JP3297358B2 - ヘッドスライダおよびその形成方法 - Google Patents
ヘッドスライダおよびその形成方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装
置、光ディスク装置或いは光磁気ディスク装置等におい
て、記録媒体に対し浮上又は接触しながらこの記録媒体
に対し情報の記録又は再生を行うヘッドスライダおよび
その製造方法、特に、情報・記録再生ヘッドが媒体対向
面と平行であるスライダヘッドのレール部の形成方法に
関する。
置、光ディスク装置或いは光磁気ディスク装置等におい
て、記録媒体に対し浮上又は接触しながらこの記録媒体
に対し情報の記録又は再生を行うヘッドスライダおよび
その製造方法、特に、情報・記録再生ヘッドが媒体対向
面と平行であるスライダヘッドのレール部の形成方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】ヘッド−支持バネ組立体の製造コストを
低減化する１つの手段として、本願の発明者らは加工レ
スのスライダを提案している（特開平８−２３５５２７
号公報）。これによると、記録媒体に対して浮上又は接
触する浮上面を有し、該浮上面と平行に薄膜磁気ヘッド
素子の薄膜形成面が形成されている薄膜磁気ヘッドスラ
イダにおいて、浮上面を形成する浮上面層および薄膜磁
気ヘッド素子上に、導体から成り且つ剛性をもったスラ
イダ板部及び導体から成る少なくとも１つ以上の端子引
出しパッド部が、浮上面と平行な方向に所定の間隔を有
して配置されている薄膜磁気ヘッドスライダが提案され
ている。
低減化する１つの手段として、本願の発明者らは加工レ
スのスライダを提案している（特開平８−２３５５２７
号公報）。これによると、記録媒体に対して浮上又は接
触する浮上面を有し、該浮上面と平行に薄膜磁気ヘッド
素子の薄膜形成面が形成されている薄膜磁気ヘッドスラ
イダにおいて、浮上面を形成する浮上面層および薄膜磁
気ヘッド素子上に、導体から成り且つ剛性をもったスラ
イダ板部及び導体から成る少なくとも１つ以上の端子引
出しパッド部が、浮上面と平行な方向に所定の間隔を有
して配置されている薄膜磁気ヘッドスライダが提案され
ている。
【０００３】更に、このような薄膜磁気ヘッドスライダ
を形成する方法として、基板上に犠牲層で前記浮上面の
形状を形成する、あるいは浮上面形状を形成した層上に
犠牲層を形成する工程と、該犠牲層上に無機材料からな
る浮上レールを形成する工程と、該犠牲層上にスライダ
板および端子引出しパッド部をめっきにより形成する工
程と、該スライダ部を犠牲層のエッチングにより基板か
ら分離する工程を含む薄膜磁気ヘッドスライダの製造方
法が提案されている。
を形成する方法として、基板上に犠牲層で前記浮上面の
形状を形成する、あるいは浮上面形状を形成した層上に
犠牲層を形成する工程と、該犠牲層上に無機材料からな
る浮上レールを形成する工程と、該犠牲層上にスライダ
板および端子引出しパッド部をめっきにより形成する工
程と、該スライダ部を犠牲層のエッチングにより基板か
ら分離する工程を含む薄膜磁気ヘッドスライダの製造方
法が提案されている。
【０００４】より具体的には、上記の特開平８−２３５
５２７号公報では、レール部の形成方法について次に述
べるような２つの方法を提案している。以下これらの従
来例について説明する。図９はいわゆるグッピー型スラ
イダを示し、スライダ本体２０は左右のレール２１、２
２と、記録媒体の移動方向Ｂに対して流入端側の中央に
設けられた１つのレール２３を有し、各レールは流入端
にテーパ部２１ａ、２２ａ、２３ａを有する。このよう
な、スライダを形成するには、図１０に示すような、各
レールを形成するための型となる層を使用する。即ち、
型３０は左右レール２１、２２を形成するための溝条３
１、３２、中央レールを形成するための溝条３３を有
し、各テーパ部２１ａ、２２ａ、２３ａに対応するテー
パ部３１ａ、３２ａ、３３ａを有する。
５２７号公報では、レール部の形成方法について次に述
べるような２つの方法を提案している。以下これらの従
来例について説明する。図９はいわゆるグッピー型スラ
イダを示し、スライダ本体２０は左右のレール２１、２
２と、記録媒体の移動方向Ｂに対して流入端側の中央に
設けられた１つのレール２３を有し、各レールは流入端
にテーパ部２１ａ、２２ａ、２３ａを有する。このよう
な、スライダを形成するには、図１０に示すような、各
レールを形成するための型となる層を使用する。即ち、
型３０は左右レール２１、２２を形成するための溝条３
１、３２、中央レールを形成するための溝条３３を有
し、各テーパ部２１ａ、２２ａ、２３ａに対応するテー
パ部３１ａ、３２ａ、３３ａを有する。
【０００５】図１１及び図１３は、図１０に示す面Ａ−
Ａから見た凸型レール部の縦断面図で、それぞれ第１及
び第２の従来方法を示す。また、図１２及び図１４は第
１及び第２の方法によるレールの形成工程を示す。第１
の従来方法では、凸型レールの平坦部およびテーパ部を
共に金属層で形成する。即ち、図１１において、２０は
スライダ本体((Ni) 、４０は基板、４１はレールの型と
