JP3386977B2 - 多層回路基板 - Google Patents

多層回路基板

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体チップあるい
は半導体装置等の電子部品であって、格子状配列あるい
はスタッガー配列で多数個の電極が配置された電子部品
を搭載する多層回路基板に関する。
【0002】
【従来の技術】最近の半導体装置ではロジックデバイス
の高機能化、高密度化が進み、入出力数が増大し実装密
度がさらに上昇している。この結果、入出力数の増大に
よる電極形成スペースの不足を半導体チップの電極形成
面でアレイ状に電極を配列して補う製品が製造されるよ
うになってきた。図25はフリップチップ接続により半
導体チップ4を基板5に実装する従来例を示す。図示例
の半導体チップ4は外周縁部に電極6を配置したもの
で、電極6に回路パターン7を接続して回路パターン7
を引き出すことにより一つの平面内ですべての電極6と
回路パターン7とを接続することができる。
【0003】図24は電極形成面の外周縁に沿って2列
で電極6が配列された半導体チップを搭載するための配
線体でのランドの配置とランド8から引き出す回路パタ
ーン7の配置例である。この例ではランド8の中間から
回路パターン7を1本ずつ引き出すことによって、一平
面ですべてのランド8から回路パターン7を引き出すこ
とができる。複数配列のランド8から回路パターン7を
引き出す方法としては、このように外側のランド8の中
間から内側のランド8に接続する回路パターン7を引き
出す方法が普通である。しかしながら、入出力数を増大
させるため電極形成面にアレイ状に多数個の電極を配列
した場合には、ランドの間隔やランド数にもよるが、一
つの平面内ですべてのランドから外側に配線を引き出す
ことができなくなる。
【0004】このような問題を解消する方法として、半
導体チップを搭載する回路基板(パッケージ、回路基
板)を多層形成し、積層する回路基板での回路パターン
を適宜配置することによって半導体チップのすべての電
極とランドとを電気的に接続し、かつ回路パターンを引
き出す方法が考えられている。図26は複数の回路基板
を積層した多層回路基板に半導体チップ4を搭載した例
を示す。このように複数の回路基板を積層する方法によ
れば回路パターンを干渉させることなく、多数個の電極
6がアレイ状に配置された半導体チップ4と外部接続端
子9とを電気的に接続することが可能になる。図26で
7aは内層の回路パターン、5a〜5dは第1層〜第4
層の回路基板を示す。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、電極を
アレイ状に配置した半導体チップを回路基板に搭載する
場合、電極数がそれほど多くない場合は2層程度の回路
基板を積層すれば済むのであるが、30×30ピン、4
0×40ピンといったきわめて多ピンの半導体チップを
対象とする場合には、6〜10層といった層数が必要と
なってくる。
【0006】高密度に回路パターンが形成された回路基
板を多層に形成する場合はビルドアップ法等の高密度配
線方法が利用されるが、多層形成する場合は製品の歩留
り、信頼性、製造コストの点で大きな問題がある。すな
わち、回路パターンを多層に形成する場合は、1層ごと
に回路パターンと層間で回路パターンを電気的に接続す
るためのビアを形成して順次積み上げていくようにする
から、その製造プロセスには高精度が必要とされ、必ず
しも信頼性が高くはない。そして、多層に形成する場合
はすべての層で不良がないことが要求されるため、さら
に技術的な困難さが増大する。
【0007】したがって、回路パターンを多層に形成す
る多層回路基板を歩留りよく製造する方法としては、配
線層の層数を減らすことが相当に効果的な解決法とな
る。本発明は実装面側に40×40ピンといった多ピン
でアレイ状に電極を配置した半導体チップあるいは実装
面側にアレイ状に電極を配置した半導体装置等の電子部
品を搭載する多層回路基板に関するものであり、より少
ない回路基板の積層数で半導体チップ、半導体装置等の
電子部品を搭載可能とし、製造歩留りを向上させ、信頼
性の高い製品として利用できる多層回路基板を提供する
ことを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため次の構成を備える。すなわち、実装面側に縦横
の格子状配列で多数個の電極が配列された電子部品の前
記電極の配置と同一の配置で形成されたランドと、一端
が前記ランドに接続され他端が前記ランドが配列された
平面領域内から外側に引き出されて形成された回路パタ
ーンとを有する回路基板を複数枚積層して形成された多
層回路基板であって、前記回路基板に形成された回路パ
ターンが、ランドピッチ、ランド径、パターン幅、パタ
ーン間スペース、隣接するランド間に配置することがで
きる回路パターンの数αから、nをパラメータとして得
られるm={(ランドピッチ)×(n−1) −(ランド
径)−(パターン間スペース)}÷(パターン幅+スペ
ース) 、l=α(n−1)+(n−2)の両値のうちm
>lとなる最小のnの値に対し、連続して配列されたn
個のランド列のうち両端のランド列を除いた残りの(n
−2)個のランド列を各回路基板で回路パターンを優先
的に引き出す共通の引き出し列として選択し、該引き出
し列から回路パターンが引き出されると共に、当該回路
基板の回路パターンが引き出されないランドは次層の回
路基板に形成されたランドとビアを介して電気的に接続
させ、かつ、当該回路基板で回路パターンが引き出され
たランドの形成領域に対応する次層以降の各回路基板の
領域が回路パターンの引き出し領域とされたことを特徴
とする。
【0009】また、実装面側にスタッガー配列で多数個
の電極が配列された電子部品の前記電極の配置と同一の
配置で形成されたランドと、一端が前記ランドに接続さ
れ他端が前記ランドが配列された平面領域内から外側に
