JP3258677B2 - １−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカン化合物の製造方法 - Google Patents
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカン化合物の製造方法Info
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- JP3258677B2 JP3258677B2 JP19031491A JP19031491A JP3258677B2 JP 3258677 B2 JP3258677 B2 JP 3258677B2 JP 19031491 A JP19031491 A JP 19031491A JP 19031491 A JP19031491 A JP 19031491A JP 3258677 B2 JP3258677 B2 JP 3258677B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D498/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D498/10—Spiro-condensed systems
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリマーの光安定化剤
としてまたはプラスチック添加剤の製造における中間体
として使用できる１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オ
キソスピロ〔４．５〕デカン化合物の製造方法に関する
ものである。
としてまたはプラスチック添加剤の製造における中間体
として使用できる１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オ
キソスピロ〔４．５〕デカン化合物の製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】式
【０００３】
【化１１】 の化合物は公知である（ドイツ特許第３，１４９，４５
３号明細書を参照のこと）。
３号明細書を参照のこと）。
【０００４】しかしながら、ドイツ特許第３，１４９，
４５３号明細書に記載の上記化合物の製造法は、反応媒
体を反応の際に数回代えなければならず、従って付加的
な抽出および蒸留を必要とするので、複雑である。
４５３号明細書に記載の上記化合物の製造法は、反応媒
体を反応の際に数回代えなければならず、従って付加的
な抽出および蒸留を必要とするので、複雑である。
【０００５】ドイツ特許第３，５２４，５４３号明細書
は、室温で液体の芳香族炭化水素中でそして塩基性触媒
に加えて、相間移動触媒を使用して合成を行う上記化合
物の改良された製造法を記載している。
は、室温で液体の芳香族炭化水素中でそして塩基性触媒
に加えて、相間移動触媒を使用して合成を行う上記化合
物の改良された製造法を記載している。
【０００６】ドイツ特許第３，５２４，５４３号明細書
に記載された相間移動触媒の添加により、より速やかで
かつより完全な転化となるということは真実であるが、
反応混合物を処理した際に相間移動触媒が排水に混入す
るので公害を引き起こしやすいという不都合な副次効果
がある。相間移動触媒の使用は、好都合の場合には−ポ
リエチレングリコールジアルキルエーテルを使用する場
合−、排水中の有機負荷物の増加、従って公害の増加を
意味する。ドイツ特許第３，５２４，５４３号明細書に
特に有効であるとして記載された第４アンモニウムまた
はホスホニウムハライドを相間移動触媒として使用する
場合、これは、排水中の有機負荷物を増加するだけでな
く、第４アンモニウムまたはホスホニウムハライドが殺
菌効果を有しておりそして生物学的処理プラント内で処
理できないので、排水を生物学的処理プラント内に導入
できなくする。従って、排水は、複雑な方法で特別の廃
棄処理しなければならない。
に記載された相間移動触媒の添加により、より速やかで
かつより完全な転化となるということは真実であるが、
反応混合物を処理した際に相間移動触媒が排水に混入す
るので公害を引き起こしやすいという不都合な副次効果
がある。相間移動触媒の使用は、好都合の場合には−ポ
リエチレングリコールジアルキルエーテルを使用する場
合−、排水中の有機負荷物の増加、従って公害の増加を
意味する。ドイツ特許第３，５２４，５４３号明細書に
特に有効であるとして記載された第４アンモニウムまた
はホスホニウムハライドを相間移動触媒として使用する
場合、これは、排水中の有機負荷物を増加するだけでな
く、第４アンモニウムまたはホスホニウムハライドが殺
菌効果を有しておりそして生物学的処理プラント内で処
理できないので、排水を生物学的処理プラント内に導入
できなくする。従って、排水は、複雑な方法で特別の廃
棄処理しなければならない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、非常に短時間でかつ非常に高い収量で非常に低い環
境適用性およびそれにともなう複雑な廃棄処理という従
来技術の欠点を有していない冒頭に記載した化合物を提
供する方法を見出すことである。
は、非常に短時間でかつ非常に高い収量で非常に低い環
境適用性およびそれにともなう複雑な廃棄処理という従
来技術の欠点を有していない冒頭に記載した化合物を提
供する方法を見出すことである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、本発明に
よると溶剤として室温で液体の芳香族炭化水素および触
媒として式Ｘ
よると溶剤として室温で液体の芳香族炭化水素および触
媒として式Ｘ
【０００９】
【化１２】 だけを、上記化合物を製造する際に使用することによっ
て達成される。
て達成される。
【００１０】従って、本発明は、式Ｉ
【００１１】
【化１３】 〔式中、ｎは１ないし４の整数であり、Ｒ１は水素原
子、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基、ベンジル基、アリル基、
Ｃ２〜Ｃ３ ０−アルカノイル基、Ｃ３〜Ｃ２０−アルケ
ノイル基、Ｃ７〜Ｃ１１−アロイル基、Ｃ８〜Ｃ１４−
アリールアルカノイル基またはＣ８〜Ｃ２０−アルキル
アリール基であり、Ｒ２は水素原子またはＣ１〜Ｃ４−
アルキル基であり、Ｒ３は水素原子；Ｃ１〜Ｃ１８−ア
ルキル基；Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基；塩素原子
またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されてもよいフェ
ニル基またはナフチル基；または非置換またはＣ１〜Ｃ
４−アルキル基で置換されたＣ７〜Ｃ１２−フェニルア
ルキル基であり、Ｒ４は水素原子；Ｃ１〜Ｃ４−アルキ
ル基；Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基；−ＣＯＯＨ、
カルボ−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基またはカルバモイル
基で置換されたＣ１〜Ｃ３−アルケニル基；Ｃ１〜Ｃ４
−アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換さ
れてもよいフェニル基、ナフチル基またはピリジル基；
あるいはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されてもよいＣ
７〜Ｃ１２−フェニルアルキル基であり、あるいはＲ３
とＲ４はこれらと結合している炭素原子と一緒になっ
て、１ないし４個のＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換され
てもよいシクロアルキル基または式ＩＩ
子、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基、ベンジル基、アリル基、
Ｃ２〜Ｃ３ ０−アルカノイル基、Ｃ３〜Ｃ２０−アルケ
ノイル基、Ｃ７〜Ｃ１１−アロイル基、Ｃ８〜Ｃ１４−
アリールアルカノイル基またはＣ８〜Ｃ２０−アルキル
アリール基であり、Ｒ２は水素原子またはＣ１〜Ｃ４−