なるテーパ部を有する層（Al) 、４２は犠牲層（Al) 、
４３は媒体対向面層（SiO2) である。図１２において、
まず、基板４０上にAl層４１を形成し、その上にフォト
レジスト４４を塗布し、その上から露光する。この露光
に際しては、テーパ部を形成する部分は、他の部分の露
光量より徐々に減らしながら露光を行う（図１２
（ａ））。次に、フォトレジスト４４を熱硬化又は紫外
線硬化して、このフォトレジスト４４のテーパ部４４ａ
を形成する（図１２（ｂ））。次に、イオンミリング又
はスパッタエッチング等によりAl層４１をエッチングす
る（図１２（ｃ））。フォトレジスト４４が残っていな
い部分はエッチングによりAl層４１が完全に除去され、
一方フォトレジスト４４が残っている部分はその残量に
応じてエッチングされない部分が残り、Al層４１にテー
パ部４１ａが形成される（図１２（ｄ））。
Ａから見た凸型レール部の縦断面図で、それぞれ第１及
び第２の従来方法を示す。また、図１２及び図１４は第
１及び第２の方法によるレールの形成工程を示す。第１
の従来方法では、凸型レールの平坦部およびテーパ部を
共に金属層で形成する。即ち、図１１において、２０は
スライダ本体((Ni) 、４０は基板、４１はレールの型と
なるテーパ部を有する層（Al) 、４２は犠牲層（Al) 、
４３は媒体対向面層（SiO2) である。図１２において、
まず、基板４０上にAl層４１を形成し、その上にフォト
レジスト４４を塗布し、その上から露光する。この露光
に際しては、テーパ部を形成する部分は、他の部分の露
光量より徐々に減らしながら露光を行う（図１２
（ａ））。次に、フォトレジスト４４を熱硬化又は紫外
線硬化して、このフォトレジスト４４のテーパ部４４ａ
を形成する（図１２（ｂ））。次に、イオンミリング又
はスパッタエッチング等によりAl層４１をエッチングす
る（図１２（ｃ））。フォトレジスト４４が残っていな
い部分はエッチングによりAl層４１が完全に除去され、
一方フォトレジスト４４が残っている部分はその残量に
応じてエッチングされない部分が残り、Al層４１にテー
パ部４１ａが形成される（図１２（ｄ））。
【０００６】したがって、上記の第１の方法では、基板
４０上のレール溝条３１（図１０）の部分に、テーパ部
を４１ａを有するAl層４１が形成されたものを型として
用い、その上に同じくAl層でもって犠牲層４２（図１
１）を形成し、媒体対向面層（SiO2) ４３を形成し、ス
ライダ本体２０をニッケルめっき等で形成する。後工程
で犠牲層４２を除去してレール２１、２２、２３（図
９）の形成されたスライダ２０を得る。
４０上のレール溝条３１（図１０）の部分に、テーパ部
を４１ａを有するAl層４１が形成されたものを型として
用い、その上に同じくAl層でもって犠牲層４２（図１
１）を形成し、媒体対向面層（SiO2) ４３を形成し、ス
ライダ本体２０をニッケルめっき等で形成する。後工程
で犠牲層４２を除去してレール２１、２２、２３（図
９）の形成されたスライダ２０を得る。
【０００７】第２の方法では、凸型レールの平坦部およ
びテーパ部を共にフォトレジストで形成する。即ち、図
１３において、２０はスライダ本体((Ni) 、４０は基
板、４２は犠牲層（Al) 、４３は媒体対向面層（SiO2)
であり、レールの型となるテーパ部を有する層として、
フォトレジスト層４４を形成する。図１４において、基
板４０上にフォトレジスト４４を塗布し、その上から露
光する。この露光に際しては、テーパ部を形成する部分
は、他の部分の露光量より徐々に減らしながら露光を行
う（図１４（ａ））。次に、フォトレジスト４４を熱硬
化又は紫外線硬化させ（図１４（ｂ））、テーパ形状を
得、そのまま型として用いる。
びテーパ部を共にフォトレジストで形成する。即ち、図
１３において、２０はスライダ本体((Ni) 、４０は基
板、４２は犠牲層（Al) 、４３は媒体対向面層（SiO2)
であり、レールの型となるテーパ部を有する層として、
フォトレジスト層４４を形成する。図１４において、基
板４０上にフォトレジスト４４を塗布し、その上から露
光する。この露光に際しては、テーパ部を形成する部分
は、他の部分の露光量より徐々に減らしながら露光を行
う（図１４（ａ））。次に、フォトレジスト４４を熱硬
化又は紫外線硬化させ（図１４（ｂ））、テーパ形状を
得、そのまま型として用いる。
【０００８】このように第２の方法では、基板４０上の
レール溝条３１（図１０）の部分に、テーパ部を４４ａ
を有するフォトレジスト層が形成されたものを型として
用い、前述と同様に、その上にAl層でもって犠牲層４２
を形成し、媒体対向面層（SiO2) ４３を形成し、更にそ
の上にスライダ本体２０をニッケルめっき等で形成す
る。後工程で犠牲層４２を除去してレール２１、２２、
２３（図９）の形成されたスライダ２０を得る。
レール溝条３１（図１０）の部分に、テーパ部を４４ａ
を有するフォトレジスト層が形成されたものを型として
用い、前述と同様に、その上にAl層でもって犠牲層４２
を形成し、媒体対向面層（SiO2) ４３を形成し、更にそ
の上にスライダ本体２０をニッケルめっき等で形成す
