JP3233734B2 - 位相差補償フィルム - Google Patents
位相差補償フィルムInfo
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- JP3233734B2 JP3233734B2 JP13002593A JP13002593A JP3233734B2 JP 3233734 B2 JP3233734 B2 JP 3233734B2 JP 13002593 A JP13002593 A JP 13002593A JP 13002593 A JP13002593 A JP 13002593A JP 3233734 B2 JP3233734 B2 JP 3233734B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、位相差補償フィルムに
関し、より詳しく言うと、特にＳＴＮ液晶表示素子用位
相差補償フィルム等として有用な高性能の位相差補償フ
ィルムに関する。
関し、より詳しく言うと、特にＳＴＮ液晶表示素子用位
相差補償フィルム等として有用な高性能の位相差補償フ
ィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリカーボネートは、一般に、機械的強
度、耐熱性等に優れ、また、透明性等の光学的性質、寸
法安定性等にも優れていることから、様々な分野で素材
として用いられている。それでもなお、近年の用途の拡
大に伴って更に性能の優れたものの開発が要求されてい
る。
度、耐熱性等に優れ、また、透明性等の光学的性質、寸
法安定性等にも優れていることから、様々な分野で素材
として用いられている。それでもなお、近年の用途の拡
大に伴って更に性能の優れたものの開発が要求されてい
る。
【０００３】ポリカーボネート（ＰＣ）の最も代表的な
ものとして、ビスフェノールＡとホスゲンとの反応によ
って得られるものがあり、またその他にも多種多様のも
のが知られている。しかしながら、用途によっては、ど
のような構造のポリカーボネートが好適に用いられるか
という基本的な点すら明らかにされていないのが現状で
ある。そこで、その用途開発という点では、それぞれの
用途において、より良く適合するポリカーボネートの種
類を選定し、更には、これを用途に見合った性能が発揮
できるようにすることが必要となる。
ものとして、ビスフェノールＡとホスゲンとの反応によ
って得られるものがあり、またその他にも多種多様のも
のが知られている。しかしながら、用途によっては、ど
のような構造のポリカーボネートが好適に用いられるか
という基本的な点すら明らかにされていないのが現状で
ある。そこで、その用途開発という点では、それぞれの
用途において、より良く適合するポリカーボネートの種
類を選定し、更には、これを用途に見合った性能が発揮
できるようにすることが必要となる。
【０００４】ところで、ポリカーボネートの用途のひと
つとして、最近、光学的位相差補償フィルム（シート状
や板状のものもあり、例えば位相差シート、位相差板な
ど様々な呼称があるが、ここでは特にことわらない限
り、これらを含めて相差補償フィルムと総称する。）と
しての用途が注目されている。位相差補償フィルムと
は、複屈折性を有し、直線偏光の入射光に直角方向に位
相差を生じせしめ、透過光を円偏光ないし楕円偏光に変
換する機能を有するものであり、例えば、液晶パネル用
等の種々の光学的器機やデバイスに用いられている。特
に、ＳＴＮ液晶表示素子の複屈折効果による位相差を補
償し、表示を白黒化させるために用いられ、従来、ポリ
カーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン等
の線状高分子材料を一軸配向させて製造されている。
つとして、最近、光学的位相差補償フィルム（シート状
や板状のものもあり、例えば位相差シート、位相差板な
ど様々な呼称があるが、ここでは特にことわらない限
り、これらを含めて相差補償フィルムと総称する。）と
しての用途が注目されている。位相差補償フィルムと
は、複屈折性を有し、直線偏光の入射光に直角方向に位
相差を生じせしめ、透過光を円偏光ないし楕円偏光に変
換する機能を有するものであり、例えば、液晶パネル用
等の種々の光学的器機やデバイスに用いられている。特
に、ＳＴＮ液晶表示素子の複屈折効果による位相差を補
償し、表示を白黒化させるために用いられ、従来、ポリ
カーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン等
の線状高分子材料を一軸配向させて製造されている。
【０００５】光学的位相差補償フィルムをこうした用途
に用いる場合、通常、その特性のひとつであるリターデ
ーション値（以下、これをＲ値と呼ぶ。なお、このＲ値
は、フィルム又はシートの厚みｔとその複屈折Δｎの
積、すなわち、Ｒ＝ｔ×Δｎ、をｎｍ単位の数値で表し
たものとして定義される。）が、１３５ｎｍ付近、いわ
ゆる１／４波長ないしそれ以上、例えば６００ｎｍ前後
の光路差を生ぜしめる位相差フィルムが適当である。ま
た、高性能の位相差フィルムを得るには、Ｒ値にばらつ
きがないように作製することも重要である。
に用いる場合、通常、その特性のひとつであるリターデ
ーション値（以下、これをＲ値と呼ぶ。なお、このＲ値
は、フィルム又はシートの厚みｔとその複屈折Δｎの
積、すなわち、Ｒ＝ｔ×Δｎ、をｎｍ単位の数値で表し
たものとして定義される。）が、１３５ｎｍ付近、いわ
ゆる１／４波長ないしそれ以上、例えば６００ｎｍ前後
の光路差を生ぜしめる位相差フィルムが適当である。ま
た、高性能の位相差フィルムを得るには、Ｒ値にばらつ
きがないように作製することも重要である。
【０００６】従来の高分子材料の複屈折を利用した位相
差補償フィルムは、斜めから見た場合、リターデーショ
ン値が大きく変化するため、垂直に見た場合は白黒表示
であっても、斜めから見た場合は著しい着色を生じた
り、表示の反転を生じるため、視野が制限されている。
差補償フィルムは、斜めから見た場合、リターデーショ
ン値が大きく変化するため、垂直に見た場合は白黒表示
であっても、斜めから見た場合は著しい着色を生じた
り、表示の反転を生じるため、視野が制限されている。