アルキル基であり、Ｒ３は水素原子；Ｃ１〜Ｃ１８−ア
ルキル基；Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基；塩素原子
またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されてもよいフェ
ニル基またはナフチル基；または非置換またはＣ１〜Ｃ
４−アルキル基で置換されたＣ７〜Ｃ１２−フェニルア
ルキル基であり、Ｒ４は水素原子；Ｃ１〜Ｃ４−アルキ
ル基；Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基；−ＣＯＯＨ、
カルボ−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基またはカルバモイル
基で置換されたＣ１〜Ｃ３−アルケニル基；Ｃ１〜Ｃ４
−アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換さ
れてもよいフェニル基、ナフチル基またはピリジル基；
あるいはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されてもよいＣ
７〜Ｃ１２−フェニルアルキル基であり、あるいはＲ３
とＲ４はこれらと結合している炭素原子と一緒になっ
て、１ないし４個のＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換され
てもよいシクロアルキル基または式ＩＩ
【００１２】
【化１４】 （式中、Ｒ１およびＲ２は上記の意義を有している）の
残基であり、Ｒ５は水素原予、メチル基、フェニル基ま
たはカルボ−Ｃ１〜Ｃ２１−アルコキシ 基であり、Ｒ
６は水素原子またはメチル基でありＲ７は、ｎが１であ
る場合、水素原子；Ｃ１〜Ｃ２１−アルキル基；Ｃ２〜
Ｃ２ ２−アルケニル基；Ｃ７〜Ｃ１８−フェニルアルキ
ル基；Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基；フェニル基；
ナフチル基；Ｃ７〜Ｃ１８−アルキルフェニル基；式
残基であり、Ｒ５は水素原予、メチル基、フェニル基ま
たはカルボ−Ｃ１〜Ｃ２１−アルコキシ 基であり、Ｒ
６は水素原子またはメチル基でありＲ７は、ｎが１であ
る場合、水素原子；Ｃ１〜Ｃ２１−アルキル基；Ｃ２〜
Ｃ２ ２−アルケニル基；Ｃ７〜Ｃ１８−フェニルアルキ
ル基；Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基；フェニル基；
ナフチル基；Ｃ７〜Ｃ１８−アルキルフェニル基；式
【００１３】
【化１５】 （式中、Ｒ１およびＲ２は上記の意義を有している）の
残基；−Ｏ−または
残基；−Ｏ−または
【００１４】
【化１６】 により遮断および／または式ＩＩＩ
【００１５】
【化１７】 の残基によりあるいはＣ１〜Ｃ２１−アルキルカルボキ
シ基により置換されたＣ２〜Ｃ２２−アルキル基（式
中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は上記の
意義を有しており、そしてＲ８は水素原子またはＣ１〜
Ｃ１０−アルキル基である）であり、Ｒ７は、ｎが２で
ある場合、直鎖または枝分かれ鎖状のＣ１〜Ｃ３０−ア
ルキレン基、Ｃ２〜Ｃ３０−アルケニレン基、フェニル
ジアルキレン基であり、かゝる残基は−Ｏ−または
シ基により置換されたＣ２〜Ｃ２２−アルキル基（式
中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は上記の
意義を有しており、そしてＲ８は水素原子またはＣ１〜
Ｃ１０−アルキル基である）であり、Ｒ７は、ｎが２で
ある場合、直鎖または枝分かれ鎖状のＣ１〜Ｃ３０−ア
ルキレン基、Ｃ２〜Ｃ３０−アルケニレン基、フェニル
ジアルキレン基であり、かゝる残基は−Ｏ−または
【００１６】
【化１８】 により遮断されることも可能である（式中、Ｒ８は上記
の意義を有している）、Ｒ７は、ｎが３または４である
場合、式ＩＶ、Ｖ、ＶＩまたはＶＩＩ
の意義を有している）、Ｒ７は、ｎが３または４である
場合、式ＩＶ、Ｖ、ＶＩまたはＶＩＩ
【００１７】
【化１９】 の残基である〕 の１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ
〔４．５〕デカン化合物を、式ＶＩＩＩ
〔４．５〕デカン化合物を、式ＶＩＩＩ
【００１８】
【化２０】 の化合物を式ＩＸ
【００１９】
【化２１】 の化合物（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、
Ｒ６およびＲ７は上記の意義を有している）と、不活性
溶剤中で３０〜１５０℃の温度で触媒の存在下に反応さ
せることにより製造する方法であって、反応を、式ＶＩ
ＩＩに対して１ないし１０モル％の式（Ｘ）
Ｒ６およびＲ７は上記の意義を有している）と、不活性
溶剤中で３０〜１５０℃の温度で触媒の存在下に反応さ
せることにより製造する方法であって、反応を、式ＶＩ
ＩＩに対して１ないし１０モル％の式（Ｘ）
【００２０】
【化２２】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記の意義を有
しており、そしてＭはアルカリ金属である）の触媒の存
在下に、室温で液体の芳香族炭化水素中で行うことから
なる方法に関する。
しており、そしてＭはアルカリ金属である）の触媒の存
在下に、室温で液体の芳香族炭化水素中で行うことから
なる方法に関する。
【００２１】Ｒ１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル
基、Ｃ２〜Ｃ１８−アルカノイル基であることが好まし
く、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ラウロ
イル基、ステアロイル基、特に好ましくは水素原子また
は上記の酸残基のうちの一つである。Ｒ１は、特に水素
原子である。
基、Ｃ２〜Ｃ１８−アルカノイル基であることが好まし
く、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ラウロ
イル基、ステアロイル基、特に好ましくは水素原子また
は上記の酸残基のうちの一つである。Ｒ１は、特に水素
原子である。
【００２２】Ｒ２は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４−アル
キル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基または
ブチル基であることが好ましい。Ｒ２は、特に水素原子
である。
キル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基または
ブチル基であることが好ましい。Ｒ２は、特に水素原子
である。
【００２３】Ｒ３およびＲ４は、互いに別個に、Ｃ１〜
Ｃ１８−アルキル基、Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基
またはフェニル基であり、例えばエチル基、ブチル基、
オクチル基、ラウリル基、ステアリル基、シクロヘキシ
ル基、シクロデシル基、特に好ましくはＣ１〜Ｃ７−ア
ルキル基である。Ｒ３およびＲ４は、特にＣ１〜Ｃ４−
アルキル基、例えばメチル基である。
Ｃ１８−アルキル基、Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基
またはフェニル基であり、例えばエチル基、ブチル基、
オクチル基、ラウリル基、ステアリル基、シクロヘキシ
ル基、シクロデシル基、特に好ましくはＣ１〜Ｃ７−ア
ルキル基である。Ｒ３およびＲ４は、特にＣ１〜Ｃ４−
アルキル基、例えばメチル基である。
【００２４】Ｒ３とＲ４は、これらと結合している炭素
原子と一緒になって、好ましくは、Ｃ５〜Ｃ１２−シク
ロアルキレン基、特に好ましくはＣ６−またはＣ１２−
シクロアルキレン基、特にシクロドデシレン基である。
原子と一緒になって、好ましくは、Ｃ５〜Ｃ１２−シク
ロアルキレン基、特に好ましくはＣ６−またはＣ１２−
シクロアルキレン基、特にシクロドデシレン基である。
【００２５】Ｒ５は、水素原子、メチル基またはフェニ
ル基であることが好ましく、特に好ましくは水素原子で
