JP3544904B2 - はんだ、それを使用したプリント配線基板の表面処理方法及びそれを使用した電子部品の実装方法 - Google Patents
はんだ、それを使用したプリント配線基板の表面処理方法及びそれを使用した電子部品の実装方法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はＳｎ−Ａｇ−Ｃｕ系のはんだ及びそれを使用したプリント配線基板の表面処理方法及びそれを使用した電子部品の実装方法に関し、特に、はんだ付け時の銅食われの防止を図ったはんだ及びプリント配線基板の表面処理方法及び電子部品の実装方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プリント配線基板の銅回路のコーティング及びプリント配線基板のフットプリント又はスルーホールと実装部品のリードとの接合等には、６３重量％Ｓｎ−３７重量％Ｐｂ合金がはんだとして使用されていた。しかし、近時、廃棄された電子機器から溶出する鉛による環境汚染が問題となっており、電子部品製造において、Ｐｂを含有しないはんだの開発が盛んに行われている。
【０００３】
Ｐｂを含有しない鉛フリーはんだとしては、Ｓｎ−Ｃｕ系合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金及びＳｎ−Ｚｎ系合金が代表的であり、これらにＢｉ、Ｉｎ及び又はＧｅを添加したものも検討されている。
【０００４】
しかし、Ｓｎ−Ｃｕ系合金においては、共晶組成を有する９９．３重量％Ｓｎ−０．７重量％Ｃｕ合金でもその融点が２２７℃と高いため、はんだ付け時の高温にプリント配線基板及び実装される電子部品が耐えられないという欠点がある。一般に使用されているプリント配線基板の耐熱温度は２６０℃程度である。
【０００５】
また、Ｓｎ−Ｚｎ系合金においては、共晶組成を有する９１重量％Ｓｎ−９重量％Ｚｎはんだでその融点が１９９℃であり、共晶組成を有する６３重量％Ｓｎ−３７重量％Ｐｂ合金の融点１８３℃に近い。従って、融点の観点からは好ましい合金である。しかし、Ｚｎが活性な元素であるため、はんだの酸化が著しく、良好なはんだ付けの状態を得ることが困難であるという欠点がある。
【０００６】
一方、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金においては、９５．８重量％Ｓｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％Ｃｕ三元共晶合金でその融点が２１７℃となり、６３重量％Ｓｎ−３７重量％Ｐｂ合金及びＳｎ−Ｚｎ系合金のそれよりも高いものの、プリント配線基板等の耐熱性の観点からは十分低いものである。また、プリント配線基板の銅回路のコーティング及びプリント配線基板のフットプリント又はスルーホールと実装部品のリードとの接合の処理温度を２５０℃としても、良好なはんだ付け状態が得られると共に、機械的特性も良好であるため、これらの鉛フリーはんだの中では最も実用化に適している。
【０００７】
Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金は、例えば特開平２−３４２９５号公報、特開平２−１７９３８８号公報、特開平４−３３３３９１号公報、特開平６−２６９９８３号公報及び特開平１１−７７３６６号公報に開示されている。特開平２−３４２９５号公報に開示されたはんだは鉛フリーはんだの提供を目的としたものであり、特開平２−１７９３８８号公報に開示されたはんだは耐腐食性及び電気・熱伝導率の向上を目的としたものである。また、特開平４−３３３３９１号公報に開示されたはんだはクリープ特性の向上を目的としたものであり、特開平６−２６９９８３号公報に記載されたはんだはＮｉ系母材上での濡れ性の向上を目的としたものであり、特開平１１−７７３６６号公報に記載されたはんだは熱疲労強度及び接合性の向上を目的としたものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金を使用する場合には、プリント配線基板の銅回路にホットエアレベリング法でコーティングすると、プリント配線基板の銅めっき層が食われて薄くなってしまい、最悪の場合には断線に至るという問題点がある。また、フローソルダで部品をはんだ付けする場合にも、プリント配線基板の銅めっき層が食われて薄くなり、はんだ付け不良が生じることがある。
【０００９】
そこで、Ｓｎ−Ｓｂ−Ｂｉ−Ｉｎ系合金に１乃至４重量％のＣｕが添加されたはんだが提案されている（特開平１１−７７３６８号公報）。また、Ｓｎ−Ｚｎ系合金であるＳｎ−Ｚｎ−Ｎｉ系合金に１乃至３重量％のＣｕが添加されたはんだが提案されている（特開平９−９４６８８号公報）。
【００１０】
これらの公報に開示されたはんだは、いずれもＣｕの添加により銅食われを防止しようとしたものである。しかし、前者においては、その固相線温度が２０８℃、液相線温度が３４２℃であるため、融点が高すぎる。後者においては、Ｓｎ−Ｚｎ系合金であるため、前述のような酸化に関する問題点がある。
【００１１】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、高い濡れ広がり性を保持したまま銅食われを抑制することができるはんだ及びそれを使用したプリント配線基板の表面処理方法及びそれを使用した電子部品の実装方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るはんだは、Ａｇ：１．０乃至３．５重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなることを特徴とする。本発明に係る他のはんだは、Ａｇ：１．０乃至３．０重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなることを特徴とする。
【００１３】
本発明においては、微量のＮｉ及びＦｅの双方がはんだ付け時の銅食われを抑制する。また、その含有量は微量であるため、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだの共晶に近い組成となり、液相線温度は低い。更に、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだであるため、高い濡れ広がり性を確保することができる。