【０００７】この位相差補償フィルムのリターデーショ
ン値の角度依存性を低減させるために、材料、延伸方法
及び延伸条件等も検討されている（例えば、特開平４−
８４１０７号公報、特開平４−１９５１０３号公報参
照）。しかしながら、従来の技術では、十分な効果が得
られない、技術的に困難である、材料費が高くなるとい
う欠点がある。
ン値の角度依存性を低減させるために、材料、延伸方法
及び延伸条件等も検討されている（例えば、特開平４−
８４１０７号公報、特開平４−１９５１０３号公報参
照）。しかしながら、従来の技術では、十分な効果が得
られない、技術的に困難である、材料費が高くなるとい
う欠点がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
問題点を解決し、材質として新しい素材を用いることに
よって、リターデーション値の角度依存性を低減し、視
野角の広角化を達成した液晶パネル用位相差補償フィル
ム等として好適に利用できる高性能のポリカーボネート
系位相差補償フィルムを提供することにある。
問題点を解決し、材質として新しい素材を用いることに
よって、リターデーション値の角度依存性を低減し、視
野角の広角化を達成した液晶パネル用位相差補償フィル
ム等として好適に利用できる高性能のポリカーボネート
系位相差補償フィルムを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のポリカーボ
ネート重合体からなる素材を延伸してなるフィルム又は
シートを用いることによって前記目的を満足する高性能
の光学的位相差補償フィルムが実現できることを見いだ
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のポリカーボ
ネート重合体からなる素材を延伸してなるフィルム又は
シートを用いることによって前記目的を満足する高性能
の光学的位相差補償フィルムが実現できることを見いだ
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【００１０】すなわち、本発明は、次の一般式［Ｉ］
【００１１】
【化２】 （ただし、式［Ｉ］中のＲ1及びＲ2は、各々独立に、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜８
のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは
無置換のアリール基を示し、ａ及びｂは各々独立に０〜
４の整数を示し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−
Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＲ3Ｒ4 −（ここで、
Ｒ3及びＲ4は、各々独立に、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数５〜８の置換若しくは無置換のシクロアルキ
ル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリー
ル基を示す。）、炭素数５〜１１のシクロアルキリデン
基又は炭素数２〜１０のα，ω−アルキレン基又はフル
オレン基を示し、ただし、上記においてａ＝ｂ＝０の場
合にはＸが−Ｃ（ＣＨ3）2−になることはないものとす
る。）で表される二価フェノール［Ｉ］と、フェノール
性水酸基を有する３官能以上の多官能性有機化合物とを
炭酸エステル形成化合物と反応させて得られる分岐ポリ
カーボネートからなる延伸されたフィルム又はシートよ
りなることを特徴とする位相差補償フィルムを提供する
ものである。
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜８
のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは
無置換のアリール基を示し、ａ及びｂは各々独立に０〜
４の整数を示し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−
Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＲ3Ｒ4 −（ここで、
Ｒ3及びＲ4は、各々独立に、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数５〜８の置換若しくは無置換のシクロアルキ
ル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリー
ル基を示す。）、炭素数５〜１１のシクロアルキリデン
基又は炭素数２〜１０のα，ω−アルキレン基又はフル
オレン基を示し、ただし、上記においてａ＝ｂ＝０の場
合にはＸが−Ｃ（ＣＨ3）2−になることはないものとす
る。）で表される二価フェノール［Ｉ］と、フェノール
性水酸基を有する３官能以上の多官能性有機化合物とを
炭酸エステル形成化合物と反応させて得られる分岐ポリ
カーボネートからなる延伸されたフィルム又はシートよ
りなることを特徴とする位相差補償フィルムを提供する
ものである。
【００１２】なお、これらのポリカーボネート系重合体
は１種単独で使用してもよく、あるいは、必要に応じ
て、２種以上を混合物等として併用することもできる。
また、これらポリカーボネート系重合体を延伸する場合
に、必要に応じて適宜、他のポリマー成分や添加剤等の
所望の成分を添加して組成物として用いることができ
る。
は１種単独で使用してもよく、あるいは、必要に応じ
て、２種以上を混合物等として併用することもできる。
また、これらポリカーボネート系重合体を延伸する場合
に、必要に応じて適宜、他のポリマー成分や添加剤等の
所望の成分を添加して組成物として用いることができ
る。
【００１３】置換基Ｒ1及びＲ2の具体例としては、次の
ようなものを例示することができる。すなわち、Ｒ1及
びＲ2について、前記ハロゲン原子としては、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子を挙げることが
でき、前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペン
チル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔ
ｅｒｔ−ヘキシル基、ネオヘキシル基、シクロペンチル
メチル基などを挙げることができ、前記シクロアルキル
基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘプチル基、メ
チルシクロヘキシル基、ジメチルシクロペンチル基、エ
チルシクロペンチル基などを挙げることができ、前記ア
リール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニ
ル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチル
フェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル
基、シクロヘキシルフェニル基、ｐ−ビフェニリル基、
ｍ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル
基、メチルナフチル基、ジメチルナフチル基、エチルナ
フチル基などを挙げることができる。
ようなものを例示することができる。すなわち、Ｒ1及
びＲ2について、前記ハロゲン原子としては、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子を挙げることが
でき、前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペン
チル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔ
ｅｒｔ−ヘキシル基、ネオヘキシル基、シクロペンチル
メチル基などを挙げることができ、前記シクロアルキル
基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘプチル基、メ
チルシクロヘキシル基、ジメチルシクロペンチル基、エ
チルシクロペンチル基などを挙げることができ、前記ア
リール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニ
ル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチル
フェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル
基、シクロヘキシルフェニル基、ｐ−ビフェニリル基、
ｍ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル
基、メチルナフチル基、ジメチルナフチル基、エチルナ
フチル基などを挙げることができる。
【００１４】Ｘとしての前記シクロアルキリデン基とし
ては、１，１−シクロペンチリデン基、１，１−シクロ
ヘキシリデン基、１，１−シクロヘプチリデン基及び
１，１−シクロオクチリデン基がある。これらの中で
も、特に、１，１−シクロヘキシリデン基が好ましい。
ては、１，１−シクロペンチリデン基、１，１−シクロ
ヘキシリデン基、１，１−シクロヘプチリデン基及び
１，１−シクロオクチリデン基がある。これらの中で
も、特に、１，１−シクロヘキシリデン基が好ましい。
【００１５】Ｘとしての前記炭素数２〜１０のα，ω−
アルキレン基としては、ジメチレン基からデカメチレン
基に至る各種のポリメチレン基を挙げることができる。
アルキレン基としては、ジメチレン基からデカメチレン
基に至る各種のポリメチレン基を挙げることができる。
【００１６】一般式［Ｉ］で表わされる二価フェノール
類の具体例として、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘ
プタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキ
シフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビ
ス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サン、４，４′−ジヒドロキシビフェニル、２，２−ビ
ス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、
１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−
ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，
１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−
アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタ
ン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３
−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５
−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，
２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−
４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，
５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−
フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキ
シフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロ
キシフェニル）エーテル、３，３′−ジフルオロ−４，
４′−ヒドロキシビフェニル、１，１−ビス（３−シク
ロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、
２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４′−ジヒ
