JP3441338B2 - 皮膚化粧料 - Google Patents
皮膚化粧料Info
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Description
中に安定に分散され、肌上での伸びが良く、さっぱりと
して良好な感触であり、しかも耐水性に優れた皮膚化粧
料に関する。
し、且つ撥水性に優れることから化粧料に多用されてい
る。特に揮発性のシリコーン油は、塗布時の伸びが良
く、伸ばすにつれて揮発性シリコーン油が揮発するので
密着性も良く、汗に強くくずれにくいことから、多くの
皮膚化粧料やメークアップ化粧料に配合されている。
で、しかも水溶性の保湿剤や機能性物質等を安定に配合
しやすいことから、水を含有する皮膚化粧料やメークア
ップ化粧料が数多く生産されている。しかして、このよ
うな水を含有する化粧料にシリコーン油を安定に分散さ
せるのは困難であり、乳化剤として水溶性界面活性剤を
多量に配合する必要があった。しかしながら、水溶性界
面活性剤を多量に用いると、水含有化粧料の優れた使用
感が失われるとともに、耐水性も低下してしまうという
問題があった。
乳化させた化粧料が提案されているが(特開昭58-13191
0号)、シリコーン油を安定に乳化させるためにHLB
値が8〜14を有する親水性の界面活性剤を乳化剤とし
て用いているため、十分な耐水性が得られない。
に水溶性高分子を配合することが行われている。例えば
種々のセルロースエーテル類が、増粘剤、ゲル化剤、賦
形剤、エマルジョン安定化剤等として広く利用されてい
る。このようなセルロースエーテルとしては、メチルセ
ルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロ
ース等の水溶性非イオン性セルロースエーテル;カルボ
キシメチルセルロース、カチオン化セルロース、カチオ
ン化ヒドロキシエチルセルロース等のイオン性セルロー
スエーテルなどが市販され、用いられている。
ーン油を乳化させた水溶液の粘度安定化作用及び油剤乳
化性は比較的優れているものの、増粘性が低いため、特
に皮膚化粧料の増粘剤及び乳化安定化剤として利用する
場合、セルロースエーテル類の特性を十分に発揮させる
ためには使用量を多くする必要があった。しかし、セル
ロースエーテル類を多量に配合すると、べたつき、皮膜
感等の感触面での問題が生じ、しかも、温度変化に伴う
変化が大きく、安定な製品形態を維持しづらいという欠
点があった。
ては、特開平3-012401号公報、特開平3-141210号公報、
特開平3-141214号公報に記載されているが、特開平3-01
2401号公報には変性水溶性セルロースエーテルの製造方
法に関する記載があるもののシリコーン油を安定に水中
に乳化し、優れた使用感と十分な耐水性を持つ皮膚化粧
料に関するものではない。又、特開平3-141210号公報、
特開平3-141214号公報には疎水変性非イオン水溶性重合
体を化粧品組成物中に他の必須成分と共に用いる記述が
あるもののそれらは主にヘアケア化粧料に関するもので
あり、皮膚化粧料に関するものでなく、シリコーン油の
乳化性やその使用感、耐水性については述べられていな
い。
は、シリコーン油を水中に安定に分散させ、しかも使用
感及び耐水性に優れた皮膚化粧料を提供することにあ
る。
発明者らは鋭意研究を行った結果、水溶性アルキル置換
多糖誘導体を用いれば、シリコーン油を水中に安定に分
散することができ、肌上での伸びが良く、さっぱりとし
て良好な感触で、しかも耐水性に優れた皮膚化粧料が得
られることを見出し、本発明を完成した。
(B)及び(C): (A)多糖類又はその誘導体のヒドロキシル基の水素原
子の一部又は全てが、次の基(a)及び(b); (a)炭素数10〜40の直鎖又は分岐のアルキル基を
有するアルキルグリセリルエーテル基及び/又は炭素数
10〜40の直鎖又は分岐のアルケニル基を有するアル
ケニルグリセリルエーテル基 (b)ヒドロキシル基が置換していてもよい炭素数1〜
5のスルホアルキル基又はその塩で置換されており、置
換基(a)と置換基(b)の数の比率が1:1000〜
100:1である水溶性アルキル置換多糖誘導体、 (B)シリコーン油 (C)水を含有する皮膚化粧料を提供するものである。
ルキル置換多糖誘導体の置換基(a)としては、具体的
には2−ヒドロキシ−3−アルコキシプロピル基、2−
アルコキシ−1−(ヒドロキシメチル)エチル基、2−
ヒドロキシ−3−アルケニルオキシプロピル基、2−ア
ルケニルオキシ−1−(ヒドロキシメチル)エチル基が
挙げられ、多糖分子に結合しているヒドロキシエチル基
やヒドロキシプロピル基のヒドロキシル基の水素原子と
置換してもよい。これらのグリセリルエーテル基に置換
している炭素数10〜40のアルキル基又はアルケニル
基としては、炭素数12〜36、特に16〜24の直鎖
又は分岐鎖のアルキル及びアルケニル基が好ましく、安
定性の点からアルキル基、特に直鎖アルキル基が好まし
い。なお、置換基(a)がヒドロキシル基を有する場合
には、当該ヒドロキシル基は更に他の置換基(a)又は
(b)で置換されていてもよい。
2−スルホエチル基、3−スルホプロピル基、3−スル
ホ−2−ヒドロキシプロピル基、2−スルホ−1−(ヒ
ドロキシメチル)エチル基等が挙げられ、その全てある
いは一部がNa、K等のアルカリ金属、Ca、Mg等の
アルカリ土類金属類、アミン類等の有機カチオン基、ア
ンモニウムイオンなどとの塩となっていてもよい。な
お、置換基(b)がヒドロキシル基を有する場合には、
当該ヒドロキシル基は更に他の置換基(a)又は(b)
で置換されていてもよい。
たり0.001〜1、特に0.002〜0.5、更に
0.003〜0.1であるのが好ましく、置換基(b)
の置換度は、構成単糖残基当たり0.01〜2.5、特
に0.02〜2、更に0.1〜1.5であるのが好まし
い。また、置換基(a)と置換基(b)の数の比率は
1:1000〜100:1、特に1:500〜10:
1、更に1:300〜10:1であるのが好ましい。な
お、水溶性アルキル置換多糖誘導体においては、多糖類
