JP3521721B2 - Electronic component mounting method and device - Google Patents

Electronic component mounting method and device

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JP3521721B2
JP3521721B2 JP35862097A JP35862097A JP3521721B2 JP 3521721 B2 JP3521721 B2 JP 3521721B2 JP 35862097 A JP35862097 A JP 35862097A JP 35862097 A JP35862097 A JP 35862097A JP 3521721 B2 JP3521721 B2 JP 3521721B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品の実装方
法に係り、特に異方性導電膜を介してガラス基板などに
電子部品を搭載する電子部品の実装方法および装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic component mounting method, and more particularly to an electronic component mounting method and apparatus for mounting an electronic component on a glass substrate or the like via an anisotropic conductive film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶表示装置(LCD)は、液晶
を挟み込んだガラス基板(液晶パネル)に液晶駆動回路
を有する半導体集積回路を直接搭載する、いわゆるCO
G(Chip On Glass)と称する手法により
製造され、図6に示したような工程によって行なわれ
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display device (LCD) is a so-called CO, in which a semiconductor integrated circuit having a liquid crystal drive circuit is directly mounted on a glass substrate (liquid crystal panel) sandwiching liquid crystal.
It is manufactured by a method called G (Chip On Glass), and is performed by the process shown in FIG.

【0003】まず、図6のステップ110に示したよう
に、基材となる液晶パネルの受け入れ検査を行ない、液
晶パネルを受け入れる。その後、液晶パネルを洗剤や純
水によるウエット洗浄を行なって無機物の汚れを除去す
る(ステップ111)。次に、液晶パネルを真空チャン
バ内に配置し、真空チャンバを減圧して酸素ガスによる
プラズマを発生させ、ステップ112に示したように、
プラズマによる洗浄によって汚染有機物を除去する。
First, as shown in step 110 of FIG. 6, a liquid crystal panel as a base material is subjected to an acceptance inspection to accept the liquid crystal panel. Then, the liquid crystal panel is subjected to wet cleaning with a detergent or pure water to remove the dirt of the inorganic substances (step 111). Next, the liquid crystal panel is placed in a vacuum chamber, the vacuum chamber is depressurized to generate plasma by oxygen gas, and as shown in step 112,
Contaminating organic substances are removed by cleaning with plasma.

【0004】ウエット洗浄、プラズマ洗浄を経た液晶パ
ネルは、所定の箇所に異方性導電膜(Anisotro
pic Conductiv Film:ACF)が貼
り付けられる(ステップ113)。この異方性導電膜の
貼り付けは、異方性導電膜の温度が60〜90℃となる
ように加熱するとともに、10kgf程度の力を1秒ほ
ど加えて行なわれる。その後、液晶駆動回路を備えた電
子部品である半導体集積回路(IC)を異方性導電膜の
上に載せ、異方性導電膜を液晶パネルに貼り付けしたと
同様の条件によりICの仮圧着を行なう(ステップ11
4)。仮圧着されたICは、異方性導電膜を200℃前
後の温度に加熱し、面圧が30〜40kgf/cm2 程
度の圧力を5秒間位加えられ、ステップ115に示した
ように異方性導電膜に本圧着される。
A liquid crystal panel that has been subjected to wet cleaning and plasma cleaning has an anisotropic conductive film (anistro) at predetermined locations.
A pic conductive film (ACF) is attached (step 113). The sticking of the anisotropic conductive film is performed by heating the anisotropic conductive film to a temperature of 60 to 90 ° C. and applying a force of about 10 kgf for about 1 second. Then, a semiconductor integrated circuit (IC), which is an electronic component equipped with a liquid crystal drive circuit, is placed on the anisotropic conductive film, and the anisotropic conductive film is attached to the liquid crystal panel under the same conditions as the temporary compression bonding of the IC. (Step 11
4). For the temporarily pressed IC, the anisotropic conductive film is heated to a temperature of about 200 ° C., and a surface pressure of about 30 to 40 kgf / cm 2 is applied for about 5 seconds. Mainly pressure-bonded to the conductive film.

【0005】その後、ステップ116に示したように、
液晶パネルに偏光板を貼り付けたのち、フレキシブル回
路基板(Flexible Plinted Circ
uit:FPC)の圧着を行ない(ステップ117)、
保護用の樹脂を配線部などにモールドし(ステップ11
8)、検査をして次工程に送る(ステップ119)。
After that, as shown in step 116,
After attaching a polarizing plate to the liquid crystal panel, a flexible printed circuit (Flexible Printed Circ)
(it: FPC) is crimped (step 117),
Mold the protective resin on the wiring part (step 11
8), inspect and send to the next process (step 119).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
のCOGにおいては、ウエット洗浄した液晶パネルを真
空中におけるプラズマ洗浄して有機物の除去を行なって
おり、容器内を真空にするために時間がかかるととも
に、複数のパネルを一度に洗浄するバッチ処理をせざる
を得ず、後工程との時間的整合性を取ることができず、
プラズマ洗浄のインライン化ができないためにコスト削
減の障害となっている。また、液晶パネルを真空容器に
搬入したり、真空容器から取り出すのが面倒であるばか
りでなく、プラズマ洗浄の装置が高価で大型となる。し
かも、プラズマ洗浄した液晶パネルを真空容器から取り
出して次のACF貼り付け工程に搬送したときに、異方
性導電膜の接着性を確保するために清浄度を保つ必要が
あり、品質管理が容易でない。そして、プラズマ洗浄後
のパネルを次の工程に搬送する間による汚染等により、
異方性導電膜の接着強度が低下して剥離などが生じて不
良率を低減させることが困難である。
However, in the above-mentioned conventional COG, the wet-cleaned liquid crystal panel is plasma-cleaned in vacuum to remove organic substances, and it takes time to vacuum the container. At the same time, there is no choice but to carry out batch processing to wash a plurality of panels at once, and it is not possible to achieve time consistency with subsequent processes.
This is an obstacle to cost reduction because in-line plasma cleaning cannot be performed. Further, not only is it troublesome to carry the liquid crystal panel into and out of the vacuum container, but also the plasma cleaning apparatus is expensive and large. Moreover, when the plasma-cleaned liquid crystal panel is taken out from the vacuum container and conveyed to the next ACF bonding step, it is necessary to maintain cleanliness in order to secure the adhesiveness of the anisotropic conductive film, and quality control is easy. Not. Then, due to contamination etc. during transportation of the panel after plasma cleaning to the next step,
It is difficult to reduce the defective rate because the adhesive strength of the anisotropic conductive film is reduced and peeling occurs.

【0007】本発明は、前記従来技術の欠点を解消する
ためになされたもので、プラズマ洗浄をインライン化で
きるようにすることを目的としている。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and an object thereof is to enable in-line plasma cleaning.

【0008】また、本発明は、異方性導電膜の接着強度
を向上させて不良率を低減することを目的としている。
Another object of the present invention is to improve the adhesive strength of the anisotropic conductive film and reduce the defective rate.