ドロキシベンゾフェノンなどを例示することができる。
類の具体例として、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘ
プタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキ
シフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビ
ス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サン、４，４′−ジヒドロキシビフェニル、２，２−ビ
ス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、
１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−
ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，
１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−
アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタ
ン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３
−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５
−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，
２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−
４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，
５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−
フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキ
シフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロ
キシフェニル）エーテル、３，３′−ジフルオロ−４，
４′−ヒドロキシビフェニル、１，１−ビス（３−シク
ロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、
２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４′−ジヒ
ドロキシベンゾフェノンなどを例示することができる。
【００１７】これらの中でも、特に、モノマーとして、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジ
フェニル、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３
−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
４，４′−ジヒドロキシビフェニル、２，２−ビス（３
−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンなどを
用いて得られる各種のポリカーボネート系重合体が好適
に用いられる。また、これらモノマーと２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノール
Ａ）とを用いて得られるポリカーボネート系重合体も用
いられる。２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパンの使用割合は９８モル％未満とすることが好まし
い。
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジ
フェニル、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３
−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
４，４′−ジヒドロキシビフェニル、２，２−ビス（３
−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンなどを
用いて得られる各種のポリカーボネート系重合体が好適
に用いられる。また、これらモノマーと２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノール
Ａ）とを用いて得られるポリカーボネート系重合体も用
いられる。２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパンの使用割合は９８モル％未満とすることが好まし
い。
【００１８】なお、ビスフェノールＡポリカーボネート
は、後述のように添加成分等として併用可能ではある
が、このものを単独で用いても本発明におけるような視
野角の広い位相差補償フィルムを得ることはできない。
は、後述のように添加成分等として併用可能ではある
が、このものを単独で用いても本発明におけるような視
野角の広い位相差補償フィルムを得ることはできない。
【００１９】本発明で用いられる多官能有機化合物は分
岐剤としての役割をもっており、その具体例としては、
フロログリシン、１，１，１−トリ（４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、１，３，５−トリ（４−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾール、２，６−ジメチル−２，４，６−
トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−３、４，６
−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘプテン−２、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５
