JP3316302B2 - 透明紫外線遮断保護転写箔 - Google Patents
透明紫外線遮断保護転写箔Info
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- JP3316302B2 JP3316302B2 JP07989894A JP7989894A JP3316302B2 JP 3316302 B2 JP3316302 B2 JP 3316302B2 JP 07989894 A JP07989894 A JP 07989894A JP 7989894 A JP7989894 A JP 7989894A JP 3316302 B2 JP3316302 B2 JP 3316302B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、内外装建材、自動車内
外装用成形部品、文房具、雑貨、化粧品容器キャップ、
汎用パッケージ、弱電製品、高級襖、欄間、木工品、レ
ザー、工芸品民芸品などをはじめ耐光性及び耐擦傷性、
耐汚染性の不可欠な分野において被転写体の外観及び意
匠性を損なわず被転写体の耐光性向上と表面保護に用い
られる透明紫外線遮断保護転写箔に関する。
外装用成形部品、文房具、雑貨、化粧品容器キャップ、
汎用パッケージ、弱電製品、高級襖、欄間、木工品、レ
ザー、工芸品民芸品などをはじめ耐光性及び耐擦傷性、
耐汚染性の不可欠な分野において被転写体の外観及び意
匠性を損なわず被転写体の耐光性向上と表面保護に用い
られる透明紫外線遮断保護転写箔に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、一般に紫外線吸収材として
は、サリチル酸誘導体、２−ヒドロキシベンゾフェノ誘
導体、安息香酸誘導体、ケイ皮酸誘導体、クマリン酸誘
導体などの有機系、酸化亜鉛、酸化チタンなどの無機系
があり、光劣化防止の目的でプラスチック、ゴムなどに
混入使用されている。酸化亜鉛の使用については特公平
４−４６９３４号公報、特公平４−５３７１４号公報、
特公平４−９９２３６号公報でも報告されている。
は、サリチル酸誘導体、２−ヒドロキシベンゾフェノ誘
導体、安息香酸誘導体、ケイ皮酸誘導体、クマリン酸誘
導体などの有機系、酸化亜鉛、酸化チタンなどの無機系
があり、光劣化防止の目的でプラスチック、ゴムなどに
混入使用されている。酸化亜鉛の使用については特公平
４−４６９３４号公報、特公平４−５３７１４号公報、
特公平４−９９２３６号公報でも報告されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有機系
紫外線吸収剤については、長時間にわたって紫外線を吸
収すると黄変したり、表面にブリ−ドアウトしてきたり
する。更に、厚膜にしないと紫外線遮断効果が得られな
い。又、無機系紫外線吸収剤については、着色性が強く
透明性を損なわず紫外線遮断効果を得ることは困難であ
った。
紫外線吸収剤については、長時間にわたって紫外線を吸
収すると黄変したり、表面にブリ−ドアウトしてきたり
する。更に、厚膜にしないと紫外線遮断効果が得られな
い。又、無機系紫外線吸収剤については、着色性が強く
透明性を損なわず紫外線遮断効果を得ることは困難であ
った。
【０００４】したがって、本発明の目的は、従来の有機
系紫外線吸収剤の欠点であった長時間にわたって紫外線
を吸収すると変色したり表面にブリ−ドアウトしてきた
りするという欠点と無機系紫外線吸収剤についての欠点
であった着色性が強く、透明性に優れたものが得られな
いという欠点の両方を解決するものである。即ち、本発
明は耐光性に優れた透明性の良い保護転写箔を提供する
ことにある。
系紫外線吸収剤の欠点であった長時間にわたって紫外線
を吸収すると変色したり表面にブリ−ドアウトしてきた
りするという欠点と無機系紫外線吸収剤についての欠点
であった着色性が強く、透明性に優れたものが得られな
いという欠点の両方を解決するものである。即ち、本発
明は耐光性に優れた透明性の良い保護転写箔を提供する
ことにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の透明紫外線遮断
保護転写箔は、従来の紫外線遮断保護転写箔が有してい
た前記課題を解決するために、紫外線遮断層に下記の一
般式１（化１）で示されるアクリル系モノマ−と下記の
一般式２（化２）で示されるベンゾフェノン基を有する
ビニル系モノマ−との共重合体で主として形成されてい
るため、耐光性、透明性に優れた転写材を提供すること
を可能とした。なお、以下の明細書では「一般式１（化
１）で示されるアクリル系モノマ−」を「アクリル系モ
ノマ−」と、また「一般式２（化２）で示されるベンゾ
フェノン基を有するビニル系モノマ−」を「ベンゾフェ