【0009】さらに、本発明は、工数を削減できるよう
にすることを目的としている。
Another object of the present invention is to reduce the number of steps.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、大気圧または
その近傍の圧力下において発生させたプラズマにより液
晶パネル等を洗浄した場合、短時間の洗浄で従来の真空
中おけるプラズマ洗浄と同等な洗浄効果が得られること
を見い出したことに基づいてなされたもので、上記の目
的を達成するために、本発明に係る電子部品の実装方法
は、電子部品を基材に異方性導電膜を介して電子部品を
接合する電子部品の実装方法において、大気圧またはそ
の近傍の圧力下において処理ガスによるプラズマを生成
し、このプラズマにより前記基材を順次洗浄するプラズ
マ洗浄工程と、プラズマ洗浄工程から順次送られてきた
前記基材に前記異方性導電膜を介して前記基材に熱圧着
する工程と、前記基材に接合した前記異方性導電膜に電
子部品を熱圧着する工程とを有するもので、前記プラズ
マを生成するとき、前記処理ガスに複数の周波数の電圧
を重畳して印加することを特徴としている。
According to the present invention, when a liquid crystal panel or the like is cleaned with plasma generated under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof, it is equivalent to conventional plasma cleaning in vacuum by short-time cleaning. It was made based on the finding that a cleaning effect is obtained, and in order to achieve the above-mentioned object, the mounting method of the electronic component according to the present invention is an electronic component using an anisotropic conductive film as a base material. In a method of mounting an electronic component in which electronic components are joined via a plasma cleaning process in which plasma is generated by a processing gas under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof and the base material is sequentially cleaned by the plasma, and a plasma cleaning process. Thermocompression-bonding to the base material sequentially sent to the base material via the anisotropic conductive film, and thermocompression-bonding an electronic component to the anisotropic conductive film bonded to the base material Those having a step, when generating the plasma is characterized by the application of superimposed voltage of a plurality of frequencies to the process gas.

【0011】上記のごとく構成した本発明は、大気圧ま
たはその近傍の圧力下においてプラズマを発生させるよ
うにしているため、プラズマ洗浄する基材を真空容器内
に搬入する必要がなく、基材を連続的に搬送した状態で
プラズマ洗浄を短時間で行なうことができ、プラズマ洗
浄のインライン化を容易に行なうことができる。しか
も、大気圧プラズマによる洗浄をした基材を順次異方性
導電膜の熱圧着工程に送り込むことができるため、基材
の極めて清浄なうちに異方性導電膜の貼り付け、半導体
チップ(IC)などの電子部品の貼り付けが可能で、基
材と異方性導電膜、異方性導電膜と電子部品との接着強
度が向上して剥離などを防ぐことができ、不良率を低減
することができる。
In the present invention configured as described above, plasma is generated under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof, so that it is not necessary to carry a substrate for plasma cleaning into a vacuum container, and the substrate can be removed. Plasma cleaning can be performed in a short time in a continuously conveyed state, and in-line plasma cleaning can be easily performed. Moreover, since the base material cleaned by atmospheric pressure plasma can be sequentially sent to the thermocompression bonding process of the anisotropic conductive film, the anisotropic conductive film is attached while the base material is extremely clean, and the semiconductor chip (IC ) And other electronic components can be attached, and the adhesive strength between the base material and the anisotropic conductive film and between the anisotropic conductive film and the electronic component can be improved to prevent peeling and the like, and reduce the defect rate. be able to.

【0012】大気圧プラズマを例えば13.56MHz
などの高周波電圧を用いて生成すると、高温のプラズマ
が得られ、この高温プラズマを用いて基材を洗浄するこ
とにより、異方性導電膜を圧着する工程の余熱に利用す
ることが可能で、異方性導電膜の圧着をより短時間で行
なうことができる。また、窒素によるプラズマを用いて
洗浄を行なうと、非常に短時間で洗浄が行なえ、濡れ性
を向上することができる。そして、基材が液晶パネルで
ある場合、液晶表示装置のコストの削減が可能となる。
Atmospheric pressure plasma, for example, 13.56 MHz
When it is generated using a high frequency voltage such as, a high temperature plasma is obtained, and by cleaning the base material using this high temperature plasma, it is possible to use it for the residual heat of the step of pressure-bonding the anisotropic conductive film, The anisotropic conductive film can be pressure bonded in a shorter time. Further, when cleaning is performed using plasma of nitrogen, cleaning can be performed in a very short time, and wettability can be improved. When the base material is a liquid crystal panel, the cost of the liquid crystal display device can be reduced.

【0013】上記の実装方法を実施するための本発明に
係る電子部品実装装置は、大気圧またはその近傍の圧力
下において処理ガスによるプラズマを生成し、順次搬送
されてくる基材を前記プラズマに接触させて洗浄する大
気圧プラズマ洗浄部と、プラズマ洗浄された前記基材に
異方性導電膜を配置して基材に熱圧着する導電膜接合部
と、順次送給される前記基材に接合された前記異方性導
電膜上に電子部品を配置し、電子部品を異方性導電膜を
介して前記基材に熱圧着する部品実装部とを有するもの
で、前記プラズマを生成するとき、前記処理ガスに複数
の周波数の電圧を重畳して印加することを特徴としてい
る。
An electronic component mounting apparatus according to the present invention for carrying out the above mounting method generates plasma by a processing gas under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof, and sequentially transfers a substrate to the plasma. An atmospheric pressure plasma cleaning unit for contacting and cleaning, a conductive film bonding unit for arranging an anisotropic conductive film on the plasma-cleaned base material and thermocompression bonding to the base material, and for sequentially supplying the base material. An electronic component is disposed on the bonded anisotropic conductive film, and a component mounting part that thermocompresses the electronic component to the base material through the anisotropic conductive film is used, and when the plasma is generated. It is characterized in that voltages of a plurality of frequencies are superimposed and applied to the processing gas.

【0014】部品実装部に電子部品の仮付け部と本付け
部とを設けるようにすると、電子部品をより確実に固着
することができる。そして、本付け部において2つの基
材に同時に電子部品を本圧着すると、時間のかかる本圧
着工程の時間を他の工程の時間と整合させることがで
き、製造工程の流れを円滑にすることができる。
When the temporary mounting portion and the permanent mounting portion of the electronic component are provided in the component mounting unit, the electronic component can be more securely fixed. Then, when the electronic components are simultaneously main-bonded to the two base materials in the main-bonding section, the time of the time-consuming main-compression bonding process can be matched with the time of other processes, and the flow of the manufacturing process can be made smooth. it can.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明の電子部品の実装方法およ
び装置の好ましい実施の形態を、添付図面に従って詳細
に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of an electronic component mounting method and apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0016】図1は、本発明の第1実施の形態に係る電
子部品実装装置の平面図である。図1において、実装装
置10は、基材である液晶パネル(図示せず)を供給す
る給材ユニット12を有し、この給材ユニット12に隣
接して大気圧プラズマ洗浄部であるプラズマ洗浄ユニッ
ト14が設けてある。
FIG. 1 is a plan view of an electronic component mounting apparatus according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, a mounting apparatus 10 has a material supply unit 12 that supplies a liquid crystal panel (not shown) that is a base material, and a plasma cleaning unit that is an atmospheric pressure plasma cleaning unit adjacent to the material supply unit 12. 14 is provided.