−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、α，
α′，α″−トリ（４−ヒドロキシフェニル）−１，
３，５−トリイソプロピルベンゼン等で例示されるポリ
ヒドロキシ化合物、３，３−ビス（４−ヒドロキシアリ
ール）オキシインドール［＝イサチンビスフェノー
ル］、５−クロルイサチン、５，７−ジクロルイサチ
ン、５−ブロムイサチン等が挙げられる。多官能有機化
合物の使用量は二価フェノールの使用量に対して、好ま
しくは０．０１〜１０モル％、更に好ましくは０．０５
〜５モル％である。
岐剤としての役割をもっており、その具体例としては、
フロログリシン、１，１，１−トリ（４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、１，３，５−トリ（４−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾール、２，６−ジメチル−２，４，６−
トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−３、４，６
−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘプテン−２、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５
−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、α，
α′，α″−トリ（４−ヒドロキシフェニル）−１，
３，５−トリイソプロピルベンゼン等で例示されるポリ
ヒドロキシ化合物、３，３−ビス（４−ヒドロキシアリ
ール）オキシインドール［＝イサチンビスフェノー
ル］、５−クロルイサチン、５，７−ジクロルイサチ
ン、５−ブロムイサチン等が挙げられる。多官能有機化
合物の使用量は二価フェノールの使用量に対して、好ま
しくは０．０１〜１０モル％、更に好ましくは０．０５
〜５モル％である。
【００２０】本発明に用いられるポリカーボネート系重
合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌ
の溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．２
〜５．０ｄｌ／ｇの範囲にあることが好ましい。更に好
ましくは０．３〜４．０ｄｌ／ｇである。０．２ｄｌ／
ｇ未満であるとフィルム又はシートの強度が低下し、
５．０ｄｌ／ｇを超えると成形等が困難になることがあ
る。
合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌ
の溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．２
〜５．０ｄｌ／ｇの範囲にあることが好ましい。更に好
ましくは０．３〜４．０ｄｌ／ｇである。０．２ｄｌ／
ｇ未満であるとフィルム又はシートの強度が低下し、
５．０ｄｌ／ｇを超えると成形等が困難になることがあ
る。
【００２１】また、これらのポリカーボネート系重合体
の製造方法としても特に制限はなく、例えば、前記例示
の各種の二価フェノールをモノマーとして用いてアルカ
リ金属化合物やピリジン等の酸受容体の存在下で（必要
に応じて適当な溶媒中で）ホスゲンガスと反応させるホ
スゲン法（界面重縮合法、ピリジン法等）、あるいはク
ロロホルメート法、エステル交換法など、公知の重合方
法等の各種の方法で製造されたものが適用可能である。
なお、このホスゲン法の場合、原料の二価フェノールと
多官能有機化合物とホスゲンを一度に反応させて所望の
ポリカーボネートとしてもよいし、あるいは、予め反応
原料の二価フェノールの一部とホスゲンとを反応させて
分子末端にクロロホルメート基を有するオリゴマーを生
成せしめ、次いで残りの反応原料を添加して重縮合を完
結させ所望のポリカーボネートを得るという２段階法な
どを用いてもよい。
の製造方法としても特に制限はなく、例えば、前記例示
の各種の二価フェノールをモノマーとして用いてアルカ
リ金属化合物やピリジン等の酸受容体の存在下で（必要
に応じて適当な溶媒中で）ホスゲンガスと反応させるホ
スゲン法（界面重縮合法、ピリジン法等）、あるいはク
ロロホルメート法、エステル交換法など、公知の重合方
法等の各種の方法で製造されたものが適用可能である。
なお、このホスゲン法の場合、原料の二価フェノールと
多官能有機化合物とホスゲンを一度に反応させて所望の
ポリカーボネートとしてもよいし、あるいは、予め反応
原料の二価フェノールの一部とホスゲンとを反応させて
分子末端にクロロホルメート基を有するオリゴマーを生
成せしめ、次いで残りの反応原料を添加して重縮合を完
結させ所望のポリカーボネートを得るという２段階法な
どを用いてもよい。
【００２２】本発明の位相差補償フィルムは、上記のよ
うにして得られた分岐ポリカーボネートのうちの少なく
とも１種からなる素材を成形・延伸してなるフィルムや
シートを用いることによって構成される。その際、該分
岐ポリカーボネートは、単独であるいは任意の割合の混
合物として使用することができるし、更には必要に応じ
て、他のポリマー（例えば、ビスフェノールＡポリカー
ボネートやポリエーテル等）との混合物など、他の成分
との混合物としても利用することができる。
うにして得られた分岐ポリカーボネートのうちの少なく
とも１種からなる素材を成形・延伸してなるフィルムや
シートを用いることによって構成される。その際、該分
岐ポリカーボネートは、単独であるいは任意の割合の混
合物として使用することができるし、更には必要に応じ
て、他のポリマー（例えば、ビスフェノールＡポリカー
ボネートやポリエーテル等）との混合物など、他の成分
との混合物としても利用することができる。
【００２３】ここで、フィルム又はシートへの成形は、
公知の各種の製膜方法によって行うことができ、例え
ば、溶媒キャスト法、押し出し法、カレンダー法などに
よって好適に実施することができる。なお、この成形と
同時にあるいは連続して延伸を行い、所望の延伸フィル
ム若しくはシートとしてもよい。また、こうして成形さ
れたフィルム又はシートを延伸して用いてもよい。