【００１４】
本発明に係るプリント配線基板の表面処理方法は、プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．５重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだをコーティングする工程を有することを特徴とする。本発明に係る他のプリント配線基板の表面処理方法は、プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．０重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだをコーティングする工程を有することを特徴とする。
【００１５】
本発明に係る電子部品の実装方法は、プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．５重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだを使用して電子部品をはんだ付けする工程を有することを特徴とする。本発明に係る他の電子部品の実装方法は、プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．０重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだを使用して電子部品をはんだ付けする工程を有することを特徴とする。
【００１６】
これらの方法によれば、電子部品の実装の有無に拘わらず、信頼性が高いプリント配線基板を得ることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本願発明者等が前記課題を解決すべく、鋭意実験研究を重ねた結果、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだにおいて、適当量のＮｉ及び／又はＦｅを添加することにより、液相線温度の上昇を抑制しながら銅食われを抑制することができることを見い出した。図１及び下記表１に本願発明者等がＳｎに各種元素を添加した場合の銅溶解速度を示す。銅溶解速度が高いほど、銅食われが進行しやすいことを示している。
【００１８】
【表１】
【００１９】
図１及び表１に示すように、Ｎｉ又はＦｅを添加した場合には、他の元素を添加した場合と比して極めて微量の添加で銅溶解速度が著しく減少している。一般に、共晶組成を有する合金への他の元素の添加量が増加するほど液相線温度が減少するので、Ｎｉ及び／又はＦｅを添加することにより、液相線温度の上昇を抑制しながら銅食われを抑制することができるといえる。
【００２０】
以下、本発明に係るはんだに含有される化学成分及びその組成限定理由について説明する。
【００２１】
Ａｇ：１．０乃至４．０重量％
Ａｇは、はんだ濡れ性を向上する効果を有する元素である。つまり、Ａｇを添加することにより、はんだ濡れ時間を短縮することができる。下記表２にＪＩＳＺ ３１９７の８．３．１．２項に規定されているウェッティングバランス法によりＳｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金のはんだ濡れ性を測定した結果を示す。この試験では、試験片として厚さが０．３ｍｍ、幅が５ｍｍ、長さが５０ｍｍのリン脱酸銅板を１３０℃で２０分間加熱して酸化させたものを使用した。また、フラックスとしてロジン２５ｇをイソプロピルアルコールに溶解したものにジエチルアミン塩酸塩を０．３９±０．０１ｇを加えて溶解したものを使用した。はんだ浴の温度は２５０℃、はんだ浴への浸漬速度は１６ｍｍ／秒、浸漬深さは２ｍｍ、浸漬時間は１０秒間とした。
【００２２】
【表２】
【００２３】
表２に示すように、Ａｇが添加されていないＳｎ−Ｃｕ系合金における濡れ時間はいずれも２秒を超えているが、Ａｇが添加されたＳｎ−１．２Ａｇ−Ｃｕ系合金及びＳｎ−３．５Ａｇ−Ｃｕ系合金における濡れ時間はほとんどで２秒以内であった。
【００２４】
なお、はんだ中のＡｇ含有量が１．０重量％未満では、上述の濡れ時間短縮の効果が得られない。一方、Ａｇ含有量が４．０重量％を超えると、液相線温度が高くなるため、はんだ付け時にプリント配線基板及び電子部品に故障が生じる虞がある。従って、はんだ中のＡｇ含有量は１．０乃至４．０重量％とする。
【００２５】
Ｃｕ：０．４乃至１．３重量％
Ｃｕは、プリント配線基板の銅回路の銅食われを抑制する効果を有する元素である。下記表３にＳｎ−Ｐｂ共晶はんだであるＪＩＳ Ｈ６３ＡはんだにＣｕを添加した場合の特性を示す。
【００２６】
【表３】
【００２７】
表３に示すように、Ｃｕの含有量が増加するに連れて銅溶解速度が低下し銅食われが抑制される。その一方で、液相線温度は上昇している。
【００２８】
はんだ中のＣｕ含有量が０．４重量％未満では、上述の銅食われを抑制する効果が十分ではない。一方、Ｃｕ含有量が１．３重量％を超えると、液相線温度が高くなるため、はんだ付け時にプリント配線基板及び電子部品に故障が生じる虞がある。従って、はんだ中のＣｕ含有量は０．４乃至１．３重量％とする。
【００２９】
下記表４及び５に夫々Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだにおけるＡｇ及びＣｕ含有量と液相線温度及び銅溶解速度との関係を示す。これらのはんだにおいては、残部の組成は全てＳｎである。
【００３０】
【表４】
【００３１】
【表５】
【００３２】
Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％
Ｎｉは、前述のように、微量の添加で銅食われを抑制する効果を有する元素である。但し、はんだ中のＮｉ含有量が０．０２重量％未満であると、銅食われ抑制効果が得られない。一方、Ｎｉ含有量が０．０６重量％を超えると、液相線温度が高くなるため、はんだ付け時にプリント配線基板及び電子部品に故障が生じる虞がある。従って、はんだ中のＮｉ含有量は０．０２乃至０．０６重量％とする。
【００３３】
Ｆｅ：０．０２乃至０．０６重量％
