超純水製造装置をも提案するものであり、脱塩装置とともに、被処理水に水素を供給して貴金属触媒と接触させて被処理水中の溶存酸素を除去する触媒充填脱酸素装置と、その下流側に設けられたUV酸化装置とを有する超純水製造装置において、触媒充填脱酸素装置からの流出水の溶存水素濃度を測定する溶存水素計と、該溶存水素計による溶存水素の測定値が 15ppb以下となるように触媒充填脱酸素装置に供給する水素量を調節する水素供給量調節機構と、を設けたことを特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明の超純水製造装置は、従来の装置と同様に前処理装置、一次純水製造装置、サブシステムから構成される。そして、その一連の構成単位装置として、水中の塩類を除去するための2床3塔式純水装置、4床5塔式純水装置、混床式純水装置等のイオン交換樹脂純水装置(IE)又は逆浸透膜脱塩装置(RO)等の脱塩装置、TOCの一部を酸化分解するためにUV酸化装置、DO(溶存酸素)を除去するための真空脱気装置、窒素脱気装置、膜脱気装置等の脱気装置、及び触媒充填脱酸素装置等の脱酸素装置などが配置される。
このうち触媒充填脱酸素装置は通常、一次純水装置の中に設置されることが多い。また、UV酸化装置はサブシステム(二次純水製造装置)に配置されることが多いが、一次純水装置の中に設けられるようにしても良い。そして、これら構成単位装置の配列(フロー)については特に限定するものではなくどのようにしてもよい。
【0008】
前記触媒充填脱酸素装置としては、貴金属触媒をそのままで、又は担体に担持させて充填した層を保持できる塔などを使用することができる。
上記貴金属触媒としては、金属パラジウム、酸化パラジウム、水酸化パラジウム等のパラジウム(Pd)化合物又は白金(Pt)を、アルミナ、活性炭、ゼオライト、イオン交換樹脂等の担体に担持させたものを使用することができる。この場合、担持量は外割で通常0.1〜10重量%程度である。担体としては特にアルミナ、活性炭を用いることにより、少ないパラジウム又は白金の担持量で優れた効果を発揮させることができ極めて好適である。
なお、アニオン交換樹脂にパラジウムを担持させるにはアニオン交換樹脂をカラムに充填し、次いで塩化パラジウムの酸性溶液を通水すればよい。もし金属パラジウムとして担持させるのであれば、さらにホルマリンなどを加えて還元すればよい。
貴金属触媒の形状は、粉末状、粒状、ペレット状など何れの形状でも利用できる。粉末状のものを使用する場合には、反応槽を設けてこの反応槽に適当量添加する。粒状又はペレット状のものはカラム等に充填し、DOを含んだ被処理水を連続的に処理するのに有利である。粉末状のものでも、流動床によって使用することができる。
【0009】
このような構成を有する触媒充填脱酸素装置においては、貴金属触媒により、被処理水中のDOが、加えられた水素と反応して水を生成し、除去される。
水素源としては水素ガスでもよいし、他の水素を発生する物質(例えばヒドラジン)でもよく、この触媒充填脱酸素装置の入口では、被処理水のDO濃度に応じて通常被処理水のDO値の理論当量の 1.5倍量程度に相当する水素を供給して貴金属触媒と接触させて脱酸素処理している。
【0010】
しかし、本発明者は、前記のように超純水製造装置の中で最終のTOC除去機能要素であるUV酸化装置における余剰水素(溶存水素濃度)がそのTOC分解性能に影響していることを見出した。
UV酸化装置入口における溶存水素濃度と端末の限外ろ過装置(UF)出口におけるTOC濃度の関係を図1に示す。
図1より明らかなように、超純水のTOCを0.5ppb以下にするためには、UV酸化装置入口の溶存水素濃度が15ppb 以下になるように調節しなければならないことがわかった。このためには触媒充填脱酸素装置からの流出水の溶存水素濃度を15ppb 以下に調節する必要がある。
【0011】
触媒充填脱酸素装置からの流出水の溶存水素濃度を15ppb 以下に調節する方法としては、触媒充填脱酸素装置出口に溶存水素計を設置し、ここの信号と触媒充填脱酸素装置入口の水素注入ラインのマスフローコントローラとを連動させて水素注入量を調節する(水素供給量調節機構を用いる)方法と、触媒充填脱酸素装置出口に溶存水素計のみ設置し、この値とUF出口のDO値とTOC値をモニターさせておき、手動で触媒充填脱酸素装置入口の水素注入量をコントロールする方法がある。
【0012】
このように触媒充填脱酸素装置からの流出水の溶存水素濃度を15ppb 以下に制御するために、触媒充填脱酸素装置に供給する水素量を適宜に調節するが、最適コンロトールは2〜12ppb が望ましい。このほうがDO値の点では安全サイドとなる。
【0013】
なお、前述のように触媒充填脱酸素装置における水素注入量は、そもそも被処理水のDO濃度に応じて設定されるものであるから、その前段に他の脱気装置などを設置してDOを低下させておくことが好ましい。
このことにより、前記触媒充填脱酸素装置に供給する水素量の調整して流出水の溶存水素濃度を15ppb (望ましくは2〜12ppb )に制御し易くなる。
【0014】
また、前記のように超純水製造装置の構成要素であるIE装置やRO装置などの系列切替のある装置については、脱塩装置の性能が劣化したときに脱塩装置を再生或いは洗浄する回復工程の後、待機時間を経ることなく、或いは待機時間を経て、採水工程に復帰した際、採水工程初期の脱塩水を系外に排出することが望ましい。
【0015】
即ち、IE装置及びRO装置は常に予備系列を持ち、再生や汚染した場合の化学洗浄に備えて長期間のノンストップ運転に対応できるようになっている。IE装置の場合、再生から次の採水に入るまで1日〜6日待機しているのが普通である。一方、RO装置の場合、化学洗浄等は3ヶ月〜1年に1回が普通であり、この間はバクテリアの増殖に対応するため、1週間〜10日に一度系列切替運転するのが常である。これらを構成するイオン交換樹脂やRO膜等は有機材であるため、水浸漬状態で待機しているとこれらの有機材からTOCが溶出し、装置内に蓄積した状態になる。そして、そのまま立ち上げたのでは蓄積したTOCが瞬時に下流側へ流入し、図2に示すように超純水のTOC濃度が一時的に高くなる。即ち、TOC変化のチャートに一時的なピークを持つ。
