JP3467950B2 - 基板の洗浄方法およびその方法を用いた装置 - Google Patents
基板の洗浄方法およびその方法を用いた装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体あるいはＬ
ＣＤ基板等を洗浄する洗浄方法および装置に関し、特に
光学デバイスのガラス板の表面を洗浄する洗浄方法およ
びその方法を用いる装置に関する。
ＣＤ基板等を洗浄する洗浄方法および装置に関し、特に
光学デバイスのガラス板の表面を洗浄する洗浄方法およ
びその方法を用いる装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２および図３は、半導体あるいはＬＣ
Ｄ基板等を洗浄する従来の方法を示している。図２で示
される場合には、洗浄対象の基板４０を液槽４１の上に
セットし、溶剤シャワーノズル４２から溶剤を基板の上
に注ぎつつ、ブラシ４３を回転させながら、基板４０に
接触させることにより異物を除去して洗浄している。図
３で示される場合には、液槽５１の中に溶剤５２を満た
し、その中に基板５０をセットするとともに、溶剤５２
の中に超音波発生装置５３から超音波５４を発射し、発
射した超音波５４のエネルギで基板５０の表面の異物を
除去することにより洗浄している。
Ｄ基板等を洗浄する従来の方法を示している。図２で示
される場合には、洗浄対象の基板４０を液槽４１の上に
セットし、溶剤シャワーノズル４２から溶剤を基板の上
に注ぎつつ、ブラシ４３を回転させながら、基板４０に
接触させることにより異物を除去して洗浄している。図
３で示される場合には、液槽５１の中に溶剤５２を満た
し、その中に基板５０をセットするとともに、溶剤５２
の中に超音波発生装置５３から超音波５４を発射し、発
射した超音波５４のエネルギで基板５０の表面の異物を
除去することにより洗浄している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図２および図３で示し
た従来の洗浄方法においては、一方の方法だけでは洗浄
が充分でないため、両方の方法を別々な装置を用いて実
行している。したがって、基板を２つの装置の間を移動
しなければならず、また、２工程に分かれているため、
工数も余分にかかるという問題がある。
た従来の洗浄方法においては、一方の方法だけでは洗浄
が充分でないため、両方の方法を別々な装置を用いて実
行している。したがって、基板を２つの装置の間を移動
しなければならず、また、２工程に分かれているため、
工数も余分にかかるという問題がある。
【０００４】本発明の目的は、上記の問題に鑑み、基板
を２つの装置の間で移動する必要がなく、工程を分けず
に一つの装置で洗浄できる洗浄方法および装置を提供す
ることである。すなわち、一つの装置で実質的にブラシ
洗浄および超音波洗浄にあたる洗浄を行おうとするもの
である。
を２つの装置の間で移動する必要がなく、工程を分けず
に一つの装置で洗浄できる洗浄方法および装置を提供す
ることである。すなわち、一つの装置で実質的にブラシ
洗浄および超音波洗浄にあたる洗浄を行おうとするもの
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、半導体基板およびＬＣＤ基板を含む基板の
表面を洗浄する基板洗浄方法において、洗浄用の布であ
るワイピングクロスに洗浄用の溶剤を含浸させ、前記ワ
イピングクロスの溶剤が含浸された部分をクリーニング
ヘッドの先端部分で前記基板表面に押圧し、前記クリー
ニングヘッドの先端部分から超音波を発射し、前記基板
と、前記ワイピングクロスとを、前記超音波を発生する
クリーニングヘッドの先端部分で押圧した状態で相互に
摺動させ、前記基板表面を洗浄することを特徴とする。
に本発明は、半導体基板およびＬＣＤ基板を含む基板の
表面を洗浄する基板洗浄方法において、洗浄用の布であ
るワイピングクロスに洗浄用の溶剤を含浸させ、前記ワ
イピングクロスの溶剤が含浸された部分をクリーニング
ヘッドの先端部分で前記基板表面に押圧し、前記クリー
ニングヘッドの先端部分から超音波を発射し、前記基板
と、前記ワイピングクロスとを、前記超音波を発生する
クリーニングヘッドの先端部分で押圧した状態で相互に
摺動させ、前記基板表面を洗浄することを特徴とする。
【０００６】また、本発明は、前記ワイピングクロスの
両端を、それぞれ供給および巻き取り可能に支持し、ワ
イピングクロスを適宜なタイミングで移動させる際に、
クリーニングヘッドに対する供給側で溶剤を前記ワイピ
ングクロスに含浸し、溶剤を含浸した部分をクリーニン
グヘッドの先端部分の位置に移動することを特徴とす
る。また、本発明は、前記適宜なタイミングが、間欠的
なタイミングであることを特徴とする。また、本発明
は、前記適宜なタイミングが、連続的なタイミングであ
ることを特徴とする。また、本発明は、前記基板とワイ