Ｆｅは、Ｎｉと同様、前述のように、微量の添加で銅食われを抑制する効果を有する元素である。但し、はんだ中のＦｅ含有量が０．０２重量％未満であると、銅食われ抑制効果が得られない。一方、Ｆｅ含有量が０．０６重量％を超えると、液相線温度が高くなるため、はんだ付け時にプリント配線基板及び電子部品に故障が生じる虞がある。また、粘度が高くなるため、はんだ濡れ性能が低下する。この結果、以下に示すような不具合が生じる。第一に、プリント配線基板の銅回路にホットエアーレベリング法でコーティングする場合において、はんだコーティング厚が不均一になるという不良が発生する。また、はんだコーティングがなされなかったり、隣接する回路とのはんだブリッジが形成されるという重大な不良が発生することもある。第二に、フローソルダのはんだ噴流が不安定になってはんだ付けの歩留まりが低下したり、電子部品とのはんだ接合部のはんだ量にばらつきが生じるため、接続信頼性が劣るという重大な不具合が生じることもある。従って、はんだ中のＦｅ含有量は０．０２乃至０．０６重量％とする。
【００３４】
このような組成を有するはんだをプリント配線基板の表面に形成された回路上にコーティングすれば、銅食われが極めて小さいプリント配線基板が得られる。また、プリント配線基板の表面に形成された回路上にこのような組成を有するはんだを使用して電子部品をはんだ付けすれば、実装の信頼性を高めることができる。
【００３５】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、その特許請求の範囲から外れる比較例と比較して具体的に説明する。
【００３６】
先ず、下記表６乃至１０の組成を有するはんだを作製した。なお、表６乃至１０に示す組成において、残部は全てＳｎ及び不可避的不純物である。
【００３７】
【表６】
【００３８】
【表７】
【００３９】
【表８】
【００４０】
【表９】
【００４１】
【表１０】
【００４２】
そして、これらの各はんだについて、銅の溶解速度、溶融温度、粘度及びはんだ広がり率を測定した。
【００４３】
銅の溶解速度の測定では、直径が０．５ｍｍの銅線にロジンを２０重量％含有するイソプロピルアルコール溶液をフラックスとして塗布し、その後２５０℃のはんだ浴に一定時間浸漬し、その銅線の半径減少量を測定した。
【００４４】
溶融温度の測定では、固相線温度を示差熱分析法により測定した。また、試料カップ内に溶融したはんだを入れて、ビスコテスターＶＴ−０４（リヨン株式会社製）で粘度を測定しながら、はんだ温度を３１０℃付近から徐々に冷却し、粘度が急激に上昇する温度を液相線温度とした。この溶融温度の測定の際に粘度も測定した。
【００４５】
はんだ広がり率の測定では、ＪＩＳ Ｚ ３１９７のはんだ付けフラックス試験方法に記載の「８．３．１．１広がり試験」に準拠した。具体的には、酸化した銅板上に０．３ｇのはんだ及びフラックスを乗せて２５０℃で３０秒間加熱することにより、はんだを広がらせた。その後、冷却してはんだを固化し、その高さを測定してはんだ広がり率を計算した。
【００４６】
これらの結果を下記表１１乃至１５に示す。なお、表１１乃至１５においては、以下の基準により○、△、×を付している。液相線温度では、２３０℃以下のものを○、２３０℃を超え２４０℃以下のものを△、２４０℃を超えるものを×とした。銅溶解速度では、０．１５（μｍ／秒）未満のものを○、０．１５（μｍ／秒）以上０．２０（μｍ／秒）以下のものを△、０．２０（μｍ／秒）を超えるものを×とした。粘度では、２．５（ｃＰ）以下のものを○、２．５（ｃＰ）を超えるものを×とした。はんだ広がり率では、７５（％）以上のものを○、７５（％）未満のものを×とした。そして、総合評価では、いずれかの項目に×があるものを×、それ以外でいずれかの項目に△があるものを△、それ以外、即ち全ての項目が○のものを○とした。
【００４７】
なお、液相線温度が高かったものについては、それだけで総合評価を×とするため、一部において粘度及びはんだ広がり率の測定は行っていない。
【００４８】
【表１１】
【００４９】
【表１２】
【００５０】
【表１３】
【００５１】
【表１４】
【００５２】
【表１５】
【００５３】
これらの結果をグラフに図示する。なお、以下のグラフに示す○、△及び×は、上記表１１乃至１５における総合評価を示すものである。
【００５４】
図２（ａ）乃至（ｄ）及び図３はＡｇ含有量を種々の値に固定したときのＮｉ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。図２（ａ）のＡｇ含有量は本発明範囲外の０．５重量％、図２（ｂ）のＡｇ含有量は１重量％、図２（ｃ）のＡｇ含有量は３．５重量％、図２（ｄ）のＡｇ含有量は４重量％、図３のＡｇ含有量は本発明範囲外の５重量％である。
【００５５】
図４（ａ）乃至（ｄ）及び図５はＡｇ含有量を種々の値に固定したときのＦｅ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。図４（ａ）のＡｇ含有量は本発明範囲外の０．５重量％、図４（ｂ）のＡｇ含有量は１重量％、図４（ｃ）のＡｇ含有量は３．５重量％、図４（ｄ）のＡｇ含有量は４重量％、図５のＡｇ含有量は本発明範囲外の５重量％である。
【００５６】
図６（ａ）及び（ｂ）、図７（ａ）及び（ｂ）並びに図８はＣｕ含有量を種々の値に固定したときのＮｉ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。図６（ａ）のＣｕ含有量は本発明範囲外の０．２重量％、図６（ｂ）のＣｕ含有量は０．４重量％、図７（ａ）のＣｕ含有量は０．８重量％、図７（ｂ）のＣｕ含有量は１．２重量％、図８のＣｕ含有量は本発明範囲外の１．６重量％である。
【００５７】
図９（ａ）及び（ｂ）、図１０（ａ）及び（ｂ）並びに図１１はＣｕ含有量を種々の値に固定したときのＦｅ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。図９（ａ）のＣｕ含有量は本発明範囲外の０．２重量％、図９（ｂ）のＣｕ含有量は０．４重量％、図１０（ａ）のＣｕ含有量は０．８重量％、図１０（ｂ）のＣｕ含有量は１．２重量％、図１１のＣｕ含有量は本発明範囲外の１．６重量％である。
【００５８】
図２（ａ）乃至（ｄ）及び図３に示すように、Ｃｕ：０．４乃至１．３重量％及びＮｉ：０．０２乃至０．０６重量％の範囲内にあれば、Ａｇ含有量が本発明範囲である１．０乃至４．０重量％の範囲内で変動しても良好な結果が得られた。同様に、図４（ａ）乃至（ｄ）及び図５に示すように、Ｃｕ：０．４乃至１．３重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％の範囲内にあれば、Ａｇ含有量が本発明範囲である１．０乃至４．０重量％の範囲内で変動しても良好な結果が得られた。