公知の各種の製膜方法によって行うことができ、例え
ば、溶媒キャスト法、押し出し法、カレンダー法などに
よって好適に実施することができる。なお、この成形と
同時にあるいは連続して延伸を行い、所望の延伸フィル
ム若しくはシートとしてもよい。また、こうして成形さ
れたフィルム又はシートを延伸して用いてもよい。
【００２４】いずれにしても、この延伸は、公知の延伸
若しくは成形延伸方法等の各種の方法によって行うこと
ができる。
若しくは成形延伸方法等の各種の方法によって行うこと
ができる。
【００２５】このフィルム若しくはシートの延伸は、通
常、一軸方向への延伸を行えばよく、その一軸方向への
延伸倍率（元の長さに対する延伸分長さの百分率）とし
ては、通常、１〜１０％、好ましくは、３〜５％の範囲
に選定するのが好適である。
常、一軸方向への延伸を行えばよく、その一軸方向への
延伸倍率（元の長さに対する延伸分長さの百分率）とし
ては、通常、１〜１０％、好ましくは、３〜５％の範囲
に選定するのが好適である。
【００２６】こうして得られる延伸フィルム又はシート
の厚みとしては、使用したポリカーボネート系重合体の
特性（特に複屈折などの光学的特性）や延伸の程度等に
よって最適値が異なるので一律に定めることができない
が、通常、５０〜３００μｍの範囲に選定するのが好ま
しい。
の厚みとしては、使用したポリカーボネート系重合体の
特性（特に複屈折などの光学的特性）や延伸の程度等に
よって最適値が異なるので一律に定めることができない
が、通常、５０〜３００μｍの範囲に選定するのが好ま
しい。
【００２７】すなわち、延伸フィルム又はシートの複屈
折Δｎを考慮し、その厚みｔを適宜選定することによっ
て所望のＲ値を有する位相差補償フィルムを容易に実現
することができる。
折Δｎを考慮し、その厚みｔを適宜選定することによっ
て所望のＲ値を有する位相差補償フィルムを容易に実現
することができる。
【００２８】本発明の位相差補償フィルムは、以上のよ
うにして作製した延伸フィルム又はシートを、所望の大
きさに切断するなどして適宜形状を整えて、単独で構成
してもよいし、あるいは、複数を組合せて構成してもよ
いし、更には、必要に応じて適宜他の構成要素と組合せ
て構成することもできる。
うにして作製した延伸フィルム又はシートを、所望の大
きさに切断するなどして適宜形状を整えて、単独で構成
してもよいし、あるいは、複数を組合せて構成してもよ
いし、更には、必要に応じて適宜他の構成要素と組合せ
て構成することもできる。
【００２９】以上のようにして得られる本発明の位相差
補償フィルムは、視野角が広い高性能の光学的位相差補
償フィルムであり、液晶パネル用をはじめとする各種の
用途に有利に利用することができる。
補償フィルムは、視野角が広い高性能の光学的位相差補
償フィルムであり、液晶パネル用をはじめとする各種の
用途に有利に利用することができる。
【００３０】
【実施例】以下に、本発明の実施例及びその比較例によ
って本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら
の実施例に限定されるものではない。
って本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら
の実施例に限定されるものではない。
【００３１】実施例１ 原料モノマーとして２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３
−フェニルフェニル）プロパン（ビスフェノールＰＨ）
９５．０ｇ（０．２５モル）を濃度１０％の水酸化カリ
ウム水溶液５５０ｍｌに溶解し、この水溶液に塩化メチ
レン４００ｍｌ、末端停止剤としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェノール０．２５ｇ、分岐剤としてフロログルシン
０．１０ｇを邪魔板付反応器内に導入し、１０％トリエ
チルアミン水溶液５ｍｌを加え、反応液の温度を１０℃
付近に保持しながら激しく攪拌しつつ、ホスゲンガスを
４５０ｍｌ／分の割合で３０分間吹き込んで重縮合反応
を行った。ホスゲンガス停止後、更に１時間攪拌して反
応を終結させた。
−フェニルフェニル）プロパン（ビスフェノールＰＨ）
９５．０ｇ（０．２５モル）を濃度１０％の水酸化カリ
ウム水溶液５５０ｍｌに溶解し、この水溶液に塩化メチ
レン４００ｍｌ、末端停止剤としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェノール０．２５ｇ、分岐剤としてフロログルシン
０．１０ｇを邪魔板付反応器内に導入し、１０％トリエ
チルアミン水溶液５ｍｌを加え、反応液の温度を１０℃
付近に保持しながら激しく攪拌しつつ、ホスゲンガスを
４５０ｍｌ／分の割合で３０分間吹き込んで重縮合反応
を行った。ホスゲンガス停止後、更に１時間攪拌して反
応を終結させた。
【００３２】反応終了後、有機層に塩化メチレン１リッ
トルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した
後、メタノール中に投入してポリカーボネート９９．５
ｇを得た。
トルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した
後、メタノール中に投入してポリカーボネート９９．５
ｇを得た。
【００３３】このようにして得られた重合体は塩化メチ
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．７８ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の繰り返し単
位からなるポリカーボネートであることが確認された。
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．７８ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の繰り返し単
位からなるポリカーボネートであることが確認された。
【００３４】
【化３】 上記のポリカーボネートを塩化メチレンに溶解し、固形
分２０重量％のワニスとし、キャスト法により厚さ７０