ピングクロスとの相互の摺動の後に、超音波の発射を停
止し、前記ワイピングクロスの溶剤が含浸されていない
部分を、前記クリーニングヘッドの先端部分に移動し、
その部分を前記基板表面に押圧した状態で前記基板とワ
イピングクロスとを相互に摺動させ、前記基板表面を乾
燥させることを特徴とする。
両端を、それぞれ供給および巻き取り可能に支持し、ワ
イピングクロスを適宜なタイミングで移動させる際に、
クリーニングヘッドに対する供給側で溶剤を前記ワイピ
ングクロスに含浸し、溶剤を含浸した部分をクリーニン
グヘッドの先端部分の位置に移動することを特徴とす
る。また、本発明は、前記適宜なタイミングが、間欠的
なタイミングであることを特徴とする。また、本発明
は、前記適宜なタイミングが、連続的なタイミングであ
ることを特徴とする。また、本発明は、前記基板とワイ
ピングクロスとの相互の摺動の後に、超音波の発射を停
止し、前記ワイピングクロスの溶剤が含浸されていない
部分を、前記クリーニングヘッドの先端部分に移動し、
その部分を前記基板表面に押圧した状態で前記基板とワ
イピングクロスとを相互に摺動させ、前記基板表面を乾
燥させることを特徴とする。
【０００７】さらに、本発明は、半導体基板およびＬＣ
Ｄ基板を含む基板の表面を洗浄する基板洗浄装置におい
て、基板を洗浄位置に搬送する基板搬送機構と、先端部
分が先細にされたクリーニングヘッドと、クリーニング
ヘッドの先端部分を、洗浄位置に設定される基板の表面
に向け、クリーニングヘッドを基板の表面に垂直に移動
可能に支持しているヘッド駆動機構と、クリーニングヘ
ッドの後端に取り付けられ、超音波をクリーニングヘッ
ドの先端部分から発射させる超音波発生装置と、洗浄用
の布であるワイピングクロスが、洗浄位置に設定された
基板表面と、クリーニングヘッドの先端部分との間配置
されるように、ワイピングクロスの両端を支持している
クロス供給および巻き取り機構と、クリーニングヘッド
に対してワイピングクロスの供給側においてワイピング
クロスに溶剤を含浸させる溶剤供給装置と、前記基板搬
送機構により前記洗浄位置に搬入させた前記基板の表面
に、前記ワイピングクロスの溶剤を含浸させた部分を、
前記超音波を発生するクリーニングヘッドの先端部分に
より押圧させた状態で、前記基板とワイピングクロスと
を相互に摺動させ、前記基板表面を洗浄する制御部とを
有することを特徴とする。
Ｄ基板を含む基板の表面を洗浄する基板洗浄装置におい
て、基板を洗浄位置に搬送する基板搬送機構と、先端部
分が先細にされたクリーニングヘッドと、クリーニング
ヘッドの先端部分を、洗浄位置に設定される基板の表面
に向け、クリーニングヘッドを基板の表面に垂直に移動
可能に支持しているヘッド駆動機構と、クリーニングヘ
ッドの後端に取り付けられ、超音波をクリーニングヘッ
ドの先端部分から発射させる超音波発生装置と、洗浄用
の布であるワイピングクロスが、洗浄位置に設定された
基板表面と、クリーニングヘッドの先端部分との間配置
されるように、ワイピングクロスの両端を支持している
クロス供給および巻き取り機構と、クリーニングヘッド
に対してワイピングクロスの供給側においてワイピング
クロスに溶剤を含浸させる溶剤供給装置と、前記基板搬
送機構により前記洗浄位置に搬入させた前記基板の表面
に、前記ワイピングクロスの溶剤を含浸させた部分を、
前記超音波を発生するクリーニングヘッドの先端部分に
より押圧させた状態で、前記基板とワイピングクロスと
を相互に摺動させ、前記基板表面を洗浄する制御部とを
有することを特徴とする。
【０００８】また、本発明は、前記溶剤供給装置が、注
射器型をした溶剤供給端と、溶剤供給端移動機構とから
構成されており、前記ワイピングクロスに平均的に溶剤
が与えられるように、前記溶剤供給端は、ワイピングク
ロスの移動方向に直角な幅方向に往復動されることを特
徴とする。また、本発明は、前記溶剤供給装置が、溶剤
吐出口の幅がワイピングクロスの幅と同じになるよう
に、ワイピングクロスの幅方向に延びている箆形状の溶
剤供給端からなり、前記ワイピングクロスに平均的に溶
剤を与えられるようにされていることを特徴とする。
射器型をした溶剤供給端と、溶剤供給端移動機構とから
構成されており、前記ワイピングクロスに平均的に溶剤
が与えられるように、前記溶剤供給端は、ワイピングク
ロスの移動方向に直角な幅方向に往復動されることを特
徴とする。また、本発明は、前記溶剤供給装置が、溶剤
吐出口の幅がワイピングクロスの幅と同じになるよう
に、ワイピングクロスの幅方向に延びている箆形状の溶
剤供給端からなり、前記ワイピングクロスに平均的に溶
剤を与えられるようにされていることを特徴とする。
【０００９】また、本発明は、前記制御部が、前記基板
とワイピングクロスとの相互の摺動の後に、超音波の発
射を停止させ、前記ワイピングクロスの溶剤が含浸され
ていない部分を、前記クリーニングヘッドの先端部分に
移動させ、前記ワイピングクロスの溶剤が含浸されてい