【００５９】
また、図６（ａ）及び（ｂ）、図７（ａ）及び（ｂ）並びに図８に示すように、Ａｇ：１．０乃至４．０重量％及びＮｉ：０．０２乃至０．０６重量％の範囲内にあれば、Ｃｕ含有量が本発明範囲である０．４乃至１．３重量％の範囲内で変動しても良好な結果が得られた。同様に、図９（ａ）及び（ｂ）、図１０（ａ）及び（ｂ）並びに図１１に示すように、Ａｇ：１．０乃至４．０重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％の範囲内にあれば、Ｃｕ含有量が本発明範囲である０．４乃至１．３重量％の範囲内で変動しても良好な結果が得られた。
【００６０】
従来の一般的なＳｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだであるＳｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにＮｉ及び／又はＦｅを添加したときの効果を上記表に基づいてグラフに図示する。図１２はＳｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにおけるＮｉ含有量と液相線温度との関係を示すグラフ図である。また、図１３はＳｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％Ｃｕ−０．０２重量％ＦｅはんだにおけるＮｉ含有量と液相線温度との関係を示すグラフ図である。図１４はＳｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにおけるＮｉ及びＦｅ含有量と銅溶解速度との関係を示すグラフ図である。なお、図１４において、◆はＮｉのみを添加したもの、■はＦｅのみを添加したもの、▲はＦｅの添加量を０．０２重量％に固定しＮｉの添加量を変化させたものである。
【００６１】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、微量のＮｉ及びＦｅの双方が含有されているので、はんだ付け時の銅食われを抑制することができる。また、その含有量は微量であるため、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだの共晶に近い組成となり、液相線温度の上昇を抑制することができる。更に、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだであるため、高い濡れ広がり性を確保することができる。
【００６２】
また、本発明方法によれば、電子部品の実装の有無に拘わらず、信頼性が高いプリント配線基板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだにおける種々の元素の含有量と銅溶解速度との関係を示すグラフ図である。
【図２】（ａ）乃至（ｄ）は、Ａｇ含有量を夫々０．５、１、３．５及び４重量％に固定したときのＮｉ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図３】Ａｇ含有量を５重量％に固定したときのＮｉ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図４】（ａ）乃至（ｄ）は、Ａｇ含有量を夫々０．５、１、３．５及び４重量％に固定したときのＦｅ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図５】Ａｇ含有量を５重量％に固定したときのＦｅ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は、Ｃｕ含有量を夫々０．２及び０．４重量％に固定したときのＮｉ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図７】（ａ）及び（ｂ）は、Ｃｕ含有量を夫々０．８及び１．２重量％に固定したときのＮｉ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図８】Ｃｕ含有量を１．６重量％に固定したときのＮｉ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図９】（ａ）及び（ｂ）は、Ｃｕ含有量を夫々０．２及び０．４重量％に固定したときのＦｅ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図１０】（ａ）及び（ｂ）は、Ｃｕ含有量を夫々０．８及び１．２重量％に固定したときのＦｅ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図１１】Ｃｕ含有量を１．６重量％に固定したときのＦｅ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図１２】Ｓｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにおけるＮｉ含有量と液相線温度との関係を示すグラフ図である。
【図１３】Ｓｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％Ｃｕ−０．０２重量％ＦｅはんだにおけるＮｉ含有量と液相線温度との関係を示すグラフ図である。
【図１４】Ｓｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにおけるＮｉ及びＦｅ含有量と銅溶解速度との関係を示すグラフ図である。
【発明の属する技術分野】
本発明はＳｎ−Ａｇ−Ｃｕ系のはんだ及びそれを使用したプリント配線基板の表面処理方法及びそれを使用した電子部品の実装方法に関し、特に、はんだ付け時の銅食われの防止を図ったはんだ及びプリント配線基板の表面処理方法及び電子部品の実装方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プリント配線基板の銅回路のコーティング及びプリント配線基板のフットプリント又はスルーホールと実装部品のリードとの接合等には、６３重量％Ｓｎ−３７重量％Ｐｂ合金がはんだとして使用されていた。しかし、近時、廃棄された電子機器から溶出する鉛による環境汚染が問題となっており、電子部品製造において、Ｐｂを含有しないはんだの開発が盛んに行われている。
【０００３】
Ｐｂを含有しない鉛フリーはんだとしては、Ｓｎ−Ｃｕ系合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金及びＳｎ−Ｚｎ系合金が代表的であり、これらにＢｉ、Ｉｎ及び又はＧｅを添加したものも検討されている。
【０００４】
しかし、Ｓｎ−Ｃｕ系合金においては、共晶組成を有する９９．３重量％Ｓｎ−０．７重量％Ｃｕ合金でもその融点が２２７℃と高いため、はんだ付け時の高温にプリント配線基板及び実装される電子部品が耐えられないという欠点がある。一般に使用されているプリント配線基板の耐熱温度は２６０℃程度である。
【０００５】
また、Ｓｎ−Ｚｎ系合金においては、共晶組成を有する９１重量％Ｓｎ−９重量％Ｚｎはんだでその融点が１９９℃であり、共晶組成を有する６３重量％Ｓｎ−３７重量％Ｐｂ合金の融点１８３℃に近い。従って、融点の観点からは好ましい合金である。しかし、Ｚｎが活性な元素であるため、はんだの酸化が著しく、良好なはんだ付けの状態を得ることが困難であるという欠点がある。
【０００６】
一方、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金においては、９５．８重量％Ｓｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％Ｃｕ三元共晶合金でその融点が２１７℃となり、６３重量％Ｓｎ−３７重量％Ｐｂ合金及びＳｎ−Ｚｎ系合金のそれよりも高いものの、プリント配線基板等の耐熱性の観点からは十分低いものである。また、プリント配線基板の銅回路のコーティング及びプリント配線基板のフットプリント又はスルーホールと実装部品のリードとの接合の処理温度を２５０℃としても、良好なはんだ付け状態が得られると共に、機械的特性も良好であるため、これらの鉛フリーはんだの中では最も実用化に適している。
【０００７】
Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金は、例えば特開平２−３４２９５号公報、特開平２−１７９３８８号公報、特開平４−３３３３９１号公報、特開平６−２６９９８３号公報及び特開平１１−７７３６６号公報に開示されている。特開平２−３４２９５号公報に開示されたはんだは鉛フリーはんだの提供を目的としたものであり、特開平２−１７９３８８号公報に開示されたはんだは耐腐食性及び電気・熱伝導率の向上を目的としたものである。また、特開平４−３３３３９１号公報に開示されたはんだはクリープ特性の向上を目的としたものであり、特開平６−２６９９８３号公報に記載されたはんだはＮｉ系母材上での濡れ性の向上を目的としたものであり、特開平１１−７７３６６号公報に記載されたはんだは熱疲労強度及び接合性の向上を目的としたものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金を使用する場合には、プリント配線基板の銅回路にホットエアレベリング法でコーティングすると、プリント配線基板の銅めっき層が食われて薄くなってしまい、最悪の場合には断線に至るという問題点がある。また、フローソルダで部品をはんだ付けする場合にも、プリント配線基板の銅めっき層が食われて薄くなり、はんだ付け不良が生じることがある。
【０００９】
そこで、Ｓｎ−Ｓｂ−Ｂｉ−Ｉｎ系合金に１乃至４重量％のＣｕが添加されたはんだが提案されている（特開平１１−７７３６８号公報）。また、Ｓｎ−Ｚｎ系合金であるＳｎ−Ｚｎ−Ｎｉ系合金に１乃至３重量％のＣｕが添加されたはんだが提案されている（特開平９−９４６８８号公報）。
【００１０】
これらの公報に開示されたはんだは、いずれもＣｕの添加により銅食われを防止しようとしたものである。しかし、前者においては、その固相線温度が２０８℃、液相線温度が３４２℃であるため、融点が高すぎる。後者においては、Ｓｎ−Ｚｎ系合金であるため、前述のような酸化に関する問題点がある。
【００１１】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、高い濡れ広がり性を保持したまま銅食われを抑制することができるはんだ及びそれを使用したプリント配線基板の表面処理方法及びそれを使用した電子部品の実装方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るはんだは、Ａｇ：１．０乃至３．５重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなることを特徴とする。本発明に係る他のはんだは、Ａｇ：１．０乃至３．０重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなることを特徴とする。
【００１３】
本発明においては、微量のＮｉ及びＦｅの双方がはんだ付け時の銅食われを抑制する。また、その含有量は微量であるため、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだの共晶に近い組成となり、液相線温度は低い。更に、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだであるため、高い濡れ広がり性を確保することができる。
【００１４】
本発明に係るプリント配線基板の表面処理方法は、プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．５重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだをコーティングする工程を有することを特徴とする。本発明に係る他のプリント配線基板の表面処理方法は、プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．０重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだをコーティングする工程を有することを特徴とする。
【００１５】
本発明に係る電子部品の実装方法は、プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．５重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだを使用して電子部品をはんだ付けする工程を有することを特徴とする。本発明に係る他の電子部品の実装方法は、プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．０重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだを使用して電子部品をはんだ付けする工程を有することを特徴とする。
【００１６】
これらの方法によれば、電子部品の実装の有無に拘わらず、信頼性が高いプリント配線基板を得ることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本願発明者等が前記課題を解決すべく、鋭意実験研究を重ねた結果、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだにおいて、適当量のＮｉ及び／又はＦｅを添加することにより、液相線温度の上昇を抑制しながら銅食われを抑制することができることを見い出した。図１及び下記表１に本願発明者等がＳｎに各種元素を添加した場合の銅溶解速度を示す。銅溶解速度が高いほど、銅食われが進行しやすいことを示している。
【００１８】
【表１】
図１及び表１に示すように、Ｎｉ又はＦｅを添加した場合には、他の元素を添加した場合と比して極めて微量の添加で銅溶解速度が著しく減少している。一般に、共晶組成を有する合金への他の元素の添加量が増加するほど液相線温度が減少するので、Ｎｉ及び／又はＦｅを添加することにより、液相線温度の上昇を抑制しながら銅食われを抑制することができるといえる。
【００２０】
以下、本発明に係るはんだに含有される化学成分及びその組成限定理由について説明する。
【００２１】
Ａｇ：１．０乃至４．０重量％
Ａｇは、はんだ濡れ性を向上する効果を有する元素である。つまり、Ａｇを添加することにより、はんだ濡れ時間を短縮することができる。下記表２にＪＩＳＺ ３１９７の８．３．１．２項に規定されているウェッティングバランス法によりＳｎ−Ａｇ−Ｃｕ系合金のはんだ濡れ性を測定した結果を示す。この試験では、試験片として厚さが０．３ｍｍ、幅が５ｍｍ、長さが５０ｍｍのリン脱酸銅板を１３０℃で２０分間加熱して酸化させたものを使用した。また、フラックスとしてロジン２５ｇをイソプロピルアルコールに溶解したものにジエチルアミン塩酸塩を０．３９±０．０１ｇを加えて溶解したものを使用した。はんだ浴の温度は２５０℃、はんだ浴への浸漬速度は１６ｍｍ／秒、浸漬深さは２ｍｍ、浸漬時間は１０秒間とした。
【００２２】
【表２】
表２に示すように、Ａｇが添加されていないＳｎ−Ｃｕ系合金における濡れ時間はいずれも２秒を超えているが、Ａｇが添加されたＳｎ−１．２Ａｇ−Ｃｕ系合金及びＳｎ−３．５Ａｇ−Ｃｕ系合金における濡れ時間はほとんどで２秒以内であった。
【００２４】
なお、はんだ中のＡｇ含有量が１．０重量％未満では、上述の濡れ時間短縮の効果が得られない。一方、Ａｇ含有量が４．０重量％を超えると、液相線温度が高くなるため、はんだ付け時にプリント配線基板及び電子部品に故障が生じる虞がある。従って、はんだ中のＡｇ含有量は１．０乃至４．０重量％とする。
【００２５】
Ｃｕ：０．４乃至１．３重量％
Ｃｕは、プリント配線基板の銅回路の銅食われを抑制する効果を有する元素である。下記表３にＳｎ−Ｐｂ共晶はんだであるＪＩＳ Ｈ６３ＡはんだにＣｕを添加した場合の特性を示す。
【００２６】
【表３】
表３に示すように、Ｃｕの含有量が増加するに連れて銅溶解速度が低下し銅食われが抑制される。その一方で、液相線温度は上昇している。
【００２８】
はんだ中のＣｕ含有量が０．４重量％未満では、上述の銅食われを抑制する効果が十分ではない。一方、Ｃｕ含有量が１．３重量％を超えると、液相線温度が高くなるため、はんだ付け時にプリント配線基板及び電子部品に故障が生じる虞がある。従って、はんだ中のＣｕ含有量は０．４乃至１．３重量％とする。
【００２９】
下記表４及び５に夫々Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだにおけるＡｇ及びＣｕ含有量と液相線温度及び銅溶解速度との関係を示す。これらのはんだにおいては、残部の組成は全てＳｎである。
【００３０】
【表４】
【表５】
Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％
Ｎｉは、前述のように、微量の添加で銅食われを抑制する効果を有する元素である。但し、はんだ中のＮｉ含有量が０．０２重量％未満であると、銅食われ抑制効果が得られない。一方、Ｎｉ含有量が０．０６重量％を超えると、液相線温度が高くなるため、はんだ付け時にプリント配線基板及び電子部品に故障が生じる虞がある。従って、はんだ中のＮｉ含有量は０．０２乃至０．０６重量％とする。
【００３３】
Ｆｅ：０．０２乃至０．０６重量％
Ｆｅは、Ｎｉと同様、前述のように、微量の添加で銅食われを抑制する効果を有する元素である。但し、はんだ中のＦｅ含有量が０．０２重量％未満であると、銅食われ抑制効果が得られない。一方、Ｆｅ含有量が０．０６重量％を超えると、液相線温度が高くなるため、はんだ付け時にプリント配線基板及び電子部品に故障が生じる虞がある。また、粘度が高くなるため、はんだ濡れ性能が低下する。この結果、以下に示すような不具合が生じる。第一に、プリント配線基板の銅回路にホットエアーレベリング法でコーティングする場合において、はんだコーティング厚が不均一になるという不良が発生する。また、はんだコーティングがなされなかったり、隣接する回路とのはんだブリッジが形成されるという重大な不良が発生することもある。第二に、フローソルダのはんだ噴流が不安定になってはんだ付けの歩留まりが低下したり、電子部品とのはんだ接合部のはんだ量にばらつきが生じるため、接続信頼性が劣るという重大な不具合が生じることもある。従って、はんだ中のＦｅ含有量は０．０２乃至０．０６重量％とする。
【００３４】
このような組成を有するはんだをプリント配線基板の表面に形成された回路上にコーティングすれば、銅食われが極めて小さいプリント配線基板が得られる。また、プリント配線基板の表面に形成された回路上にこのような組成を有するはんだを使用して電子部品をはんだ付けすれば、実装の信頼性を高めることができる。