又はその誘導体の同一の繰り返し単位中に必ず置換基
(a)及び(b)が存在していなくても良く、一分子全
体として見たときに、置換基(a)及び(b)が導入さ
れていれば良い。その置換度が平均して前記範囲内にあ
るのが好ましい。
糖誘導体の基本骨格となる多糖類又はその誘導体として
は、セルロース、グアーガム、スターチ、ヒドロキシエ
チルセルロース、ヒドロキシエチルグアーガム、ヒドロ
キシエチルスターチ、メチルセルロース、メチルグアー
ガム、メチルスターチ、エチルセルロース、エチルグア
ーガム、エチルスターチ、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルグアーガム、ヒドロキシプロピ
ルスターチ、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルメチルグアーガム、ヒドロキシエチルメチ
ルスターチ、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルメチルグアーガム、ヒドロキシプロピ
ルメチルスターチ等が挙げられ、なかでもセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、エチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースが好まし
い。また、これらの多糖類のメチル基、エチル基、ヒド
ロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等の置換基は、
単一の置換基で置換されたものでもよいし、複数の置換
基で置換されたものでもよく、その構成単糖残基当たり
の置換度は0.1〜10、特に0.5〜5が好ましい。
また、これら多糖類又はその誘導体の重量平均分子量
は、1万〜1000万、好ましくは10万〜500万、
特に好ましくは30万〜200万の範囲である。
は、多糖類又はその誘導体の水酸基の水素原子を部分的
に疎水化(置換基(a)の導入)又はスルホン化(スル
ホン酸基を有する置換基(b)の導入)した後、残りの
水酸基の全ての又は一部の水素原子をスルホン化又は疎
水化することにより、又は同時に疎水化及びスルホン化
を行うことにより製造することができる。
て説明する。なお、前述のように、疎水化反応とスルホ
ン化反応はいずれを先に行ってもよく、また同時に行っ
てもよいが、疎水化させた後、スルホン化するのがより
好ましい。
類の疎水化反応は、多糖類又はスルホン化多糖類を適当
な溶媒に溶解又は分散させ、C10〜C40アルキルグリシ
ジルエーテル及び/又はC10〜C40アルケニルグリシジ
ルエーテルから選ばれる疎水化剤と反応させることによ
り行われる。
ルグリシジルエーテル及びC10〜C 40アルケニルグリシ
ジルエーテルのアルキル基及びアルケニル基は、直鎖及
び分岐のいずれでもよく、分岐の場合の分岐位置、アル
ケニル基中の不飽和結合の数及び位置は特に限定されな
い。アルキル基の具体例としては、直鎖アルキル基とし
て、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル
基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペン
タデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル
基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−イコ
シル基、n−ヘンイコシル基、n−ドコシル基、n−ト
リコシル基、n−テトラコシル基、n−ペンタコシル
基、n−ヘキサコシル基、n−ヘプタコシル基、n−オ
クタコシル基、n−ノナコシル基、n−トリアコンチル
基、n−ヘントリアコンチル基、n−ドトリアコンチル
基、n−トリトリアコンチル基、n−テトラトリアコン
チル基、n−ペンタトリアコンチル基、n−ヘキサトリ
アコンチル基、n−ヘプタトリアコンチル基、n−オク
タトリアコンチル基、n−ノナトリアコンチル基及びn
−テトラコンチル基が、分岐アルキル基として、メチル
ウンデシル基、メチルヘプタデシル基、エチルヘキサデ
シル基、メチルオクタデシル基、プロピルペンタデシル
基、2−ヘキシルデシル基、2−オクチルドデシル、2
−ヘプチルウンデシル基、2−デシルテトラデシル基、
2−ドデシルヘキサデシル基、2−テトラデシルオクタ
デシル基、2−テトラデシルベヘニル基等が挙げられ
る。アルケニル基の具体例としては、デセニル基、ウン
デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデ
セニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプ
タデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イ
コセニル基、ヘンイコセニル基、ドコセニル基、トリコ
セニル基、テトラコセニル基、ペンタコセニル基、ヘキ
サコセニル基、ヘプタコセニル基、オクタコセニル基、
ノナコセニル基、トリアコンテニル基、オレイル基、リ
ノレイル基、リノレニル基等が挙げられる。これらのう
ち、炭素数12〜36、特に16〜24のアルキル基及
びアルケニル基が好ましく、また、安定性の点から、ア
ルキル基、特に直鎖アルキル基が好ましい。これらアル
キルグリシジルエーテル及びアルケニルグリシジルエー
テルは、単独で又は2種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。アルキルグリシジルエーテル及び/又はア
ルケニルグリシジルエーテルの使用量は、多糖類又はそ
の誘導体への疎水性置換基の所望する導入量によって適
宜調整することができるが、通常、多糖類又はその誘導
体の構成単糖残基当たり、0.001〜10当量、特に
0.003〜1当量の範囲が好ましい。
で行うのが好ましく、かかるアルカリとしては、特に限