【0017】給材ユニット12は、ウエット洗浄を終了
した液晶パネルがトレイ16によって搬入されるように
なっていて、各トレイ16に複数の液晶パネルが配置し
てある。また、給材ユニット12には、パネルローダ1
8が設けてあって、段重ねしたパネルトレイ16を昇降
できるようになっている。そして、パネルトレイ16に
配置された液晶パネルは、給材ロボット20によってピ
ックアップされ、プラズマ洗浄ユニット14に設けた回
転テーブル22の所定位置に配置される。
In the material supply unit 12, the liquid crystal panels after the wet cleaning are carried in by the trays 16, and a plurality of liquid crystal panels are arranged in each tray 16. In addition, the material supply unit 12 includes a panel loader 1
8 is provided so that the stacked panel trays 16 can be moved up and down. The liquid crystal panel placed on the panel tray 16 is picked up by the material feeding robot 20 and placed at a predetermined position on the turntable 22 provided in the plasma cleaning unit 14.

【0018】プラズマ洗浄ユニット14は、回転テーブ
ル22とプラズマ処理ヘッド26とを有しており、回転
テーブル22が矢印28のように回転して液晶パネルを
プラズマ処理ヘッド26へと搬入する。そして、プラズ
マ処理ヘッド26は、例えば図2に示したようになって
いて、下部が開口しているチャンバー30の内部にプラ
ズマ発生部32が設けてある。プラズマ発生部32は、
放電用ガスの流路34を形成するため、1mmから3m
m程度のギャツプを形成した一対の板状の誘電体36
と、一対の誘電体36を挟んで設けた一対の電極38、
40から構成される。これらの電極38、40は、ガス
流路34内でグロー放電を発生させてプラズマを生成す
るためのもので、両電極間がプラズマ生成領域42とな
っている。
The plasma cleaning unit 14 has a rotary table 22 and a plasma processing head 26, and the rotary table 22 rotates as indicated by an arrow 28 to carry the liquid crystal panel into the plasma processing head 26. The plasma processing head 26 has, for example, the structure shown in FIG. 2, and the plasma generating unit 32 is provided inside the chamber 30 whose lower portion is opened. The plasma generator 32 is
1 mm to 3 m for forming the flow path 34 for the discharge gas
A pair of plate-shaped dielectrics 36 having a gap of about m
And a pair of electrodes 38 sandwiching the pair of dielectrics 36,
It consists of 40. These electrodes 38 and 40 are for generating glow discharge in the gas flow path 34 to generate plasma, and a plasma generation region 42 is formed between both electrodes.

【0019】チャンバー30の下部は、液晶パネル44
の洗浄処理を行う洗浄部となっており、液晶パネル44
を配置した回転テーブル22の周縁部がプラズマ発生部
32の下方を通過するようになっていて、開口したガス
流路34の下端から液晶パネル44の表面にプラズマを
照射できるようにしてある。
The lower portion of the chamber 30 has a liquid crystal panel 44.
It is a cleaning unit for cleaning the liquid crystal panel 44.
The peripheral portion of the rotary table 22 in which is disposed passes below the plasma generating portion 32 so that the surface of the liquid crystal panel 44 can be irradiated with plasma from the lower end of the opened gas flow path 34.

【0020】一方の電極38は接地してあって、他方の
電極40にフィルタ回路46とインピーダンス整合器4
8とを介して高周波電源50が接続してあるとともに、
フィルタ回路52と昇圧トランス54とを介して低周波
電源56が接続してある。従って、一対の電極38、4
0間には、高周波電源50によって例えば13.56M
Hzの高周波電圧と、低周波電源56による20kHz
の電圧とを重畳して印加できるようになっていて、処理
ガスを介した高周波放電を容易に発生させることができ
るようにしてある。
One electrode 38 is grounded, and the other electrode 40 is connected to the filter circuit 46 and the impedance matching device 4.
The high frequency power source 50 is connected via 8 and
A low frequency power supply 56 is connected via a filter circuit 52 and a step-up transformer 54. Therefore, the pair of electrodes 38, 4
During 0, for example, 13.56M by the high frequency power supply 50
20kHz by high frequency voltage of Hz and low frequency power supply 56
It is possible to superimpose the voltage and the voltage of 1) and to easily generate the high frequency discharge through the processing gas.

【0021】チャンバー30の上部には、中間チャンバ
ー58が設けてある。この中間チャンバー58には、管
路60を介して処理ガスである窒素ガスを生成する窒素
生成器62が接続してある。そして、中間チャンバー5
8とガス流路34とは、チャンバー30に形成したガス
供給口64によって連通していて、中間チャンバー58
に流入した窒素ガスをガス流路34に供給できるように
してある。
An intermediate chamber 58 is provided above the chamber 30. A nitrogen generator 62 that generates a nitrogen gas that is a processing gas is connected to the intermediate chamber 58 via a pipe line 60. And the intermediate chamber 5
8 and the gas flow path 34 communicate with each other through a gas supply port 64 formed in the chamber 30, and an intermediate chamber 58
The nitrogen gas that has flowed into the chamber can be supplied to the gas passage 34.

【0022】大気圧プラズマにより洗浄された液晶パネ
ル44は、パネルプリアライメント搬送ロボット65に
よって回転テーブル22からメイン旋回テーブル68に
移される。このパネルプリアライメント搬送ロボット6
5は、図示しないCCDカメラなどによって液晶パネル
44を撮像し、液晶パネル44が所定の向きとなるよう
にメイン旋回テーブル68に配置する。そして、メイン
旋回テーブル68は、プラズマ洗浄ユニット14に隣接
して設けた導電膜接合部となる導電膜貼り付けユニット
66に液晶パネル44を搬送する。
The liquid crystal panel 44 cleaned by the atmospheric pressure plasma is transferred from the rotary table 22 to the main turning table 68 by the panel pre-alignment transfer robot 65. This panel pre-alignment transfer robot 6
The image pickup device 5 picks up an image of the liquid crystal panel 44 with a CCD camera (not shown), and arranges the liquid crystal panel 44 on the main turning table 68 so that the liquid crystal panel 44 is oriented in a predetermined direction. Then, the main turning table 68 conveys the liquid crystal panel 44 to the conductive film attaching unit 66, which is a conductive film bonding portion provided adjacent to the plasma cleaning unit 14.