ノン基を有するビニル系モノマ−」と記載する。
保護転写箔は、従来の紫外線遮断保護転写箔が有してい
た前記課題を解決するために、紫外線遮断層に下記の一
般式１（化１）で示されるアクリル系モノマ−と下記の
一般式２（化２）で示されるベンゾフェノン基を有する
ビニル系モノマ−との共重合体で主として形成されてい
るため、耐光性、透明性に優れた転写材を提供すること
を可能とした。なお、以下の明細書では「一般式１（化
１）で示されるアクリル系モノマ−」を「アクリル系モ
ノマ−」と、また「一般式２（化２）で示されるベンゾ
フェノン基を有するビニル系モノマ−」を「ベンゾフェ
ノン基を有するビニル系モノマ−」と記載する。
【化１】
【化２】
【０００６】
【作用】本発明の透明紫外線遮断保護転写箔において用
いるベ−スフィルム（Ａ）としては特に制限はなく、充
分な自己保持性を有する通常の転写箔に用いられるもの
であればいずれも用いることができる。例えばポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムポリプロピレンフィルム、
ポリカ−ボネ−トフィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリエ
チレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルムなどの合成樹
脂フィルムやセルロ−スアセテ−トフィルムなどの人造
樹脂フィルム、セロハン紙、グラシン紙などの洋紙、和
紙などのフィルム状物、あるいはこれらの複合フィルム
状物もしくは複合シ−ト状物などがあげられる。
いるベ−スフィルム（Ａ）としては特に制限はなく、充
分な自己保持性を有する通常の転写箔に用いられるもの
であればいずれも用いることができる。例えばポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムポリプロピレンフィルム、
ポリカ−ボネ−トフィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリエ
チレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルムなどの合成樹
脂フィルムやセルロ−スアセテ−トフィルムなどの人造
樹脂フィルム、セロハン紙、グラシン紙などの洋紙、和
紙などのフィルム状物、あるいはこれらの複合フィルム
状物もしくは複合シ−ト状物などがあげられる。
【０００７】ベ−スフィルムの厚さとしては特に制限は
なく、４〜１００μｍの範囲、望ましくは９〜５０μｍ
の範囲のものを用いのがしわや亀裂などのない透明紫外
線遮断保護転写箔の製造が容易にできる点から望まし
い。
なく、４〜１００μｍの範囲、望ましくは９〜５０μｍ
の範囲のものを用いのがしわや亀裂などのない透明紫外
線遮断保護転写箔の製造が容易にできる点から望まし
い。
【０００８】本発明の透明紫外線遮断保護転写箔におい
て必要に応じて用いる離型層（Ｂ）としては特に制限は
なく、例えばパラフィンワックス、アクリル系樹脂、ウ
レタン系樹脂、セルロース系樹脂、シリコン系樹脂、メ
ラミン系樹脂、尿素系樹脂、尿素−メラミン系樹脂、ベ
ンゾグアナミン系樹脂、界面活性剤を単独またはこれら
の混合物を主成分とした有機溶剤に溶解させた塗料をグ
ラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法な
どの印刷法で前記ベースフィルム（Ａ）の上に塗布乾燥
（熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹
脂、放射線硬化性樹脂など硬化性塗膜の場合には硬化）
させて形成したものが挙げられる。離型層の厚さとして
は特に制限はなく、０．１〜２μｍ程度の範囲から適宜
採用される。０．１μｍ未満の場合、離型しにくくな
り、逆に２μｍを越えると離型しやすくなり過ぎて転写
前に箔の脱離が起こる。
て必要に応じて用いる離型層（Ｂ）としては特に制限は
なく、例えばパラフィンワックス、アクリル系樹脂、ウ
レタン系樹脂、セルロース系樹脂、シリコン系樹脂、メ
ラミン系樹脂、尿素系樹脂、尿素−メラミン系樹脂、ベ
ンゾグアナミン系樹脂、界面活性剤を単独またはこれら
の混合物を主成分とした有機溶剤に溶解させた塗料をグ
ラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法な
どの印刷法で前記ベースフィルム（Ａ）の上に塗布乾燥
（熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹
脂、放射線硬化性樹脂など硬化性塗膜の場合には硬化）
させて形成したものが挙げられる。離型層の厚さとして
は特に制限はなく、０．１〜２μｍ程度の範囲から適宜
採用される。０．１μｍ未満の場合、離型しにくくな
り、逆に２μｍを越えると離型しやすくなり過ぎて転写
前に箔の脱離が起こる。
【０００９】本発明の透明紫外線遮断保護転写箔におい
て必要に応じて用いる保護層（Ｃ）としては特に制限は
なく、耐光性が良好で通常の転写箔に用いられるもので
あればいずれも用いることができる。例えばアクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、ウレタン−ア
クリル系樹脂などを単独またはこれらの混合物を主成分
とした有機溶剤に溶解させた塗料をグラビア印刷法、ス
クリーン印刷法、オフセット印刷法などの印刷法で前記
ベースフィルム（Ａ）上に直接または離型層（Ｂ）を介
して塗布乾燥（熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子
線硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂など硬化性塗膜の場合
には硬化）させて形成したものが挙げられる。保護層の
厚さとしては特に制限はなく、０．５〜１０μｍ程度の
範囲から適宜採用される。０．５μｍ未満の場合、保護
効果が得られず、また１０μｍより厚くしてもそれ以上
の保護効果が得られず、コスト面からも適当でない。
て必要に応じて用いる保護層（Ｃ）としては特に制限は
なく、耐光性が良好で通常の転写箔に用いられるもので
あればいずれも用いることができる。例えばアクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、ウレタン−ア
クリル系樹脂などを単独またはこれらの混合物を主成分
とした有機溶剤に溶解させた塗料をグラビア印刷法、ス
クリーン印刷法、オフセット印刷法などの印刷法で前記
ベースフィルム（Ａ）上に直接または離型層（Ｂ）を介
して塗布乾燥（熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子
線硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂など硬化性塗膜の場合
には硬化）させて形成したものが挙げられる。保護層の
厚さとしては特に制限はなく、０．５〜１０μｍ程度の
範囲から適宜採用される。０．５μｍ未満の場合、保護
効果が得られず、また１０μｍより厚くしてもそれ以上
の保護効果が得られず、コスト面からも適当でない。
【００１０】本発明の透明紫外線遮断保護転写箔におい
て紫外線遮断層（Ｄ）に用いる紫外線吸収材としては、
前記アクリル系モノマーと前記ベンゾフェノン基を有す
るビニル系モノマーとの共重合体、例えばメチルメタク
リル酸／ベンゾフェノン系共重合体、メタクリル酸／ベ
ンゾフェノン系共重合体などがあげられる。メチルメタ
クリル酸もしくはメタクリル酸とベンゾフエノン系の組
成比は、通常５：５〜７：３、又、分子量１００００〜
３０００００のものが好ましい。ベンゾフェノン系の割
合が組成比で５：５以上の場合、層の膜性を損ない擦傷
性などが低下し、又紫外線遮断効果は５：５とほとんど
変わらないので好ましくない。一方ベンゾフェノン系の
割合が組成比で７：３以下の場合、紫外線遮断効果が低
下してしまうため望ましくない。なお、紫外線遮断層の
性能を損なわない範囲で他の樹脂などを適宜混合しても
よい。紫外線遮断層の厚さとしては特に制限はなく、
０．５μｍ〜５．０μｍ程度の範囲から適宜採用され
る。０．５μｍ未満の場合完全な紫外線遮断効果が得ら
れず、また５．０μｍより厚くても紫外線遮断効果は
５．０μｍとほとんど変わらないので好ましくない。
て紫外線遮断層（Ｄ）に用いる紫外線吸収材としては、
前記アクリル系モノマーと前記ベンゾフェノン基を有す
るビニル系モノマーとの共重合体、例えばメチルメタク
リル酸／ベンゾフェノン系共重合体、メタクリル酸／ベ
ンゾフェノン系共重合体などがあげられる。メチルメタ
クリル酸もしくはメタクリル酸とベンゾフエノン系の組
成比は、通常５：５〜７：３、又、分子量１００００〜
３０００００のものが好ましい。ベンゾフェノン系の割
合が組成比で５：５以上の場合、層の膜性を損ない擦傷
性などが低下し、又紫外線遮断効果は５：５とほとんど
変わらないので好ましくない。一方ベンゾフェノン系の
割合が組成比で７：３以下の場合、紫外線遮断効果が低
下してしまうため望ましくない。なお、紫外線遮断層の
性能を損なわない範囲で他の樹脂などを適宜混合しても
よい。紫外線遮断層の厚さとしては特に制限はなく、
０．５μｍ〜５．０μｍ程度の範囲から適宜採用され
る。０．５μｍ未満の場合完全な紫外線遮断効果が得ら
れず、また５．０μｍより厚くても紫外線遮断効果は
５．０μｍとほとんど変わらないので好ましくない。
【００１１】本発明の透明紫外線遮断保護転写箔におい
て必要に応じて用いる接着層（Ｅ）に用いる樹脂として
は特に制限はなく、通常の転写箔に用いられる樹脂から
適宜選択し用いられる。例えばアクリル系、酢酸ビニル
系、塩化ビニル系、スチレン−ブタジエン系、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル系、エチレン−酢酸ビニル系、ポリエス
テル系、塩化ゴム系、塩素かポリプロピレン系、ウレタ
ン系などの樹脂の単独またはこれらの混合物を主成分と
するエマルジョン系樹脂や有機溶剤型樹脂から適宜選択
採用される。
て必要に応じて用いる接着層（Ｅ）に用いる樹脂として
は特に制限はなく、通常の転写箔に用いられる樹脂から
適宜選択し用いられる。例えばアクリル系、酢酸ビニル
系、塩化ビニル系、スチレン−ブタジエン系、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル系、エチレン−酢酸ビニル系、ポリエス
テル系、塩化ゴム系、塩素かポリプロピレン系、ウレタ
ン系などの樹脂の単独またはこれらの混合物を主成分と
するエマルジョン系樹脂や有機溶剤型樹脂から適宜選択
採用される。
【００１２】接着層は、前記樹脂を有機溶剤で希釈させ
た塗液をグラビア印刷法、スクリーン印刷法オフセット
印刷法で前記紫外線遮断層（Ｄ）上に塗布乾燥させて形
成される。接着層の厚さとしては特に制限はなく、通常
０．３〜２０μｍ程度の範囲から被転写物の表面状態な
どに応じて適宜選択採用される。
た塗液をグラビア印刷法、スクリーン印刷法オフセット
印刷法で前記紫外線遮断層（Ｄ）上に塗布乾燥させて形
成される。接着層の厚さとしては特に制限はなく、通常
０．３〜２０μｍ程度の範囲から被転写物の表面状態な
どに応じて適宜選択採用される。
【００１３】かくしてえられた透明紫外線遮断保護転写
箔によって、従来の紫外線遮断保護転写箔が抱えていた
すべての課題点、即ち耐光性、透明性、効果持続性など
の課題のすべてを解決して、透明で長時間にわたって紫
外線に曝されても変色、変性することなく被転写素材を
保護できるようになった。
箔によって、従来の紫外線遮断保護転写箔が抱えていた
すべての課題点、即ち耐光性、透明性、効果持続性など
の課題のすべてを解決して、透明で長時間にわたって紫
外線に曝されても変色、変性することなく被転写素材を
保護できるようになった。
【００１４】
【実施例】以下に実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。
る。
【００１５】実施例１ 厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルム上にメチルメタクリル酸／ベンゾフェノン系共重
合体（組成比 メチルメタクリル酸：ベンゾフェノン系
＝７：３ 分子量 ３０００００）４０部（重量部、以
下同様）をメチルエチルケトン５０部、シクロヘキサノ
ン１０部からなる溶液をグラビアコ−ティング法にて塗
布し厚さ２．５μｍの紫外線遮断層を形成し、本発明の
透明紫外線遮断保護転写箔を得た。
ィルム上にメチルメタクリル酸／ベンゾフェノン系共重
合体（組成比 メチルメタクリル酸：ベンゾフェノン系
＝７：３ 分子量 ３０００００）４０部（重量部、以
下同様）をメチルエチルケトン５０部、シクロヘキサノ
ン１０部からなる溶液をグラビアコ−ティング法にて塗
布し厚さ２．５μｍの紫外線遮断層を形成し、本発明の
透明紫外線遮断保護転写箔を得た。
【００１６】実施例２ 厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルム上にアクリル樹脂１０部、トルエン５０部、メチ
ルイソブチルケトン５０部からなる溶液をグラビアコ−
ティング法にて塗布し厚さ０．５μｍの離型層を形成し
た。この離型層上にアクリル樹脂２０部、メチルイソブ
チルケトン３０部酢酸ブチル４０部からなる溶液をグラ
ビアコ−ティング法にて塗布し厚さ１．５μｍの保護層
を形成した。次いでこの保護層上にメチルメタクリル酸
／ベンゾフェノン系共重合体（組成比 メチルメタクリ
ル酸：ベンゾフェノン系＝７：３ 分子量 ２００００
０）４０部をメチルエチルケトン５０部、シクロヘキサ
ノン１０部からなる溶液をグラビアコ−ティング法にて
塗布し厚さ２．０μｍの紫外線遮断層を形成した。次い
でこの紫外線遮断層上にアクリル樹脂１０部、トルエン
３０部、酢酸エチル２０部からなる溶液をリバ−スコ−
ティング法にて塗布し厚さ０．８μｍの接着層を形成
し、本発明の透明紫外線遮断保護転写箔を得た。
ィルム上にアクリル樹脂１０部、トルエン５０部、メチ
ルイソブチルケトン５０部からなる溶液をグラビアコ−