【００３５】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、その特許請求の範囲から外れる比較例と比較して具体的に説明する。
【００３６】
先ず、下記表６乃至１０の組成を有するはんだを作製した。なお、表６乃至１０に示す組成において、残部は全てＳｎ及び不可避的不純物である。
【００３７】
【表６】
【表７】
【表８】
【表９】
【表１０】
そして、これらの各はんだについて、銅の溶解速度、溶融温度、粘度及びはんだ広がり率を測定した。
【００４３】
銅の溶解速度の測定では、直径が０．５ｍｍの銅線にロジンを２０重量％含有するイソプロピルアルコール溶液をフラックスとして塗布し、その後２５０℃のはんだ浴に一定時間浸漬し、その銅線の半径減少量を測定した。
【００４４】
溶融温度の測定では、固相線温度を示差熱分析法により測定した。また、試料カップ内に溶融したはんだを入れて、ビスコテスターＶＴ−０４（リヨン株式会社製）で粘度を測定しながら、はんだ温度を３１０℃付近から徐々に冷却し、粘度が急激に上昇する温度を液相線温度とした。この溶融温度の測定の際に粘度も測定した。
【００４５】
はんだ広がり率の測定では、ＪＩＳ Ｚ ３１９７のはんだ付けフラックス試験方法に記載の「８．３．１．１広がり試験」に準拠した。具体的には、酸化した銅板上に０．３ｇのはんだ及びフラックスを乗せて２５０℃で３０秒間加熱することにより、はんだを広がらせた。その後、冷却してはんだを固化し、その高さを測定してはんだ広がり率を計算した。
【００４６】
これらの結果を下記表１１乃至１５に示す。なお、表１１乃至１５においては、以下の基準により○、△、×を付している。液相線温度では、２３０℃以下のものを○、２３０℃を超え２４０℃以下のものを△、２４０℃を超えるものを×とした。銅溶解速度では、０．１５（μｍ／秒）未満のものを○、０．１５（μｍ／秒）以上０．２０（μｍ／秒）以下のものを△、０．２０（μｍ／秒）を超えるものを×とした。粘度では、２．５（ｃＰ）以下のものを○、２．５（ｃＰ）を超えるものを×とした。はんだ広がり率では、７５（％）以上のものを○、７５（％）未満のものを×とした。そして、総合評価では、いずれかの項目に×があるものを×、それ以外でいずれかの項目に△があるものを△、それ以外、即ち全ての項目が○のものを○とした。
【００４７】
なお、液相線温度が高かったものについては、それだけで総合評価を×とするため、一部において粘度及びはんだ広がり率の測定は行っていない。
【００４８】
【表１１】
【表１２】
【表１３】
【表１４】
【表１５】
これらの結果をグラフに図示する。なお、以下のグラフに示す○、△及び×は、上記表１１乃至１５における総合評価を示すものである。
【００５４】
図２（ａ）乃至（ｄ）及び図３はＡｇ含有量を種々の値に固定したときのＮｉ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。図２（ａ）のＡｇ含有量は本発明範囲外の０．５重量％、図２（ｂ）のＡｇ含有量は１重量％、図２（ｃ）のＡｇ含有量は３．５重量％、図２（ｄ）のＡｇ含有量は４重量％、図３のＡｇ含有量は本発明範囲外の５重量％である。
【００５５】
図４（ａ）乃至（ｄ）及び図５はＡｇ含有量を種々の値に固定したときのＦｅ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。図４（ａ）のＡｇ含有量は本発明範囲外の０．５重量％、図４（ｂ）のＡｇ含有量は１重量％、図４（ｃ）のＡｇ含有量は３．５重量％、図４（ｄ）のＡｇ含有量は４重量％、図５のＡｇ含有量は本発明範囲外の５重量％である。
【００５６】
図６（ａ）及び（ｂ）、図７（ａ）及び（ｂ）並びに図８はＣｕ含有量を種々の値に固定したときのＮｉ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。図６（ａ）のＣｕ含有量は本発明範囲外の０．２重量％、図６（ｂ）のＣｕ含有量は０．４重量％、図７（ａ）のＣｕ含有量は０．８重量％、図７（ｂ）のＣｕ含有量は１．２重量％、図８のＣｕ含有量は本発明範囲外の１．６重量％である。
【００５７】
図９（ａ）及び（ｂ）、図１０（ａ）及び（ｂ）並びに図１１はＣｕ含有量を種々の値に固定したときのＦｅ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。図９（ａ）のＣｕ含有量は本発明範囲外の０．２重量％、図９（ｂ）のＣｕ含有量は０．４重量％、図１０（ａ）のＣｕ含有量は０．８重量％、図１０（ｂ）のＣｕ含有量は１．２重量％、図１１のＣｕ含有量は本発明範囲外の１．６重量％である。
【００５８】
図２（ａ）乃至（ｄ）及び図３に示すように、Ｃｕ：０．４乃至１．３重量％及びＮｉ：０．０２乃至０．０６重量％の範囲内にあれば、Ａｇ含有量が本発明範囲である１．０乃至４．０重量％の範囲内で変動しても良好な結果が得られた。同様に、図４（ａ）乃至（ｄ）及び図５に示すように、Ｃｕ：０．４乃至１．３重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％の範囲内にあれば、Ａｇ含有量が本発明範囲である１．０乃至４．０重量％の範囲内で変動しても良好な結果が得られた。
【００５９】
また、図６（ａ）及び（ｂ）、図７（ａ）及び（ｂ）並びに図８に示すように、Ａｇ：１．０乃至４．０重量％及びＮｉ：０．０２乃至０．０６重量％の範囲内にあれば、Ｃｕ含有量が本発明範囲である０．４乃至１．３重量％の範囲内で変動しても良好な結果が得られた。同様に、図９（ａ）及び（ｂ）、図１０（ａ）及び（ｂ）並びに図１１に示すように、Ａｇ：１．０乃至４．０重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％の範囲内にあれば、Ｃｕ含有量が本発明範囲である０．４乃至１．３重量％の範囲内で変動しても良好な結果が得られた。
【００６０】