【0023】導電膜貼り付けユニット66は、メイン旋
回テーブル68上の液晶パネル44の所定位置に異方性
導電膜を配置して熱圧着するようになっている。そし
て、メイン旋回テーブル68は、導電膜貼り付けユニッ
ト66の隣に設けた実装部74の一部をなすチップ仮付
けユニット(仮付け部)76に液晶パネルを搬入する。
In the conductive film attaching unit 66, an anisotropic conductive film is arranged at a predetermined position on the liquid crystal panel 44 on the main turning table 68 and thermocompression bonded. Then, the main turning table 68 carries the liquid crystal panel into a chip temporary mounting unit (temporary mounting portion) 76 which is a part of the mounting portion 74 provided next to the conductive film attaching unit 66.

【0024】チップ仮付けユニット76は、電子部品で
あるICである半導体チップ(図示せず)を配置したチ
ップトレイを昇降させるチップトレイローダエレベータ
78と、チップトレイローダエレベータ78からチップ
トレイを取り出し、水平面内で回転するチップトレイ給
材インデックス80に移すトレイ移載ロボット82と、
空になったチップトレイが搬入されるチップトレイアン
ローダエレベータ83とを備えている。また、チップ仮
付けユニット76には、チップ給材ロボット84が設け
てあって、チップトレイ給材インデックス80上の半導
体チップをチッププリアライメント旋回テーブル86に
移すことができるようになっている。
The chip tacking unit 76 takes out the chip tray from the chip tray loader elevator 78 and the chip tray loader elevator 78 which raises and lowers the chip tray on which semiconductor chips (not shown) which are ICs which are electronic parts are arranged. A tray transfer robot 82 for transferring to a chip tray supply index 80 rotating in a horizontal plane,
And a chip tray unloader elevator 83 into which an empty chip tray is loaded. A chip feeding robot 84 is provided in the chip tacking unit 76 so that the semiconductor chips on the chip tray feeding index 80 can be transferred to the chip pre-alignment turning table 86.

【0025】さらに、チップ仮付けユニット76には、
チップ仮付けロボット88が配設してあり、チッププリ
アライメント旋回テーブル86から半導体チップを取り
出し、メイン旋回テーブル68上の液晶パネル44に貼
り付けした異方性導電膜の上に半導体チップを載せ、加
熱、加圧して仮付けするようになっている。
Further, the chip tacking unit 76 includes
A chip tacking robot 88 is provided, the semiconductor chip is taken out from the chip pre-alignment turning table 86, and the semiconductor chip is placed on the anisotropic conductive film attached to the liquid crystal panel 44 on the main turning table 68. It is designed to be temporarily attached by heating and pressurizing.

【0026】また、チップ仮付けユニット76には、チ
ップ認識移動テーブル90とパネル認識移動テーブル9
2とが設けてあり、チップ仮付けロボット88により半
導体チップを液晶パネル44の所定の位置に所定の向き
で搭載できるようになっている。そして、チップ仮付け
ロボット88は、一対のヘッドを備えていて、一方のヘ
ッドが半導体チップを仮付けしている間に、他方のヘッ
ドが半導体チップをチッププリアライメント旋回テーブ
ル86からメイン旋回テーブル68に搬送するようにし
てある。
The chip tacking unit 76 includes a chip recognition moving table 90 and a panel recognition moving table 9.
2 is provided so that the semiconductor chip can be mounted at a predetermined position on the liquid crystal panel 44 in a predetermined direction by the chip temporary mounting robot 88. The chip temporary mounting robot 88 has a pair of heads, and while one head temporarily mounts the semiconductor chip, the other head mounts the semiconductor chip from the chip pre-alignment rotary table 86 to the main rotary table 68. It is designed to be transported to.

【0027】実装部74を構成している本付け部となる
チップ本付けユニット94には、搬送ロボット96と一
対の本圧着ヘッド98が設けてあって、搬送ロボット9
6がメイン旋回テーブル68から半導体チップを仮付け
した液晶パネル44を取り出し、本圧着ヘッド98の下
方に配置する。そして、一対の本圧着ヘッド98は、同
時して作動するように制御されており、それぞれの下部
に配置された液晶パネル44の異方性導電膜に半導体チ
ップを本圧着する。また、半導体チップが本付けされた
液晶パネル44は、搬出ユニット100の搬出ロボット
102によってトレイアンローダ103に配置された搬
出トレイ104に並べられ、次の工程に送られるように
してある。
The chip book-bonding unit 94, which is the book-bonding section that constitutes the mounting section 74, is provided with a transfer robot 96 and a pair of main pressure bonding heads 98.
6 takes out the liquid crystal panel 44 to which the semiconductor chip is temporarily attached from the main turning table 68, and arranges it below the main pressure bonding head 98. The pair of main pressure bonding heads 98 are controlled so as to operate simultaneously, and the semiconductor chip is mainly pressure bonded to the anisotropic conductive film of the liquid crystal panel 44 disposed under each of them. Further, the liquid crystal panel 44 to which the semiconductor chips are finally attached is arranged by the carry-out robot 102 of the carry-out unit 100 on the carry-out tray 104 arranged in the tray unloader 103, and is sent to the next step.

【0028】上記のごとく構成した第1実施の形態の作
用は、次のとおりである。従来と同様にしてウエット洗
浄を終了した液晶パネル44は、チップトレイ16に配
置されて給材ユニット12に搬入され、給材ロボット2
0によって1枚ずつ順次回転テーブル22の所定位置に
配置される。そして、液晶パネル44は、回転テーブル
22によってプラズマ洗浄ユニット14のプラズマ処理
ヘッド26に搬送され、図2に示したように、プラズマ
発生部32の下方を通過する。
The operation of the first embodiment constructed as described above is as follows. The liquid crystal panel 44, which has been subjected to the wet cleaning in the same manner as the conventional one, is placed on the chip tray 16 and carried into the material supply unit 12, and the material supply robot 2
When the number is 0, the sheets are sequentially arranged one by one at predetermined positions on the rotary table 22. Then, the liquid crystal panel 44 is conveyed to the plasma processing head 26 of the plasma cleaning unit 14 by the rotary table 22 and passes below the plasma generating unit 32, as shown in FIG.

【0029】プラズマ処理ヘッド26は、窒素生成器6
2からガス流路34に大気圧の窒素ガスが供給されると
ともに、一対の電極38、40間に13.56MHzの
高周波電圧と20kHzの低周波電圧とが印加され、窒
素ガスを電離してプラズマを生成し、液晶パネル44の
表面所定位置に吹き付ける。これにより、液晶パネル4
4は、付着している有機物がプラズマによって短時間で
除去され、洗浄されて濡れ性が向上する。すなわち、窒
素のプラズマをガラスに照射した場合、図3に示したよ
うに、水のガラスに対する接触角が70度以上であった
ものを、1〜2秒のプラズマ照射によって10度以下に
することができる。従って、プラズマ洗浄のインライン
化が可能となる。
The plasma processing head 26 includes a nitrogen generator 6
The nitrogen gas of atmospheric pressure is supplied from 2 to the gas flow path 34, and a high frequency voltage of 13.56 MHz and a low frequency voltage of 20 kHz are applied between the pair of electrodes 38 and 40 to ionize the nitrogen gas and generate plasma. Are generated and sprayed onto a predetermined position on the surface of the liquid crystal panel 44. As a result, the liquid crystal panel 4
In No. 4, the adhering organic substances are removed by plasma in a short time and washed to improve the wettability. That is, when irradiating glass with nitrogen plasma, as shown in FIG. 3, the contact angle of water with respect to glass of 70 degrees or more is reduced to 10 degrees or less by plasma irradiation for 1 to 2 seconds. You can Therefore, in-line plasma cleaning becomes possible.