ない部分を前記クリーニングヘッドの先端部分により前
記基板表面に押圧した状態で相互に摺動させることによ
り、前記基板表面を乾燥させることを特徴とする。
とワイピングクロスとの相互の摺動の後に、超音波の発
射を停止させ、前記ワイピングクロスの溶剤が含浸され
ていない部分を、前記クリーニングヘッドの先端部分に
移動させ、前記ワイピングクロスの溶剤が含浸されてい
ない部分を前記クリーニングヘッドの先端部分により前
記基板表面に押圧した状態で相互に摺動させることによ
り、前記基板表面を乾燥させることを特徴とする。
【００１０】本発明の基板洗浄方法においては、ワイピ
ングクロスに洗浄用の溶剤を含浸させ、溶剤が含浸され
た部分をクリーニングヘッドの先端部分で前記基板表面
に押圧し、クリーニングヘッドの先端部分から超音波を
発射し、基板と、ワイピングクロスとを、超音波を発生
するクリーニングヘッドの先端部分で押圧した状態で相
互に摺動させ、前記基板表面を洗浄する。
ングクロスに洗浄用の溶剤を含浸させ、溶剤が含浸され
た部分をクリーニングヘッドの先端部分で前記基板表面
に押圧し、クリーニングヘッドの先端部分から超音波を
発射し、基板と、ワイピングクロスとを、超音波を発生
するクリーニングヘッドの先端部分で押圧した状態で相
互に摺動させ、前記基板表面を洗浄する。
【００１１】また、本発明の基板洗浄装置においては、
制御部の制御に従って、溶剤供給装置がワイピングクロ
スに溶剤を自動的に含浸させ、クロス供給および巻き取
り機構が、ワイピングクロスを適宜なタイミングで移動
させ、溶剤が含浸されたワイピングクロスの部分をクリ
ーニングヘッドの先端部分の所に移動させる。そこで、
クリーニングヘッドがその先端部分で、溶剤が含浸され
たワイピングクロスの部分を基板の表面に押圧し、その
状態で、基板とワイピングクロスを相互に摺動させ、基
板表面を洗浄する。
制御部の制御に従って、溶剤供給装置がワイピングクロ
スに溶剤を自動的に含浸させ、クロス供給および巻き取
り機構が、ワイピングクロスを適宜なタイミングで移動
させ、溶剤が含浸されたワイピングクロスの部分をクリ
ーニングヘッドの先端部分の所に移動させる。そこで、
クリーニングヘッドがその先端部分で、溶剤が含浸され
たワイピングクロスの部分を基板の表面に押圧し、その
状態で、基板とワイピングクロスを相互に摺動させ、基
板表面を洗浄する。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
説明する。図１は本発明の実施の形態に係わる洗浄装置
の一例を示す構成図である。なお、この場合、従来のよ
うに液槽は、必要とせず、各部はフレーム底面上に設け
られるが、図を見易くするためにフレームは図から省略
してある。
説明する。図１は本発明の実施の形態に係わる洗浄装置
の一例を示す構成図である。なお、この場合、従来のよ
うに液槽は、必要とせず、各部はフレーム底面上に設け
られるが、図を見易くするためにフレームは図から省略
してある。
【００１３】フレーム底面の上の基板洗浄位置には、光
学ガラス基板１０が、基板搬送機構によって搬入されて
きて、洗浄動作をさせられ、再び搬出される。本例にお
いては、洗浄位置における光学ガラス基板１０の洗浄動
作としては、図の矢印Ｈで示されるように水平方向に往
復動させられる。洗浄位置の光学ガラス基板１０の搬送
位置の垂直上方には、クリーニングヘッド１１が、ヘッ
ド駆動機構（不図示）によって上下に移動可能なように
取り付けられている。
学ガラス基板１０が、基板搬送機構によって搬入されて
きて、洗浄動作をさせられ、再び搬出される。本例にお
いては、洗浄位置における光学ガラス基板１０の洗浄動
作としては、図の矢印Ｈで示されるように水平方向に往
復動させられる。洗浄位置の光学ガラス基板１０の搬送
位置の垂直上方には、クリーニングヘッド１１が、ヘッ
ド駆動機構（不図示）によって上下に移動可能なように
取り付けられている。
【００１４】クリーニングヘッド１１は、例えばステン
レスのような金属から形成され、その上部には超音波を
クリーニングヘッド１１に伝達する超音波発生装置１２
が取り付けられている。また、クリーニングヘッド１１
の下方の先端部分１１ａの横断面は、丸みを帯びた先細
になるように加工されており、その先細の先端部分１１
ａは、洗浄位置の光学ガラス基板１０の表面に平行で、
光学ガラス基板１０の移動方向に直角な方向（横方向）
に直線状に延びている箆形状（あるいは蒲鉾形状）をし
ている。クリーニングヘッド１１の横方向の幅は、洗浄
対象の光学ガラス基板の幅よりも若干大きめに設定され
ている。
レスのような金属から形成され、その上部には超音波を
クリーニングヘッド１１に伝達する超音波発生装置１２
が取り付けられている。また、クリーニングヘッド１１
の下方の先端部分１１ａの横断面は、丸みを帯びた先細
になるように加工されており、その先細の先端部分１１
ａは、洗浄位置の光学ガラス基板１０の表面に平行で、