引き出されて形成された回路パターンとを有する回路基
板を複数枚積層して形成された多層回路基板であって、
前記回路基板に形成された回路パターンが、前記スタッ
ガー配列の対角線方向をランド列とみなして、ランドピ
ッチ、ランド径、パターン幅、パターン間スペース、隣
接するランド間に配置することができる回路パターンの
数αから、nをパラメータとして得られるm={(ラン
ドピッチ)×(n−1) −(ランド径)−(パターン間
スペース)}÷(パターン幅+スペース) 、l=α(n
−1)+(n−2)の両値のうちm>lとなる最小のn
の値に対し、連続して配列されたn個のランド列のうち
両端のランド列を除いた残りの(n−2)個のランド列
を各回路基板で回路パターンを優先的に引き出す共通の
引き出し列として選択し、該引き出し列から回路パター
ンが引き出されると共に、当該回路基板の回路パターン
が引き出されないランドは次層の回路基板に形成された
ランドとビアを介して電気的に接続させ、かつ、当該回
路基板で回路パターンが引き出されたランドの形成領域
に対応する次層以降の各回路基板の領域が回路パターン
の引き出し領域とされたことを特徴とする。また、回路
パターンを優先的に引き出す(n−2)個のランド列の
配置としては、n列を繰り返し単位として配列されてい
るもの、あるいは(n−1)列を繰り返し単位として配
列されているものが有効である。また、多層に積層され
た回路基板のうち、電子部品が搭載される側の数層の回
路基板についてのみ上記配列にしたがって回路パターン
が設けられていることを特徴とする。
【0010】
【発明の概要】本発明はアレイ状に多数個の電極を配置
した半導体チップあるいは半導体装置等の電子部品を搭
載するため、複数の回路基板を積層して形成した多層回
路基板に係るものであり、各回路基板での回路パターン
の配置を工夫することによって、より少ない回路基板
(配線層)の積層数で多層回路基板を構成することを目
的とする。なお、多層回路基板の製造方法はとくに限定
されずビルドアップ法等の種々の製法が適用できる。前
記電子部品の電極配置としては正規格子状配列とスタッ
ガー格子状配列が通例である。ここで、問題となるのは
電極が正規格子状あるいはスタッガー格子状に配置され
ている場合に回路パターンの配置をどのように設定すれ
ば最も効率的であるかということである。
【0011】回路パターンはランドとランドの間を通過
させるようにするから、実際の製品で回路パターンを設
定する場合はあらかじめ決められているランドピッチ、
ランド径、パターン幅、パターン間の間隔の各条件にし
たがって設定しなければならない。本発明は回路基板を
積層して形成する多層回路基板の各回路基板での回路パ
ターンの配置を決める場合に、以下のような方法にした
がって回路パターンを決めることを特徴とする。そし
て、この方法にしたがって回路パターンを配置すること
によって最も少ない積層数で多層回路基板を形成するこ
とが可能になる。
【0012】まず、ランドが縦横に均等間隔で並んだ正
規格子状配列の場合についてみる。すなわち、ランドが
n個均等間隔で並ぶ配置で、両端のランドを除いて中間
の(n−2)個のランドがないとした場合、両端のラン
ドを除いて両端のランド間に通す(配置する)ことがで
きる配線の数をmとすると、mは次式で与えられる。 m={(ランドピッチ)×(n−1) −(ランド径)−
(パターン間スペース)}÷(パターン幅+スペース) ここで、ランドピッチとはランドの中心間距離、ランド
径とはランドの直径、パターン間スペースとは隣接する
回路パターン間であけなければならない最小間隔であ
る。
【0013】ここで、均等間隔でn個のランドを並べた
場合で、隣接するランド間には1本の回路パターンしか
通すことができないという条件になっている場合で考え
ると、両端のランドではさまれた中間に配置できる回路
パターンの数lは l=(n−1)+(n−2)=2n−3 である。これは、n個のランドの間には回路パターンを
通過させるチャネルが(n−1)個あることと、両端の
ランドを除いた中間に(n−2)個のランドが含まれ、
これらのランドから1本ずつ回路パターンを引き出すこ
とによる。
【0014】したがって、前記mとlとを比較し、m=
lの場合にはn個のランドのうち、中間のすべてのラン
ドを消すように回路パターンを配列しても、ランドを消
したことによって回路パターンが増加する効果が得られ
ず、m>lの場合には、中間のランドを消すように回路
パターンを配列することによって回路パターンを増加さ
せる効果が得られることになる。したがって、回路基板
をできるだけ少なくして多層回路基板を構成するには、
整数nをパラメータとしてm>lとなる最小のnの値を
選び、そのnの値にしたがって回路パターンを配列する
ようにデザインすればよい。
【0015】そして、与えられたランドピッチ、ランド
径、パターン幅等の条件からmの値を求め、これとlの
値を比較して、m>lとなる最小のn(整数)の値を求
めたら、このnの値に対して(n−2)個のランド列を
消すという条件を定め、それにしたがって(n−2)個
のランド列から優先的に回路パターンを引き出すという
方法で回路パターンをデザインすると最適な配列ができ
る。
【0016】図1はn=3として有効に回路パターンを
増加させて効率的な配列が可能となる例を示す。図でL
−L間はランドピッチで2つ分であり、L−L間にラン
ド10が存在している場合には、中間にある1つのラン
ドから出る回路パターンと、両側のランドと中間のラン
ドとで挟まれた2つのランド間を通す2本の回路パター
ンとで3本の回路パターンが配置できる。
【0017】これに対して、L−L間にある1つのラン
ドを消して、ランドがあった部位に回路パターンを通す
と、L−L間には図のように4本の回路パターンを配置
することができる。すなわち、3つのランドのうち中間
の一つのランドを消して回路パターン7を通すことによ
って、回路パターン数を1本増やすことができる。この
ことから、ランド列で1列おきにランドを消す、すなわ