る。後工程で犠牲層４２を除去してレール２１、２２、
２３（図９）の形成されたスライダ２０を得る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】前述の第１の方法は、
レールの形状精度が良いこと、直上の犠牲層との密着性
が良好であること、等の利点がある。前述の第２の方法
は、イオンミリングを行わないのでレール面の面粗さが
小さいこと、等の利点がある。
レールの形状精度が良いこと、直上の犠牲層との密着性
が良好であること、等の利点がある。前述の第２の方法
は、イオンミリングを行わないのでレール面の面粗さが
小さいこと、等の利点がある。
【００１０】そこで、本発明の目的は、これらの両者の
利点を兼ね備えたヘッドスライダおよびその形成方法を
得ること、即ち、スライダ底面及びレールの形状精度、
直上の犠牲層との密着性、レール面の面粗さの全ての点
で良好なヘッドスライダおよびその形成方法を得ること
を目的とする。
利点を兼ね備えたヘッドスライダおよびその形成方法を
得ること、即ち、スライダ底面及びレールの形状精度、
直上の犠牲層との密着性、レール面の面粗さの全ての点
で良好なヘッドスライダおよびその形成方法を得ること
を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記の課題を達成するた
めに、本発明によれば、記録媒体に対して浮上又は接触
する媒体対向面を有し、該媒体対向面と平行に情報記録
・再生ヘッドの成膜面が形成され、且つ安定な浮上又は
接触を維持するための圧力を発生させる凸型レール部を
前記媒体対向面に設け、該凸型レール部は平坦部とテー
パ部を有する水平ヘッドスライダを形成する方法におい
て、前記凸型レール部を形成するに際し、凸型レール部
の平坦部の型を金属材料の層で、テーパ部の型をフォト
レジストの層で形成し、その上に犠牲層、媒体対向層、
スライダ本体層の順に形成することを特徴とするヘッド
スライダの成形方法が提供される。
めに、本発明によれば、記録媒体に対して浮上又は接触
する媒体対向面を有し、該媒体対向面と平行に情報記録
・再生ヘッドの成膜面が形成され、且つ安定な浮上又は
接触を維持するための圧力を発生させる凸型レール部を
前記媒体対向面に設け、該凸型レール部は平坦部とテー
パ部を有する水平ヘッドスライダを形成する方法におい
て、前記凸型レール部を形成するに際し、凸型レール部
の平坦部の型を金属材料の層で、テーパ部の型をフォト
レジストの層で形成し、その上に犠牲層、媒体対向層、
スライダ本体層の順に形成することを特徴とするヘッド
スライダの成形方法が提供される。
【００１２】これによると、金属層のイオンミリングを
省略することができ、従って基板面を荒れさせることが
なく、しかも型の大部分が金属であるから直上に形成さ
れる犠牲層との密着も良好である。また使用するフォト
レジストの体積が最小限ですむので、レールの形状精度
も良好となる。凸型レール部の平坦部の型を形成する金
属層と、テーパ部の型を形成するフォトレジスト層とが
それらの境界付近で部分的に重なるようにしたことを特
徴とする。この場合において、金属層を形成した後に、
一部が該金属層上に重なるようにフォトレジスト層を形
成し、該フォトレジスト層を熱硬化又は紫外線硬化させ
ることを特徴とする。或いは、フォトレジスト層を先に
形成し、該フォトレジスト層を熱硬化又は紫外線硬化さ
せた後に、一部が該フォトレジスト層上に重なるように
金属層を形成したことを特徴とする。
省略することができ、従って基板面を荒れさせることが
なく、しかも型の大部分が金属であるから直上に形成さ
れる犠牲層との密着も良好である。また使用するフォト
レジストの体積が最小限ですむので、レールの形状精度
も良好となる。凸型レール部の平坦部の型を形成する金
属層と、テーパ部の型を形成するフォトレジスト層とが
それらの境界付近で部分的に重なるようにしたことを特
徴とする。この場合において、金属層を形成した後に、
一部が該金属層上に重なるようにフォトレジスト層を形
成し、該フォトレジスト層を熱硬化又は紫外線硬化させ
ることを特徴とする。或いは、フォトレジスト層を先に
形成し、該フォトレジスト層を熱硬化又は紫外線硬化さ
せた後に、一部が該フォトレジスト層上に重なるように
金属層を形成したことを特徴とする。
【００１３】このように金属層とフォトレジスト層との
重なり代を設けることにより、フォトレジスト層の形成
時におけるマスクのズレに対する許容量が増し、製造性
が向上する。更にまた、本発明によれば、記録媒体に対
して浮上又は接触する媒体対向面を有し、該媒体対向面
と平行に情報記録・再生ヘッドの成膜面が形成され、且
つ安定な浮上又は接触を維持するための圧力を発生させ
る凸型レール部を前記媒体対向面に設け、該凸型レール
部は平坦部とテーパ部を有する水平ヘッドスライダにお
いて、前記媒体対向面の基部と前記凸型レール部のテー
パ面との間に凹部を有することを特徴とするヘッドスラ
イダが提供される。
重なり代を設けることにより、フォトレジスト層の形成
時におけるマスクのズレに対する許容量が増し、製造性