ティング法にて塗布し厚さ０．５μｍの離型層を形成し
た。この離型層上にアクリル樹脂２０部、メチルイソブ
チルケトン３０部酢酸ブチル４０部からなる溶液をグラ
ビアコ−ティング法にて塗布し厚さ１．５μｍの保護層
を形成した。次いでこの保護層上にメチルメタクリル酸
／ベンゾフェノン系共重合体（組成比 メチルメタクリ
ル酸：ベンゾフェノン系＝７：３ 分子量 ２００００
０）４０部をメチルエチルケトン５０部、シクロヘキサ
ノン１０部からなる溶液をグラビアコ−ティング法にて
塗布し厚さ２．０μｍの紫外線遮断層を形成した。次い
でこの紫外線遮断層上にアクリル樹脂１０部、トルエン
３０部、酢酸エチル２０部からなる溶液をリバ−スコ−
ティング法にて塗布し厚さ０．８μｍの接着層を形成
し、本発明の透明紫外線遮断保護転写箔を得た。
【００１７】実施例３ 紫外線遮断層にメタクリル酸／ベンゾフェノン系共重合
体（組成比はメタクリル酸：ベンゾフェノン系＝６：
４、分子量は３０００００）を用いた他は実施例２と同
様にして本発明の透明紫外線遮断保護転写箔を得た。
体（組成比はメタクリル酸：ベンゾフェノン系＝６：
４、分子量は３０００００）を用いた他は実施例２と同
様にして本発明の透明紫外線遮断保護転写箔を得た。
【００１８】比較例１ 紫外線遮断層にアクリル樹脂２部、粒子径０．０３μｍ
の酸化チタン微粒子８部、メチルエチルケトン２０部、
キシレン２０部からなる溶液をグラビアコ−ティング法
にて塗布し厚さ２μｍの層を用いた他は実施例２と同様
にして本発明の紫外線遮断保護転写箔を得た。
の酸化チタン微粒子８部、メチルエチルケトン２０部、
キシレン２０部からなる溶液をグラビアコ−ティング法
にて塗布し厚さ２μｍの層を用いた他は実施例２と同様
にして本発明の紫外線遮断保護転写箔を得た。
【００１９】比較例２ 紫外線遮断層にアクリル樹脂２部、粒子径０．０２μｍ
の酸化亜鉛微粒子８部メチルエチルケトン２０部、キシ
レン２０部からなる溶液をグラビアコ−ティング法にて
塗布し厚さ２μｍの層を用いた他は実施例２と同様にし
て本発明の紫外線遮断保護転写箔を得た。
の酸化亜鉛微粒子８部メチルエチルケトン２０部、キシ
レン２０部からなる溶液をグラビアコ−ティング法にて
塗布し厚さ２μｍの層を用いた他は実施例２と同様にし
て本発明の紫外線遮断保護転写箔を得た。
【００２０】比較例３ 比較例１、比較例２での紫外線遮断層を形成する塗料中
に微粒子を配合しないものを用いた他は実施例２と同様
にして従来の透明保護転写箔を得た。
に微粒子を配合しないものを用いた他は実施例２と同様
にして従来の透明保護転写箔を得た。
【００２１】実施例及び比較例でえられた転写箔をポリ
カ−ボネ−ト板に転写した試料について紫外線透過率
（３２０ｎｍ及び３８０ｎｍ（％））及び可視光線透過
率（５５０ｎｍ（％））及び全光線透過率（％）、ヘイ
ズについて評価をおこなった結果を表１に示した。
カ−ボネ−ト板に転写した試料について紫外線透過率
（３２０ｎｍ及び３８０ｎｍ（％））及び可視光線透過
率（５５０ｎｍ（％））及び全光線透過率（％）、ヘイ
ズについて評価をおこなった結果を表１に示した。
【００２２】＜評価方法＞紫外線透過率（３２０ｎｍ及
び３８０ｎｍ（％））及び可視光線透過率（５５０ｎｍ
（％））評価は島津自記分光光度計（株式会社島津製作
所製、ＵＶ−３１００ＰＣ型）によって測定した値をも
って比較評価した。
び３８０ｎｍ（％））及び可視光線透過率（５５０ｎｍ
（％））評価は島津自記分光光度計（株式会社島津製作
所製、ＵＶ−３１００ＰＣ型）によって測定した値をも
って比較評価した。
【００２３】全光線透過率（％）、ヘイズについての評
価は日本電色工業株式会社製、ＮＤＨ−１００１ＤＰ
型）によって測定した値をもって比較評価した。
価は日本電色工業株式会社製、ＮＤＨ−１００１ＤＰ
型）によって測定した値をもって比較評価した。
【００２４】
【表１】
【００２５】表１から、実施例１〜３のものは比較例１
〜３のものに比較していずれも優れていることがわか
る。
〜３のものに比較していずれも優れていることがわか
る。
【００２６】
【発明の効果】本発明の透明紫外線遮断保護転写箔は、
紫外線遮断層にアクリル系モノマ−とベンゾフェノン基
を有するビニル系モノマ−との共重合体で主として形成
されているので、従来の紫外線遮断保護転写箔の構成で
は得ることができなかった耐光性、透明性に優れたもの
である。
紫外線遮断層にアクリル系モノマ−とベンゾフェノン基
を有するビニル系モノマ−との共重合体で主として形成
されているので、従来の紫外線遮断保護転写箔の構成で
は得ることができなかった耐光性、透明性に優れたもの
である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の透明紫外線遮断保護転写箔の実施例１
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
【図２】本発明の透明紫外線遮断保護転写箔の実施例
２、実施例３を示す概略断面図である。
２、実施例３を示す概略断面図である。
１ 離型層（Ｂ） ２ 保護層（Ｃ） ３ 紫外線遮断層（Ｄ） ４ 接着層（Ｅ） ５ ベ−スフィルム（Ａ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−142288（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−246197（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−120397（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−142385（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−73183（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−158099（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−139024（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−29470（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41M 3/12 B44C 1/16 - 1/175
Claims (2)
- 【請求項１】 ベ−スフィルム（Ａ）、離型層（Ｂ）、
保護層（Ｃ）、紫外線遮断層（Ｄ）、接着層（Ｅ）のう
ち少なくとも（Ａ）、（Ｄ）層を有し、必要に応じて
（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｅ）層を設けた透明でかつ紫外線遮
断性を有する転写箔において、（Ｄ）層が下記の一般式
１（化１）で示されるアクリル系モノマ−と下記の一般
式２（化２）で示されるベンゾフェノン基を有するビニ
ル系モノマ−との共重合体で主として形成されているこ
とを特徴とする透明紫外線遮断保護転写箔。 【化１】 【化２】 - 【請求項２】 紫外線遮断層に用いる一般式１（化１）
で示されるアクリル系モノマ−と一般式２（化２）で示
されるベンゾフェノン基を有するビニル系モノマ−との
共重合体において、一般式１（化１）で示されるアクリ
ル系モノマ−と一般式２（化２）で示されるベンゾフェ
ノン基を有するビニル系モノマ−との共重合体の組成比
が５：５から７：３の範囲であり、更に分子量が１００
００〜３０００００である請求項１記載の透明紫外線遮
断保護転写箔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07989894A JP3316302B2 (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | 透明紫外線遮断保護転写箔 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP07989894A JP3316302B2 (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | 透明紫外線遮断保護転写箔 |
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Family
ID=13703106
Family Applications (1)
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| JP07989894A Ceased JP3316302B2 (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | 透明紫外線遮断保護転写箔 |
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-
1994
- 1994-03-25 JP JP07989894A patent/JP3316302B2/ja not_active Ceased
Also Published As
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| JPH07257012A (ja) | 1995-10-09 |
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