【0030】プラズマ洗浄を終了した液晶パネル44
は、パネルプリアライメント搬送ロボット65によって
メイン旋回テーブル68に所定の向きに配置され、導電
膜貼り付けユニット66に搬送される。導電膜貼り付け
ユニット66は、液晶パネルの洗浄された所定位置に異
方性導電膜を熱圧着する。異方性導電膜を貼り付けした
液晶パネルは、メイン旋回テーブル68の旋回に伴なっ
て、実装部74のチップ仮付けユニット76に搬入され
る。チップ仮付けユニット76は、チップ仮付けロボッ
ト88がチッププリアライメント旋回テーブル86から
半導体チップを取り出し、液晶パネル44に貼り付けし
た異方性導電膜の上に配置し、半導体チップを加熱、加
圧して仮付けを行なう。
Liquid crystal panel 44 after plasma cleaning
Are arranged on the main turning table 68 in a predetermined direction by the panel pre-alignment transfer robot 65, and are transferred to the conductive film attaching unit 66. The conductive film pasting unit 66 thermocompresses the anisotropic conductive film at a predetermined washed position of the liquid crystal panel. The liquid crystal panel to which the anisotropic conductive film is attached is carried into the chip temporary mounting unit 76 of the mounting portion 74 as the main turning table 68 turns. In the chip tacking unit 76, the chip tacking robot 88 takes out the semiconductor chip from the chip pre-alignment turning table 86, arranges it on the anisotropic conductive film attached to the liquid crystal panel 44, and heats and presses the semiconductor chip. And make a tack.

【0031】半導体チップが仮付けされた液晶パネル4
4は、チップ本付けユニット94の搬送ロボット96に
よって一対の本圧着ヘッド98のそれぞれの下方に搬送
される。そして、一対の本圧着ヘッド98は、それぞれ
の下方に配置された液晶パネルの異方性導電膜に半導体
チップを加熱、加圧して本付けする。半導体チップが本
付けされた液晶パネル44は、搬出ロボット102によ
って搬出トレイ104に並べられ、次の工程に搬送され
る。
Liquid crystal panel 4 to which a semiconductor chip is temporarily attached
4 is conveyed below each of the pair of main pressure bonding heads 98 by the conveyance robot 96 of the tip bookbinding unit 94. Then, the pair of main pressure bonding heads 98 heat and pressurize the semiconductor chip on the anisotropic conductive film of the liquid crystal panel disposed below each of them to perform final bonding. The liquid crystal panel 44 to which the semiconductor chips are finally attached is arranged by the carry-out robot 102 on the carry-out tray 104 and is carried to the next step.

【0032】このように、第1の実施形態においては、
プラズマ洗浄を大気圧下における窒素ガスによるプラズ
マを生成して行なうため、液晶パネル44の迅速なプラ
ズマ洗浄が可能となり、COGにおけるプラズマ洗浄の
インライン化ができ、コストの低減を図ることができ
る。しかも、プラズマ洗浄ユニット14に隣接して異方
性導電膜を貼り付けする導電膜貼り付け部66を設け、
プラズマ洗浄を終了直後の液晶パネル44に異方性導電
膜を貼り付けるようにしているため、異方性導電膜の接
着強度が向上して剥離などの不良品の発生率を大幅に低
減することができ、歩留りが向上する。また、従来の真
空中におけるプラズマ洗浄と異なり、大気圧下において
プラズマを発生させるようにしているため、真空容器や
真空ポンプを必要とせず、装置の小型化と設備費の低減
が図れるとともに、プラズマ洗浄の工数を削減すること
ができる。さらに、前記実施の形態においては、13.
56MHzの高周波電圧を印加してプラズマを生成して
いるため、高温のプラズマを生成することができ、この
高温プラズマによる洗浄により液晶パネルが余熱され、
異方性導電膜の貼り付け時間の短縮を図ることができ
る。
As described above, in the first embodiment,
Since plasma cleaning is performed by generating plasma from nitrogen gas under atmospheric pressure, the liquid crystal panel 44 can be quickly cleaned, plasma cleaning in COG can be performed in-line, and cost can be reduced. Moreover, a conductive film attaching portion 66 for attaching an anisotropic conductive film is provided adjacent to the plasma cleaning unit 14,
Since the anisotropic conductive film is attached to the liquid crystal panel 44 immediately after the plasma cleaning is completed, the adhesive strength of the anisotropic conductive film is improved and the incidence of defective products such as peeling is significantly reduced. And the yield is improved. Also, unlike conventional plasma cleaning in vacuum, plasma is generated under atmospheric pressure, so a vacuum container and vacuum pump are not required, and it is possible to reduce the size of the device and the cost of equipment, and to use plasma The number of washing steps can be reduced. Furthermore, in the above embodiment, 13.
Since a high frequency voltage of 56 MHz is applied to generate plasma, high temperature plasma can be generated, and the liquid crystal panel is preheated by cleaning with this high temperature plasma.
It is possible to reduce the attachment time of the anisotropic conductive film.

【0033】なお、前記実施の形態においては、基材と
しての液晶パネル44に半導体チップを搭載するCOG
について説明したが、基材としてキャリアフィルムを用
いたTAB(Tape Automatic Bond
ing)にも適用することができる。また、前記実施の
形態においては、液晶パネル44に半導体チップを搭載
するのに仮付けと本付けとの工程を行なうようにした場
合について説明したが、プラズマ洗浄した直後の液晶パ
ネルに異方性導電膜を貼り付けし、その直後に半導体チ
ップを異方性導電膜に貼り付けるようにしているため、
異方性導電膜の接着強度が向上することにより半導体チ
ップの本圧着時間が短縮可能となり、半導体チップの本
付けを仮付けなしに行なってもよく、製造工程を削減す
ることができる。
In the above embodiment, the COG in which the semiconductor chip is mounted on the liquid crystal panel 44 as the base material.
The TAB (Tape Automatic Bond) using a carrier film as a base material was described.
ing) can also be applied. Further, in the above-described embodiment, the case where the steps of temporary attachment and permanent attachment are performed to mount the semiconductor chip on the liquid crystal panel 44 has been described, but the liquid crystal panel immediately after plasma cleaning is anisotropic. Since the conductive film is pasted and the semiconductor chip is immediately pasted to the anisotropic conductive film,
By improving the adhesive strength of the anisotropic conductive film, the main pressure bonding time of the semiconductor chip can be shortened, and the main bonding of the semiconductor chip may be performed without temporary bonding, and the manufacturing process can be reduced.