ち中間の列のランドから回路パターンを優先的に引き出
すことによって回路パターンの引き出し本数を増やすこ
とができ、効率的な配列とすることが可能になる。
【0018】対象とする製品ではあらかじめ、ランドピ
ッチ、ランド径、パターン幅、パターン間スペースが決
められているから、これらの値にしたがってnをパラメ
ータとしてmの値とlの値を求めることは簡単であり、
その計算結果に基づいてどのような回路パターンの配置
が効率的かが容易に判断できる。各回路基板での回路パ
ターンのデザイン方法は、後述する実施例で示すよう
に、回路パターンを引き出すランド列(消すランド列)
の位置を各層で共通に設定しておき、前層で回路パター
ンを引き出したランド列については次層でも引き続き同
じランド列から回路パターンを引き出すようにすればよ
い。
【0019】以上の説明は、隣接するランド間には1本
の回路パターンしか通すことができないという条件の場
合であるが、通常間隔で隣接するランド間にα本の回路
パターンを通すことができる場合であってもまったく同
様な考え方が適用できる。すなわち、この場合であって
も、ランドがn個均等間隔で並んだ配置で、中間の(n
−2)個のランドがないとした場合に、両端のランド間
を通すことができる回路パターンの数mは、 m={(ランドピッチ)×(n−1) −(ランド径)−
(パターン間スペース)}÷(パターン幅+スペース) である。また、中間のランドを消すことなく、n個のラ
ンドで両端のランド間に配置できる回路パターンの数
は、 l=α(n−1)+(n−2) となる。
【0020】したがって、nをパラメータとして求めた
mとlの値を比較し、m>lとなる最小のn(整数)の
値を決め、そのnの値で(n−2)個のランド列から選
択的に回路パターンを引くという条件を定め、その条件
にしたがってランド列を消していくという方法により、
回路パターンの効率的なデザインが可能になる。すなわ
ち、隣接するランド間(チャネル部分)に複数本の回路
パターンを配置することができる条件下でも1本の回路
パターンを配置する場合と同様な考え方を適用して効率
的に回路パターンをデザインすることができる。
【0021】なお、連続して配列されているn個のラン
ドから(n−2)個のランドを選択する場合、その選択
するランドはn個のランドのうち両端のランドを除いた
残りのランドである。また、複数列で配列されたランド
列のうちから、どの(n−2)個のランドを選択する
か、いいかえれば(n−2)個のランドをどのように配
列するかについては、連続して配列されたn個のランド
の最端部のランドを次のn個のランドの最端部のランド
と重複させるようにして繰り返し配置する場合(この場
合は(n−1)列が繰り返し単位になる)、n個のラン
ドの最端部のランドを次のn個のランドの最端部のラン
ドと隣り合わせて繰り返し配置する場合(この場合はn
列が繰り返し単位になる)、n個のランドの最端部のラ
ンドと次のn個のランドの最端部のランドとの間に1ま
たは複数の余分のランドを入り込ませるようにして繰り
返し配置する場合がある。
【0022】ランドの配列がスタッガー格子状配列の場
合にも、上述した正規格子状配列の場合に適用する回路
パターンの配列方法が適用できる。すなわち、スタッガ
ー格子状配列は対角線方向から見ると格子状配列とみな
せるから、対角線方向から見た格子状配列とみなして格
子状配列とまったく同様な考え方を適用することができ
る。すなわち、対角線方向から見た格子状配列とみなし
たときのランドピッチ、ランド径、パターン幅、パター
ン間スペースからnをパラメータとしてmとlの値を求
め、これから有効なnの値を求め、そのnの値にしたが
って、上述した格子状配列の場合と同様な考え方で優先
的に回路パターンを引き出すランド列を定めるようにす
ればよい。
【0023】なお、正規格子状配列の場合、本発明方法
を適用して有効なのは隣接するランド間に1本のみ回路
パターンを通すことができる場合で、電極配列が6×6
配列以上の場合である。また、通常の半導体チップでは
縦横方向で均等距離となる正規格子状配列あるいは正規
スタッガー格子状配列にしたがって電極を配置している
が、縦横の配置間隔の比率が若干異なる半導体チップに
対しても本発明の考え方を適用することが可能である。
【0024】
【実施例】
(実施例1)30×30ピンの正規格子状に電極が配列
された電子部品を搭載する多層回路基板で、下記の条件
の場合の回路パターンの配置を示す。 ランドピッチ :250μm、 ランド径 :130μm、 パターン幅 :40μm、 パターン間スペース:40μm
【0025】前述した判定方法に本実施例の条件をあて
はめると、次のようになる。n=3の場合 l=(n−1)+(n−2)=2n−3=3 m={(ランドピッチ)×(n−1) −(ランド径) −(パターン間スペース)}÷(パターン幅+スペース) ={250×2−130−40}/(40+40) ≒4>l したがって、本実施例ではnが3の場合、すなわち3個
のランドのうちの中間の1つのランドから優先的に回路
パターンを引き出すように回路パターンを配列すること
で効率的な配列が可能となる。
【0026】図2〜5は上記電極配置の場合の第1層〜
第5層の各層での回路パターンの形成例を示す。第1層
は半導体チップが接合される層であり、第1層に続いて
順次第2層〜第5層の回路基板が積層して形成される。
図は30×30ピンの全端子配置を示す。図2に示す第
1層では電子部品の電極配置と同一配置ですべての電極
と接合されるランド10が設けられている。本実施例の
場合はランド10を1列おきに消していくように回路パ
ターン7を引き出すことが有効であるから、最外周のラ
ンド10からすべて回路パターン7を引き出すととも
に、各辺上で1列おきに優先的に回路パターン7を引き
出すランド列を設定して回路パターン7を配列する。
【0027】本実施例では隣接するランド10の間には
1本の回路パターン7しか通せないから、同一列から回
路パターン7を引き出せるランド数は最大で3個であ