μｍのフィルムを作製した。更にこのフィルムをテンタ
ー式延伸機にて、１５０℃に加熱し、１．２倍に延伸を
行った。
分２０重量％のワニスとし、キャスト法により厚さ７０
μｍのフィルムを作製した。更にこのフィルムをテンタ
ー式延伸機にて、１５０℃に加熱し、１．２倍に延伸を
行った。
【００３５】得られたフィルムの光学特性を評価したと
ころ、リターデーションは４１０ｎｍであり、リターデ
ーションの角度依存性は、入射４５度における増相方向
と減相方向の平均で９％であった。この位相差補償フィ
ルムをＳＴＮ液晶セルに装着したところ、広い視野角が
得られた。
ころ、リターデーションは４１０ｎｍであり、リターデ
ーションの角度依存性は、入射４５度における増相方向
と減相方向の平均で９％であった。この位相差補償フィ
ルムをＳＴＮ液晶セルに装着したところ、広い視野角が
得られた。
【００３６】実施例２ 原料モノマーとして２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン（ビスフェノールＡ）５９．３ｇ（０．
２６モル）を濃度８％の水酸化ナトリウム水溶液５５０
ｍｌに溶解し、この水溶液に塩化メチレン２５０ｍｌを
邪魔板付反応器内に導入し、反応液の温度を１０℃付近
に保持しながら激しく攪拌しつつ、ホスゲンガスを９５
０ｍｌ／分の割合で１５分間吹き込んで重縮合反応を行
った。この反応液を静置後、有機層を分離し、重合度２
〜４の分子末端がクロロフォーメート基のビスフェノー
ルＡのオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。
ニル）プロパン（ビスフェノールＡ）５９．３ｇ（０．
２６モル）を濃度８％の水酸化ナトリウム水溶液５５０
ｍｌに溶解し、この水溶液に塩化メチレン２５０ｍｌを
邪魔板付反応器内に導入し、反応液の温度を１０℃付近
に保持しながら激しく攪拌しつつ、ホスゲンガスを９５
０ｍｌ／分の割合で１５分間吹き込んで重縮合反応を行
った。この反応液を静置後、有機層を分離し、重合度２
〜４の分子末端がクロロフォーメート基のビスフェノー
ルＡのオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。
【００３７】このオリゴマー溶液と、後添加モノマーと
しての１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，
１−ジフェニルメタン（ビスフェノールＴＰ）１１．３
ｇ（０．０３２モル）、分岐材としての１，１，１−ト
リス（４−ヒドロキシフェニルエタン）０．３２ｇを溶
解した８％水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍｌとを邪魔
板付反応器内に導入し、更に末端停止剤としてｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノール０．１５ｇ、１０％トリエチル
アミン水溶液５ｍｌを加え、１０℃付近に保持して激し
く攪拌し重縮合反応を行った。
しての１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，
１−ジフェニルメタン（ビスフェノールＴＰ）１１．３
ｇ（０．０３２モル）、分岐材としての１，１，１−ト
リス（４−ヒドロキシフェニルエタン）０．３２ｇを溶
解した８％水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍｌとを邪魔
板付反応器内に導入し、更に末端停止剤としてｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノール０．１５ｇ、１０％トリエチル
アミン水溶液５ｍｌを加え、１０℃付近に保持して激し
く攪拌し重縮合反応を行った。
【００３８】反応終了後、有機層に塩化メチレン１リッ
トルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した
後、メタノール中に投入してポリカーボネート７１．５
ｇを得た。
トルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した
後、メタノール中に投入してポリカーボネート７１．５
ｇを得た。
【００３９】このようにして得られた重合体は塩化メチ
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．６９ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の繰り返し単
位からなるポリカーボネートであることが確認された。
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．６９ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の繰り返し単
位からなるポリカーボネートであることが確認された。
【００４０】
【化４】 上記のポリカーボネートを塩化メチレンに溶解し、固形
分２０重量％のワニスとし、キャスト法により厚さ７０
μｍのフィルムを作製した。更にこのフィルムをテンタ
ー式延伸機にて、１５０℃に加熱し、１．２倍に延伸を
行った。
分２０重量％のワニスとし、キャスト法により厚さ７０
μｍのフィルムを作製した。更にこのフィルムをテンタ
ー式延伸機にて、１５０℃に加熱し、１．２倍に延伸を
行った。
【００４１】得られたフィルムの光学特性を評価したと
ころ、リターデーションは３７０ｎｍであり、リターデ
ーションの角度依存性は、入射４５度における増相方向
と減相方向の平均で９％であった。この位相差補償フィ
ルムをＳＴＮ液晶セルに装着したところ、広い視野角が
得られた。
ころ、リターデーションは３７０ｎｍであり、リターデ
ーションの角度依存性は、入射４５度における増相方向
と減相方向の平均で９％であった。この位相差補償フィ
ルムをＳＴＮ液晶セルに装着したところ、広い視野角が
得られた。
【００４２】比較例１ 市販のポリマーである２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンとホスゲンとの反応（末端停止剤はｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）によって製造されたポ
