JP3265629B2 - アンモニアとフッ素とを含む排水の処理法 - Google Patents

アンモニアとフッ素とを含む排水の処理法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアンモニアとフッ素とを
含む排水の処理法に係り、特に、アンモニアとフッ素と
を含む排水から、触媒による酸化分解処理でアンモニア
を長期にわたり安定かつ効率的に分解除去する方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、排水中からアンモニアを除去する
方法としては、生物処理による方法、或いは、薬剤とオ
ゾンを併用する方法(特開平3−181390)がある
が、生物処理による方法では、次のような問題点があ
る。 汚泥が発生する。 処理水の水質のコントロールが難かしい。 広いスペースを必要とする。
【0003】また、薬剤とオゾンの併用処理には次のよ
うな問題点がある。 アンモニア濃度の10倍以上のBr- 濃度が必要であ
る。 アンモニア濃度の2倍以上のオゾン濃度が必要であ
る。 アンモニア濃度の大きい原水に対応できない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来にお
いて、アンモニアの除去方法として、工業的に有利な方
法は提案されておらず、その改良が望まれている。
【0005】一方、本発明者らは、アンモニアの除去方
法として触媒によるアンモニアの酸化分解処理が著しく
除去効率に優れる方法であることを見出し、この接触酸
化分解法による処理法について先に特許出願を行なった
(特願平4−68210号)。
【0006】しかしながら、上記接触酸化分解法は、被
処理水中にフッ化物イオン(F- )が存在する場合に
は、アンモニアの除去率が低下するのみならず、触媒活
性を長時間維持することができず、このため、安定かつ
効率的な処理を継続し得ないという不具合があった。
【0007】本発明は上記実情に鑑みてなされたもので
あって、アンモニアとフッ素とを含む排水を、アンモニ
アの接触酸化分解法を採用して長期にわたり安定かつ効
率的に処理する方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のアンモニアとフ
ッ素とを含む排水の処理法は、アンモニアとフッ素とを
含む排水からフッ素を除去した後、酸化剤の存在下、8
0〜170℃において、アルミナ、シリカ、酸化チタ
ン、ジルコニア又は合成樹脂を担体とする金属担持触媒
と接触させることを特徴とする。
【0009】なお、本発明において、金属担持触媒の金
属とは、金属単体の他、金属化合物を包含する。
【0010】以下に本発明を図面を参照して詳細に説明
する。
【0011】図1は本発明のアンモニアとフッ素とを含
む排水の処理法の一実施方法を示す系統図である。
【0012】図中、1はアンモニア(NH3 ないしアン
モニウムイオンNH4 +)及びフッ素(F- )を含有する
排水の貯槽、2はフッ素除去装置、3は熱交換器、4は
ヒーター、5は触媒5Aが充填された分解塔である。1
1、12、13、14、15は配管を示す。
【0013】本実施例の方法においては、貯槽1中のN
3 及びF- 含有排水をまず配管11よりフッ素除去装
置2に導入して、含有されるフッ素イオンを除去する。
このフッ素除去装置2のフッ素除去手段としては特に制
限はなく、晶析法、イオン交換法等を採用することがで
きる。
【0014】フッ素除去装置2でフッ素が除去された後
の排水は、次いで、配管12を経て熱交換器3に導入し
て後述の分解塔5の流出水と熱交換し、更にヒーター4
を備える配管13で加熱した後、分解塔5に導入し、塔
内の触媒5Aと接触させることによりNH3 を分解除去
する。NH3 が分解除去された分解塔5の流出水は配管
14を経て、熱交換器3に導入され、前述の排水と熱交
換された後、配管15より処理水として系外へ排出され
る。
【0015】本発明において、フッ素除去装置2におけ
るフッ素除去の程度は、フッ素除去装置2の出口水のF
- モル濃度 [F- ] が下記式を満足するような濃度であ
ることが望ましい。
【0016】
【数1】
【0017】ただし、n=フッ素除去装置出口水中に含
有されるNH4 +以外のカチオン種の数 C=フッ素除去装置出口水中に含有されるNH4 +以外の
カチオン種のモル濃度 Z=フッ素除去装置出口水中に含有されるNH4 +以外の
イオン価数 即ち、後述の如く、触媒作用の阻害因子は、F- の存在
下でのアンモニアの分解で生成するフッ化水素酸である
が、排水中にNH4 +以外のF- のカウンターイオンが存
在する場合は、当該イオンの当量分だけフッ化水素酸が
生成しないことから、その分フッ素除去装置の出口水の
フッ素濃度の許容上限値を高く設定できる。
【0018】本発明において、アンモニアの酸化分解に
用いる金属担持触媒としては、触媒有効成分の金属とし
て、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、インジ
ウム、イリジウム、銀、金、コバルト、銅、ニッケル及
びタングステン、並びにこれらの金属の水不溶性又は水
難溶性の化合物、具体的には、一酸化コバルト、一酸化
ニッケル、二酸化ルテニウム、三二酸化ロジウム、一酸
化パラジウム、二酸化イリジウム、酸化第二銅、二酸化
タングステン等の酸化物、更には二塩化ルテニウム、二
塩化白金等の塩化物、硫化ルテニウム、硫化ロジウム等
の硫化物等よりなる群から選ばれた1種又は2種以上を
アルミナ、シリカ、酸化チタン、ジルコニア、又は合成
脂の担体に担持したものを用いる。このような担持触
媒中の金属及び/又はその化合物の担持量は、通常、担
体重量の0.05〜25重量%、好ましくは0.1〜3
重量%であることが望ましい。このような担持触媒は、
球状、ペレット状、円柱状、破砕片状、ハニカム状、粉
末状等の種々の形態で使用可能である。
【0019】また、アンモニアの酸化分解の反応条件
は、温度80〜170℃、特に130〜170℃が好ま