ある。
ル基であることが好ましく、特に好ましくは水素原子で
ある。
【００２６】Ｒ６は、水素原子またはメチル基であるこ
とが好ましい。Ｒ６は、特に水素原子である。
とが好ましい。Ｒ６は、特に水素原子である。
【００２７】Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ２１−アルキル基、直鎖
または枝分かれ鎖状のＣ１〜Ｃ３０−アルキレン基であ
ることが好ましく、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、オクチル基、ラウリル基、ステアリル基、エチレン
基、ブチレン基、ヘキシレン基、特に好ましくはＣ１〜
Ｃ１５−アルキル基である。Ｒ７は、特にＣ１２〜Ｃ
１４−アルキル基、例えばラウリル基である。
または枝分かれ鎖状のＣ１〜Ｃ３０−アルキレン基であ
ることが好ましく、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、オクチル基、ラウリル基、ステアリル基、エチレン
基、ブチレン基、ヘキシレン基、特に好ましくはＣ１〜
Ｃ１５−アルキル基である。Ｒ７は、特にＣ１２〜Ｃ
１４−アルキル基、例えばラウリル基である。
【００２８】式ＶＩＩＩおよびＩＸの出発化合物は、公
知であり、そしてこれらの製造法は、文献に記載されて
いる（例えば、ドイツ特許第３，１４９，４５３号明細
書およびドイツ特許第２，６０６，０２６号明細書を参
照のこと）。
知であり、そしてこれらの製造法は、文献に記載されて
いる（例えば、ドイツ特許第３，１４９，４５３号明細
書およびドイツ特許第２，６０６，０２６号明細書を参
照のこと）。
【００２９】式ＶＩＩＩの好適な化合物の例として、 ２−ブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカ
ン ２−イソブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−ペンチル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デ
カン ２−イソペンチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ヘキシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デ
カン ２−ヘプチル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デ
カン ２−イソヘプチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ノニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカ
ン ２−イソノニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−フェニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デ
カン ２−（４−クロロフェニル）−７，７，９，９−テトラ
メチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピ
ロ〔４．５〕デカン ２−エチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−イソプロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチル
−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ
〔４．５〕デカン ２−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−イソブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ペンチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ヘキシル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ノニル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２，２，７，７，９，９−ヘキサメチル−１−オキサ−
３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカン ２，２，７，７，８，９，９−ヘプタメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカ
ン ２，２−ジエチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２，２−ジプロピル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２，２−ジブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−エチル−２−ペンチル−７，７，９，９−テトラメ
チル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ
〔４．５〕デカン ２，２−ジベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，１３
−ジアザ−１４−オキソジスピロ〔５．１．４．２〕テ
トラデカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，１４
−ジアザ−１５−オキソジスピロ〔５．１．５．２〕ペ
ンタデカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０
−ジアザ−２１−オキソジスピロ〔５．１．１１．２〕
ヘンエイコサン ２，２，７，７，９，９−ヘキサメチル−１−オキサ−
３，８−ジアザ−４−オキソ−８−アセチルスピロ
〔４．５〕デカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，１４
−ジアザ−１５−オキソ−３−アセチルージスピロ
〔５．１．５．２〕ペンタデカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０
−ジアザ−２１−オキソ−３−アセチル−ジスピロ
〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサンが挙げられる。
サ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカ
ン ２−イソブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−ペンチル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デ
カン ２−イソペンチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ヘキシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デ
カン ２−ヘプチル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デ
カン ２−イソヘプチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ノニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカ
ン ２−イソノニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−フェニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デ
カン ２−（４−クロロフェニル）−７，７，９，９−テトラ
メチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピ
ロ〔４．５〕デカン ２−エチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−イソプロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチル
−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ
〔４．５〕デカン ２−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２−イソブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ペンチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ヘキシル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−ノニル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕
デカン ２，２，７，７，９，９−ヘキサメチル−１−オキサ−
３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカン ２，２，７，７，８，９，９−ヘプタメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカ
ン ２，２−ジエチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２，２−ジプロピル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２，２−ジブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２−エチル−２−ペンチル−７，７，９，９−テトラメ
チル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ
〔４．５〕デカン ２，２−ジベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．
５〕デカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，１３
−ジアザ−１４−オキソジスピロ〔５．１．４．２〕テ
トラデカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，１４
−ジアザ−１５−オキソジスピロ〔５．１．５．２〕ペ
ンタデカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０
−ジアザ−２１−オキソジスピロ〔５．１．１１．２〕
ヘンエイコサン ２，２，７，７，９，９−ヘキサメチル−１−オキサ−
３，８−ジアザ−４−オキソ−８−アセチルスピロ
〔４．５〕デカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，１４
−ジアザ−１５−オキソ−３−アセチルージスピロ
〔５．１．５．２〕ペンタデカン ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０
−ジアザ−２１−オキソ−３−アセチル−ジスピロ
〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサンが挙げられる。
【００３０】好適な式ＩＸの化合物の例として、 メチル アクリレート エチル アクリレート ｎ−ブチル アクリレート イソブチル アクリレート ｔｅｒｔ−ブチル アクリレート ２−エチルヘキシル アクリレート オクチル アクリレート ラウリル アクリレート ミリスチル アクリレート ２−ジエチルアミノエチル アクリレート メチル メタクリレート エチル メタクリレート ｎ−ブチル メタクリレート イソブチル メタクリレート ｔｅｒｔ−ブチル メタクリレート ラウリル メタクリレート シクロヘキシル メタクリレート アリル メタクリレート ２−エトキシエチル メタクリレート ２−ジメチルアミノエチル メタクリレート メチル クロトネート エチル クロトネート １，４−ブタンジオール ジアクリレート １，６−ヘキサンジオール ジアクリレート ２−エチル−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパン
ジオール トリアクリレート ジエチレングリコール ジアクリレート ペンタエリスリトール トリアクリレート ペンタエリスリトール テトラアクリレート エチレングリコール ジメタクリレート １，４−ブタンジオール ジメタクリレート １，６−ヘキサンジオール ジメタクリレート ジエチレングリコール ジメタクリレート トリエチレングリコール ジメタクリレート トリプロピレングリコール ジアクリレート トリメチロールプロパン トリメタクリレート ２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−（４） ア
クリレート ２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−（４） ク
ロトネート ２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−（４） メ
タクリレート が挙げられる。
ジオール トリアクリレート ジエチレングリコール ジアクリレート ペンタエリスリトール トリアクリレート ペンタエリスリトール テトラアクリレート エチレングリコール ジメタクリレート １，４−ブタンジオール ジメタクリレート １，６−ヘキサンジオール ジメタクリレート ジエチレングリコール ジメタクリレート トリエチレングリコール ジメタクリレート トリプロピレングリコール ジアクリレート トリメチロールプロパン トリメタクリレート ２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−（４） ア
クリレート ２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−（４） ク
ロトネート ２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−（４） メ
タクリレート が挙げられる。
【００３１】ＶＩＩＩの化合物のうち２，２，４，４−
テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ−２１−
オキソジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサンが
特に好ましく、そして式ＩＸの化合物のうちラウリルア
クリレートが特に好ましい。
テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ−２１−
オキソジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサンが
特に好ましく、そして式ＩＸの化合物のうちラウリルア
クリレートが特に好ましい。
【００３２】室温で液体である芳香族炭化水素、例えば
トルエン、キシレンまたはメシチレンを、本発明による
方法の溶剤として使用する。キシレン類（ｏ−、ｍ−お
よびｐ−）およびトルエン、特にｏ−キシレンが好まし
い。また、これらの芳香族炭化水素類の混合物も使用で
きる。
トルエン、キシレンまたはメシチレンを、本発明による
方法の溶剤として使用する。キシレン類（ｏ−、ｍ−お
よびｐ−）およびトルエン、特にｏ−キシレンが好まし
い。また、これらの芳香族炭化水素類の混合物も使用で
きる。
【００３３】式Ｘの触媒を、式ＶＩＩＩの化合物に対し
て１ないし１０モル％の量で、好ましくは１ないし５モ
ル％の量で、特に好ましくは２ないし４モル％の量で使
用する。式Ｘの触媒は、化合物ＶＩＩＩのアルカリ金属
塩、好ましくはそのリチウム塩、ナトリウム塩またはカ
リウム塩、特にナトリウム塩である。
て１ないし１０モル％の量で、好ましくは１ないし５モ
ル％の量で、特に好ましくは２ないし４モル％の量で使
用する。式Ｘの触媒は、化合物ＶＩＩＩのアルカリ金属
塩、好ましくはそのリチウム塩、ナトリウム塩またはカ
リウム塩、特にナトリウム塩である。
【００３４】この触媒は、公知の方法で化合物ＶＩＩＩ