が向上する。更にまた、本発明によれば、記録媒体に対
して浮上又は接触する媒体対向面を有し、該媒体対向面
と平行に情報記録・再生ヘッドの成膜面が形成され、且
つ安定な浮上又は接触を維持するための圧力を発生させ
る凸型レール部を前記媒体対向面に設け、該凸型レール
部は平坦部とテーパ部を有する水平ヘッドスライダにお
いて、前記媒体対向面の基部と前記凸型レール部のテー
パ面との間に凹部を有することを特徴とするヘッドスラ
イダが提供される。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態について詳細に説明する。図１に本発明の
ヘッドスライダの形成方法を示す。このヘッドスライダ
の基本的な構造は、図９に示したものと同じであり、い
わゆるグッピー型スライダであり、スライダ本体は左右
のレールを有し、記録媒体の移動方向に対して流入端側
の中央に１つのレールが設けられている。各レールは流
入端にテーパ部を有する。また、スライダを形成するに
は、基本的には図１０に示すような、各レールを形成す
るための型を使用する。この型も、ヘッドスライダの浮
上面に対応して、左右レールを形成するための溝条、及
び中央レールを形成するための溝条を有し、各テーパ部
に対応する型のテーパ部を有する。
の実施の形態について詳細に説明する。図１に本発明の
ヘッドスライダの形成方法を示す。このヘッドスライダ
の基本的な構造は、図９に示したものと同じであり、い
わゆるグッピー型スライダであり、スライダ本体は左右
のレールを有し、記録媒体の移動方向に対して流入端側
の中央に１つのレールが設けられている。各レールは流
入端にテーパ部を有する。また、スライダを形成するに
は、基本的には図１０に示すような、各レールを形成す
るための型を使用する。この型も、ヘッドスライダの浮
上面に対応して、左右レールを形成するための溝条、及
び中央レールを形成するための溝条を有し、各テーパ部
に対応する型のテーパ部を有する。
【００１５】したがって、図１は図１０に示す面Ａ−Ａ
から見た凸型レール部の縦断面図であって、本発明の第
１実施形態に係るヘッドスライダの形成方法を示す。図
１において、１は基板、２はレールの平坦部の型となる
金属層（Al) 、３はレールのテーパ部の型となるフォト
レジスト層、４は犠牲層（Al) 、５は媒体対向面層（Si
O2) 、６はスライダ本体((Ni) である。このように、本
発明では、レールの型を形成する層をレール平坦部用の
金属（Al) 層２と、テーパ部用のフォトレジスト層３に
分けるものである。先ず最初、金属層２を酸性溶液でケ
ミカルエッチングして平坦部の型を形成し、その後は図
１４で示した工程と同様にしてフォトレジストを塗布
し、露光量を調整したフォトレジストを熱硬化又は紫外
線硬化させてフォトレジストのテーパ部の型を形成す
る。
から見た凸型レール部の縦断面図であって、本発明の第
１実施形態に係るヘッドスライダの形成方法を示す。図
１において、１は基板、２はレールの平坦部の型となる
金属層（Al) 、３はレールのテーパ部の型となるフォト
レジスト層、４は犠牲層（Al) 、５は媒体対向面層（Si
O2) 、６はスライダ本体((Ni) である。このように、本
発明では、レールの型を形成する層をレール平坦部用の
金属（Al) 層２と、テーパ部用のフォトレジスト層３に
分けるものである。先ず最初、金属層２を酸性溶液でケ
ミカルエッチングして平坦部の型を形成し、その後は図
１４で示した工程と同様にしてフォトレジストを塗布
し、露光量を調整したフォトレジストを熱硬化又は紫外
線硬化させてフォトレジストのテーパ部の型を形成す
る。
【００１６】この方法によると、金属層のイオンミリン
グを省略することができるので、基板面を荒れさせるこ
とがなく、しかも型の大部分が金属であるから直上に形
成される犠牲層との密着も良好である。また使用するフ
ォトレジストの体積が最小原ですむので、レールの形状
精度も良好となる。なお、この実施形態にかかるスライ
ダは、上記のようにして形成された型の上にAlの犠牲層
４を設け、媒体対向層５をSiO2をスパッタすることによ
り形成し、、スライダ本体層６をNiメッキ等で形成し、
図示されていないヘッド支持バネにスライダを結合した
後に犠牲層をKOH 溶液等のアルカリ溶液でケミカルエッ
チングしてスライダを基板から分離して用いる。
グを省略することができるので、基板面を荒れさせるこ
とがなく、しかも型の大部分が金属であるから直上に形
成される犠牲層との密着も良好である。また使用するフ
ォトレジストの体積が最小原ですむので、レールの形状
精度も良好となる。なお、この実施形態にかかるスライ
ダは、上記のようにして形成された型の上にAlの犠牲層
４を設け、媒体対向層５をSiO2をスパッタすることによ
り形成し、、スライダ本体層６をNiメッキ等で形成し、
図示されていないヘッド支持バネにスライダを結合した
後に犠牲層をKOH 溶液等のアルカリ溶液でケミカルエッ
チングしてスライダを基板から分離して用いる。
【００１７】図２に本発明のヘッドスライダの形成方法
の第２実施形態を示す。図１の実施形態において、金属
層とフォトレジスト層に重なる部分を設けたものであ