しく、圧力は10kg/cm2 未満程度とされる。
【0020】このアンモニアの接触酸化分解反応は、図
1に示す如く、フッ素除去後の排水を上記担持触媒を充
填した固定床式反応層に通液することにより実施するこ
とができる。この場合、反応層容積、触媒充填量、通液
速度は、被処理水と担持触媒との接触時間が3〜60
分、特に10〜30分となるように設定するのが好まし
い。なお、固定床式反応層に使用する担持触媒の粒径
は、通常、0.2〜10mm、特に0.5〜5mm程度
であることが好ましい。なお、この接触酸化分解にあた
り、酸素含有ガスの吹き込みは不要である。
【0021】このような本発明の方法は、特に、半導体
製造工程から排出されるNH3 及びF- を含み、有機物
を含まない排水に対して、極めて有効である。
【0022】
【作用】NH3 は80〜170℃での接触酸化分解によ
り、酸素含有ガスの吹き込みを要することなく、分解除
去される。
【0023】しかしながら、被処理水中にNH3 と共に
- が含有される場合には、NH3の分解反応自体がF-
により阻害される上に、F- 存在下でのNH3 の酸化
分解によりフッ化水素酸が生成し、このフッ化水素酸が
阻害因子となってNH3 の分解除去効率を悪化させる。
【0024】即ち、フッ化水素酸は金属担持触媒の担体
を溶解させるため、下記のような触媒劣化が起こり、触
媒活性を長期にわたって維持し得なくなる。
【0025】担持金属の剥離(担持金属量の減少) 触媒表面積の減少 これに対して、本発明の方法によれば、NH3 の接触酸
化分解に先立ち、予めF- を除去するため、フッ化水素
酸の生成及び生成したフッ化水素酸による触媒の劣化が
防止され、その結果、触媒活性を長期にわたり高く維持
することが可能とされる。同時に、F- によるNH3
解反応の阻害も防止されるため、NH3除去率も向上す
る。
【0026】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明をより具体的
に説明する。
【0027】実施例1:F- のNH3 除去率への影響 表1に示す触媒No.A〜Cをそれぞれカラムに詰め、
下記条件にて原水を通液し、F- の有無によるNH3
去率の比較を行なった。
【0028】
【表1】
【0029】条件 原水:F- を含む原水=NH4 OHをN換算で1000
ppm含む(H22 添加) F- を含まない原水=NH4 FをN換算で1000pp
m含む(H22 添加) 流量:3ml/min(SV=4.5hr-1) 温度:140℃ 図2より、F- が存在するとNH3 除去率が低下し、特
に触媒担体がアルミナ担体の場合にはF- の影響が著し
く、F- を除去することにより、NH3 除去率を2倍以
上も向上させることができることが明らかである。
【0030】実施例2:F- の触媒劣化への影響 触媒として触媒No.Aを40gカラムに充填し、実施
例1と同様の条件で原水をそれぞれ通液して、F- の有
無によるNH3 除去率の経時変化の比較を行なった。
【0031】結果を図3に示す。図3においては、通液
初期のNH3 除去率を100%として示した。
【0032】図3より、F- が存在しない場合には触媒
活性を維持できるが、F- が存在すると触媒活性は徐々
に低下し、250時間後には半分以下になることが明ら
かである。
【0033】この試験後、触媒をカラムから取り出して
重量を測定したところ、F- を含まない原水を通液した
ものは殆ど重量が変化していなかったが、F- を含む原
水を通液したものは12gに減少しており、初期充填量
の40gよりも大幅に重量が減少していた。
【0034】このことからも、F- が存在すると触媒の
担体が著しく破壊されることが確認された。
【0035】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のアンモニア
とフッ素とを含む排水の処理法によれば、NH3 及びF
- を含む排水の処理にあたり、F- による阻害を受ける
ことなく、NH3 を容易かつ効率的に、長期にわたり安
定に分解除去することができる。本発明によれば、NH
3 の除去にあたり、 生物処理に比べて、処理水の水質コントロールが容易
であり、汚泥の発生もない。 薬剤の添加が不要である。 1000mg/l程度のNH3 含有排水にも対応でき
る。 酸素含有ガスの吹き込みが不要で、装置の簡易化が図
れる。 といった効果も奏され、工業的に極めて有利である。
【0036】特に、本発明はアンモニアとフッ素とを含
み、有機物を含まない、半導体製造工程から排出される
排水の処理に有効である。なお、特願平4−68210
号にも記載したように、NH3 の分解に際しては、過酸
化水素(H22 )をも同時に分解除去できることか
ら、本発明における被処理排水は更にH22 を含むも
のであっても良いことは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のアンモニアとフッ素とを含む排水の処
理法の一実施方法を示す系統図である。
【図2】実施例1の結果を示すグラフである。
【図3】実施例2の結果を示すグラフである。
【符号の説明】
1 排水貯槽 2 フッ素除去装置 3 熱交換器 4 ヒーター 5 分解塔 5A 触媒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C02F 1/72 C02F 1/74 C02F 1/58

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アンモニアとフッ素とを含む排水からフ
    ッ素を除去した後、酸化剤の存在下、80〜170℃に
    おいて、アルミナ、シリカ、酸化チタン、ジルコニア又
    は合成樹脂を担体とする金属担持触媒と接触させること
    を特徴とするアンモニアとフッ素とを含む排水の処理
    法。
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