を不活性溶剤、好ましくはトルエンまたはキシレンの存
在下にアルカリ金属と反応させることによって製造され
る。触媒は、溶剤を分離した後に、単離固形分として
か、あるいは溶剤を分離することなしに懸濁液または溶
液の形態で使用できる。
を不活性溶剤、好ましくはトルエンまたはキシレンの存
在下にアルカリ金属と反応させることによって製造され
る。触媒は、溶剤を分離した後に、単離固形分として
か、あるいは溶剤を分離することなしに懸濁液または溶
液の形態で使用できる。
【００３５】「その場で製造した」触媒を使用するのが
特に有利である。この目的のために、アルカリ金属を、
溶剤および式ＶＩＩＩの化合物だけからなる反応混合物
に、化合物ＶＩＩＩに対して１ないし１０モル％の量で
添加し、そして化合物ＶＩＩＩを反応させると、式Ｘに
従う触媒が得られる。アルカリ金属が完全に反応した後
にだけ、式ＩＸの化合物を第２の反応成分として添加す
る。添加されたアルカリ金属と最初に導入された化合物
ＶＩＩＩとの完全な反応は、式Ｉの所望とされる反応生
成物の高い収量のためにこの場合非常に重要である。ア
ルカリ金属の完全な転化は、還流温度で、バッチサイズ
に依存する（実施例７および８を参照のこと）一定量の
時間、溶剤、化合物ＶＩＩＩおよびアルカリ金属からな
る混合物を加熱することによって確実にするのが有利で
ある。次いで、この混合物を、実際の反応温度にまで冷
却し、そして式ＩＸの化合物を添加する。
特に有利である。この目的のために、アルカリ金属を、
溶剤および式ＶＩＩＩの化合物だけからなる反応混合物
に、化合物ＶＩＩＩに対して１ないし１０モル％の量で
添加し、そして化合物ＶＩＩＩを反応させると、式Ｘに
従う触媒が得られる。アルカリ金属が完全に反応した後
にだけ、式ＩＸの化合物を第２の反応成分として添加す
る。添加されたアルカリ金属と最初に導入された化合物
ＶＩＩＩとの完全な反応は、式Ｉの所望とされる反応生
成物の高い収量のためにこの場合非常に重要である。ア
ルカリ金属の完全な転化は、還流温度で、バッチサイズ
に依存する（実施例７および８を参照のこと）一定量の
時間、溶剤、化合物ＶＩＩＩおよびアルカリ金属からな
る混合物を加熱することによって確実にするのが有利で
ある。次いで、この混合物を、実際の反応温度にまで冷
却し、そして式ＩＸの化合物を添加する。
【００３６】従って、収率の損失なしにそして従来技術
と比較してより長い反応時間を用いることなく、本発明
による方法で反応混合物の処理における不利益を有する
補助触媒（相間移動触媒）を排除することが可能であ
る。
と比較してより長い反応時間を用いることなく、本発明
による方法で反応混合物の処理における不利益を有する
補助触媒（相間移動触媒）を排除することが可能であ
る。
【００３７】化合物ＩＸは、１モルの化合物ＶＩＩＩに
対して１／ｎないし１０／ｎモル、好ましくは１／ｎな
いし３／ｎモル、特に１／ｎないし１．５／ｎモルの量
で使用される。ここで、ｎは上記の意義を有する。
対して１／ｎないし１０／ｎモル、好ましくは１／ｎな
いし３／ｎモル、特に１／ｎないし１．５／ｎモルの量
で使用される。ここで、ｎは上記の意義を有する。
【００３８】反応温度は、３０ないし１５０℃、好まし
くは５０ないし１２０℃、特に７０ないし１２０℃であ
る。
くは５０ないし１２０℃、特に７０ないし１２０℃であ
る。
【００３９】本発明に従って製造された式（Ｉ）の化合
物は、特に、例えばポリオレフィン類、特にポリエチレ
ンおよびポリプロピレン、エチレン／プロピレンコポリ
マー類、ポリブチレン、およびポリスチレン、塩素化ポ
リエチレン、およびポリビニルクロライド、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート類、
ポリフェニレンオキサイド類、ポリアミド類、ポリウレ
タン類、ポリプロピレンオキサイド、ポリアセタール
類、フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、エポキシ樹
脂、ポリアクリロニトリルおよび相当するコポリマー類
並びにＡＢＳターポリマー類等の光安定化剤として使用
される。本発明により製造された化合物は、ポリプロピ
レン、低分子量および高分子量ポリエチレン、エチレン
／プロピレンコポリマー類、ポリビニルクロライド、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリアクリロ
ニトリル、ＡＢＳ、アクリル酸エステルとスチレン及び
アクリロニトリルとのターポリマー、スチレンとアクリ
ロニトリルとのコポリマーまたはスチレンとブタジエン
とのコポリマーの安定化に、特にポリプロピレン、ポリ
エチレン、エチレン／プロピレンコポリマー類またはＡ
ＢＳの安定化に使用するのが好ましい。
物は、特に、例えばポリオレフィン類、特にポリエチレ
ンおよびポリプロピレン、エチレン／プロピレンコポリ
マー類、ポリブチレン、およびポリスチレン、塩素化ポ
リエチレン、およびポリビニルクロライド、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート類、
ポリフェニレンオキサイド類、ポリアミド類、ポリウレ
タン類、ポリプロピレンオキサイド、ポリアセタール
類、フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、エポキシ樹
脂、ポリアクリロニトリルおよび相当するコポリマー類
並びにＡＢＳターポリマー類等の光安定化剤として使用
される。本発明により製造された化合物は、ポリプロピ
レン、低分子量および高分子量ポリエチレン、エチレン
／プロピレンコポリマー類、ポリビニルクロライド、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリアクリロ
ニトリル、ＡＢＳ、アクリル酸エステルとスチレン及び
アクリロニトリルとのターポリマー、スチレンとアクリ
ロニトリルとのコポリマーまたはスチレンとブタジエン
とのコポリマーの安定化に、特にポリプロピレン、ポリ
エチレン、エチレン／プロピレンコポリマー類またはＡ
ＢＳの安定化に使用するのが好ましい。
【００４０】また、本発明に従って製造された化合物
は、天然の物質、例えばゴムを安定化するのにも、そし
て潤滑油、塗料等を安定するのにも使用できる。
は、天然の物質、例えばゴムを安定化するのにも、そし
て潤滑油、塗料等を安定するのにも使用できる。
【００４１】好適な塗料は、工業的塗装に使用されるあ
らゆる種類のもの、好ましくは例えばドイツ特許第３，
１４９，４５３号明細書に列挙されているような焼付け
エナメルである。
らゆる種類のもの、好ましくは例えばドイツ特許第３，
１４９，４５３号明細書に列挙されているような焼付け
エナメルである。
【００４２】本発明に従って製造された化合物は、それ
自体公知の方法によって保護するべき材料に導入される
が、これらの安定化剤をモノマーまたはプレポリマーあ
るいは予備縮合生成物に導入することも可能である。
自体公知の方法によって保護するべき材料に導入される
が、これらの安定化剤をモノマーまたはプレポリマーあ
るいは予備縮合生成物に導入することも可能である。
【００４３】式（Ｉ）の化合物とは別に、更に安定化剤
をプラスチックに添加してもよい。この種の別の化合物
として、例えば立体障害フェノールを基材とする抗酸化
剤、または含硫黄−または含燐−補助安定化剤あるいは
適当に立体障害されたフェノールと含硫黄−及び／また
は含燐−化合物との混合物が挙げられる。この種の化合
物の例として、２−ベンゾフラノンおよび／または２−
インドリノン化合物、立体障害フェノール類、例えばス
テアリル β−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）プロピオネート、テトラキス〔メチレン
−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオノイル〕メタン、１，３，３−トリ
ス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェ
ニル）ブタン、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−１，
３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５