る。先ず最初、レール平坦部の型となる金属層（Al）２
をケミカルエッチングで形成し、次にこの金属層２に部
分的に重なるようにフォトレジスト層３を塗布し、露光
量を調節して、熱硬化又は紫外線硬化させることでテー
パ部の型３を形成する。このように金属層とフォトレジ
スト層との重なり３ａを設けることにより、フォトレジ
スト層３の形成時におけるマスク（図示せず）のズレに
対する許容量が増し、製造性が向上する。重なり部分３
ａでの段差はフォトレジスト硬化時の加熱により流動し
てわずかな段差となるので精度良いレールが形成され
る。
の第２実施形態を示す。図１の実施形態において、金属
層とフォトレジスト層に重なる部分を設けたものであ
る。先ず最初、レール平坦部の型となる金属層（Al）２
をケミカルエッチングで形成し、次にこの金属層２に部
分的に重なるようにフォトレジスト層３を塗布し、露光
量を調節して、熱硬化又は紫外線硬化させることでテー
パ部の型３を形成する。このように金属層とフォトレジ
スト層との重なり３ａを設けることにより、フォトレジ
スト層３の形成時におけるマスク（図示せず）のズレに
対する許容量が増し、製造性が向上する。重なり部分３
ａでの段差はフォトレジスト硬化時の加熱により流動し
てわずかな段差となるので精度良いレールが形成され
る。
【００１８】図３に第２実施形態に対応する形成工程を
示す。図３において、まず、基板上にAl層を蒸着等によ
り形成し、その上にフォトレジストを（Al層の除去する
部位以外の領域で）塗布する（ａ）。エッチングにより
Al層を除去し（ｂ）、その後全面にスピンコートにより
フォトレジストを塗布し、その上から露光する（ｃ）。
この露光に際しては、テーパ部を形成する部分は、他の
部分の露光量より徐々に減らしながら露光を行う
（ｄ）。フォトレジスト（ＰＲ）を熱硬化又は紫外線硬
化させてテーパ部を形成する（ｅ）。次に、Al層を蒸着
等により形成し（ｆ）、SiO2層をスパッタリングにより
形成する（ｇ）。所要個所ドライエッチングを行い
（ｈ）、浮上面層を形成して、その上にNiめっきにてス
ライダ本体層を形成する。
示す。図３において、まず、基板上にAl層を蒸着等によ
り形成し、その上にフォトレジストを（Al層の除去する
部位以外の領域で）塗布する（ａ）。エッチングにより
Al層を除去し（ｂ）、その後全面にスピンコートにより
フォトレジストを塗布し、その上から露光する（ｃ）。
この露光に際しては、テーパ部を形成する部分は、他の
部分の露光量より徐々に減らしながら露光を行う
（ｄ）。フォトレジスト（ＰＲ）を熱硬化又は紫外線硬
化させてテーパ部を形成する（ｅ）。次に、Al層を蒸着
等により形成し（ｆ）、SiO2層をスパッタリングにより
形成する（ｇ）。所要個所ドライエッチングを行い
（ｈ）、浮上面層を形成して、その上にNiめっきにてス
ライダ本体層を形成する。
【００１９】図４に本発明のヘッドスライダの形成方法
の第３実施形態を示す。この実施形態では、図２の実施
形態とは逆に、初めに、フォトレジスト層３に露光量を
調節して熱硬化又は紫外線硬化させ、テーパ部の型を形
成する。次に、レール平坦部の型となる金属層２を酸性
溶液でケミカルエッチングして形成する。図２の実施形
態と同様、フォトレジスト層３と金属層２との重なり
（２ａ）を設けることにより、マスク（図示せず）の位
置合わせに対する精度の許容量が増し、製造性が向上す
る。また、この実施形態では、フォトレジストを硬化さ
せる際にはそれ以前に他の膜が成膜されていないので他
の膜への影響を考慮せずに熱硬化又は紫外線硬化させる
際の硬化温度を高く設定することができ、化学的に安定
した型となる。
の第３実施形態を示す。この実施形態では、図２の実施
形態とは逆に、初めに、フォトレジスト層３に露光量を
調節して熱硬化又は紫外線硬化させ、テーパ部の型を形
成する。次に、レール平坦部の型となる金属層２を酸性
溶液でケミカルエッチングして形成する。図２の実施形
態と同様、フォトレジスト層３と金属層２との重なり
（２ａ）を設けることにより、マスク（図示せず）の位
置合わせに対する精度の許容量が増し、製造性が向上す
る。また、この実施形態では、フォトレジストを硬化さ
せる際にはそれ以前に他の膜が成膜されていないので他
の膜への影響を考慮せずに熱硬化又は紫外線硬化させる
際の硬化温度を高く設定することができ、化学的に安定
した型となる。
【００２０】図５に第３実施形態に対応する形成工程を
示す。図５においてまず、基板（Ｓｕｂ）上ににフォト
レジスト層（ＰＲ）を塗布し、その上から露光する。こ
の露光に際しては、テーパ部を形成する部分は、他の部
分の露光量より徐々に減らしながら露光を行う（ａ）。
フォトレジストを熱硬化又は紫外線硬化させてテーパ部
を形成する（ｂ）。次に、Al層を蒸着等により形成し、
このAl層の除去部分以外の領域をスピンコーテングによ
りフォトレジストを塗布し（ｃ）、エッチングによりAl
層を除去する（ｄ）。これにより、平坦部及びテーパ部
を有する型が形成される。
示す。図５においてまず、基板（Ｓｕｂ）上ににフォト
レジスト層（ＰＲ）を塗布し、その上から露光する。こ