光学ガラス基板１０の移動方向に直角な方向（横方向）
に直線状に延びている箆形状（あるいは蒲鉾形状）をし
ている。クリーニングヘッド１１の横方向の幅は、洗浄
対象の光学ガラス基板の幅よりも若干大きめに設定され
ている。
【００１５】繊維材料からなるワイピングクロス１３
は、クリーニングヘッド１１の先端部分１１ａと、洗浄
位置の光学ガラス基板１０の洗浄対象の表面との間に位
置するように配置されている。ワイピングクロス１３と
しては、例えば、株式会社カネボウの「ザヴィーナミニ
マックス」や、株式会社トーレの「トレシー」、株式会
社テイジンの「ミクロスター」を用いることができる。
ワイピングクロス１３の一端は、供給ロール１５に巻か
れ、他端は巻き取りロール１６に巻かれており、矢印Ｓ
で示される方向に供給および巻き取られる。ワイピング
クロス１３の幅は、クリーニングヘッドの幅よりも若干
大きめにしてある。クリーニングヘッド１１に対しワイ
ピングクロス１３の供給側であって、ワイピングクロス
１３の上方には、溶剤供給装置１４が配置されている。
は、クリーニングヘッド１１の先端部分１１ａと、洗浄
位置の光学ガラス基板１０の洗浄対象の表面との間に位
置するように配置されている。ワイピングクロス１３と
しては、例えば、株式会社カネボウの「ザヴィーナミニ
マックス」や、株式会社トーレの「トレシー」、株式会
社テイジンの「ミクロスター」を用いることができる。
ワイピングクロス１３の一端は、供給ロール１５に巻か
れ、他端は巻き取りロール１６に巻かれており、矢印Ｓ
で示される方向に供給および巻き取られる。ワイピング
クロス１３の幅は、クリーニングヘッドの幅よりも若干
大きめにしてある。クリーニングヘッド１１に対しワイ
ピングクロス１３の供給側であって、ワイピングクロス
１３の上方には、溶剤供給装置１４が配置されている。
【００１６】溶剤供給装置１４は、注射器型をした溶剤
供給端１４ａと、溶剤供給端移動機構とから構成されて
おり、ワイピングクロス１３に平均的に溶剤（例えば、
アルコール）が与えられるように、溶剤をワイピングク
ロス１３の上に滴下し、ワイピングクロス１３に含浸さ
せる。本例の場合、注射器型をした溶剤供給端１４ａ
は、滴下する溶剤が、ワイピングクロス１３に平均的に
与えられるように、ワイピングクロス１３の幅方向（ワ
イピングクロス１３の移動方向Ｓに直角）に溶剤供給装
置移動機構によって適宜に往復動される。
供給端１４ａと、溶剤供給端移動機構とから構成されて
おり、ワイピングクロス１３に平均的に溶剤（例えば、
アルコール）が与えられるように、溶剤をワイピングク
ロス１３の上に滴下し、ワイピングクロス１３に含浸さ
せる。本例の場合、注射器型をした溶剤供給端１４ａ
は、滴下する溶剤が、ワイピングクロス１３に平均的に
与えられるように、ワイピングクロス１３の幅方向（ワ
イピングクロス１３の移動方向Ｓに直角）に溶剤供給装
置移動機構によって適宜に往復動される。
【００１７】上述の各部材および装置は、制御部（不図
示）によって互いのタイミングを調節される。すなわ
ち、制御部は、基板搬送機構を制御して、基板搬送機構
に搭載されて供給された光学ガラス基板１０を、洗浄位
置に移動する。この間に、制御部は、溶剤供給装置移動
機構を介して溶剤供給端１４ａをワイピングクロス１３
の幅方向に往復動させつつ、溶剤をワイピングクロス１
３の上に滴下させる。溶剤を所定量だけ滴下した後に、
滴下を停止し、ワイピングクロス１３の溶剤を含んだ部
分が、クリーニングヘッド１１の先端部分１１ａの直下
にくるように、供給ロール１５および巻き取りロール１
６を制御する。
示）によって互いのタイミングを調節される。すなわ
ち、制御部は、基板搬送機構を制御して、基板搬送機構
に搭載されて供給された光学ガラス基板１０を、洗浄位
置に移動する。この間に、制御部は、溶剤供給装置移動
機構を介して溶剤供給端１４ａをワイピングクロス１３
の幅方向に往復動させつつ、溶剤をワイピングクロス１
３の上に滴下させる。溶剤を所定量だけ滴下した後に、
滴下を停止し、ワイピングクロス１３の溶剤を含んだ部
分が、クリーニングヘッド１１の先端部分１１ａの直下
にくるように、供給ロール１５および巻き取りロール１
６を制御する。
【００１８】ワイピングクロス１３の溶剤を含んだ部分
が、クリーニングヘッド１１の先端部分１１ａの直下に
くると、供給ロール１５および巻き取りロール１６を制
御して、ワイピングクロス１３の移動を停止し、ヘッド
駆動機構を介してクリーニングヘッド１１を下降させ、
クリーニングヘッド１１の先端部分１１ａにより、ワイ
ピングクロス１３を、光学ガラス基板１０の上に適宜な
押圧力で押圧する。この押圧した状態で、制御部は、超
音波発生装置１２を駆動させてクリーニングヘッド１１
の先端部分１１ａから超音波を光学ガラス基板１０に向
けて発射させるとともに、搬送機構を駆動して、光学ガ
ラス基板１０を矢印Ｈ方向に所定回数だけ往復動させ、