リカーボネート（［ηsp／ｃ］＝０．６５ｄｌ／ｇ）を
用いた以外は実施例１と同様にして位相差補償フィルム
の製作を試み、得られたフィルムについて実施例１と同
様にして光学特性を評価したところリターデーションは
４５０ｎｍであり、リターデーションの角度依存性は、
入射４５度における増相方向と減相方向の平均で２５％
であった。この位相差補償フィルムをＳＴＮ液晶セルに
装着したところ、視野角が狭く、容易に視野の反転を生
じ表示性が悪かった。
ェニル）プロパンとホスゲンとの反応（末端停止剤はｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）によって製造されたポ
リカーボネート（［ηsp／ｃ］＝０．６５ｄｌ／ｇ）を
用いた以外は実施例１と同様にして位相差補償フィルム
の製作を試み、得られたフィルムについて実施例１と同
様にして光学特性を評価したところリターデーションは
４５０ｎｍであり、リターデーションの角度依存性は、
入射４５度における増相方向と減相方向の平均で２５％
であった。この位相差補償フィルムをＳＴＮ液晶セルに
装着したところ、視野角が狭く、容易に視野の反転を生
じ表示性が悪かった。
【００４３】
【発明の効果】本発明により得られた位相差補償フィル
ムはリターデーション値の角度依存性が小さく、液晶装
置に装着した場合、視野の広角化が達成されるので、液
晶パネル用位相差補償フィルム、特にＳＴＮ液晶表示素
子用位相差補償フィルムとして好適に利用される。
ムはリターデーション値の角度依存性が小さく、液晶装
置に装着した場合、視野の広角化が達成されるので、液
晶パネル用位相差補償フィルム、特にＳＴＮ液晶表示素
子用位相差補償フィルムとして好適に利用される。
Claims (1)
- 【請求項１】 次の一般式［Ｉ］ 【化１】 （ただし、式［Ｉ］中のＲ1及びＲ2は、各々独立に、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜８
のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは
無置換のアリール基を示し、ａ及びｂは各々独立に０〜
４の整数を示し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−
Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2 −、−ＣＲ3Ｒ4 −（ここで、
Ｒ3及びＲ4は、各々独立に、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数５〜８のシクロアルキル基又は炭素数６〜１
２の置換若しくは無置換のアリール基を示す。）、炭素
数５〜１１の置換若しくは無置換のシクロアルキリデン
基又は炭素数２〜１０のα，ω−アルキレン基又はフル
オレン基を示し、ただし、上記においてａ＝ｂ＝０の場
合にはＸが−Ｃ（ＣＨ3）2−になることはないものとす
る。）で表される二価フェノール［Ｉ］と、フェノール
性水酸基を有する３官能以上の多官能性有機化合物とを
炭酸エステル形成化合物と反応させて得られる分岐ポリ
カーボネートからなる延伸されたフィルム又はシートよ
りなることを特徴とする位相差補償フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13002593A JP3233734B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 位相差補償フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13002593A JP3233734B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 位相差補償フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06322094A JPH06322094A (ja) | 1994-11-22 |
| JP3233734B2 true JP3233734B2 (ja) | 2001-11-26 |
Family
ID=15024301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13002593A Expired - Fee Related JP3233734B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 位相差補償フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3233734B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3600528B2 (ja) | 1999-01-12 | 2004-12-15 | 株式会社宇宙環境工学研究所 | 低環境ホルモン性のポリカーボネート樹脂 |
| DE10005770A1 (de) | 2000-02-10 | 2001-08-16 | Bayer Ag | Verfahren zur Entfernung von gelöstem Sauerstoff aus Phenol |
| JP4484131B2 (ja) * | 2001-04-24 | 2010-06-16 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フラットパネルディスプレー用フィルム |
-
1993
- 1993-05-07 JP JP13002593A patent/JP3233734B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06322094A (ja) | 1994-11-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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