定されないが、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水
酸化物、炭酸塩、重炭酸塩等が挙げられ、なかでも水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水
酸化マグネシウム等が好ましい。アルカリの使用量は、
用いるアルキルグリシジルエーテル又はアルケニルグリ
シジルエーテルに対して0.01〜10モル倍量、特に
0.1〜5モル倍量が良好な結果を与え、好ましい。
ソプロピルアルコール、tert−ブチルアルコール等
が挙げられる。多糖類又はスルホン化多糖類を膨潤させ
て疎水化剤との反応性を高める目的で、低級アルコール
に対し、1〜50重量%、更に好ましくは2〜30重量
%の水を加えた混合溶媒を用いて反応を行ってもよい。
0℃の範囲が好ましい。反応終了後は、酸を用いてアル
カリを中和する。酸としては、硫酸、塩酸、リン酸等の
無機酸、酢酸等の有機酸を用いることができる。また、
途中で中和することなく次の反応を行うこともできる。
いてスルホン化反応に用いる場合には、中和せずそのま
ま用いることができるほか、必要に応じてろ過などによ
り分別したり、熱水、含水イソプロピルアルコール、含
水アセトン溶媒等で洗浄して未反応の疎水化剤や中和等
により副生した塩類を除去して使用することもできる。
なお、既に疎水化反応の前にスルホン化反応を行ってい
る場合は、ろ過などによる分別後、必要に応じて洗浄、
中和等を行った後、乾燥して成分(A)の多糖誘導体を
得ることができる。
類のスルホン化反応は、多糖類又は疎水化多糖類を適当
な溶媒に溶解又は分散させ、ビニルスルホン酸、ヒドロ
キシル基が置換していてもよいハロC1〜C5アルカンス
ルホン酸及びそれらの塩から選ばれるスルホン化剤と反
応させることにより行われる。
のうち、ヒドロキシル基が置換していてもよいハロC1
〜C5アルカンスルホン酸としては、3−ハロ−2−ヒ
ドロキシプロパンスルホン酸、2−ハロ−2−( ヒドロ
キシメチル)エタンスルホン酸、3−ハロプロパンスル
ホン酸、2−ハロエタンスルホン酸等が挙げられ、置換
ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子
等が挙げられる。またこれらの塩としては、ナトリウム
塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マ
グネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩
などが挙げられる。これらスルホン化剤は、単独で又は
2種以上を組み合わせて使用することができる。スルホ
ン化剤の使用量は、多糖類へのスルホン酸基の導入量に
よって適宜調整できるが、通常、多糖類又は疎水化多糖
類の構成単糖残基当たり、0.1〜10当量、特に0.
2〜5当量の範囲が好ましい。
在下で行うのが好ましく、かかるアルカリとしては特に
制限されないが、疎水化反応に用いられるものと同様の
もの、すなわち、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の
水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩等が挙げられ、なかでも水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
水酸化マグネシウム等が好ましい。アルカリの使用量
は、用いるスルホン化剤に対して1.0〜3.0モル倍
量、特に1.05〜1.5モル倍量が良好な結果を与
え、好ましい。
ソプロピルアルコール、tert−ブチルアルコール等
が挙げられる。また、多糖類又は疎水化多糖類とスルホ
ン化剤との反応性を高める目的で、低級アルコールに対
し、0.1〜100重量%、更に好ましくは1〜50重
量%の水を加えた混合溶媒を用いて反応を行ってもよ
い。
0℃の範囲が好ましい。反応終了後は、酸を用いてアル
カリを中和する。酸としては、硫酸、塩酸、リン酸等の
無機酸、酢酸等の有機酸を用いることができる。途中で
中和することなく次の反応を行うこともできる。
を続いて疎水化反応に用いる場合には、中和せずそのま
ま用いることができるほか、必要に応じてろ過などによ
り分別したり、熱水、含水イソプロピルアルコール、含
水アセトン溶媒等で洗浄して未反応のアルキル化剤や中
和等により副生した塩類を除去して使用することもでき
る。なお、既にスルホン化反応の前に疎水化反応を行っ
ている場合は、ろ過などによる分別後、必要に応じて洗
浄、中和等を行った後、乾燥して成分(A)の多糖誘導
体を得ることができる。
る多糖誘導体における置換基(a)及び(b)は、原料
として用いた多糖類又はその誘導体のヒドロキシル基の
みならず、他の置換基(a)や置換基(b)が有するヒ
ドロキシル基に置換する場合もあり、更にかかる置換は
重畳的に起こる場合もある。すなわち、多糖類又はその
誘導体のヒドロキシル基の水素原子のみが置換基(a)
及び(b)で置換された化合物のほか、疎水化後にスル
ホン化した場合には、置換基(a)に更に置換基(a)
又は(b)が置換し、また置換基(b)に更に置換基
(b)が置換したものが含まれることがあり、スルホン
化後に疎水化した場合には、置換基(a)に更に置換基
(a)が置換し、また置換基(b)に更に置換基(b)
又は(a)が置換したものが含まれることがあり、疎水
化とスルホン化を同時に行った場合には、置換基(a)
に更に置換基(a)又は(b)が置換し、置換基(b)
に更に置換基(a)又は(b)が置換したものが含まれ
ることがあり、更にかかる他の置換基への置換が重畳的
に起こったものが含まれることもある。本発明において
は、このような多糖誘導体のいずれをも使用することが
できる。
糖誘導体としては、特開平3-12401号公報の実施例1〜
3に記載されている変性セルロースエーテルや、米国特
許第4228277号に記載されている非イオン長鎖アルキル
化セルロースエーテル;市販品としてはナトロゾル・プ
ラス(NATROSOL PLUS)330やナトロゾ