【0034】図4は、第2実施形態に係る電子部品実装
装置の説明図である。図4において、実装装置120
は、給材部122にパネルローダ124と給材ロボット
126とが設けてあって、パネルローダ124に配置し
てあるパネルトレイ内の液晶パネルを、給材ロボット1
26によって2枚ずつプラズマ洗浄ユニット128のイ
ンデックスコンベヤ130に供給できるようにしてあ
る。そして、インデックスコンベヤ130は、プラズマ
に侵されにくいセラミックからなるチェーンコンベヤで
あって、供給された液晶パネルをプラズマ処理ヘッド2
6に搬送する。また、プラズマ処理された液晶パネル
は、インデックスコンベヤ130の下流側に設けた移載
ロボット132によって、装置本体部134に設けた旋
回テーブル136に2枚ずつ配置される。
FIG. 4 is an explanatory diagram of an electronic component mounting apparatus according to the second embodiment. In FIG. 4, the mounting device 120
Is provided with a panel loader 124 and a material supplying robot 126 in the material supplying unit 122, and a liquid crystal panel in a panel tray arranged in the panel loader 124 is supplied to the material supplying robot 1
By 26, two sheets can be supplied to the index conveyor 130 of the plasma cleaning unit 128. The index conveyor 130 is a chain conveyor made of a ceramic that is hard to be invaded by plasma.
Transport to 6. Further, the plasma-processed liquid crystal panels are placed two by two on the revolving table 136 provided in the apparatus main body 134 by the transfer robot 132 provided on the downstream side of the index conveyor 130.

【0035】装置本体部134は、旋回テーブル136
の周縁に沿って、液晶パネルを所定の向きにするパネル
プリアライメントユニット138と、液晶パネルに異方
性導電膜を熱圧着する導電膜貼り付けユニット140
と、異方性導電膜の上に半導体チップを配置して仮付け
するチップ仮付けユニット142と、仮付けした半導体
チップを本付けするチップ本付けユニット144と、半
導体チップが貼り付けされていることを確認するための
圧着確認ユニット146が配設してある。
The apparatus main body 134 includes a revolving table 136.
A panel pre-alignment unit 138 for orienting the liquid crystal panel in a predetermined direction and a conductive film attaching unit 140 for thermocompression bonding an anisotropic conductive film to the liquid crystal panel along the periphery of the liquid crystal panel.
A chip temporary attachment unit 142 for arranging and temporarily attaching a semiconductor chip on the anisotropic conductive film, a chip final attachment unit 144 for permanently attaching the temporarily attached semiconductor chip, and a semiconductor chip are attached. A crimp confirmation unit 146 for confirming that is provided.

【0036】チップ仮付けユニット142は、半導体チ
ップを配置したチップトレイが矢印150のように、チ
ップトレイローダエレベータ148からトレイインデッ
クス152に移される。トレイインデックス152上の
半導体チップは、チップ給材ロボット154によってチ
ッププリアライメントインデックス156に搬入された
のち、仮圧着ロボット158によって液晶パネルの異方
性導電膜に仮付けされる。そして、トレイインデックス
152上の空のチップトレイは、矢印160のようにチ
ップトレイアンローダエレベータ162に移され、搬出
される。
In the chip tacking unit 142, the chip tray on which the semiconductor chips are arranged is moved from the chip tray loader elevator 148 to the tray index 152 as shown by an arrow 150. The semiconductor chips on the tray index 152 are carried into the chip pre-alignment index 156 by the chip feeding robot 154, and then temporarily attached to the anisotropic conductive film of the liquid crystal panel by the temporary pressure bonding robot 158. Then, the empty chip tray on the tray index 152 is moved to the chip tray unloader elevator 162 as indicated by an arrow 160, and is carried out.

【0037】仮圧着ロボット158によって仮付けされ
た半導体チップは、チップ本付けユニット144により
本圧着され、圧着確認ユニット146により圧着が確認
される。そして、液晶パネルは、搬出部164に設けた
搬出ロボット166によって2枚ずつ旋回テーブル13
6から取り出され、トレイアンローダ168に配置した
搬出トレイに並べられて次の工程に搬送される。
The semiconductor chip temporarily attached by the provisional pressure bonding robot 158 is subjected to main pressure bonding by the chip main bonding unit 144, and pressure bonding is confirmed by the pressure bonding confirmation unit 146. Then, the liquid crystal panel is rotated two by two by the carry-out robot 166 provided in the carry-out section 164.
6, the sheets are arranged on the carry-out tray arranged in the tray unloader 168, and are conveyed to the next step.

【0038】この第2実施の形態においても前記と同様
の効果を得ることができる。
Also in the second embodiment, the same effect as described above can be obtained.

【0039】図5は、第3実施の形態に係る電子部品実
装装置の説明図である。実装装置170は、給材部12
2に給材ロボット172が配設してあって、この給材ロ
ボット172により、パネルローダ124に配置された
パネルトレイから液晶パネルを1枚ずつプラズマ洗浄ユ
ニット128のインデックスコンベヤ130に移載する
ようになっている。そして、プラズマ処理ヘッド26に
よりプラズマ洗浄された液晶パネルは、装置本体部17
4に設けたパネルプリアライメント移載ロボット176
によって、1枚ずつ旋回テーブル178の所定の位置に
所定の向きで配置される。
FIG. 5 is an explanatory diagram of an electronic component mounting apparatus according to the third embodiment. The mounting device 170 includes the material supply unit 12
2 is provided with a material supplying robot 172, and by this material supplying robot 172, liquid crystal panels are transferred one by one from the panel tray arranged in the panel loader 124 to the index conveyor 130 of the plasma cleaning unit 128. It has become. The liquid crystal panel that has been plasma-cleaned by the plasma processing head 26 is
Panel pre-alignment transfer robot 176 provided in No. 4
Thus, the sheets are arranged one by one at a predetermined position on the turning table 178 in a predetermined direction.

【0040】旋回テーブル178に配置された液晶パネ
ルは、導電膜貼り付けユニット140によって異方性導
電膜が熱圧着されたのち、チップ仮付けユニット180
に搬入される。チップ仮付けユニット180は、仮圧着
ロボット158がチッププリアライメントインデックス
156に配置された半導体チップを液晶パネルの異方性
導電膜に熱圧着して仮付けする。半導体チップを仮付け
された液晶パネルは、旋回テーブル178によってチッ
プ本付けユニット182に搬送される。
In the liquid crystal panel arranged on the turntable 178, the anisotropic conductive film is thermocompression bonded by the conductive film bonding unit 140, and then the chip temporary mounting unit 180 is used.
Be delivered to. In the chip temporary attachment unit 180, the temporary compression robot 158 thermocompresses the semiconductor chip arranged at the chip pre-alignment index 156 to the anisotropic conductive film of the liquid crystal panel for temporary attachment. The liquid crystal panel to which the semiconductor chips have been temporarily attached is transported to the chip main assembly unit 182 by the turning table 178.