Ｈ）トリオン、ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ
−２，６−ジメチルベンジル）ジチオールテレフタレー
ト、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、β−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオン酸と１，
３，４−トリス（２−ヒドロキシエチル）−１，３，５
−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリ
オンのトリエステル、グリコール ビス〔３，３−ビス
（４’−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブタノ
エート〕、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリ
ス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェニル）テレフタレート、４，４−メ
チレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、
４，４’−ブチリデンビス（ｔ−ブチル−メタ−クレゾ
ール）、４，４’−チオビス（２−ｔ−ブチル−５−メ
チルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。抗酸
化剤として作用する補助安定化剤、例えば含硫黄化合
物、例えばジステアリル チオジプロピオネート、ジラ
ウリル チオジプロピオネート、テトラキス（メチレン
−３−ヘキシルチオプロピオノイル）メタン、テトラキ
ス（メチレン−３−ドデシルチオプロピオノイル）メタ
ンおよびジオタタデシルジスルフィットまたは含燐−化
合物、例えばトリス（ノニルフェニル）ホスフィット；
４，９−ジステアリル−３，５，８，１０−テトラオキ
サジホスファスピロウンデカン、トリス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ホスフィットまたはテトラキス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホニット等も、添加することができる。
をプラスチックに添加してもよい。この種の別の化合物
として、例えば立体障害フェノールを基材とする抗酸化
剤、または含硫黄−または含燐−補助安定化剤あるいは
適当に立体障害されたフェノールと含硫黄−及び／また
は含燐−化合物との混合物が挙げられる。この種の化合
物の例として、２−ベンゾフラノンおよび／または２−
インドリノン化合物、立体障害フェノール類、例えばス
テアリル β−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）プロピオネート、テトラキス〔メチレン
−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオノイル〕メタン、１，３，３−トリ
ス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェ
ニル）ブタン、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−１，
３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５
Ｈ）トリオン、ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ
−２，６−ジメチルベンジル）ジチオールテレフタレー
ト、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、β−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオン酸と１，
３，４−トリス（２−ヒドロキシエチル）−１，３，５
−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリ
オンのトリエステル、グリコール ビス〔３，３−ビス
（４’−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブタノ
エート〕、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリ
ス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェニル）テレフタレート、４，４−メ
チレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、
４，４’−ブチリデンビス（ｔ−ブチル−メタ−クレゾ
ール）、４，４’−チオビス（２−ｔ−ブチル−５−メ
チルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。抗酸
化剤として作用する補助安定化剤、例えば含硫黄化合
物、例えばジステアリル チオジプロピオネート、ジラ
ウリル チオジプロピオネート、テトラキス（メチレン
−３−ヘキシルチオプロピオノイル）メタン、テトラキ
ス（メチレン−３−ドデシルチオプロピオノイル）メタ
ンおよびジオタタデシルジスルフィットまたは含燐−化
合物、例えばトリス（ノニルフェニル）ホスフィット；
４，９−ジステアリル−３，５，８，１０−テトラオキ
サジホスファスピロウンデカン、トリス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ホスフィットまたはテトラキス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホニット等も、添加することができる。
【００４４】また、式Ｉの化合物およびこれらの上記の
混合物も、更に別の添加剤の存在下に使用することもで
きる。これらの添加剤は、それ自体公知であり、そして
例えばアミノアクリル系化合物、ＵＶ吸収剤および光安
定化剤、例えば２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール類、２−ヒドロキシベンゾフェノン類、
１，３−ビス（２’−ヒドロキシベンゾイル）ベンゼン
類、サリチル酸エステル類、桂皮酸エステル類、非置換
または置換安息香酸類のエステル、立体障害アミン類、
オキサールアミン類の群に属している。
混合物も、更に別の添加剤の存在下に使用することもで
きる。これらの添加剤は、それ自体公知であり、そして
例えばアミノアクリル系化合物、ＵＶ吸収剤および光安
定化剤、例えば２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール類、２−ヒドロキシベンゾフェノン類、
１，３−ビス（２’−ヒドロキシベンゾイル）ベンゼン
類、サリチル酸エステル類、桂皮酸エステル類、非置換
または置換安息香酸類のエステル、立体障害アミン類、
オキサールアミン類の群に属している。
【００４５】式Ｉの本発明により製造された化合物の使
用量は、プラスチックの場合は０．０１〜５重量％であ
り、安定化剤濃厚物の場合は２０〜８０重量％であり、
そして塗料の場合には０．０２〜５重量％である。
用量は、プラスチックの場合は０．０１〜５重量％であ
り、安定化剤濃厚物の場合は２０〜８０重量％であり、
そして塗料の場合には０．０２〜５重量％である。
【００４６】
【実施例】以下の実施例は、本発明を説明するためのも
のである。
のである。
【００４７】比較例Ａ （ドイツ特許第３，５２４，５４３号明細書の方法によ
る） １００ｍｌのトルエン中の９１．１ｇ（０．２５モル）
の２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２
０−ジアザジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサ
ン−２１−オンを８０℃に加熱した。次いで、０．３０
ｇ（０．０１３モル）のナトリウム、１．５ｇのトリエ
チルベンジルアンモニウムクロライドおよび７６．５ｇ
（０．３０モル）のラウリル アクリレート（約５５な
いし５８％のＣ１２エステルと約３７ないし４０％のＣ