その結果、端末のUF出口におけるTOCが0.1ppb程度上昇してしまい、結果的にTOC 0.5ppb を維持できなくなる。
【0016】
その対策として、IE装置の場合は待機後の立ち上げの循環工程で系列の保有水の2〜3倍を系外に排出することにより、そのTOCの一時的ピーク分を無くすことができる。多床塔式構成のIE装置の場合、各塔毎に系外に排出すればよい。尚、時間を限定するものではないが、概略的な目安として20〜30分系外に排出する。また、RO装置の場合は切替時に数秒ダンプされるがこれでは不十分であり、脱塩水を上記IE装置と同様に20〜30分系外に排出する。系外に排出した脱塩水は、冷却塔その他に利用することができる。このことにより、超純水のTOCピークカットができ、TOC 0.5ppb 以下を維持することができる。
【0017】
【実施例】
〔実施例1〕
図3(a)に示すシステム構成を有する超純水製造装置を構築し、市水を被処理水とする超純水製造を行った。また、IE及びROの切替に際してはそれぞれ約30分系外排出した後、切替を行った。そして、UF出口におけるTOC濃度の変化を測定し、その結果を図4に示した。IEの切替は黒矢印にて、ROの切替は白矢印にて示した。
なお、UV酸化装置入口における水素濃度の変化も図4に併記した。
【0018】
〔比較例1〕
図3(b)に示すように、前記実施例1の超純水製造装置〔図3(a)〕における溶存水素計及び水素供給量調節機構を設けない以外は全く同様に超純水製造装置を構築し、市水を被処理水とする超純水製造を行った。また、IE及びROの切替に際しては系外排出を行わなかった。そして、UF出口におけるTOC濃度の変化を測定し、その結果を図5に示した。IEの切替は黒矢印にて、ROの切替は白矢印にて示した。
【0019】
〔考察〕
本発明の実施例1では、図4に示すようにUV酸化装置入口の水素濃度が3〜8ppb になるように調整した。そして、UF出口ではTOCが0.5ppb以上であったものを0.5ppb以下(0.31〜0.45ppb)に安定維持できた。
また、比較例1(図5)ではIE及びROの切替に際してTOC変化のチャートに一時的なピークが確認されたが、本発明の実施例1ではそのようなピークは殆ど解消できていた。
【0020】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明の超純水製造装置の運転方法によれば、UV酸化装置に流入する被処理水の溶存水素濃度をモニターし、適宜手法によりその溶存水素濃度が15ppb となるように触媒脱酸素装置に供給する水素量を調節すればよいものであって、DO 1ppb以下及びTOC 0.5ppb 以下の高水質の超純水を安定的に製造できるものである。
また、本発明の超純水製造装置は、従来の装置をそのまま利用することができるものであって、所定位置に溶存水素計と水素供給量調節機構とを設置すれば良く、極めて実用的価値が高いものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】UV酸化装置入口における溶存水素が端末UF出口におけるTOCに与える影響を示すグラフである。
【図2】RO装置待機後起動時のTOC挙動を示すグラフである。
【図3】(a)本発明の超純水製造装置の一例(実施例1)を示すフロー(流れ系統図)、(b)従来の超純水製造装置の一例(比較例1)を示すフロー(流れ系統図)である。
【図4】実施例1のUF出口におけるTOC濃度の変化を示すグラフである。
【図5】比較例1のUF出口におけるTOC濃度の変化を示すグラフである。
Claims (3)
- 脱塩装置とともに、被処理水に水素を供給して貴金属触媒と接触させて被処理水中の溶存酸素を除去する触媒充填脱酸素装置と、その下流側に設けられたUV酸化装置とを有する超純水製造装置の運転方法において、
UV酸化装置に流入する被処理水の溶存水素濃度が 15ppb以下となるように、触媒充填脱酸素装置に供給する水素量を調節することを特徴とする超純水製造装置の運転方法。 - 脱塩装置はイオン交換樹脂純水装置又は逆浸透膜装置であり、超純水製造装置を運転して超純水を得る採水工程と、脱塩装置の性能が劣化したときに脱塩装置を再生或いは洗浄する回復工程とを有し、回復工程から採水工程に復帰した際、採水工程初期の脱塩水を系外に排出することを特徴とする請求項1に記載の超純水製造装置の運転方法。
- 脱塩装置とともに、被処理水に水素を供給して貴金属触媒と接触させて被処理水中の溶存酸素を除去する触媒充填脱酸素装置と、その下流側に設けられたUV酸化装置とを有する超純水製造装置において、
触媒充填脱酸素装置からの流出水の溶存水素濃度を測定する溶存水素計と、該溶存水素計による溶存水素の測定値が 15ppb以下となるように触媒充填脱酸素装置に供給する水素量を調節する水素供給量調節機構と、を設けたことを特徴とする超純水製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34405598A JP3551048B2 (ja) | 1998-12-03 | 1998-12-03 | 超純水製造装置の運転方法及び超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34405598A JP3551048B2 (ja) | 1998-12-03 | 1998-12-03 | 超純水製造装置の運転方法及び超純水製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000167593A JP2000167593A (ja) | 2000-06-20 |
JP3551048B2 true JP3551048B2 (ja) | 2004-08-04 |
Family
ID=18366314