【0041】チップ本付けユニット182は、パネル移
載ロボット184と圧着回転テーブル186と本圧着ロ
ボット188とを有しており、パネル移載ロボット18
4が旋回テーブル178上の液晶パネルを圧着回転テー
ブルに2枚ずつ並べて配置する。そして、本圧着ロボッ
ト188は、圧着回転テーブル186に配置された液晶
パネルを2枚ずつ加熱、加圧して半導体チップを本付け
する。半導体チップが本付けされた液晶パネルは、搬出
部164のパネル搬出ロボット190によってパネルア
ンローダ168に配置したパネル搬出トレイに並べられ
る。
The chip main assembly unit 182 has a panel transfer robot 184, a pressure bonding rotary table 186, and a main pressure bonding robot 188.
4 arranges two liquid crystal panels on the turning table 178 side by side on the pressure bonding rotary table. Then, the main pressure bonding robot 188 heats and presses two liquid crystal panels arranged on the pressure bonding rotary table 186 to permanently bond the semiconductor chips. The liquid crystal panels to which the semiconductor chips are finally attached are arranged by the panel unloading robot 190 of the unloading unit 164 on the panel unloading tray arranged in the panel unloader 168.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、大気圧またはその近傍の圧力下においてプラズマを
発生させるようにしているため、プラズマ洗浄する基材
を真空容器内に搬入する必要がなく、基材を連続的に搬
送した状態でプラズマ洗浄を短時間で行なうことがで
き、プラズマ洗浄のインライン化を容易に行なうことが
できる。しかも、大気圧プラズマによる洗浄をした基材
を順次異方性導電膜の熱圧着工程に送り込むことができ
るため、基材の極めて清浄なうちに異方性導電膜の貼り
付け、半導体チップ(IC)などの電子部品の貼り付け
が可能で、基材と異方性導電膜、異方性導電膜と電子部
品との接着強度が向上して剥離などを防ぐことができ、
不良率を低減することができる。
As described above, according to the present invention, plasma is generated under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof, so that it is necessary to carry a substrate to be plasma-cleaned into a vacuum container. Therefore, plasma cleaning can be performed in a short time while the substrate is continuously conveyed, and plasma cleaning can be easily performed in-line. Moreover, since the base material cleaned by atmospheric pressure plasma can be sequentially sent to the thermocompression bonding process of the anisotropic conductive film, the anisotropic conductive film is attached while the base material is extremely clean, and the semiconductor chip (IC ) And other electronic components can be attached, and the adhesive strength between the base material and the anisotropic conductive film and between the anisotropic conductive film and the electronic component can be improved to prevent peeling.
The defective rate can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施の形態に係る実装装置の説明
図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a mounting apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】実施の形態に係るプラズマ処理ヘッドの詳細説
明図である。
FIG. 2 is a detailed explanatory diagram of the plasma processing head according to the embodiment.

【図3】実施の形態に係る窒素プラズマによる洗浄効果
の説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a cleaning effect by nitrogen plasma according to the embodiment.

【図4】第2実施の形態に係る実装装置の説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a mounting apparatus according to a second embodiment.

【図5】第3実施の形態に係る実装装置の説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a mounting apparatus according to a third embodiment.

【図6】従来のCOGの工程図である。FIG. 6 is a process diagram of a conventional COG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 実装装置 12 給材ユニット 14 大気圧プラズマ洗浄部(プラズマ洗浄ユ
ニット) 20 給材ロボット 22 回転テーブル 26 プラズマ処理ヘッド 65 パネルプリアライメント搬送ロボット 66 導電膜接合部(導電膜貼り付けユニッ
ト) 68 メイン旋回テーブル 74 実装部 76 仮付け部(チップ仮付けユニット) 88 チップ仮付けロボット 94 本付け部(チップ本付けユニット) 96 搬送ロボット 98 本圧着ヘッド 100 搬出ユニット 102 搬出ロボット 120 実装装置 122 給材部 126 給材ロボット 128 プラズマ洗浄ユニット 132 移載ロボット 134 装置本体 136 旋回テーブル 140 導電膜貼り付けユニット 142 チップ仮付けユニット 144 チップ本付けユニット 158 仮圧着ロボット 170 実装装置 172 給材ロボット 174 装置本体 176 パネルプリアライメント移載ロボット 178 旋回テーブル 180 チップ仮付けユニット 182 チップ本付けユニット 184 パネル移載ロボット 186 圧着回転テーブル 188 本圧着ロボット
10 Mounting Device 12 Material Supply Unit 14 Atmospheric Pressure Plasma Cleaning Section (Plasma Cleaning Unit) 20 Material Supply Robot 22 Rotating Table 26 Plasma Processing Head 65 Panel Pre-Alignment Transfer Robot 66 Conductive Film Joining Section (Conductive Film Pasting Unit) 68 Main Turning Table 74 Mounting part 76 Temporary mounting part (chip temporary mounting unit) 88 Chip temporary mounting robot 94 Main mounting part (chip final mounting unit) 96 Transfer robot 98 Main pressure bonding head 100 Carrying out unit 102 Carrying out robot 120 Mounting device 122 Feeding part 126 Material supply robot 128 Plasma cleaning unit 132 Transfer robot 134 Device body 136 Turning table 140 Conductive film attaching unit 142 Chip temporary attaching unit 144 Chip final attaching unit 158 Temporary pressure bonding robot 170 Mounting device 17 Material supplying robot 174 apparatus main body 176 panels pre-alignment transfer robot 178 turntable 180 chips tacking unit 182 chips present with units 184 panel transfer robot 186 crimping rotary table 188 present crimping robot

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−114812(JP,A) 特開 平8−37200(JP,A) 特開 平8−6059(JP,A) 特開 平9−43622(JP,A) 特開 平9−17825(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 H01L 21/302 H01L 21/304 645 G02F 1/1333 500 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-8-114812 (JP, A) JP-A-8-37200 (JP, A) JP-A-8-6059 (JP, A) JP-A-9- 43622 (JP, A) JP-A-9-17825 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/60 H01L 21/302 H01L 21/304 645 G02F 1/1333 500