ル・プラスCS(NATROSOL PLUS)D−6
7(アクアロン・カンパニー社製)等のアルキル変性ヒ
ドロキシエチルセルロースや、疎水化変性スルホン化多
糖誘導体などを好適に使用することができる。
体は、1種又は2種以上を組合わせて用いることがで
き、全組成中に0.01〜10重量%配合するのが好ま
しく、特に0.02〜5重量%、更に0.05〜3重量
%配合すると、十分なシリコーン油の乳化性が得られる
とともに、使用感も良好であり好ましい。
ン油としては、通常の化粧料に用いられるものであれば
特に制限されないが、揮発性シリコーン、特に次の一般
式(1)で表わされる揮発性鎖状シリコーン、及び一般
式(2)で表わされる揮発性環状シリコーンが、使用感
触の点から特に好ましい。
示し、mは1〜7の数、nは3〜7の数を示す)
ル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、フェニル基、フェニルメチル基等が挙げられ、特に
メチル基が好ましい。また、mは1〜7の数を示し、特
に1〜4が好ましく、nは3〜7の数を示し、特に4〜
5が好ましい。
えばメチルポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン・
メチルフェニルポリシロキサン、デカメチルシクロペン
タシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等
が挙げられ、これらの市販品として、SH244、24
5、344、DC345、SH200(以上、東レ・ダ
ウコーニング・シリコーン社製)、KF56、96、9
94、995(以上、信越シリコーン社製)、シリコー
ン7207、7158(以上、ユニオン・カーバイド社
製)、SWS−03314(スタウファー・ケミカル社
製)等を好適に使用することができる。
25℃において粘度5cs以下の揮発性鎖状シリコーン又
は粘度10cs以下の揮発性環状シリコーンが好ましい。
種以上を組合わせて用いることができ、全組成中に1〜
50重量%配合するのが好ましく、特に2〜45重量
%、更に5〜40重量%配合すると、より使用感に優れ
るので好ましい。
は、通常の化粧料に用いられるものであれば特に制限さ
れず、例えば精製水、イオン交換水、天然水、ミネラル
水等安全性上の問題のないものであればいずれでも使用
することができる。
種類等により異なり特に制限されないが、実質的に全組
成中に1〜97重量%、特に1〜95重量%、更に1〜
90重量%であるのが好ましい。
ほか、通常の化粧料に配合される成分、例えば界面活性
剤、油分、パーフルオロポリエーテル、保湿剤、皮膜形
成剤、油ゲル化剤、有機紫外線吸収剤、着色顔料、疎水
化処理粉体、無機金属塩類、有機金属塩類、アルコール
類、キレート剤、pH調整剤、防腐剤、他の増粘剤、薬効
成分、色素、香料等を、本発明の効果を損なわない範囲
で適宜配合することができる。
て製造することができ、その剤型は特に制限されず、例
えば水分散タイプ、O/W乳化タイプ、W/O乳化タイ
プ、ゲル状タイプ等のものとして調製される。また、化
粧水、乳液、クリーム、パック剤、美容液、美白剤、ア
イケアクリーム、ボディ用ローション、化粧用下地、フ
ァンデーション、サンケア剤、口紅、アイシャドウ、ア
イライナー、マスカラ、ネイルエナメル、カーマインロ
ーション、ティントローション、脚用メイクアップ剤、
腕用メイクアップ剤、首用メイクアップ剤、指用メイク
アップ剤等として適用することができる。
であるが、この耐水性の基準として用いられる、化粧塗
布膜の水に対する接触角は、皮膚化粧料が汗や外部から
の接触に対して流されにくい程度を示すものであり、以
下の方法で測定することができる。すなわち、人工皮革
(ポリウレタン製シート10cm四方)を用意し、人工皮
革のシートの表面5cm四方(25cm2)に均一になるよ
うにサンプルを80mg指で塗布し、40℃・湿度50%
±10%にて1時間乾燥する。その後、シートを接触角
測定装置に挿入できる大きさにカッターを用いて等分に
分割し、20℃湿度50%±10%の環境下でイオン交
換水1滴をマイクロシリンジの先端から試料面に滴下
し、その時の接触角(度)を1分後に測定する。
れる接触角が60度以上である耐水性の高い皮膚化粧料
を得ることができる。
水中に安定に分散しており、肌上での伸びが良く、さっ
ぱりとして良好な感触を有するとともに、耐水性に優れ
たものである。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
キル置換多糖誘導体の疎水性置換基の置換度はNMR
(溶媒:重水素化DMSO)を用いて測定した。またス
ルホン基の置換度は、コロイド滴定法により求めた。す
なわち濃度既知の増粘剤溶液を調製し、これに攪拌下、
重量既知のN/200メチルグリコールキトサン溶液
(和光純薬、コロイド滴定用)を加え、更にトルイジン
ブルー指示薬溶液(和光純薬、コロイド滴定用)を数滴
加えた。これをN/400ポリビニル硫酸カリウム溶液
(和光純薬、コロイド滴定用)により逆滴定し、滴定量
から置換度を算出した。また、以下の製造例において
「置換度」とは、構成単糖残基当たりの置換基の数を示
す。
ガラス製セパラブル反応容器に、重量平均分子量約80
万、ヒドロキシエチル基の置換度1.8のヒドロキシエ
チルセルロース(HEC−QP4400,ユニオンカー
バイド社製)50g、88%イソプロピルアルコール4
00g及び48%水酸化ナトリウム水溶液3.5gを加
えてスラリー液を調製し、窒素雰囲気下室温で30分間
撹拌した。これにステアリルグリシジルエーテル5.4
gを加え、80℃で8時間反応させて疎水化を行った。
疎水化反応終了後、反応液を酢酸で中和し、反応生成物
をろ別した。反応生成物を80%アセトン500gで2
回、次いでアセトン500gで2回洗浄し、減圧下70
℃で1昼夜乾燥し、疎水化されたヒドロキシエチルセル
ロース誘導体49.4gを得た。
500mlのガラス製セパラブル反応容器に、(1)で得
られた疎水化ヒドロキシエチルセルロース誘導体10.