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34405598A Expired - Fee Related JP3551048B2 (ja) | 1998-12-03 | 1998-12-03 | 超純水製造装置の運転方法及び超純水製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3551048B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4635827B2 (ja) * | 2005-11-07 | 2011-02-23 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造方法および装置 |
JP6125244B2 (ja) * | 2013-01-25 | 2017-05-10 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造方法 |
JP2019107631A (ja) * | 2017-12-20 | 2019-07-04 | 栗田工業株式会社 | 紫外線酸化処理方法 |
JP6575626B1 (ja) * | 2018-03-23 | 2019-09-18 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
JP6562107B1 (ja) * | 2018-03-23 | 2019-08-21 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
JP6562105B1 (ja) * | 2018-03-23 | 2019-08-21 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
JP6562106B1 (ja) * | 2018-03-23 | 2019-08-21 | 栗田工業株式会社 | 水処理装置 |
WO2023176147A1 (ja) * | 2022-03-14 | 2023-09-21 | オルガノ株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
-
1998
- 1998-12-03 JP JP34405598A patent/JP3551048B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000167593A (ja) | 2000-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2000064568A1 (fr) | Appareil de production d'eau contenant de l'ozone dissous | |
KR101692212B1 (ko) | 유기물 함유수의 처리 방법 및 장치 | |
JP5617231B2 (ja) | イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置 | |
WO2005095280A1 (ja) | 超純水製造装置 | |
US20050263458A1 (en) | Process for removing organics from ultrapure water | |
JP3551048B2 (ja) | 超純水製造装置の運転方法及び超純水製造装置 | |
KR102340160B1 (ko) | 과산화수소 제거 방법 및 장치 | |
WO2018096700A1 (ja) | 超純水製造システム及び超純水製造方法 | |
JP4635827B2 (ja) | 超純水製造方法および装置 | |
JP2004261768A (ja) | 超純水製造システムおよびその運転方法 | |
CN114616212A (zh) | 纯水制造方法、纯水制造系统、超纯水制造方法及超纯水制造系统 | |
JP2000189760A (ja) | 純水製造装置 | |
JP2008119658A (ja) | 紫外線酸化装置及び有機物除去装置 | |
JPH0638953B2 (ja) | 高純度水の製造装置 | |
JP7368310B2 (ja) | ホウ素除去装置及びホウ素除去方法、並びに、純水製造装置及び純水の製造方法 | |
JP2004181364A (ja) | 超純水の製造方法及び超純水製造装置 | |
JP3966482B2 (ja) | 超純水の比抵抗調整方法及びこれを用いた純水製造装置 | |
JP2000308815A (ja) | オゾン溶解水の製造装置 | |
JP4208270B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
JP6029948B2 (ja) | 純水製造方法及び純水製造システム | |
JP3942409B2 (ja) | 沸騰水型原子力発電プラントの水処理装置 | |
CN116601120A (zh) | 超纯水制造系统以及超纯水制造方法 | |
KR101036880B1 (ko) | 폐수 재이용 장치 및 상기 폐수 재이용 장치에 의해 제조된 재이용수를 이용하는 초순수의 제조방법 | |
JP3525024B2 (ja) | 有機物含有排水処理装置 | |
JPH08173978A (ja) | 有機物の除去方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040330 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040412 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100514 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110514 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120514 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |