JP3381819B2 - テトラキスフェノールエタンの製造方法 - Google Patents
テトラキスフェノールエタンの製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はテトラキスフェノー
ルエタンの製造方法の改良に関するものである。さらに
詳しくいえば、本発明は、フェノール類とグリオキザー
ルとから、高純度のテトラキスフェノールエタンを高い
収率で効率よく製造する方法に関するものである。
ルエタンの製造方法の改良に関するものである。さらに
詳しくいえば、本発明は、フェノール類とグリオキザー
ルとから、高純度のテトラキスフェノールエタンを高い
収率で効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、テトラキスフェノールエタンは、
例えば耐熱性エポキシ樹脂製造用原料、エポキシ樹脂用
硬化剤、フォトレジスト関連の感光剤用バラスト剤やク
レゾールノボラック樹脂改質剤、酸化防止剤などの分野
で利用されている。また、このものは包接及び再放出機
能を有することから包接体のホスト化合物としても注目
されている（特開平５−４９７８号公報）。特に、フォ
トレジスト関連用途及び包接体用途では、低分子化合物
や高次縮合物の含有量が極めて少ない高純度のテトラキ
スフェノールエタンが要求される。
例えば耐熱性エポキシ樹脂製造用原料、エポキシ樹脂用
硬化剤、フォトレジスト関連の感光剤用バラスト剤やク
レゾールノボラック樹脂改質剤、酸化防止剤などの分野
で利用されている。また、このものは包接及び再放出機
能を有することから包接体のホスト化合物としても注目
されている（特開平５−４９７８号公報）。特に、フォ
トレジスト関連用途及び包接体用途では、低分子化合物
や高次縮合物の含有量が極めて少ない高純度のテトラキ
スフェノールエタンが要求される。
【０００３】そこで、このような要求にこたえるため
に、すでに、フェノール類とグリオキザールとの反応生
成物を、低分子化合物及び高次縮合物には良溶媒的に作
用するが、テトラキスフェノールエタンには貧溶媒的に
作用する晶析用有機溶剤で処理することにより、高純度
のテトラキスフェノールエタンを製造する方法が提案さ
れている（特開平７−１７３０８９号公報）。しかしな
がら、この方法は、高純度のテトラキスフェノールエタ
ンを得るには有効な方法であるが、その収率の点では必
ずしも十分に満足しうるものではない。
に、すでに、フェノール類とグリオキザールとの反応生
成物を、低分子化合物及び高次縮合物には良溶媒的に作
用するが、テトラキスフェノールエタンには貧溶媒的に
作用する晶析用有機溶剤で処理することにより、高純度
のテトラキスフェノールエタンを製造する方法が提案さ
れている（特開平７−１７３０８９号公報）。しかしな
がら、この方法は、高純度のテトラキスフェノールエタ
ンを得るには有効な方法であるが、その収率の点では必
ずしも十分に満足しうるものではない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、フェノール類とグリオキザールとから、
高純度のテトラキスフェノールエタンを高い収率で効率
よく製造する方法を提供することを目的としてなされた
ものである。
事情のもとで、フェノール類とグリオキザールとから、
高純度のテトラキスフェノールエタンを高い収率で効率
よく製造する方法を提供することを目的としてなされた
ものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、フェノー
ル類とグリオキザールとを反応させてテトラキスフェノ
ールエタンを製造する場合に、収率を向上させることに
ついて鋭意研究を重ねた結果、特定量のアセトンの共存
下に、特定の温度において、フェノール類とグリオキザ
ールとを酸触媒反応させることにより、その目的を達成
しうることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成
するに至った。
ル類とグリオキザールとを反応させてテトラキスフェノ
ールエタンを製造する場合に、収率を向上させることに
ついて鋭意研究を重ねた結果、特定量のアセトンの共存
下に、特定の温度において、フェノール類とグリオキザ
ールとを酸触媒反応させることにより、その目的を達成
しうることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成
するに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、酸触媒の存在下、フ
ェノール類とグリオキザールとを反応させてテトラキス
フェノールエタンを製造するに当り、フェノール類に対
して５重量％以上のアセトンを共存させ、かつ６０℃以
下の温度で反応を行うことを特徴とするテトラキスフェ
ノールエタンの製造方法を提供するものである。
ェノール類とグリオキザールとを反応させてテトラキス
フェノールエタンを製造するに当り、フェノール類に対
して５重量％以上のアセトンを共存させ、かつ６０℃以
下の温度で反応を行うことを特徴とするテトラキスフェ
ノールエタンの製造方法を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明方法において、原料として
用いられるフェノール類としてはこれまでのテトラキス
フェノールエタンの製造に際し、原料として使用されて
いたものの中から任意に選択使用できる。このようなも
のとしては、例えばフェノール、各種クレゾール及び各
種キシレノールなどを挙げることができる。一方、グリ
オキザールについても特に制限はなく、これまで使用さ
れていたもの、例えば通常４０重量％程度の水溶液を用
いることができるが、必要に応じてさらに高濃度のもの
や固体状のものを用いることもできる。
用いられるフェノール類としてはこれまでのテトラキス
フェノールエタンの製造に際し、原料として使用されて
いたものの中から任意に選択使用できる。このようなも
のとしては、例えばフェノール、各種クレゾール及び各
種キシレノールなどを挙げることができる。一方、グリ
オキザールについても特に制限はなく、これまで使用さ
れていたもの、例えば通常４０重量％程度の水溶液を用
いることができるが、必要に応じてさらに高濃度のもの
や固体状のものを用いることもできる。
【０００８】上記フェノール類とグリオキザールとの使
用割合については、通常グリオキザールに対するフェノ
ール類のモル比で、４〜５０の範囲で用いられる。この
モル比が４未満では高次縮合物が生成しやすく、テトラ
キスフェノールエタンの収率が低下するし、５０を超え
ると残存する多量の未反応フェノール類の回収に多くの
時間と多大のエネルギーコストを要し、経済的に不利と
なるので、好ましくない。収率及び経済性などの面を考
慮して、グリオキザールに対するフェノール類の好まし
いモル比は、５〜３０の範囲である。
用割合については、通常グリオキザールに対するフェノ
ール類のモル比で、４〜５０の範囲で用いられる。この
モル比が４未満では高次縮合物が生成しやすく、テトラ
キスフェノールエタンの収率が低下するし、５０を超え
ると残存する多量の未反応フェノール類の回収に多くの
時間と多大のエネルギーコストを要し、経済的に不利と
なるので、好ましくない。収率及び経済性などの面を考
慮して、グリオキザールに対するフェノール類の好まし
いモル比は、５〜３０の範囲である。
【０００９】この反応に用いられる好ましい酸触媒とし
ては、例えばシュウ酸、フェノールスルホン酸、ｐ‐ト
ルエンスルホン酸などの有機酸、強酸性イオン交換樹脂
などの樹脂酸、硫酸、塩酸、過塩素酸などの無機酸など
の強酸を挙げることができる。これらの触媒は、単独で
用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよ
い。その使用量については通常使用されている範囲を選
ぶことができ特に制限はないが、一般的にはフェノール
類に対して０．０１〜２０重量％の範囲で選ばれる。
ては、例えばシュウ酸、フェノールスルホン酸、ｐ‐ト
ルエンスルホン酸などの有機酸、強酸性イオン交換樹脂
などの樹脂酸、硫酸、塩酸、過塩素酸などの無機酸など
の強酸を挙げることができる。これらの触媒は、単独で
用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよ
い。その使用量については通常使用されている範囲を選
ぶことができ特に制限はないが、一般的にはフェノール
類に対して０．０１〜２０重量％の範囲で選ばれる。
【００１０】本発明方法においては、アセトンの共存下
に反応を行うことが必要であり、このアセトンの量は、
フェノール類に対して５重量％以上の割合にすることが
必要である。このアセトンの量が５重量％未満では収率
の向上効果が十分に発揮されない。また、アセトンの量
があまり多すぎると、その量の割には収率の向上効果が
認められず、むしろ危険性が大きくなるとともに、経済
的に不利となるので収率の向上、危険性の抑制及び経済
性などの面を考慮してフェノール類に対して１０〜２０
重量％の範囲で用いられる。
に反応を行うことが必要であり、このアセトンの量は、
フェノール類に対して５重量％以上の割合にすることが
必要である。このアセトンの量が５重量％未満では収率
の向上効果が十分に発揮されない。また、アセトンの量
があまり多すぎると、その量の割には収率の向上効果が
認められず、むしろ危険性が大きくなるとともに、経済
的に不利となるので収率の向上、危険性の抑制及び経済
性などの面を考慮してフェノール類に対して１０〜２０
重量％の範囲で用いられる。
【００１１】次に、本発明方法においては、反応を６０
℃以下の温度において行うことが必要である。反応温度
が６０℃を超えると高次縮合物の生成量が多くなり、ま
たアセトンとフェノールとの反応生成物を生じるなど収
率が低下する。しかし、反応温度が低すぎると低分子化
合物の生成量が多くなり、収率が低下するので、高次縮
合物及び低分子化合物の生成を抑えて収率を高めるため
に、３０〜６０℃の範囲、好ましくは３５〜４５℃の範
囲で選ぶのが有利である。この際の反応時間は、フェノ
ール類の種類、フェノール類とグリオキザールとの使用
割合、酸触媒の種類及び量、反応温度などにより左右さ
れ、一概に定めることはできないが、一般的には１〜２
４時間の範囲内である。
℃以下の温度において行うことが必要である。反応温度
が６０℃を超えると高次縮合物の生成量が多くなり、ま
たアセトンとフェノールとの反応生成物を生じるなど収
率が低下する。しかし、反応温度が低すぎると低分子化
合物の生成量が多くなり、収率が低下するので、高次縮
合物及び低分子化合物の生成を抑えて収率を高めるため
に、３０〜６０℃の範囲、好ましくは３５〜４５℃の範
囲で選ぶのが有利である。この際の反応時間は、フェノ
ール類の種類、フェノール類とグリオキザールとの使用
割合、酸触媒の種類及び量、反応温度などにより左右さ
れ、一概に定めることはできないが、一般的には１〜２
４時間の範囲内である。
【００１２】次に、本発明の好適な実施態様の１例につ
いて説明すると、まず、フェノール類、グリオキザール
及びフェノール類に対して５重量％以上のアセトンを、
それぞれ所定の割合で含有する混合物を調製し、これに
所定量の酸触媒を加え、６０℃以下の温度において、所
定時間反応を行ったのち、冷却し、好ましくは中和処理
して液状の反応混合物を得る。この中和処理には、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、水酸化カルシウムなどのアルカリ性化合物が、固体
又は水溶液の形態で用いられる。
いて説明すると、まず、フェノール類、グリオキザール
及びフェノール類に対して５重量％以上のアセトンを、
それぞれ所定の割合で含有する混合物を調製し、これに
所定量の酸触媒を加え、６０℃以下の温度において、所
定時間反応を行ったのち、冷却し、好ましくは中和処理
して液状の反応混合物を得る。この中和処理には、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、水酸化カルシウムなどのアルカリ性化合物が、固体
又は水溶液の形態で用いられる。
【００１３】次に、得られた液状の反応混合物に低分子
化合物や高次縮合物に良溶媒的に作用し、かつテトラキ
スフェノールエタンに貧溶媒的に作用する晶析用有機溶
剤、例えばアセトン、テトラヒドロフランなど（特にア
セトンは、良好なろ過作業性を付与できるため最適であ
る）を加えてかきまぜたのち静置し、ろ過して混合物ス
ラリー（テトラキスフェノールエタンのアセトン包接体
と中和塩との混合物）を得る。次いで、該混合物スラリ
ーにアセトン包接体を溶解しかつ中和塩を溶解しない洗
浄用有機溶剤、例えばメタノール、酢酸エチルなどを加
えて加熱環流させたのち、熱時ろ過して中和塩を除去す
る。次いで、得られたろ過液に水を添加し、かきまぜな
がら加熱濃縮（好ましくは加熱減圧濃縮）してテトラキ
スフェノールエタンのアセトン包接体を析出させたのち
ろ別し、恒量に到達するまで高温で加熱減圧乾燥するこ
とにより、高純度のテトラキスフェノールエタンを得る
ことができる。場合によってはさらに同様の操作を繰り
返してより純度を高めてもよい。なお、中和塩の除去に
は、液状の反応混合物に水を添加して加熱し、分液して
水層を除去する方法を採用してもよい。
化合物や高次縮合物に良溶媒的に作用し、かつテトラキ
スフェノールエタンに貧溶媒的に作用する晶析用有機溶
剤、例えばアセトン、テトラヒドロフランなど（特にア
セトンは、良好なろ過作業性を付与できるため最適であ
る）を加えてかきまぜたのち静置し、ろ過して混合物ス
ラリー（テトラキスフェノールエタンのアセトン包接体
と中和塩との混合物）を得る。次いで、該混合物スラリ
ーにアセトン包接体を溶解しかつ中和塩を溶解しない洗
浄用有機溶剤、例えばメタノール、酢酸エチルなどを加
えて加熱環流させたのち、熱時ろ過して中和塩を除去す
る。次いで、得られたろ過液に水を添加し、かきまぜな
がら加熱濃縮（好ましくは加熱減圧濃縮）してテトラキ
スフェノールエタンのアセトン包接体を析出させたのち
ろ別し、恒量に到達するまで高温で加熱減圧乾燥するこ
とにより、高純度のテトラキスフェノールエタンを得る
ことができる。場合によってはさらに同様の操作を繰り
返してより純度を高めてもよい。なお、中和塩の除去に
は、液状の反応混合物に水を添加して加熱し、分液して
水層を除去する方法を採用してもよい。
【００１４】このように、アセトンを共存させ、６０℃
以下で反応させることにより、高純度のテトラキスフェ
ノールエタンが高い収率で得られる。この理由について
は必ずしも明らかではないが、おそらく、生成したテト
ラキスフェノールエタンがアセトンと包接体を形成して
安定化すること、加えて低温反応の採用により高分子化
（高次縮合物）が抑制されることによるものと推測され
る。また、１，１，２，２‐テトラキス（４‐ヒドロキ
シフェニル）エタンのアセトン包接体は、その熱分析
（理学製ＴＧ−ＤＴＡ８１１２ＢＨ、昇温速度５℃／
分）で知り得た７０〜１０５℃の温度間での重量減少デ
ータから、１モルのテトラキス（４‐ヒドロキシフェニ
ル）エタンに２モルのアセトンが包接していることが確
認された。
以下で反応させることにより、高純度のテトラキスフェ
ノールエタンが高い収率で得られる。この理由について
は必ずしも明らかではないが、おそらく、生成したテト
ラキスフェノールエタンがアセトンと包接体を形成して
安定化すること、加えて低温反応の採用により高分子化
（高次縮合物）が抑制されることによるものと推測され
る。また、１，１，２，２‐テトラキス（４‐ヒドロキ
シフェニル）エタンのアセトン包接体は、その熱分析
（理学製ＴＧ−ＤＴＡ８１１２ＢＨ、昇温速度５℃／
分）で知り得た７０〜１０５℃の温度間での重量減少デ
ータから、１モルのテトラキス（４‐ヒドロキシフェニ
ル）エタンに２モルのアセトンが包接していることが確
認された。
【００１５】
【発明の効果】本発明方法によれば、高純度のテトラキ
スフェノールエタンを収率よく製造することができる。
このようにして得られたテトラキスフェノールエタン
は、例えばフォトレジスト分野における感光剤用バラス
ト剤やクレゾールノボラック樹脂改質剤として、包接体
形成用として、あるいは耐熱性エポキシ樹脂製造用原
料、エポキシ樹脂用硬化材、酸化防止剤などとして幅広
く用いることができる。
スフェノールエタンを収率よく製造することができる。
このようにして得られたテトラキスフェノールエタン
は、例えばフォトレジスト分野における感光剤用バラス
ト剤やクレゾールノボラック樹脂改質剤として、包接体
形成用として、あるいは耐熱性エポキシ樹脂製造用原
料、エポキシ樹脂用硬化材、酸化防止剤などとして幅広
く用いることができる。
【００１６】
【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。なお、テトラキスフェノールエタン
の純度は東ソー製ＨＬＣ８０１０型ゲルろ過クロマトグ
ラフィー（カラム：ＧＸＬ１０００＋２０００、キャリ
ア：テトラヒドロフラン１ｃｃ／分、検出器：屈折率
計）を用いて得られたピークの面積比により求めた。ま
た、融点は理学製ＴＡＳ１０００型示差走査熱量計（Ｄ
ＳＣ、昇温速度５℃／分）を用いるピークトップ法によ
り求めた。
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。なお、テトラキスフェノールエタン
の純度は東ソー製ＨＬＣ８０１０型ゲルろ過クロマトグ
ラフィー（カラム：ＧＸＬ１０００＋２０００、キャリ
ア：テトラヒドロフラン１ｃｃ／分、検出器：屈折率
計）を用いて得られたピークの面積比により求めた。ま
た、融点は理学製ＴＡＳ１０００型示差走査熱量計（Ｄ
ＳＣ、昇温速度５℃／分）を用いるピークトップ法によ
り求めた。
【００１７】実施例１
還流コンデンサー、温度計及びかきまぜ機を備えた三つ
口反応フラスコにフェノール１０００ｇ、４０重量％グ
リオキザール水溶液２３２ｇ及びアセトン１２５ｇを仕
込み、かきまぜ下に９５重量％硫酸１８７．５ｇを約２
時間で滴下し、さらに約２時間かけて４０℃に昇温し、
同温度で１２時間反応を行ったのち、１５℃に冷却し、
水酸化ナトリウム水溶液で中和して液状の反応混合物を
得た。次いで、この反応混合物にアセトン６３２ｇを加
え、かきまぜて混合物スラリーを得、これをろ別した。
なお、この際のろ別は速やかに行うことができた。さら
に、アセトンと水との混合液で洗浄してテトラキスフェ
ノールエタンのアセトン包接体と中和塩の混合物８０２
ｇを得た。次いで、三つ口フラスコ内に該混合物の全量
とメタノール１４００ｇを仕込み、約１時間加熱還流さ
せて前記アセトン包接体を溶解させたのち、熱時ろ過し
て中和塩を除いた。一方、得られたメタノール溶液は、
かきまぜ下に水５６４ｇ加えたのち、減圧蒸留してメタ
ノールを留去した。その後、１５℃で一晩かきまぜたの
ち、ろ過分離し、約１３０℃で減圧乾燥して白色結晶の
テトラキスフェノールエタン２２７ｇ（収率２２．７
％）を得た。このテトラキスフェノールエタンは、純度
が１００％で融点が３１５℃の１，１，２，２‐テトラ
キス（４‐ヒドロキシフェニル）エタンであった。な
お、ここでいう収率とは、テトラキスフェノールエタン
の収量をフェノール類の仕込み量で除した重量基準の比
率である。
口反応フラスコにフェノール１０００ｇ、４０重量％グ
リオキザール水溶液２３２ｇ及びアセトン１２５ｇを仕
込み、かきまぜ下に９５重量％硫酸１８７．５ｇを約２
時間で滴下し、さらに約２時間かけて４０℃に昇温し、
同温度で１２時間反応を行ったのち、１５℃に冷却し、
水酸化ナトリウム水溶液で中和して液状の反応混合物を
得た。次いで、この反応混合物にアセトン６３２ｇを加
え、かきまぜて混合物スラリーを得、これをろ別した。
なお、この際のろ別は速やかに行うことができた。さら
に、アセトンと水との混合液で洗浄してテトラキスフェ
ノールエタンのアセトン包接体と中和塩の混合物８０２
ｇを得た。次いで、三つ口フラスコ内に該混合物の全量
とメタノール１４００ｇを仕込み、約１時間加熱還流さ
せて前記アセトン包接体を溶解させたのち、熱時ろ過し
て中和塩を除いた。一方、得られたメタノール溶液は、
かきまぜ下に水５６４ｇ加えたのち、減圧蒸留してメタ
ノールを留去した。その後、１５℃で一晩かきまぜたの
ち、ろ過分離し、約１３０℃で減圧乾燥して白色結晶の
テトラキスフェノールエタン２２７ｇ（収率２２．７
％）を得た。このテトラキスフェノールエタンは、純度
が１００％で融点が３１５℃の１，１，２，２‐テトラ
キス（４‐ヒドロキシフェニル）エタンであった。な
お、ここでいう収率とは、テトラキスフェノールエタン
の収量をフェノール類の仕込み量で除した重量基準の比
率である。
【００１８】実施例２
実施例１において、フェノール１０００ｇをｏ‐クレゾ
ール１１４５ｇに変更した以外は実施例１と同様にして
テトラキスフェノールエタン４４２ｇ（収率３８．６
％）を得た。このテトラキスフェノールエタンは、純度
が９９．８％で融点が２９６℃の１，１，２，２‐テト
ラキス（３‐メチル‐４‐ヒドロキシフェニル）エタン
であった。
ール１１４５ｇに変更した以外は実施例１と同様にして
テトラキスフェノールエタン４４２ｇ（収率３８．６
％）を得た。このテトラキスフェノールエタンは、純度
が９９．８％で融点が２９６℃の１，１，２，２‐テト
ラキス（３‐メチル‐４‐ヒドロキシフェニル）エタン
であった。
【００１９】比較例１
実施例１において、反応時に用いるアセトンを１．５重
量倍のテトラヒドロフランに変更した以外は実施例１と
同様にしてテトラキスフェノールエタン１５５．１ｇ
（収率１５．５％）を得た。このテトラキスフェノール
エタンは、純度が９８．２％で融点が３１２℃の１，
１，２，２‐テトラキス（４‐ヒドロキシフェニル）エ
タンであった。
量倍のテトラヒドロフランに変更した以外は実施例１と
同様にしてテトラキスフェノールエタン１５５．１ｇ
（収率１５．５％）を得た。このテトラキスフェノール
エタンは、純度が９８．２％で融点が３１２℃の１，
１，２，２‐テトラキス（４‐ヒドロキシフェニル）エ
タンであった。
【００２０】比較例２
実施例１において、アセトンを使用せずに反応を行った
ところ、反応系の粘度が高くなり、反応温度の制御がで
きなくなった。また、中和後にアセトンを添加して析出
させた混合物スラリーは微細であったため、そのろ別に
はかなりの時間を必要とした。ろ別後の操作は実施例１
と同様に行ってテトラキスフェノールエタン１４９ｇ
（収率１４．９％）を得た。このテトラキスフェノール
エタンは、純度が９７．９％で融点が３０９℃の１，
１，２，２‐テトラキス（４‐ヒドロキシフェニル）エ
タンであった。
ところ、反応系の粘度が高くなり、反応温度の制御がで
きなくなった。また、中和後にアセトンを添加して析出
させた混合物スラリーは微細であったため、そのろ別に
はかなりの時間を必要とした。ろ別後の操作は実施例１
と同様に行ってテトラキスフェノールエタン１４９ｇ
（収率１４．９％）を得た。このテトラキスフェノール
エタンは、純度が９７．９％で融点が３０９℃の１，
１，２，２‐テトラキス（４‐ヒドロキシフェニル）エ
タンであった。
【００２１】比較例３
実施例１において、反応時のアセトンをメタノールに変
更した以外は実施例１と同様にしてテトラキスフェノー
ルエタン１５９．０ｇ（収率１５．９％）を得た。この
テトラキスフェノールエタンは、純度が９６．５％で融
点が３０６℃の１，１，２，２‐テトラキス（４‐ヒド
ロキシフェニル）エタンであった。
更した以外は実施例１と同様にしてテトラキスフェノー
ルエタン１５９．０ｇ（収率１５．９％）を得た。この
テトラキスフェノールエタンは、純度が９６．５％で融
点が３０６℃の１，１，２，２‐テトラキス（４‐ヒド
ロキシフェニル）エタンであった。
【００２２】比較例４
実施例１において、反応温度を８０℃に変更した以外は
実施例１と同様にして反応を行ったのち、アセトン６３
２ｇを加えたが結晶の析出は見られず目的物のテトラキ
スフェノールエタンは得られなかった。なお、反応混合
物の組成は、前記ゲルろ過クロマトグラフィー分析によ
れば、目的物１８．０重量％、２，２‐ビス（４‐ヒド
ロキシフェニル）プロパン１９．５重量％、高次縮合物
２８．１重量％、残りは未反応フェノールであった。
実施例１と同様にして反応を行ったのち、アセトン６３
２ｇを加えたが結晶の析出は見られず目的物のテトラキ
スフェノールエタンは得られなかった。なお、反応混合
物の組成は、前記ゲルろ過クロマトグラフィー分析によ
れば、目的物１８．０重量％、２，２‐ビス（４‐ヒド
ロキシフェニル）プロパン１９．５重量％、高次縮合物
２８．１重量％、残りは未反応フェノールであった。
【００２３】以上の実施例及び比較例より、本発明方法
においては、反応時に共存させたアセトンとの包接体の
形成による目的物（テトラキスフェノールエタン）の安
定化と、特定の反応温度の採用による高分子化抑制とが
相俟って目的物の収率向上が果たせたものであるとの知
見を得た。また、得られたテトラキスフェノールエタン
は、低分子化合物や高次縮合物の含有量が極めて少なく
高純度のものであることが確認された。
においては、反応時に共存させたアセトンとの包接体の
形成による目的物（テトラキスフェノールエタン）の安
定化と、特定の反応温度の採用による高分子化抑制とが
相俟って目的物の収率向上が果たせたものであるとの知
見を得た。また、得られたテトラキスフェノールエタン
は、低分子化合物や高次縮合物の含有量が極めて少なく
高純度のものであることが確認された。
─────────────────────────────────────────────────────
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(56)参考文献 特開 平７−173089（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−76538（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−179637（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−296814（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−223020（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07C 39/00
C07C 37/00
Claims (3)
- 【請求項１】 酸触媒の存在下、フェノール類とグリオ
キザールとを反応させてテトラキスフェノールエタンを
製造するに当り、フェノール類に対して５重量％以上の
アセトンを共存させ、かつ６０℃以下の温度で反応を行
うことを特徴とするテトラキスフェノールエタンの製造
方法。 - 【請求項２】 フェノール類に対して１０〜２０重量％
のアセトンを共存させる請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 反応温度が３０〜６０℃である請求項１
又は２記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24369096A JP3381819B2 (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | テトラキスフェノールエタンの製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24369096A JP3381819B2 (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | テトラキスフェノールエタンの製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1087537A JPH1087537A (ja) | 1998-04-07 |
| JP3381819B2 true JP3381819B2 (ja) | 2003-03-04 |
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| JP24369096A Expired - Lifetime JP3381819B2 (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | テトラキスフェノールエタンの製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3381819B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007046262A1 (ja) | 2005-10-18 | 2007-04-26 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、感光性樹脂組成物およびその硬化物 |
| JP2016199488A (ja) * | 2015-04-09 | 2016-12-01 | Ｊｆｅケミカル株式会社 | テトラキスフェノールエタン類の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006016335A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Asahi Organic Chem Ind Co Ltd | テトラキス（ヒドロキシフェニル）アルカンの製造方法 |
| JP4791747B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2011-10-12 | 旭有機材工業株式会社 | テトラキス（ヒドロキシフェニル）アルカンの製造方法 |
-
1996
- 1996-09-13 JP JP24369096A patent/JP3381819B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007046262A1 (ja) | 2005-10-18 | 2007-04-26 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、感光性樹脂組成物およびその硬化物 |
| JP2016199488A (ja) * | 2015-04-09 | 2016-12-01 | Ｊｆｅケミカル株式会社 | テトラキスフェノールエタン類の製造方法 |
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| JPH1087537A (ja) | 1998-04-07 |
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