の露光に際しては、テーパ部を形成する部分は、他の部
分の露光量より徐々に減らしながら露光を行う（ａ）。
フォトレジストを熱硬化又は紫外線硬化させてテーパ部
を形成する（ｂ）。次に、Al層を蒸着等により形成し、
このAl層の除去部分以外の領域をスピンコーテングによ
りフォトレジストを塗布し（ｃ）、エッチングによりAl
層を除去する（ｄ）。これにより、平坦部及びテーパ部
を有する型が形成される。
【００２１】図６は、レール２１、２２、２３の流入側
のみでなく流出側や側面にもテーパ部２１ａ、２２ａ、
２３ａを設けたスライダに本発明を適用した例（ただ
し、図９のような平行レール型ではなく、３点レールで
ある。）で、図７は型の層を金属層２、レジスト層３の
順に形成した場合の図６の線Ｂ−Ｂにおける断面図、図
８は型の層をフォトレジスト層３、金属層２の順に形成
し場合の図６の線Ｂ−Ｂにおける断面図である。
のみでなく流出側や側面にもテーパ部２１ａ、２２ａ、
２３ａを設けたスライダに本発明を適用した例（ただ
し、図９のような平行レール型ではなく、３点レールで
ある。）で、図７は型の層を金属層２、レジスト層３の
順に形成した場合の図６の線Ｂ−Ｂにおける断面図、図
８は型の層をフォトレジスト層３、金属層２の順に形成
し場合の図６の線Ｂ−Ｂにおける断面図である。
【００２２】スライダを形成するには平担部とテーパ部
を有するレール型の上に犠牲層（Al）とを形成し、次い
で媒体対向層５をＳ1 Ｏ2 のスパッタにより形成し、更
にＮｉメッキにてスライダ本体層６を設ける点は前述の
実施形態と同様である。なお、この実施形態におけるス
ライダの寸法、レール部及びそのテーパ部の寸法は一例
として図６に示すとおりである。また、図６の実施形態
におけるレールの高さは一例として２μｍである。な
お、図１、図２、図４の平行レール型スライダの実施形
態においては一例として、レール高さは２μｍ、テーパ
長は５０μｍである。
を有するレール型の上に犠牲層（Al）とを形成し、次い
で媒体対向層５をＳ1 Ｏ2 のスパッタにより形成し、更
にＮｉメッキにてスライダ本体層６を設ける点は前述の
実施形態と同様である。なお、この実施形態におけるス
ライダの寸法、レール部及びそのテーパ部の寸法は一例
として図６に示すとおりである。また、図６の実施形態
におけるレールの高さは一例として２μｍである。な
お、図１、図２、図４の平行レール型スライダの実施形
態においては一例として、レール高さは２μｍ、テーパ
長は５０μｍである。
【００２３】これらの実施形態による効果は、第２及び
第３実施形態と同様である。型となる金属層２とフォト
レジスト層３の重なりに対応してテーパ部の基部に凹部
７（媒体対向層５側から見た場合の凹部）を生ずるが、
この凹部７と記録媒体（図示せず）との距離はレールの
凸部と記録媒体の微小距離に比べて充分大きいので、ス
ライダの特性には影響を与えない。
第３実施形態と同様である。型となる金属層２とフォト
レジスト層３の重なりに対応してテーパ部の基部に凹部
７（媒体対向層５側から見た場合の凹部）を生ずるが、
この凹部７と記録媒体（図示せず）との距離はレールの
凸部と記録媒体の微小距離に比べて充分大きいので、ス
ライダの特性には影響を与えない。
【００２４】以上、添付図面を参照して本発明の実施例
について詳細に説明したが、本発明は上記の実施例に限
定されるものではなく、本発明の精神ないし範囲内にお
いて種々の形態、変形、修正等が可能であることに留意
すべきである。
について詳細に説明したが、本発明は上記の実施例に限
定されるものではなく、本発明の精神ないし範囲内にお
いて種々の形態、変形、修正等が可能であることに留意
すべきである。
【００２５】
【発明の効果】以上に説明したような、本発明によれ
ば、ホリゾンタルヘッド用のレール形状せいぞ、レール
型層と犠牲層の密着レールの面粗さの全てを良好にする
ことができる。
ば、ホリゾンタルヘッド用のレール形状せいぞ、レール
型層と犠牲層の密着レールの面粗さの全てを良好にする
ことができる。
【図１】第１実施形態に係るヘッドスライダの形成方法
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】第２実施形態に係るヘッドスライダの形成方法
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図３】第２実施形態に係るヘッドスライダの形成工程
を示す。
を示す。
【図４】第３実施形態に係るヘッドスライダの形成方法
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図５】第３実施形態に係るヘッドスライダの形成工程
を示す。
を示す。
【図６】レールの流入側のみでなく流出側や側面にもテ
ーパ部を設けたスライダに本発明を適用した場合の平面
図である。
ーパ部を設けたスライダに本発明を適用した場合の平面
図である。
【図７】第４実施形態に係るヘッドスライダの形成方法
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図８】第５実施形態に係るヘッドスライダの形成方法
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図９】従来のグッピー型スライダを示す概略斜視図で
ある。
ある。
【図１０】従来のスライダを形成する型を示す斜視図で
ある。
ある。
【図１１】従来のスライダレール形成方法の一例を示す
断面図である。
断面図である。
【図１２】図１１の従来のスライダレールを形成するプ
ロセスを示す。
ロセスを示す。
【図１３】従来のスライダレール形成方法の他の例を示
す断面図である。
す断面図である。
【図１４】図１３の従来のスライダレールを形成するプ
ロセスを示す。
ロセスを示す。
１…基板 ２…レールの平坦部の型となる金属層（Al) ３…レールのテーパ部の型となるフォトレジスト層 ４…犠牲層（Al) ５…媒体対向面層（SiO2) ６…スライダ本体((Ni)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 21/21 101 G11B 5/60
Claims (5)
- 【請求項１】 記録媒体に対して浮上又は接触する媒体
対向面を有し、該媒体対向面と平行に情報記録・再生ヘ
ッドの成膜面が形成され、且つ安定な浮上又は接触を維
持するための圧力を発生させる凸型レール部を前記媒体
対向面に設け、該凸型レール部は平坦部とテーパ部を有
する水平ヘッドスライダを形成する方法において、前記
凸型レール部を形成するに際し、凸型レール部の平坦部
の型を金属材料の層で、テーパ部の型をフォトレジスト
の層で形成し、その上に犠牲層、媒体対向層、スライダ
本体層の順に形成することを特徴とするヘッドスライダ
の成形方法。 - 【請求項２】 凸型レール部の平坦部の型を形成する金
属層と、テーパ部の型を形成するフォトレジスト層とが
それらの境界付近で部分的に重なるようにしたことを特
徴とする請求項１に記載のヘッドスライダの成形方法。 - 【請求項３】 金属層を形成した後に、一部が該金属層
上に重なるようにフォトレジスト層を形成し、該フォト
レジスト層を熱硬化又は紫外線硬化させることを特徴と
する請求項２に記載のヘッドスライダの成形方法。 - 【請求項４】 フォトレジスト層を先に形成し、該フォ
トレジスト層を熱硬化又は紫外線硬化させた後に、一部
がフォトレジスト層上に重なるように金属層を形成した
ことを特徴とする請求項２に記載のヘッドスライダの成
形方法。 - 【請求項５】 記録媒体に対して浮上又は接触する媒体
対向面を有し、該媒体対向面と平行に情報記録・再生ヘ
ッドの成膜面が形成され、且つ安定な浮上又は接触を維
持するための圧力を発生させる凸型レール部を前記媒体
対向面に設け、該凸型レール部は平坦部とテーパ部を有
する水平ヘッドスライダにおいて、前記媒体対向面の基
部と前記凸型レール部のテーパ面との間に凹部を有する
ことを特徴とするヘッドスライダ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25471297A JP3297358B2 (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | ヘッドスライダおよびその形成方法 |
| US09/044,578 US6088908A (en) | 1997-09-19 | 1998-03-19 | Method of making a head slider |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25471297A JP3297358B2 (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | ヘッドスライダおよびその形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1196714A JPH1196714A (ja) | 1999-04-09 |
| JP3297358B2 true JP3297358B2 (ja) | 2002-07-02 |
Family
ID=17268809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25471297A Expired - Fee Related JP3297358B2 (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | ヘッドスライダおよびその形成方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6088908A (ja) |
| JP (1) | JP3297358B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7209324B2 (en) | 2003-06-30 | 2007-04-24 | Hitachi Global Storage Netherlands, B.V. | Sliders bonded by a debondable encapsulant containing styrene and butadiene polymers |