る。10aは回路パターン7を引き出したランド、10
bは回路パターン7が引き出されていないランドであ
る。回路パターン7を優先的に引き出すランド列を矢印
で示している。なお、第1層で回路パターン7が接続さ
れていないランドはビア接続により第2層と電気的に接
続される。
【0028】図3は第2層における回路パターン7の引
き出しを示す。第2層での回路パターン7の引き出し方
法も第1層と同様で、第1層で設定した優先的に回路パ
ターン7を引き出すランド列と同一位置のランド列でさ
らに内側のランド10から回路パターン7を引き出すよ
うにする。第1層ですでに回路パターン7を引き出した
ランド10の配置領域は回路パターン7を引き出すスペ
ースとして利用できるから、第2層でさらに内側のラン
ド10から回路パターン7を引き出すことが可能とな
る。11aは第2層で回路パターン7を引き出したラン
ド、11bは回路パターン7が引き出されていないラン
ドである。ランド11bは第1層のランド10bとビア
を介して電気的に導通する。
【0029】図4は第3層における回路パターン7の引
き出しを示す。第3層における回路パターン7の引き出
し方法も上記第1層、第2層と同様で、回路パターンを
優先的に引き出す列からさらに内側に進めて回路パター
ン7を引き出す。この場合も当該列で3個のランドから
回路パターン7を引き出している。12aは第3層で回
路パターン7を引き出したランド、12bは回路パター
ン7が引き出されていないランドで第1層、第2層のラ
ンド10と電気的に導通する。
【0030】図5は第4層、図6は第5層で回路パター
ン7の引き出した様子を示す。第4層、第5層における
回路パターン7の引き出し方法も、上記第1〜3層と同
様である。図5で13aは回路パターン7を引き出した
ランド、13bは回路パターン7が引き出されていない
ランドである。ランド13bは第1層、第2層、第3層
のランド10と電気的に接続する。図6で14aは回路
パターン7を引き出したランドであり、第5層ではすべ
てのランドから回路パターン7が引き出されている。本
実施形態では、以上のように回路基板を5層使用してす
べての電極から回路パターンを引き出すことができた。
なお、図24に示す形式と同様に各層ごとに外側のラン
ドの2つから回路パターンを引き出す方法によって構成
した場合は7層必要となる。
【0031】(実施例2)30×30ピンの正規格子状
に電極が配列された電子部品を搭載する多層回路基板
で、下記の条件の場合での回路パターン7の配置例を示
す。 ランドピッチ :240μm、 ランド径 :110μm、 パターン幅 :43μm、 パターン間スペース:43μm
【0032】前述した判定方法に本実施例の条件をあて
はめると、次のようになる。n=3の場合 l=(n−1)+(n−2)=2n−3=3 m={(ランドピッチ)×(n−1) −(ランド径) −(パターン間スペース)} ÷(パターン幅+スペース) ={240×2−110−43}/(43+43) ≒3.8 n=4の場合 l=(n−1)+(n−2)=2n−3=5 m={(ランドピッチ)×(n−1) −(ランド径) −(パターン間スペース)} ÷(パターン幅+スペース) ={240×3−110−43}/(43+43) ≒6.6>l
【0033】上記の結果から、n=3の場合はm>lと
ならないから、実施例1と同じように1列おきにランド
から回路パターンを引き出しても回路パターンの引き出
し効率が上がらないことがわかる。これに対し、n=4
とした場合にはm>lとなる。このことは4つのランド
のうち中間の2つのランドから回路パターンを引き出す
ように回路パターンを配置すれば、配列効率が上げられ
ることを意味する。図7〜11はこの配列基準にしたが
ってランド10から回路パターン7を引き出して配列し
た実施例を示す。図7〜11では30×30ピン配列の
うち1/4の範囲を示す。
【0034】図7は第1層目での回路パターン7の配列
を示す。本実施例では4つ並んだランド10のうち、中
間の2つのランド10から優先的に回路パターン7を引
き出す。図の矢印が優先的に回路パターンを引き出すラ
ンド列の位置である。2つの矢印は2つ置きに配列して
いる。本実施例では優先的に回路パターン7を引き出す
ランド列を2つ置きに配列した例である。回路パターン
7を優先的に引き出すランド列では上述した実施例と同
様に各々3個のランドから回路パターン7を引き出して
いる。
【0035】図8は第2層目の回路パターン7の配置を
示す。この第2層目でもあらかじめ設定した優先的に回
路パターン7を引き出すランド列(矢印)から優先的に
回路パターン7を引き出すこと、および第1層目ですで
に引き出したランド領域については6本の回路パターン
7を引き出すことが可能であることから、この条件にし
たがって回路パターン7を配列している。
【0036】図9は第3層目、図10は第4層目、図1
1は第5層目の回路パターンの配列を各々示す。これら
の場合もあらかじめ設定した優先的な引き出し位置にあ
るランド列から回路パターン7を引き出すようにする。
なお、回路パターン7は外側に位置するランド10から
順次引き出すようにするから、正規格子状に配列された
ランド10のうちコーナー近傍のランド10が先に引き
出される。したがって、コーナー近傍に配置されたラン
ド10については、かならずしも上記条件に従わず回路
パターン7を引き出しやすい方向に引き出せばよい。本
実施例でも回路基板を5層使用してすべてのランド10
から回路パターンを引き出すことができる。
【0037】(実施例3)42×42ピンの正規格子状
に電極が配列された電子部品を搭載する多層回路基板
で、下記の条件の場合の回路パターン7の配置について
示す。 ランドピッチ :240μm、 ランド径 :110μm、 パターン幅 :43μm、 パターン間スペース:43μm
【0038】ランドピッチ、ランド径等の条件は実施例
2の場合とまったく同様であり、回路パターン7を優先
的に引き出すランド列は実施例2と同様にして選択す
る。すわち、連続して配列された4つのランドのうち、
両端のランドを除いた中間の2つのランドから回路パタ
ーン7を引き出す条件にしたがって回路パターン7を配
置する。ただし、本実施例では隣接した2つのランド列
から優先的に回路パターン7を引き出す場合に、隣接す
るランド列の中間には1つのランド列(優先的には回路
パターンを引き出さない)を配置する条件としている。
実施例2では、優先的に回路パターン7を引き出すラン
ド列の中間に2つのランド列を配置した。
【0039】図12に本実施例で第1層目の回路基板で
の回路パターン7の配列を示す。図は全ランドの1/4
の範囲を示す。矢印が優先的に回路パターン7を引き出
すランド列である。上述したように2つ並んだ矢印の中
間に優先的には回路パターン7を引き出さないランド列
を1列配置している。なお、回路パターン7のデザイン
上から、優先的に回路パターン7を引き出すランド列で
一方のランド列からは3個のランド10から回路パター
ン7を引き出しているが、他方のランド列からは2つの
ランド10からのみ回路パターン7を引き出している。
【0040】図13〜19はそれぞれ第2〜8層の回路
基板での回路パターン7の配列を示す。あらかじめ回路
パターン7を優先的に引き出すランド列として設定した
列を各層で共通に設定して優先的に回路パターン7を引
き出す方法は上記実施例と同様である。第1層から順に
回路パターン7を引き出すことによって、回路基板に残
るランド10は外側から消されて、中央付近に残るよう
になる。このように、徐々にランド10が消されて生じ
た回路基板内の空きスペースには接地電位、電源電位等
の共通電位をとるための共通電極を形成するといった活
用が可能となる。
【0041】本実施例では42×42ピンの正規格子状
配列の電極配列に対して、8層ですべてのランド10か
ら回路パターン7を引き出すことができた。同一条件で
従来方法による場合は10層を要するから、本実施例の
回路パターン7の配列によって、より少ない層数で多層
回路基板を構成することが可能となる。
【0042】(実施例4)スタッガー格子状に電極が配
置された電子部品を搭載する多層回路基板での回路パタ
ーン7の配置例を示す。ランド総数450ピンで、以下
の条件による。 隣接ランド間距離 :250μm、 ランド径 :130μm、 パターン幅 :40μm、 パターン間スペース :40μm なお、隣接ランド間距離とは図23に示すように、最近
接間のランド(対角線と平行方向)同士の距離Pであ
る。上記条件の場合、最外列のランド間での回路パター
ン間スペースは223μmあり、このランド間には2本
の回路パターンを通すことができる。これに対して、4
5度配置の最近接間のランド間の回路パターン間スペー
スは120μmである。したがって、最近接間のランド
間には1本のランドしか通すことができない。
【0043】上記条件下でスタッガー格子配列の電極か
ら回路パターンを引き出す場合も、正規格子配列の場合
とまったく同様に考えて配列することができる。ただ
し、スタッガー格子配列の場合には正規格子配列と同様
に取り扱うため、最外列のランド配列方向に対して45
度傾斜した対角線方向を回路パターン7を引き出すラン
ド列方向とみなして回路パターンを配列する。
【0044】このようにスタッガー格子配列を正規格子
配列と同様にみなせば、本実施例の条件設定は実施例1
での条件設定とまったく同様であり、n=3の場合、す
なわち、1列おきに優先的に回路パターンを引き出すラ
ンド列を設定して回路パターン7を引き出す方法によっ
て効率的な配列とすることができる。図20〜図22
は、この方法にしたがって回路パターン7を配列した例
で、各々第1層〜第3層の配列を示す。図20で矢印方
向で示すランド列が優先的に回路パターン7を引き出す
ランド列である。これらのランド列は対角線方向から見
た場合、1列おきにランド10を消す方法になってい
る。
【0045】図20〜図22は同一のランド列から優先
的にランドを引き出す方法によって回路パターン7を配
列したもので、3層ですべてのランド10から回路パタ
ーン7を引き出すことができる。なお、同一条件のスタ
ッガー格子配列で図23に示すように最外列から順次内
側に向かって回路パターン7を引き出す方法による場合
は4層もしくは5層を要する。これに対して、本実施例
の配列によれば、回路基板の数を有効に減らした多層回
路基板を得ることができる。
【0046】以上、実施例をもとにアレイ状に電極が配
置された電子部品を搭載する多層回路基板での回路パタ
ーンの配置について説明したが、回路パターンの引き出
し方法と関連して多層回路基板を作成する上での制約に
ついて説明する。多層回路基板は層間にビアを設けて層
間の回路パターンを電気的に接続する。層間に設けるビ
アは鉛直に形成される場合もあるが、上層のランドと下
層のランドが平面配置で横に若干位置ずれして形成され
る場合もある。多層回路基板でビアを鉛直に形成する場
合には上述した方法には何らの制約もない。しかしなが
ら、上層のランドと下層のランドが平面配置で位置ずれ
した場合には、回路パターンの配列に制約を受ける場合
がある。
【0047】すなわち、上層のランドと下層のランドと
の位置ずれ量をDとするとき、 D<(ランド間距離)−{(パターン幅)+(パターン
間スペース)×2} の場合には本発明による方法は何ら制約を受けない。 (ランド間距離)−{(パターン幅) +(パターン間スペース)×2}<D<(ランド間距
離) の場合は、実施例2、3の場合に一部制約を受ける。 (ランド間距離)<D<(ランド間距離)×21/2 の場合は、実施例1の場合に一部制約を受け、もしくは
全く不可能になる。
【0048】
【発明の効果】本発明に係る多層回路基板は、上述した
ように、格子状配列あるいはスタッガー配列に電極が配
置された電子部品を搭載する多層回路基板として、多層
回路基板を構成する回路基板(配線層)の数をできるだ
け少なくした構成とすることができ、これによって多層
回路基板を製造する際の歩留りを向上させることがで
き、信頼性の高い多層回路基板をより容易に製造するこ
とを可能にする。また、本発明に係る多層回路基板では
各回路基板で引き出される回路パターン(ランド)の数
を従来にくらべて増大させたことから、回路基板に空き
スペースを形成しやすくし、この空きスペースを有効活
用して電気的特性等の優れた多層回路基板として提供す
ることが可能になる等の著効を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】ランド間に配置する回路パターンを拡大して示
す説明図である。
【図2】第1実施例での第1層の回路パターンを示す説
明図である。
【図3】第1実施例での第2層の回路パターンを示す説
明図である。
【図4】第1実施例での第3層の回路パターンを示す説
明図である。
【図5】第1実施例での第4層の回路パターンを示す説
明図である。
【図6】第1実施例での第5層の回路パターンを示す説
明図である。
【図7】第2実施例での第1層の回路パターンを示す説
明図である。
【図8】第2実施例での第2層の回路パターンを示す説
明図である。
【図9】第2実施例での第3層の回路パターンを示す説
明図である。
【図10】第2実施例での第4層の回路パターンを示す
説明図である。
【図11】第2実施例での第5層の回路パターンを示す
説明図である。
【図12】第3実施例での第1層の回路パターンを示す
説明図である。
【図13】第3実施例での第2層の回路パターンを示す
説明図である。
【図14】第3実施例での第3層の回路パターンを示す
説明図である。
【図15】第3実施例での第4層の回路パターンを示す
説明図である。
【図16】第3実施例での第5層の回路パターンを示す
説明図である。
【図17】第3実施例での第6層の回路パターンを示す
説明図である。
【図18】第3実施例での第7層の回路パターンを示す
説明図である。
【図19】第3実施例での第8層の回路パターンを示す
説明図である。
【図20】第4実施例での第1層の回路パターンを示す
説明図である。
【図21】第4実施例での第2層の回路パターンを示す
説明図である。
【図22】第4実施例での第3層の回路パターンを示す
説明図である。
【図23】スタッガー格子状配列での従来の回路パター
ンの配置を示す説明図である。
【図24】正規格子状配列での従来の回路パターンの配
置を示す説明図である。
【図25】フリップチップ接続により半導体チップを搭
載した状態の説明図である。
【図26】多層回路基板に半導体チップを搭載した状態
の断面図である。
【符号の説明】
4 半導体チップ 5 基板 6 電極 7 回路パターン 8 ランド 10 ランド 10a、11a、12a、13a、14a 回路パター
ンが接続されたランド 10b、11b、12b、13b 層間の導通用のラン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田窪 知章 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株式会社東芝 生産技術研究所内 (56)参考文献 特開 平8−181250(JP,A) 特開 平9−199535(JP,A) 特開 平10−303562(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/12 H05K 3/46 H01L 21/60

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 実装面側に縦横の格子状配列で多数個の
    電極が配列された電子部品の前記電極の配置と同一の配
    置で形成されたランドと、一端が前記ランドに接続され
    他端が前記ランドが配列された平面領域内から外側に引
    き出されて形成された回路パターンとを有する回路基板
    を複数枚積層して形成された多層回路基板であって、 前記回路基板に形成された回路パターンが、 ランドピッチ、ランド径、パターン幅、パターン間スペ
    ース、隣接するランド間に配置することができる回路パ
    ターンの数αから、nをパラメータとして得られる m={(ランドピッチ)×(n−1) −(ランド径)−
    (パターン間スペース)}÷(パターン幅+スペース)
    、 l=α(n−1)+(n−2) の両値のうちm>lとなる最小のnの値に対し、連続し
    て配列されたn個のランド列のうち両端のランド列を除
    いた残りの(n−2)個のランド列を各回路基板で回路
    パターンを優先的に引き出す共通の引き出し列として選
    択し、該引き出し列から回路パターンが引き出されると
    共に、当該回路基板の回路パターンが引き出されないラ
    ンドは次層の回路基板に形成されたランドとビアを介し
    て電気的に接続させ、かつ、当該回路基板で回路パター
    ンが引き出されたランドの形成領域に対応する次層以降
    の各回路基板の領域が回路パターンの引き出し領域とさ
    れたことを特徴とする多層回路基板。
  2. 【請求項2】 実装面側にスタッガー配列で多数個の電
    極が配列された電子部品の前記電極の配置と同一の配置
    で形成されたランドと、一端が前記ランドに接続され他
    端が前記ランドが配列された平面領域内から外側に引き
    出されて形成された回路パターンとを有する回路基板を
    複数枚積層して形成された多層回路基板であって、 前記回路基板に形成された回路パターンが、 前記スタッガー配列の対角線方向をランド列とみなし
    て、ランドピッチ、ランド径、パターン幅、パターン間
    スペース、隣接するランド間に配置することができる回
    路パターンの数αから、nをパラメータとして得られる m={(ランドピッチ)×(n−1) −(ランド径)−
    (パターン間スペース)}÷(パターン幅+スペース)