１４エステルの工業混合物）を添加し、そしてこの混合
物を、８０℃で４時間攪拌した。次いで、このバッチ
を、各々１００ｍｌの水を用いて３回攪拌し、そして溶
剤を有機相から留去すると、０．７重量％（ＧＣによ
る）の残留２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ
−３，２０−ジアザジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘン
エイコサン−２１−オン含有率を有している１６８ｇの
生成物（若干黄色がかった非常に粘稠な液体）が得られ
た。
る） １００ｍｌのトルエン中の９１．１ｇ（０．２５モル）
の２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２
０−ジアザジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサ
ン−２１−オンを８０℃に加熱した。次いで、０．３０
ｇ（０．０１３モル）のナトリウム、１．５ｇのトリエ
チルベンジルアンモニウムクロライドおよび７６．５ｇ
（０．３０モル）のラウリル アクリレート（約５５な
いし５８％のＣ１２エステルと約３７ないし４０％のＣ
１４エステルの工業混合物）を添加し、そしてこの混合
物を、８０℃で４時間攪拌した。次いで、このバッチ
を、各々１００ｍｌの水を用いて３回攪拌し、そして溶
剤を有機相から留去すると、０．７重量％（ＧＣによ
る）の残留２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ
−３，２０−ジアザジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘン
エイコサン−２１−オン含有率を有している１６８ｇの
生成物（若干黄色がかった非常に粘稠な液体）が得られ
た。
【００４８】比較例Ｂ １．５ｇのテトラブチルホスホニウムクロライドを（ト
リエチルベンジルアンモニウムクロライドの代わりに）
使用した以外は、比較例Ａと同様とした。
リエチルベンジルアンモニウムクロライドの代わりに）
使用した以外は、比較例Ａと同様とした。
【００４９】これにより、１．１重量％の残留２，２，
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１６７ｇの生成物（若干黄色が
かった非常に粘稠な液体）が得られた。
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１６７ｇの生成物（若干黄色が
かった非常に粘稠な液体）が得られた。
【００５０】実施例１ １００ｍｌのトルエン中の９１．１ｇ（０．２５モル）
の２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２
０−ジアザジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサ
ン−２１−オンを８０℃に加熱した。次いで、３．０ｇ
（０．００８モル）の２，２，４，４−テトラメチル−
７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ〔５．１．１
１．２〕ヘンエイコサン−２１−オンのナトリウム塩
（「ナトリウムアミド」）および７６．５ｇ（０．３０
モル）のラウリルアクリレートを添加し、このバッチ
を、各々１００ｍｌの水を用いて３回攪拌し、そしてこ
の溶剤を、有機相から留去した。
の２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２
０−ジアザジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサ
ン−２１−オンを８０℃に加熱した。次いで、３．０ｇ
（０．００８モル）の２，２，４，４−テトラメチル−
７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ〔５．１．１
１．２〕ヘンエイコサン−２１−オンのナトリウム塩
（「ナトリウムアミド」）および７６．５ｇ（０．３０
モル）のラウリルアクリレートを添加し、このバッチ
を、各々１００ｍｌの水を用いて３回攪拌し、そしてこ
の溶剤を、有機相から留去した。
【００５１】これにより、０．９重量％の残留２，２，
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１７１ｇの生成物（無色の非常
に粘稠な液体）が得られた。
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１７１ｇの生成物（無色の非常
に粘稠な液体）が得られた。
【００５２】実施例２ ５．０ｇ（０．０１３モル）の２，２，４，４−テトラ
メチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ〔５．
１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−オンのナトリウ
ム塩を触媒として添加し、そしてこのバッチを８０℃で
ほんの２時間攪拌した以外は、実施例１と同様にした。
メチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ〔５．
１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−オンのナトリウ
ム塩を触媒として添加し、そしてこのバッチを８０℃で
ほんの２時間攪拌した以外は、実施例１と同様にした。
【００５３】これにより、０．９重量％の残留２，２，
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１７１ｇの生成物（無色の非常
に粘稠な液体）が得られた。
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１７１ｇの生成物（無色の非常
に粘稠な液体）が得られた。
【００５４】実施例３ １．０ｇ（０．００３モル）の２，２，４，４−テトラ
メチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ〔５．
１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−オンのナトリウ
ム塩を触媒として添加し、そしてこのバッチを１２０℃
で１．５時間攪拌した以外は、実施例１と同様にした。
メチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ〔５．
１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−オンのナトリウ
ム塩を触媒として添加し、そしてこのバッチを１２０℃
で１．５時間攪拌した以外は、実施例１と同様にした。
【００５５】これにより、１．３重量％の残留２，２，
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１６６ｇの生成物（無色の非常
に粘稠な液体）が得られた。
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１６６ｇの生成物（無色の非常
に粘稠な液体）が得られた。
【００５６】実施例４〜６ 溶剤としてトルエンの代わりにｏ−キシレンを使用した
以外は、実施例１と同様にした。
以外は、実施例１と同様にした。
【００５７】 実施例７ （この実施例は、「その場で製造された」触媒の使用を
示すものである。） ０．１８ｇ（０．００８モル）のナトリウムを１００ｍ
ｌのｏ−キシレン中の９１．１ｇ（０．２５モル）の
２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０
−ジアザジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン
−２１−オンに添加し、そしてこの混合物を、ナトリウ
ムが完全に転化されるまで（約１時間）還流下に加熱し
た。次いで、この反応混合物を８０℃に冷却し、７６．
５ｇ（０．３０モル）のラウリルアクリレートを添加
し、そしてこのバッチを８０℃で４時間攪拌した。次い