0g、イソプロピルアルコール80.0g及び48%水
酸化ナトリウム水溶液0.33gを仕込んでスラリー液
を調製し、窒素気流下室温で30分間撹拌した。反応液
に3−クロロ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナト
リウム6.4g、48%水酸化ナトリウム水溶液2.7
g及び水20.0gからなる混合液を加え、50℃で9
時間スルホン化を行った。反応終了後、反応液を酢酸で
中和し生成物をろ別した。生成物を80%アセトン(水
20%)500gで3回、次いでアセトン500gで2
回洗浄後、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、ステアリルグ
リセリルエーテル基とスルホ−2−ヒドロキシプロピル
基で置換された水溶性アルキル置換多糖誘導体(1)
7.2gを得た。
(1)のステアリルグリセリルエーテル基の置換度は
0.030、スルホ−2−ヒドロキシプロピル基の置換
度は0.15であり、疎水部置換基(a)と親水部置換
基(b)の数の比率は30:150であった。
を10.8gとする以外は同様にして疎水化した後、3
−クロロ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウ
ムの量を9.6g、48%水酸化ナトリウム水溶液2.
7gの量を4.0gとする以外は同様にしてスルホン化
を行い、水溶性アルキル置換多糖誘導体(2)を得た。
(2)のステアリルグリセリルエーテル基の置換度は
0.058、スルホ−2−ヒドロキシプロピル基の置換
度は0.20であり、疎水部置換基(a)と親水部置換
基(b)の数の比率は58:200であった。
セパラブル反応容器に、製造例1(1)で得られた疎水
化ヒドロキエチルセルロース10.0g、イソプロピル
アルコール160g及び25%ビニルスルホン酸ナトリ
ウム水溶液18.0gを仕込んでスラリー液を調製し
た。これを窒素気流下室温で30分間撹拌した後、48
%水酸化ナトリウム水溶液1.2gを仕込んで、更に窒
素気流下室温で60分間撹拌した。スラリー液を80℃
まで昇温し、80℃で2時間撹拌してスルホン化を行っ
た。反応終了後、反応液を60℃まで冷却し酢酸で中和
し生成物をろ別した。生成物を80%アセトン(水20
%)500gで3回、次いでアセトン500gで2回洗
浄後、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、ステアリルグリセ
リルエーテル基とスルホエチル基で置換された水溶性ア
ルキル置換多糖誘導体(3)8.9gを得た。
(3)のステアリルグリセリルエーテル基の置換度は
0.030、スルホエチル基の置換度は0.18であ
り、疎水部置換基(a)と親水部置換基(b)の数の比
率は30:180であった。
例3に準じ25%ビニルスルホン酸ナトリウム水溶液の
量を36.0gとしてスルホン化を行い、ステアリルグ
リセリルエーテル基及びスルホエチル基で置換された水
溶性アルキル置換多糖誘導体(4)を得た。
(4)のステアリルグリセリルエーテル基の置換度は
0.058、スルホエチル基の置換度は0.34であ
り、疎水部置換基(a)と親水部置換基(b)の数の比
率は58:340であった。
セパラブル反応容器に、製造例1(1)で得られた疎水
化ヒドロキエチルセルロース10.0g、90%イソプ
ロピルアルコール160g及び48%水酸化ナトリウム
水溶液7.2gを加えてスラリー液を調製し、窒素気流
下室温で30分間撹拌した。更に反応液を氷冷下10℃
以下まで冷却した後、3−ブロモプロパンスルホン酸ナ
トリウム15.0gを仕込んで10℃以下で60分間撹
拌した。更に反応液を80℃まで昇温し、80℃で2時
間撹拌してスルホン化を行った。反応終了後、反応液を
60℃まで冷却し、酢酸で中和し生成物をろ別した。生
成物を80%アセトン(水20%)500gで3回、次
いでアセトン500gで2回洗浄後、減圧下70℃で1
昼夜乾燥し、ステアリルグリセリルエーテル基とスルホ
プロピル基で置換された水溶性アルキル置換多糖誘導体
(5)8.9gを得た。
(5)のステアリルグリセリルエーテル基の置換度は
0.030、スルホプロピル基の置換度は0.10であ
り、疎水部置換基(a)と親水部置換基(b)の数の比
率は30:100であった。
ガラス製セパラブル反応容器に、重量平均分子量約80
万、ヒドロキシエチル基の置換度1.8のヒドロキシエ
チルセルロース(HEC−QP4400,ユニオンカー
バイド社製)50g、88%イソプロピルアルコール4
00g及び48%水酸化ナトリウム水溶液3.5gを加
えてスラリー液を調製し、窒素雰囲気下室温で30分間
撹拌した。これにパルミチルグリシジルエーテル8.5
gを加え、80℃で9時間反応させて疎水化を行った。
疎水化反応終了後、反応液を酢酸で中和し、反応生成物
をろ別した。反応生成物を80%アセトン500gで2
回、次いでアセトン500gで2回洗浄し、減圧下70
℃で1昼夜乾燥し、疎水化されたヒドロキシエチルセル
ロース誘導体50.3gを得た。
500mlのガラス製セパラブル反応容器に、(1)で得
られた疎水化ヒドロキエチルセルロース10.0g、イ
ソプロピルアルコール160g及び25%ビニルスルホ
ン酸ナトリウム水溶液36.0gを仕込んでスラリー液
を調製し、窒素気流下室温で30分間撹拌した後、48
%水酸化ナトリウム水溶液1.2gを仕込んで、更に窒
素気流下室温で60分間撹拌した。スラリー液を80℃
まで昇温し80℃で2時間撹拌してスルホン化を行っ
た。反応終了後、反応液を60℃まで冷却し酢酸で中和
し生成物をろ別した。生成物を80%アセトン(水20
%)500gで3回、次いでアセトン500gで2回洗
浄後、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、パルミチルグリセ
リルエーテル基とスルホエチル基で置換された水溶性ア
ルキル置換多糖誘導体(6)8.9gを得た。
(6)のパルミチルグリセリルエーテル基の置換度は
0.060、スルホエチル基の置換度は0.35であ
り、疎水部置換基(a)と親水部置換基(b)の数の比
率は60:350であった。
ガラス製セパラブル反応容器に、重量平均分子量約40
万、メチル基の置換度1.8のメチルセルロース(メト
ローズSM−800,信越化学工業社製)50g、イソ
プロピルアルコール400g及び48%水酸化ナトリウ
ム水溶液4.5gを加え、窒素雰囲気下で30分間室温
で撹拌した。これにステアリルグリシジルエーテル6.
0gを加え、80℃で8時間反応させて疎水化を行っ
た。疎水化反応終了後、反応液を酢酸で中和し、反応生
成物をろ別した。反応生成物を80%アセトン500g
で2回、次いでアセトン500gで2回洗浄し、減圧下
70℃で1昼夜乾燥し、疎水化されたメチルセルロース
48.5gを得た。
500mlのガラス製セパラブル反応容器に、(1)で得
られた疎水化メチルセルロース10.0g、イソプロピ
ルアルコール80.0g及び48%水酸化ナトリウム水
溶液0.33gを仕込んでスラリー液を調製し、窒素気
流下室温で30分間撹拌した。反応液に3−クロロ−2
−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム7.7g、
48%水酸化ナトリウム水溶液反応溶液3.2g及び水
20.0gからなる混合液を加えた後、50℃で8時間
スルホン化を行った。反応終了後、反応液を酢酸で中和
し生成物をろ別した。生成物を80%アセトン(水20
%)500gで3回、次いでアセトン500gで2回洗
浄後、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、ステアリルグリセ
リルエーテル基とスルホ−2−ヒドロキシプロピル基で
置換された水溶性アルキル置換多糖誘導体(7)8.3
gを得た。
(7)のステアリルグリセリルエーテル基の置換度は
0.027、スルホ−2−ヒドロキシプロピル基の置換
度は0.15であり、疎水部置換基(a)と親水部置換
基(b)の数の比率は27:150であった。
セパラブル反応容器に、製造例7(1)で得られた疎水
化メチルセルロース10.0g、イソプロピルアルコー
ル160g及び25%ビニルスルホン酸ナトリウム水溶
液21.6gを仕込んでスラリー液を調製し、窒素気流
下室温で30分間撹拌した後、48%水酸化ナトリウム
水溶液1.5gを仕込んで、更に窒素気流下室温で60
分間撹拌した。スラリー液を80℃まで昇温し80℃で
2時間撹拌してスルホン化を行った。反応終了後、反応
液を60℃まで冷却し酢酸で中和し生成物をろ別した。
生成物を80%アセトン(水20%)500gで3回、
次いでアセトン500gで2回洗浄後、減圧下70℃で
1昼夜乾燥し、ステアリルグリセリルエーテル基とスル
ホエチル基で置換された水溶性アルキル置換多糖誘導体
(8)9.6gを得た。
(8)のステアリルグリセリルエーテル基の置換度は
0.027、スルホエチル基の置換度は0.17であ
り、疎水部置換基(a)と親水部置換基(b)の数の比
率は27:170であった。
セパラブル反応容器に、セルロース粉末16.2g(メ
ルク社製)、tert−ブチルアルコール250g及び
25%ビニルスルホン酸ナトリウム水溶液52.0gを
加えてスラリー液を調製し、窒素気流下室温で30分間
撹拌した。更に粉末水酸化ナトリウム8.0gを加えて
室温で60分間撹拌した。反応温度を80℃まで昇温
し、更に80℃で2時間撹拌しスルホン化を行った。反
応液を60℃まで冷却した後、水21.0gを添加し、
更にステアリルグリシジルエーテル3.2gを加えて8
0℃まで昇温し、80℃で8時間撹拌し疎水化を行っ
た。反応終了後、反応液を60℃まで冷却して、酢酸を
加えて過剰のアルカリを中和した後、ろ過によりケーク
を得た。得られたケークを80%アセトン(水20%)
500gで5回、次いでアセトン500gで2回洗浄
後、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、ステアリルグリセリ
ルエーテル基とスルホエチル基で置換された水溶性アル
キル置換多糖誘導体(9)10.3gを得た。
(9)のステアリルグリセリルエーテル基の置換度は
0.025、スルホエチル基の置換度は0.53であ
り、疎水部置換基(a)と親水部置換基(b)の数の比
率は25:530であった。
を6.4gとする以外は同様にして反応を行い、ステア
リルグリセリルエーテル基とスルホエチル基で置換され
た水溶性アルキル置換多糖誘導体(10)を得た。
(10)のステアリルグリセリルエーテル基の置換度は
0.049、スルホエチル基の置換度は0.53であ
り、疎水部置換基(a)と親水部置換基(b)の数の比
率は49:530であった。
ガラス製セパラブル反応容器に、重量平均分子量約15
0万、ヒドロキシエチル基の置換度1.8のヒドロキシ
エチルセルロース(HEC−QP100M,ユニオンカ
ーバイド社製)50g、88%イソプロピルアルコール
400g及び48%水酸化ナトリウム水溶液3gを加え
てスラリー液を調製し、窒素雰囲気下室温で30分間攪
拌した。これにオクタデシルグリシジルエーテル1.5
gを加え、80℃で7時間反応させて疎水化を行った。
疎水化反応終了後、反応液を塩酸で中和し、反応生成物
をろ過した。この反応生成物を80%アセトン500g
で2回、次いでアセトン500gで2回洗浄し、減圧下
70℃で1昼夜乾燥し、疎水化されたヒドロキシエチル
セルロース誘導体44.3gを得た。
500mlのガラス製セパラブル反応容器に、(1)で得
られた疎水化ヒドロキシエチルセルロース誘導体10.
0g、イソプロピルアルコール80.0g及び48%水
酸化ナトリウム水溶液0.33gを仕込んでスラリー液
を調製し、窒素気流下室温で30分間攪拌した。反応液に
3−クロロ−2−ヒドロキプロパンスルホン酸ナトリウ
ム12.8g、48%水酸化ナトリウム水溶液5.4g
及び水20.0gからなる混合液を加え、50℃で8時
間スルホン化を行った。反応終了後、反応液を塩酸で中
和し、生成物をろ過した。生成物を80%アセトン(水
20%)500gで3回、次いでアセトン600gで2
回洗浄後、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、オクタデシル
グリセリルエーテル基と3−スルホ−2−ヒドロキシプ
ロピル基で置換された水溶性アルキル置換多糖誘導体
(11)7.5gを得た。
(11)のオクタデシルグリセリルエーテル基の置換度
は0.007、3−スルホ−2−ヒドロキシプロピル基
の置換度は0.31であり、疎水部置換基(a)と親水
部置換基(b)の数の比率は7:310であった。
ガラス製セパラブル反応容器に、重量平均分子量約15
0万、ヒドロキシエチル基の置換度1.8のヒドロキシ
エチルセルロース(HEC−QP100M,ユニオンカ
ーバイド社製)50g、88%イソプロピルアルコール
400g及び48%水酸化ナトリウム水溶液3gを加え
てスラリー液を調製し、窒素雰囲気下室温で30分間攪
拌した。これにオクタデシルグリシジルエーテル1.0
gを加え、80℃で7時間反応させて疎水化を行った。
疎水化反応終了後、反応液を塩酸で中和し、反応生成物
をろ過した。この反応生成物を80%アセトン500g
で2回、次いでアセトン500gで2回洗浄し、減圧下
70℃で1昼夜乾燥し、疎水化されたヒドロキシエチル
セルロース誘導体45.1gを得た。
500mlのガラス製セパラブル反応容器に、(1)で得
られた疎水化ヒドロキシエチルセルロース誘導体10.
0g、イソプロピルアルコール80.0g及び48%水
酸化ナトリウム水溶液0.33gを仕込んでスラリー液
を調製し、窒素気流下室温で30分間攪拌した。反応液
に3−クロロ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナト
リウム12.8g、48%水酸化ナトリウム水溶液5.
4g及び水20.0gからなる混合液を加え、50℃で
8時間スルホン化を行った。反応終了後、反応液を塩酸
で中和し、生成物をろ過した。生成物を80%アセトン
(水20%)500gで3回、次いでアセトン500g
で2回洗浄後、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、オクタデ
シルグリセリルエーテル基と3−スルホ−2−ヒドロキ
シプロピル基で置換された水溶性アルキル置換多糖誘導
体(12)7.6gを得た。
(12)のオクタデシルグリセリルエーテル基の置換度
は0.004、3−スルホ−2−ヒドロキシプロピル基
の置換度は0.31であり、疎水部置換基(a)と親水
部置換基(b)の数の比率は4:310であった。
シリコーン油の乳化性、保存安定性、使用感及び耐水性
について評価した。結果を表1及び表2に示す。
水溶性アルキル置換多糖誘導体を精製水に溶解し、次に
他の水相成分を添加して混合する。あらかじめ粉体成分
を油相に加え、ディスパーを用いて強分散させておく。
水相をアジホモミキサーに移し換え、50℃にて高速攪
拌を行いながら油相成分をゆっくり添加し、30分高速
攪拌を行い、ファンデーションを得た。
0ml入りガラス瓶に充填し、以下の基準により、外観を
肉眼で判定した。 ◎:良好。 ○:やや表面に油膜がある。 △:シリコーン油がやや分離(〜2%)。 ×:シリコーン油が分離(2%以上)。
を評価したものを、40℃で1ケ月間保存した後、同様
にして、シリコーン油の乳化性を評価した。
際に各ファンデーションを使用したときの「さっぱり
感」と「べたつき感のなさ」について官能評価し、次の
基準により判定した。 ○:7名以上が良好と評価した。 △:4〜6名が良好と評価した。 ×:3名以下が良好と評価した。
方法で測定し、以下の基準で評価した。 ◎:接触角80度以上。 ○:接触角60〜80度。 △:接触角40〜60度。 ×:接触角40度未満。
本発明のファンデーションはいずれも、シリコーン油の
乳化性・乳化安定性に優れるとともに、良好な使用感で
あり、しかも耐水性に優れたものであった。これに対
し、水溶性アルキル置換多糖誘導体を用いない場合(比
較例1)にはシリコーン油の乳化性が悪く、親水性界面
活性剤を高濃度配合することによって乳化性を良くした
場合(比較例2、3)にはシリコーン油の乳化性はよく
なるが使用感の低下・耐水性の低下をもたらした。ま
た、従来より水の増粘剤として知られている水溶性高分
子を用いた場合(比較例4〜7)には、シリコーン油の