    、 l=α(n−1)+(n−2) の両値のうちm>lとなる最小のnの値に対し、連続し
    て配列されたn個のランド列のうち両端のランド列を除
    いた残りの(n−2)個のランド列を各回路基板で回路
    パターンを優先的に引き出す共通の引き出し列として選
    択し、該引き出し列から回路パターンが引き出されると
    共に、当該回路基板の回路パターンが引き出されないラ
    ンドは次層の回路基板に形成されたランドとビアを介し
    て電気的に接続させ、かつ、当該回路基板で回路パター
    ンが引き出されたランドの形成領域に対応する次層以降
    の各回路基板の領域が回路パターンの引き出し領域とさ
    れたことを特徴とする多層回路基板。
  3. 【請求項3】 回路パターンを優先的に引き出す(n−
    2)個のランド列がn列を繰り返し単位として配列され
    ていることを特徴とする請求項1または2記載の多層回
    路基板。
  4. 【請求項4】 回路パターンを優先的に引き出す(n−
    2)個のランド列が(n−1)列を繰り返し単位として
    配列されていることを特徴とする請求項1または2記載
    の多層回路基板。
  5. 【請求項5】 多層に積層された回路基板のうち、電子
    部品が搭載される側の数層の回路基板についてのみ、請
    求項1、2、3または4記載の配列にしたがって回路パ
    ターンが設けられていることを特徴とする多層回路基
    板。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3380151B2 (ja) * 1997-12-22 2003-02-24 新光電気工業株式会社 多層回路基板
JP2000174153A (ja) * 1998-12-01 2000-06-23 Shinko Electric Ind Co Ltd 多層配線基板
JP3610262B2 (ja) * 1999-07-22 2005-01-12 新光電気工業株式会社 多層回路基板及び半導体装置
JP2001053437A (ja) 1999-08-06 2001-02-23 Shinko Electric Ind Co Ltd 多層回路基板
US6285560B1 (en) * 1999-09-20 2001-09-04 Texas Instruments Incorporated Method for increasing device reliability by selectively depopulating solder balls from a foot print of a ball grid array (BGA) package, and device so modified
US6689634B1 (en) * 1999-09-22 2004-02-10 Texas Instruments Incorporated Modeling technique for selectively depopulating electrical contacts from a foot print of a grid array (BGA or LGA) package to increase device reliability
KR100390456B1 (ko) 2000-12-13 2003-07-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법
JP3825252B2 (ja) * 2000-12-21 2006-09-27 Necエレクトロニクス株式会社 フリップチップ型半導体装置
US8125087B2 (en) * 2001-02-20 2012-02-28 Intel Corporation High-density flip-chip interconnect
US6664483B2 (en) * 2001-05-15 2003-12-16 Intel Corporation Electronic package with high density interconnect and associated methods
WO2003065451A1 (en) * 2002-01-31 2003-08-07 Thomson Licensing S.A. Flip chip die bond pads, die bond pad placement and routing optimization
JP3815342B2 (ja) * 2002-02-19 2006-08-30 株式会社デンソー 半導体装置
US6875930B2 (en) * 2002-04-18 2005-04-05 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Optimized conductor routing for multiple components on a printed circuit board
EP1460690A1 (en) * 2003-02-25 2004-09-22 Broadcom Corporation Optimization of routing layers and board space requirements in a BGA package (fka BGA package)
US7816247B2 (en) 2003-02-25 2010-10-19 Broadcom Corporation Optimization of routing layers and board space requirements for ball grid array package implementations including array corner considerations