従来の一般的なＳｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだであるＳｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにＮｉ及び／又はＦｅを添加したときの効果を上記表に基づいてグラフに図示する。図１２はＳｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにおけるＮｉ含有量と液相線温度との関係を示すグラフ図である。また、図１３はＳｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％Ｃｕ−０．０２重量％ＦｅはんだにおけるＮｉ含有量と液相線温度との関係を示すグラフ図である。図１４はＳｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにおけるＮｉ及びＦｅ含有量と銅溶解速度との関係を示すグラフ図である。なお、図１４において、◆はＮｉのみを添加したもの、■はＦｅのみを添加したもの、▲はＦｅの添加量を０．０２重量％に固定しＮｉの添加量を変化させたものである。
【００６１】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、微量のＮｉ及びＦｅの双方が含有されているので、はんだ付け時の銅食われを抑制することができる。また、その含有量は微量であるため、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだの共晶に近い組成となり、液相線温度の上昇を抑制することができる。更に、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだであるため、高い濡れ広がり性を確保することができる。
【００６２】
また、本発明方法によれば、電子部品の実装の有無に拘わらず、信頼性が高いプリント配線基板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ系はんだにおける種々の元素の含有量と銅溶解速度との関係を示すグラフ図である。
【図２】（ａ）乃至（ｄ）は、Ａｇ含有量を夫々０．５、１、３．５及び４重量％に固定したときのＮｉ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図３】Ａｇ含有量を５重量％に固定したときのＮｉ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図４】（ａ）乃至（ｄ）は、Ａｇ含有量を夫々０．５、１、３．５及び４重量％に固定したときのＦｅ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図５】Ａｇ含有量を５重量％に固定したときのＦｅ含有量とＣｕ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は、Ｃｕ含有量を夫々０．２及び０．４重量％に固定したときのＮｉ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図７】（ａ）及び（ｂ）は、Ｃｕ含有量を夫々０．８及び１．２重量％に固定したときのＮｉ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図８】Ｃｕ含有量を１．６重量％に固定したときのＮｉ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図９】（ａ）及び（ｂ）は、Ｃｕ含有量を夫々０．２及び０．４重量％に固定したときのＦｅ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図１０】（ａ）及び（ｂ）は、Ｃｕ含有量を夫々０．８及び１．２重量％に固定したときのＦｅ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図１１】Ｃｕ含有量を１．６重量％に固定したときのＦｅ含有量とＡｇ含有量との関係を示すグラフ図である。
【図１２】Ｓｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにおけるＮｉ含有量と液相線温度との関係を示すグラフ図である。
【図１３】Ｓｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％Ｃｕ−０．０２重量％ＦｅはんだにおけるＮｉ含有量と液相線温度との関係を示すグラフ図である。
【図１４】Ｓｎ−３．５重量％Ａｇ−０．８重量％ＣｕはんだにおけるＮｉ及びＦｅ含有量と銅溶解速度との関係を示すグラフ図である。
Claims (6)
- Ａｇ：１．０乃至３．５重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなることを特徴とするはんだ。
- Ａｇ：１．０乃至３．０重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなることを特徴とするはんだ。
- プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．５重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだをコーティングする工程を有することを特徴とするプリント配線基板の表面処理方法。
- プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．０重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだをコーティングする工程を有することを特徴とするプリント配線基板の表面処理方法。
- プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．５重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだを使用して電子部品をはんだ付けする工程を有することを特徴とする電子部品の実装方法。
- プリント配線基板の表面に形成された回路上にＡｇ：１．０乃至３．０重量％、Ｃｕ：０．４乃至１．０重量％、Ｎｉ：０．０２乃至０．０６重量％及びＦｅ：０．０２乃至０．０６重量％を含有し、残部がＳｎ及び不可避的不純物からなるはんだを使用して電子部品をはんだ付けする工程を有することを特徴とする電子部品の実装方法。
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