| US7168939B2 (en) * | 2004-02-26 | 2007-01-30 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | System, method, and apparatus for multilevel UV molding lithography for air bearing surface patterning |
| US10058890B1 (en) | 2015-11-20 | 2018-08-28 | Seagate Technology Llc | Methods of forming an air bearing surface on a slider and related sliders |
| SE1851615A1 (en) | 2018-11-09 | 2020-05-10 | Ikea Supply Ag | Room divider system |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3460244A (en) * | 1965-09-10 | 1969-08-12 | Teletype Corp | Method of manufacturing a multi-track magnetic head |
| JPS6113412A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-21 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS61107514A (ja) * | 1984-10-30 | 1986-05-26 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS62250570A (ja) * | 1986-04-22 | 1987-10-31 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 記憶装置用変換器 |
| JPH0771086B2 (ja) * | 1986-07-10 | 1995-07-31 | 株式会社東芝 | バスインタ−フエイス回路 |
| JPH03292610A (ja) * | 1990-04-10 | 1991-12-24 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘッド |
| JPH0423215A (ja) * | 1990-05-17 | 1992-01-27 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| US5228184A (en) * | 1990-07-18 | 1993-07-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing thin film magnetic head |
| JPH0476809A (ja) * | 1990-07-18 | 1992-03-11 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH04339306A (ja) * | 1991-05-16 | 1992-11-26 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜磁気ヘッドおよびその製法 |
| JPH06103597A (ja) * | 1992-09-16 | 1994-04-15 | Olympus Optical Co Ltd | 集積化光ピックアップ |
| JPH06275036A (ja) * | 1993-03-24 | 1994-09-30 | Sony Corp | 浮上型磁気ヘッド装置 |
| JPH06295417A (ja) * | 1993-04-08 | 1994-10-21 | Citizen Watch Co Ltd | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JP3257917B2 (ja) * | 1995-03-01 | 2002-02-18 | 富士通株式会社 | 薄膜磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-09-19 JP JP25471297A patent/JP3297358B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-19 US US09/044,578 patent/US6088908A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH1196714A (ja) | 1999-04-09 |
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