US6916995B2 (en) 2003-02-25 2005-07-12 Broadcom Corporation Optimization of routing layers and board space requirements for ball grid array package implementations including single and multi-layer routing
KR100693669B1 (ko) * 2003-03-03 2007-03-09 엘지전자 주식회사 피일드 매크로 블록의 레퍼런스 픽쳐 결정 방법
US7345245B2 (en) * 2003-10-08 2008-03-18 Lsi Logic Corporation Robust high density substrate design for thermal cycling reliability
JP4429760B2 (ja) 2004-02-20 2010-03-10 新光電気工業株式会社 多層配線基板
GB2414864A (en) * 2004-06-01 2005-12-07 Nokia Corp Detecting short circuits
JP4086816B2 (ja) 2004-07-01 2008-05-14 株式会社Nec情報システムズ Bga部品搭載基板の層数見積もり装置及び方法並びに層数見積もりプログラム
FR2879813A1 (fr) * 2004-12-17 2006-06-23 St Microelectronics Sa Dispositif de connexion electrique d'une puce de circuits integres sur une plaque principale
US20060185895A1 (en) * 2005-02-24 2006-08-24 Navinchandra Kalidas Universal pattern of contact pads for semiconductor reflow interconnections
US7928549B2 (en) * 2006-09-19 2011-04-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Integrated circuit devices with multi-dimensional pad structures
EP1978560A1 (fr) * 2007-04-04 2008-10-08 Stmicroelectronics SA Plaque de connexion électrique et assemblage d'une telle plaque et d'un composant semi-conducteur comprenant une puce de circuits intégrés.
US7816610B2 (en) * 2007-04-19 2010-10-19 Mediatek Inc. Layout circuit
US8053349B2 (en) * 2007-11-01 2011-11-08 Texas Instruments Incorporated BGA package with traces for plating pads under the chip
DE102009010055A1 (de) 2008-03-11 2009-10-01 Merkel, Tobias, Dr. Virtuelles Mikrofon mit fremdmoduliertem Ultraschall
JP6088893B2 (ja) * 2013-04-09 2017-03-01 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置及び配線基板
US9466578B2 (en) * 2013-12-20 2016-10-11 Qualcomm Incorporated Substrate comprising improved via pad placement in bump area
US9633965B2 (en) 2014-08-08 2017-04-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Semiconductor structure and manufacturing method of the same
US9749723B2 (en) * 2015-03-05 2017-08-29 Huawei Technologies Co., Ltd. System and method for optical network
JP7279624B2 (ja) 2019-11-27 2023-05-23 株式会社ソシオネクスト 半導体装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5890747A (ja) * 1981-11-25 1983-05-30 Nec Corp Lsiパツケ−ジ
US4782193A (en) * 1987-09-25 1988-11-01 Ibm Corp. Polygonal wiring for improved package performance
US5467252A (en) * 1993-10-18 1995-11-14 Motorola, Inc. Method for plating using nested plating buses and semiconductor device having the same
US5557505A (en) * 1994-07-22 1996-09-17 Ast Research, Inc. Dual pattern microprocessor package footprint

Also Published As

Publication number Publication date
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