光学ガラス基板１０の表面を洗浄する。
が、クリーニングヘッド１１の先端部分１１ａの直下に
くると、供給ロール１５および巻き取りロール１６を制
御して、ワイピングクロス１３の移動を停止し、ヘッド
駆動機構を介してクリーニングヘッド１１を下降させ、
クリーニングヘッド１１の先端部分１１ａにより、ワイ
ピングクロス１３を、光学ガラス基板１０の上に適宜な
押圧力で押圧する。この押圧した状態で、制御部は、超
音波発生装置１２を駆動させてクリーニングヘッド１１
の先端部分１１ａから超音波を光学ガラス基板１０に向
けて発射させるとともに、搬送機構を駆動して、光学ガ
ラス基板１０を矢印Ｈ方向に所定回数だけ往復動させ、
光学ガラス基板１０の表面を洗浄する。
【００１９】光学ガラス基板１０の表面の洗浄が完了す
ると、制御部は、超音波発生装置１２の超音波の発射を
停止させ、ヘッド駆動機構により、クリーニングヘッド
を上昇させた後に、ワイピングクロス１３の溶剤を含ん
でいない部分が、クリーニングヘッド１１の先端部分１
１ａの直下にくるように、供給ロール１５および巻き取
りロール１６を制御する。ワイピングクロス１３の溶剤
を含まない部分が、クリーニングヘッド１１の先端部分
１１ａの直下にくると、供給ロール１５および巻き取り
ロール１６を制御して、ワイピングクロス１３の移動を
停止し、ヘッド駆動機構を介してクリーニングヘッド１
１を下降させ、クリーニングヘッド１１の先端部分１１
ａにより、ワイピングクロス１３を、光学ガラス基板１
０の上に適宜な押圧力で押圧する。この押圧した状態
で、制御部は、搬送機構を駆動して、光学ガラス基板１
０を矢印Ｈ方向に所定回数だけ往復動させ、光学ガラス
基板１０の表面を乾燥させる。
ると、制御部は、超音波発生装置１２の超音波の発射を
停止させ、ヘッド駆動機構により、クリーニングヘッド
を上昇させた後に、ワイピングクロス１３の溶剤を含ん
でいない部分が、クリーニングヘッド１１の先端部分１
１ａの直下にくるように、供給ロール１５および巻き取
りロール１６を制御する。ワイピングクロス１３の溶剤
を含まない部分が、クリーニングヘッド１１の先端部分
１１ａの直下にくると、供給ロール１５および巻き取り
ロール１６を制御して、ワイピングクロス１３の移動を
停止し、ヘッド駆動機構を介してクリーニングヘッド１
１を下降させ、クリーニングヘッド１１の先端部分１１
ａにより、ワイピングクロス１３を、光学ガラス基板１
０の上に適宜な押圧力で押圧する。この押圧した状態
で、制御部は、搬送機構を駆動して、光学ガラス基板１
０を矢印Ｈ方向に所定回数だけ往復動させ、光学ガラス
基板１０の表面を乾燥させる。
【００２０】光学ガラス基板１０の表面の乾燥が完了す
ると、制御部は、ヘッド駆動機構により、クリーニング
ヘッドを上昇させた後に、基板搬送機構により洗浄およ
び乾燥済みの光学ガラス基板１０を装置外に搬出させる
とともに、新たに供給された光学ガラス基板１０を洗浄
位置に移動させることを開始し、ワイピングクロス１３
の上への溶剤の新たな滴下を開始し、上述した動作を繰
り返す。
ると、制御部は、ヘッド駆動機構により、クリーニング
ヘッドを上昇させた後に、基板搬送機構により洗浄およ
び乾燥済みの光学ガラス基板１０を装置外に搬出させる
とともに、新たに供給された光学ガラス基板１０を洗浄
位置に移動させることを開始し、ワイピングクロス１３
の上への溶剤の新たな滴下を開始し、上述した動作を繰
り返す。
【００２１】このような構成にすると、溶剤を含んだワ
イピングクロス１３が従来のブラシによる洗浄作用の役
目を果たし、超音波を発射するクリーニングヘッド１１
とワイピングクロス１３に含まれる溶剤とが、従来の超
音波による洗浄作用の役目を果たす。したがって、従来
２段階で行っていた洗浄工程が一段で行える利点があ
り、また、洗浄用のワイピングクロス１３を光学ガラス
基板１０の乾燥にも応用することができ、さらに、従来
必要であった溶剤収容のための大きな液槽は、必要とし
なくなる利点もある。
イピングクロス１３が従来のブラシによる洗浄作用の役
目を果たし、超音波を発射するクリーニングヘッド１１
とワイピングクロス１３に含まれる溶剤とが、従来の超
音波による洗浄作用の役目を果たす。したがって、従来
２段階で行っていた洗浄工程が一段で行える利点があ
り、また、洗浄用のワイピングクロス１３を光学ガラス
基板１０の乾燥にも応用することができ、さらに、従来
必要であった溶剤収容のための大きな液槽は、必要とし
なくなる利点もある。
【００２２】上述した実施の形態においては、溶剤供給
装置１４の溶剤供給端１４ａは、注射器状に形成され、
溶剤供給端１４ａから滴下する溶剤が、ワイピングクロ
ス１３に平均的に与えられるように、ワイピングクロス
１３の幅方向に溶剤供給装置移動機構によって適宜に往
復動させられるようにしたが、溶剤供給端１４ａの幅を
ワイピングクロス１３の幅に合わせて延ばし、ワイピン