で、この混合物を、各々１００ｍｌの水を用いて３回攪
拌し、そして溶剤を有機相から留去した。
示すものである。） ０．１８ｇ（０．００８モル）のナトリウムを１００ｍ
ｌのｏ−キシレン中の９１．１ｇ（０．２５モル）の
２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０
−ジアザジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン
−２１−オンに添加し、そしてこの混合物を、ナトリウ
ムが完全に転化されるまで（約１時間）還流下に加熱し
た。次いで、この反応混合物を８０℃に冷却し、７６．
５ｇ（０．３０モル）のラウリルアクリレートを添加
し、そしてこのバッチを８０℃で４時間攪拌した。次い
で、この混合物を、各々１００ｍｌの水を用いて３回攪
拌し、そして溶剤を有機相から留去した。
【００５８】これにより、０．４重量％の残留２，２，
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１６８ｇの生成物が得られた。
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−
オン含有率を有している１６８ｇの生成物が得られた。
【００５９】実施例８ （触媒（ナトリウム塩）の合成） １４５．６ｇ（０．４０モル）の２，２，４，４−テト
ラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ
〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−オンおよ
び９．２ｇ（０．４０モル）のナトリウムを、還流温度
で２４時間トルエン５００ｍｌ中で攪拌した。次いで、
このバッチを熱時濾過し、そしてこの溶剤を濾液から蒸
発させると、２３５℃の融点の白色固体としての触媒１
５０．９ｇ（理論量の９８％）が得られた。
ラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ
〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサン−２１−オンおよ
び９．２ｇ（０．４０モル）のナトリウムを、還流温度
で２４時間トルエン５００ｍｌ中で攪拌した。次いで、
このバッチを熱時濾過し、そしてこの溶剤を濾液から蒸
発させると、２３５℃の融点の白色固体としての触媒１
５０．９ｇ（理論量の９８％）が得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 498/10 C07D 519/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (7)
- 【請求項１】 式Ｉ 【化１】 〔式中、 ｎは１ないし４の整数であり、 Ｒ１は水素原子、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基、ベンジル
基、アリル基、Ｃ２〜Ｃ３ ０−アルカノイル基、Ｃ３〜
Ｃ２０−アルケノイル基、Ｃ７〜Ｃ１１−アロイル基、
Ｃ８〜Ｃ１４−アリールアルカノイル基またはＣ８〜Ｃ
２０−アルキルアリール基であり、 Ｒ２は水素原子またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基であり、 Ｒ３は水素原子；Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル基；Ｃ５〜Ｃ
１２−シクロアルキル基；塩素原子またはＣ１〜Ｃ４−
アルキル基で置換されてもよいフェニル基またはナフチ
ル基；または非置換またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置
換されたＣ７〜Ｃ１２−フェニルアルキル基であり、 Ｒ４は水素原子；Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基；Ｃ５−Ｃ
１２−シクロアルキル基；−ＣＯＯＨ、カルボ−Ｃ１〜
Ｃ４−アルコキシ基またはカルバモイル基で置換された
Ｃ１〜Ｃ３−アルケニル基；Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基
またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されてもよいフェ
ニル基、ナフチル基またはピリジル基；あるいはＣ１〜
Ｃ４−アルキル基で置換されてもよいＣ７〜Ｃ１２−フ
ェニルアルキル基であり、あるいはＲ３とＲ４はこれら
と結合している炭素原子と一緒になって、１ないし４個
のＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されてもよいシクロア
ルキル基または式ＩＩ 【化２】 （式中、Ｒ１およびＲ２は上記の意義を有している）の
残基であり、 Ｒ５は水素原子、メチル基、フェニル基またはカルボ−
Ｃ１〜Ｃ２１−アルコキシ基であり、 Ｒ６は水素原子またはメチル基でありＲ７は、ｎが１で
ある場合、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２１−アルキル基、Ｃ２
〜Ｃ２ ２−アルケニル基、Ｃ７〜Ｃ１８−フェニルアル
キル基、Ｃ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基、フェニル
基、ナフチル基、Ｃ７〜Ｃ１８−アルキルフェニル基、
式 【化３】 （式中、Ｒ１およびＲ２は上記の意義を有している）の
残基；−Ｏ−または 【化４】 により遮断および／または式ＩＩＩ 【化５】 の残基によりあるいはＣ１〜Ｃ２１−アルキルカルボキ
シ基により置換されたＣ２〜Ｃ２２−アルキル基（式
中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は上記の
意義を有しており、そしてＲ８は水素原子またはＣ１〜
Ｃ１０−アルキル基である）であり、 Ｒ７は、ｎが２である場合、直鎖または枝分かれ鎖状の
Ｃ１〜Ｃ３０−アルキレン基、Ｃ２−Ｃ３０−アルケニ
レン基、フェニルジアルキレン基であり、かゝる残基は
−Ｏ−または 【化６】 により遮断されることも可能である（式中、Ｒ８は上記
の意義を有している）、 Ｒ７は、ｎが３または４である場合、式ＩＶ、Ｖ、ＶＩ
またはＶＩＩ 【化７】 の残基である〕 の１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ
〔４．５〕デカン化合物を、 式ＶＩＩＩ 【化８】 の化合物と式ＩＸ 【化９】 の化合物（式中、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、
Ｒ６およびＲ７は上記の意義を有している）とを、不活
性溶剤中で３０〜１５０℃の温度で触媒の存在下に反応
させることにより製造する方法であって、 反応を、式ＶＩＩＩに対して１ないし１０モル％の式
（Ｘ） 【化１０】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記の意義を有
しており、そしてＭはアルカリ金属である）の触媒の存
在下に、室温で液体の芳香族炭化水素中で行うことから
なる方法。 - 【請求項２】 芳香族炭化水素がトルエンまたはキシレ
ンである請求項１の方法。 - 【請求項３】 使用される触媒が式ＶＩＩＩの化合物の
リチウム塩、ナトリウム塩またはカリウム塩である請求
項１の方法。 - 【請求項４】 使用される触媒が式ＶＩＩＩの化合物の
ナトリウム塩である請求項１の方法。 - 【請求項５】 式ＩＸの化合物を添加する前に、触媒を
反応混合物中その場で製造する請求項１の方法。 - 【請求項６】 式ＶＩＩＩの化合物が２，２，４，４−
テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ−２１−
オキソジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンエイコサンで
ある請求項１の方法。 - 【請求項７】 式ＩＸの化合物がラウリルアクリレート
である請求項１の方法。
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