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 大気圧またはその近傍の圧力下において
処理ガスによるプラズマを生成し、このプラズマにより
基材を順次洗浄するプラズマ洗浄工程と、前記プラズマ
洗浄工程から順次送られてきた前記基材に異方性導電膜
を熱圧着する工程と、前記基材に接合した前記異方性導
電膜を介して前記基材に電子部品を熱圧着する工程とを
有する電子部品の実装方法において、前記プラズマを生成するとき、前記処理ガスに複数の周
波数の電圧を重畳して印加する ことを特徴とする電子部
品の実装方法。
1. A generates a plasma by the processing gas at a pressure of atmospheric pressure or near, a plasma cleaning step of successively cleaning a substrate by the plasma, the substrate has been sequentially transmitted from the plasma cleaning step A method for mounting an electronic component, comprising : a step of thermocompression-bonding an anisotropic conductive film; and a step of thermocompression-bonding an electronic component to the base material via the anisotropic conductive film bonded to the base material. To produce a plurality of cycles in the process gas.
A method for mounting electronic components, characterized in that a voltage of a wave number is superimposed and applied .
【請求項2】 前記処理ガスは、窒素ガスであることを
特徴とする請求項1に記載の電子部品の実装方法。
2. The mounting method for an electronic component according to claim 1, wherein the processing gas is nitrogen gas.
【請求項3】 前記基材は液晶パネルであり、前記電子
部品は前記液晶パネルを駆動する回路を備えた半導体集
積回路であることを特徴とする請求項1または2のいず
れかに記載の電子部品の実装方法。
3. The electronic device according to claim 1, wherein the base material is a liquid crystal panel, and the electronic component is a semiconductor integrated circuit including a circuit for driving the liquid crystal panel. How to mount parts.
【請求項4】 前記基材をプラズマ洗浄するときの搬送4. A transfer for plasma-cleaning the substrate.
部材が、セラミック製であることを特徴とする請求項1The member is made of ceramic.
ないし3のいずれかに記載の電子部品の実装方法。4. A method for mounting an electronic component according to any one of 3 to 3.
【請求項5】 大気圧またはその近傍の圧力下において
処理ガスによるプラズマを生成し、順次搬送されてくる
基材を前記プラズマに接触させて大気圧プラズマ洗浄
し、プラズマ洗浄された前記基材に異方性導電膜を配置
し、前記異方性導電膜上に電子部品を配置し、前記電子
部品を前記異方性導電膜を介して前記基材に熱圧着する
電子部品実装装置において、前記プラズマを生成するとき、前記処理ガスに複数の周
波数の電圧を重畳して印加する ことを特徴とする電子部
品実装装置。
5. A plasma is generated by a processing gas under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof, and a substrate that is sequentially conveyed is brought into contact with the plasma to perform atmospheric pressure plasma cleaning. the anisotropic conductive film is disposed, the electronic component is arranged on the anisotropic conductive film, in the electronic component mounting apparatus for thermal compression bonding to the substrate the electronic component via the anisotropic conductive film, wherein When generating plasma, the process gas may have a plurality of
An electronic component mounting device characterized in that a voltage of a wave number is superimposed and applied .
【請求項6】 前記部品実装部は、前記異方性導電膜上
に前記電子部品を配置して仮付けする仮付け部と、仮付
けされた前記電子部品を高温に加熱して圧着する本付け
部とを有することを特徴とする請求項5に記載の電子部
品実装装置。
6. The component mounting portion arranges the electronic component on the anisotropic conductive film and temporarily attaches the electronic component, and a book that heats the temporarily attached electronic component to a high temperature to perform pressure bonding. The electronic component mounting apparatus according to claim 5, further comprising a mounting portion.
【請求項7】 前記本付け部は、前記基材を2つ並べて
対にする整列機と、一対の前記基材を同時に加熱して圧
着する圧着機とを有することを特徴とする請求項6に記
載の電子部品実装装置。
7. The main attachment section includes an aligning machine for arranging two of the base materials side by side and a crimping machine for simultaneously heating and crimping the pair of base materials. The electronic component mounting apparatus described in.
【請求項8】 前記基材をプラズマ洗浄するときの搬送8. A transfer for cleaning the substrate by plasma
部材が、セラミック製であることを特徴とする請求項5The member is made of ceramics.
に記載の電子部品実装装置。The electronic component mounting apparatus described in.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4669600B2 (en) * 2000-08-18 2011-04-13 東レエンジニアリング株式会社 Mounting device
KR100341846B1 (en) * 2000-08-24 2002-06-26 구영석 Automati chip bonding machine
JP2002282807A (en) * 2001-03-28 2002-10-02 Toray Ind Inc Method and device for cleaning substrate
JP2003318217A (en) * 2001-06-20 2003-11-07 Toray Eng Co Ltd Method and device for mounting
KR20030055778A (en) * 2001-12-27 2003-07-04 한동희 Bonding equipment for chips of flat panel display and bonding method using the same
KR20030094566A (en) * 2002-06-04 2003-12-18 한동희 Bonding Equipment For Circuit Board And Anisotropic Conductive Film Of Flat Panel Display
KR20040003787A (en) * 2002-07-04 2004-01-13 한동희 Bonding Equipment For Anisotropic Conductive Film And Circuit Board Of Flat Panel Display
KR20040006224A (en) * 2002-07-11 2004-01-24 한동희 Bonding Equipment For Anisotropic Conductive Film And Drive Chip Of Flat Panel Display
KR20040011906A (en) * 2002-07-31 2004-02-11 한동희 Bonding Equipment For Circuit Board And Anisotropic Conductive Film Of Flat Panel Display
JP2004071611A (en) * 2002-08-01 2004-03-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Device and method of mounting electronic part
KR20040015945A (en) * 2002-08-14 2004-02-21 한동희 Bonding Equipment For Circuit Board And Anisotropic Conductive Film Of Flat Panel Display
KR20040019506A (en) * 2002-08-28 2004-03-06 한동희 Bonding Equipment For Circuit Board And Anisotropic Conductive Film Of Flat Panel Display
JP4892209B2 (en) 2005-08-22 2012-03-07 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 Manufacturing method of semiconductor device
JP4691417B2 (en) * 2005-08-22 2011-06-01 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 CIRCUIT CONNECTION STRUCTURE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE FOR CIRCUIT CONNECTION STRUCTURE
JP2007098241A (en) * 2005-10-03 2007-04-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method and device for cleaning of chuck nozzle and electronic component mounting device
JP4687613B2 (en) * 2006-08-25 2011-05-25 パナソニック株式会社 Circuit body mounting method and apparatus on display panel
KR100879005B1 (en) 2006-11-02 2009-01-15 주식회사 코윈디에스티 Laser bonding apparatus and laser bonding method
US20150101658A1 (en) * 2012-05-10 2015-04-16 Sharp Kabushiki Kaisha Photovoltaic device and method for manufacturing same
CN106660079A (en) * 2014-08-25 2017-05-10 夏普株式会社 Method for manufacturing display panel
KR101580104B1 (en) * 2014-10-01 2015-12-28 비전세미콘(주) Semiconductor plasma cleaning apparatus
CN105388643B (en) * 2015-11-27 2019-03-26 江西合力泰科技有限公司 The manufacturing method of type LCD display mould group is thinned

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3557682B2 (en) * 1994-01-13 2004-08-25 セイコーエプソン株式会社 Semiconductor device manufacturing method and apparatus, and liquid crystal display manufacturing method
JP2555987B2 (en) * 1994-06-23 1996-11-20 日本電気株式会社 Active matrix substrate
JPH08114812A (en) * 1994-10-17 1996-05-07 Toshiba Corp Apparatus for producing liquid crystal panel
JP3243973B2 (en) * 1995-06-27 2002-01-07 松下電器産業株式会社 Electronic component bonding apparatus and bonding method
JP3246282B2 (en) * 1995-07-28 2002-01-15 松下電器産業株式会社 Display panel module manufacturing apparatus and display panel module manufacturing method

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