グクロス１３の幅方向に同時に均一に溶剤が供給される
ようにしてもよい。このような幅広の溶剤供給装置１４
を採用した場合には、溶剤供給装置移動機構は、削除で
きるという利点がある。
装置１４の溶剤供給端１４ａは、注射器状に形成され、
溶剤供給端１４ａから滴下する溶剤が、ワイピングクロ
ス１３に平均的に与えられるように、ワイピングクロス
１３の幅方向に溶剤供給装置移動機構によって適宜に往
復動させられるようにしたが、溶剤供給端１４ａの幅を
ワイピングクロス１３の幅に合わせて延ばし、ワイピン
グクロス１３の幅方向に同時に均一に溶剤が供給される
ようにしてもよい。このような幅広の溶剤供給装置１４
を採用した場合には、溶剤供給装置移動機構は、削除で
きるという利点がある。
【００２３】また、ワイピングクロス１３は、供給ロー
ル１５および巻き取りロール１６により間欠的に移動さ
れるようにしたが、これとは異なり、ワイピングクロス
１３を一方方向に連続的に移動するようにし、これに伴
って、光学ガラス基板をワイピングクロス１３の移動方
向とは、逆の方向に連続的に移動させるようにしてもよ
い。また、乾燥はワイピングクロス１３によらないで別
途に設けるのが好ましい。この場合、上述の幅広の溶剤
供給装置１４を用いると、装置全体の構造および処理ス
テップがより単純化されるという利点がある。
ル１５および巻き取りロール１６により間欠的に移動さ
れるようにしたが、これとは異なり、ワイピングクロス
１３を一方方向に連続的に移動するようにし、これに伴
って、光学ガラス基板をワイピングクロス１３の移動方
向とは、逆の方向に連続的に移動させるようにしてもよ
い。また、乾燥はワイピングクロス１３によらないで別
途に設けるのが好ましい。この場合、上述の幅広の溶剤
供給装置１４を用いると、装置全体の構造および処理ス
テップがより単純化されるという利点がある。
【００２４】また、上述の実施の形態においては、クリ
ーニングヘッド１１は、箆形状をしているものとした
が、半球形状をしていてもよい。この場合、制御部は、
クリーニングヘッド１１、超音波発生装置１２、ワイピ
ングクロス１３、溶剤供給装置１４を、一体として、基
板搬送方向に直角な方向に往復動するように制御しなけ
ればならない。ワイピングクロス１３の幅は、クリーニ
ングヘッド１１の先端部分１１ａの形状に合わせて幅の
狭いものでよい。
ーニングヘッド１１は、箆形状をしているものとした
が、半球形状をしていてもよい。この場合、制御部は、
クリーニングヘッド１１、超音波発生装置１２、ワイピ
ングクロス１３、溶剤供給装置１４を、一体として、基
板搬送方向に直角な方向に往復動するように制御しなけ
ればならない。ワイピングクロス１３の幅は、クリーニ
ングヘッド１１の先端部分１１ａの形状に合わせて幅の
狭いものでよい。
【００２５】もちろん上述の各部材１１，１２，１３，
１４を一体として往復動させる代わりに、光学ガラス基
板１０を洗浄位置においてＸ，Ｙ方向に移動させてもよ
い。また、上述の実施の形態においては、光学ガラス基
板を処理することとしたが、半導体基板などの同じよう
な処理を必要とする他の部材の洗浄処理に、本発明が応
用できることは言うまでもない。
１４を一体として往復動させる代わりに、光学ガラス基
板１０を洗浄位置においてＸ，Ｙ方向に移動させてもよ
い。また、上述の実施の形態においては、光学ガラス基
板を処理することとしたが、半導体基板などの同じよう
な処理を必要とする他の部材の洗浄処理に、本発明が応
用できることは言うまでもない。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように本発明の基板洗浄方
法および装置は、ワイピングクロスに洗浄用の溶剤を含
浸させ、溶剤が含浸された部分をクリーニングヘッドの
先端部分で前記基板表面に押圧し、クリーニングヘッド
の先端部分から超音波を発射し、基板と、ワイピングク
ロスとを、超音波を発生するクリーニングヘッドの先端
部分で押圧した状態で相互に摺動させ、前記基板表面を
洗浄することにより、従来のブラシによる洗浄作用と超
音波による洗浄作用と両方を一つの工程で実行させるこ
とができるという効果がある。
法および装置は、ワイピングクロスに洗浄用の溶剤を含
浸させ、溶剤が含浸された部分をクリーニングヘッドの
先端部分で前記基板表面に押圧し、クリーニングヘッド
の先端部分から超音波を発射し、基板と、ワイピングク
ロスとを、超音波を発生するクリーニングヘッドの先端
部分で押圧した状態で相互に摺動させ、前記基板表面を
洗浄することにより、従来のブラシによる洗浄作用と超
音波による洗浄作用と両方を一つの工程で実行させるこ
とができるという効果がある。
【図１】本発明の実施の形態に係わる洗浄装置の一例を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図２】従来例を示す構成図である。
【図３】従来例を示す構成図である。
１０ 光学ガラス基板