乳化性及び乳化安定性が低くなっており、特にこれらの
配合量を多くしたものでは使用感及び耐水性の低下を招
いた。更に、シリコーン油以外の炭化水素系の油剤を用
いた場合(比較例8〜10)には、乳化性、乳化安定性
は良好であるが、炭化水素系油剤特有のべたついた感触
があり、シリコーン油を用いた場合にみられるようなさ
っぱりとした使用感が得られなかった。
攪拌溶解させ、グリセリンを加えた後、予め70℃にて
加熱混合しておいた成分(2)〜(6)をゆっくり添加
して乳化し、乳液を得た。
攪拌溶解させ、成分(3)及び(4)を加えた後、予め
70℃にて加熱混合しておいた成分(5)〜(10)を
ゆっくり添加して乳化し、乳液を得た。
し、70℃に調製した(水相)。成分(10)〜(1
3)を70℃で攪拌溶解した後、成分(8)〜(9)を
添加し、これを上記水相に添加し、ホモミキサーをかけ
た後、熱交換を行い、クリームを得た。
攪拌溶解させ、グリセリン及び防腐剤を加えた後、予め
70℃にて加熱混合しておいた成分(2)〜(4)をゆ
っくり添加して乳化し、ハンドクリームを得た。
攪拌溶解させ、成分(10)〜(12)を加えた後、予
め70℃にて加熱混合しておいた(2)〜(9)及び
(13)をゆっくり添加して乳化し、サンケアクリーム
を得た。
攪拌溶解させ、成分(9)及び(10)を加えた後、予
め70℃にて加熱混合しておいた成分(2)〜(7)を
ゆっくり添加して乳化し、化粧下地を得た。
し、更に残りの水相成分を70℃にて加熱溶解する。 (4)、(1)の粉体部を(3)の水相部に加えて均一
に混合し、ディスパーにて高分散する。 (5)、(4)の顔料分散液に(2)の油相部を攪拌し
ながら加え、ホモミキサーで均一に分散混合し、攪拌し
ながら室温まで冷却してアイシャドウを得た。
リシロキサン(10cs)の一部を加えて3本ロールミルで
均一に混合する。 (2)精製水に成分(8)を溶解させ、更に成分(1
0)及び(11)を加熱溶解する。 (3)他の成分を混合して均一に溶解した後、前記
(1)及び(2)を加えて、ホモミキサーで分散混合す
る。その後、精製水を添加してホモミキサーで乳化分散
後、型に流し込んで冷却してスティック形状に成型し、
乳化口紅を得た。
は、いずれもシリコーン油が安定に分散し、安定性に優
れ、べたつかずさっぱりとして良好な感触であり、しか
も耐水性に優れたものであった。
Claims (6)
- 【請求項1】 次の成分(A)、(B)及び(C): (A)多糖類又はその誘導体のヒドロキシル基の水素原
子の一部又は全てが、次の基(a)及び(b); (a)炭素数10〜40の直鎖又は分岐のアルキル基を
有するアルキルグリセリルエーテル基及び/又は炭素数
10〜40の直鎖又は分岐のアルケニル基を有するアル
ケニルグリセリルエーテル基 (b)ヒドロキシル基が置換していてもよい炭素数1〜
5のスルホアルキル基又はその塩で置換されており、置
換基(a)と置換基(b)の数の比率が1:1000〜
100:1である水溶性アルキル置換多糖誘導体、 (B)シリコーン油 (C)水を含有する皮膚化粧料。 - 【請求項2】 成分(B)が、25℃において粘度5cs
以下の揮発性鎖状シリコーン又は粘度10cs以下の揮発
性環状シリコーンである請求項1記載の皮膚化粧料。 - 【請求項3】 成分(A)の置換基(b)が、2−スル
ホエチル基、3−スルホプロピル基、3−スルホ−2−
ヒドロキシプロピル基及び2−スルホ−1−(ヒドロキ
シメチル)エチル基から選ばれる1種又は2種以上であ
る請求項1記載の皮膚化粧料。 - 【請求項4】 成分(A)の多糖類又はその誘導体が、
セルロース、グアーガム、スターチ、ヒドロキシエチル
セルロース、ヒドロキシエチルグアーガム、ヒドロキシ
エチルスターチ、メチルセルロース、メチルグアーガ
ム、メチルスターチ、エチルセルロース、エチルグアー
ガム、エチルスターチ、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルグアーガム、ヒドロキシプロピ
ルスターチ、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルメチルグアーガム、ヒドロキシエチルメチ
ルスターチ、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルメチルグアーガム及びヒドロキシプロ
ピルメチルスターチから選ばれるものである請求項1〜
3のいずれか1項記載の皮膚化粧料。 - 【請求項5】 成分(A)を0.01〜10重量%、成
分(B)を1〜50重量%含有する請求項1〜4のいず
れか1項記載の皮膚化粧料。 - 【請求項6】 化粧塗布膜の水に対する接触角が60度
以上である請求項1〜5のいずれか1項記載の皮膚化粧
料。
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