１１ クリーニングヘッド
１２ 超音波発生装置
１３ ワイピングクロス
１４ 溶剤供給装置
１４ａ 溶剤供給端
１５ 供給ロール
１６ 巻き取りロール
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/304
B08B 3/12
Claims (9)
- 【請求項１】 半導体基板およびＬＣＤ基板を含む基板
の表面を洗浄する基板洗浄方法において、 洗浄用の布であるワイピングクロスに洗浄用の溶剤を含
浸させ、 前記ワイピングクロスの溶剤が含浸された部分をクリー
ニングヘッドの先端部分で前記基板表面に押圧し、 前記クリーニングヘッドの先端部分から超音波を発射
し、 前記基板と、前記ワイピングクロスとを、前記超音波を
発生するクリーニングヘッドの先端部分で押圧した状態
で相互に摺動させ、前記基板表面を洗浄する、 ことを特徴とする基板洗浄方法。 - 【請求項２】 前記ワイピングクロスの両端を、それぞ
れ供給および巻き取り可能に支持し、ワイピングクロス
を適宜なタイミングで移動させる際に、クリーニングヘ
ッドに対する供給側で溶剤を前記ワイピングクロスに含
浸し、溶剤を含浸した部分をクリーニングヘッドの先端
部分の位置に移動する請求項１記載の基板洗浄方法。 - 【請求項３】 前記適宜なタイミングは、間欠的なタイ
ミングである請求項２記載の基板洗浄方法。 - 【請求項４】 前記適宜なタイミングは、連続的なタイ
ミングである請求項２記載の基板洗浄方法。 - 【請求項５】 前記基板とワイピングクロスとの相互の
摺動の後に、超音波の発射を停止し、前記ワイピングク
ロスの溶剤が含浸されていない部分を、前記クリーニン
グヘッドの先端部分に移動し、その部分を前記基板表面
に押圧した状態で前記基板とワイピングクロスとを相互
に摺動させ、前記基板表面を乾燥させる請求項１ないし
４のいずれか１項記載の基板洗浄方法。 - 【請求項６】 半導体基板およびＬＣＤ基板を含む基板
の表面を洗浄する基板洗浄装置において、 基板を洗浄位置に搬送する基板搬送機構と、 先端部分が先細にされたクリーニングヘッドと、 クリーニングヘッドの先端部分を、洗浄位置に設定され
る基板の表面に向け、クリーニングヘッドを基板の表面
に垂直に移動可能に支持しているヘッド駆動機構と、 クリーニングヘッドの後端に取り付けられ、超音波をク
リーニングヘッドの先端部分から発射させる超音波発生
装置と、 洗浄用の布であるワイピングクロスが、洗浄位置に設定
された基板表面と、クリーニングヘッドの先端部分との
間配置されるように、ワイピングクロスの両端を支持し
ているクロス供給および巻き取り機構と、 クリーニングヘッドに対してワイピングクロスの供給側
においてワイピングクロスに溶剤を含浸させる溶剤供給
装置と、 前記基板搬送機構により前記洗浄位置に搬入させた前記
基板の表面に、前記ワイピングクロスの溶剤を含浸させ
た部分を、前記超音波を発生するクリーニングヘッドの
先端部分により押圧させた状態で、前記基板とワイピン
グクロスとを相互に摺動させ、前記基板表面を洗浄する
制御部と、 を有することを特徴とする基板洗浄装置。 - 【請求項７】 前記溶剤供給装置は、注射器型をした溶
剤供給端と、溶剤供給端移動機構とから構成されてお
り、前記ワイピングクロスに平均的に溶剤が与えられる
ように、前記溶剤供給端は、ワイピングクロスの移動方
向に直角な幅方向に往復動される請求項６記載の基板洗
浄装置。 - 【請求項８】 前記溶剤供給装置は、溶剤吐出口の幅が
ワイピングクロスの幅と同じになるように、ワイピング
クロスの幅方向に延びている箆形状の溶剤供給端からな
り、前記ワイピングクロスに平均的に溶剤を与えられる
ようにされている請求項６記載の基板洗浄装置。 - 【請求項９】 前記制御部は、前記基板とワイピングク
ロスとの相互の摺動の後に、超音波の発射を停止させ、
前記ワイピングクロスの溶剤が含浸されていない部分
を、前記クリーニングヘッドの先端部分に移動させ、前
記ワイピングクロスの溶剤が含浸されていない部分を前
記クリーニングヘッドの先端部分により前記基板表面に
押圧した状態で相互に摺動させることにより、前記基板
表面を乾燥させる請求項６ないし８のいずれか１項記載
の基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03306296A JP3467950B2 (ja) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | 基板の洗浄方法およびその方法を用いた装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03306296A JP3467950B2 (ja) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | 基板の洗浄方法およびその方法を用いた装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09205074A JPH09205074A (ja) | 1997-08-05 |
| JP3467950B2 true JP3467950B2 (ja) | 2003-11-17 |
Family
ID=12376261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03306296A Expired - Fee Related JP3467950B2 (ja) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | 基板の洗浄方法およびその方法を用いた装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3467950B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| ES2217778T3 (es) * | 1998-02-20 | 2004-11-01 | THE PROCTER & GAMBLE COMPANY | Producto para eliminar manchas de alfombras que usa ondas sonicas o ultrasonicas. |
| WO2000029535A1 (en) | 1998-11-16 | 2000-05-25 | The Procter & Gamble Company | Cleaning product which uses sonic or ultrasonic waves |
| AR021276A1 (es) * | 1998-11-16 | 2002-07-03 | Procter & Gamble | Dispositivo limpiador ultrasonico |
| DE60021418T2 (de) * | 1999-11-16 | 2006-05-24 | The Procter & Gamble Company, Cincinnati | Ultraschallreinigung |
| ATE297265T1 (de) * | 1999-11-16 | 2005-06-15 | Procter & Gamble | Ultraschallgerät |
| JP2002192035A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-07-10 | Pentel Corp | ノズルの先端のクリーニング |
| US7004182B2 (en) | 2001-10-18 | 2006-02-28 | The Procter & Gamble Company | Enhanced ultrasonic cleaning devices |
| JP4650058B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2011-03-16 | セイコーエプソン株式会社 | 異物除去装置、電気光学装置の製造方法 |
| JP4996891B2 (ja) * | 2006-07-31 | 2012-08-08 | 京セラディスプレイ株式会社 | 表示パネルの異物除去方法 |
| US8955530B2 (en) * | 2011-01-18 | 2015-02-17 | Taiwan Semiconductor Manufaturing Company, Ltd. | System and method for cleaning a wafer chuck |
| JP6370578B2 (ja) * | 2014-03-27 | 2018-08-08 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板洗浄装置 |
| KR102135500B1 (ko) * | 2018-04-26 | 2020-07-20 | 스텍 코 엘티디 | 기판들을 세정하기 위한 장치 및 방법 |
| CN112547598B (zh) * | 2019-09-26 | 2022-06-03 | 深圳市九天中创自动化设备有限公司 | 一种清洁装置及清洁方法 |
| CN114700295B (zh) * | 2022-03-03 | 2023-02-28 | 安徽大学绿色产业创新研究院 | 一种Mini/microLED焊盘智能清洁装置 |
-
1996
- 1996-01-25 JP JP03306296A patent/JP3467950B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09205074A (ja) | 1997-08-05 |
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