JP3535864B2 - 位相差補償フィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、位相差補償フィルムに
関し、より詳しく言うと、特に液晶パネル用位相差補償
フィルム等として有用な高性能の光学的位相差補償フィ
ルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネートは、一般に、機械的強
度、耐熱性等に優れ、また、透明性等の光学的性質、寸
法安定性等にも優れていることから、様々な分野で素材
として用いられている。それでもなお、近年の用途の拡
大に伴って、更に性能の優れたものの開発が要求されて
いる。

【０００３】ポリカーボネートの最も代表的なものとし
て、ビスフェノールＡとホスゲンとの反応によって得ら
れるものがあり、またその他にも多種多様のものが知ら
れている。しかしながら、用途によっては、どのような
構造のポリカーボネートが好適に用いられるかという基
本的な点すら明らかにされていないのが現状である。そ
こで、その用途開発という点では、それぞれの用途にお
いて、より良く適合するポリカーボネートの種類を選定
し、更には、これを用途に見合った性能が発揮できるよ
うにすることが必要となる。

【０００４】ところで、ポリカーボネートの用途のひと
つとして、最近、光学的位相差補償フィルム（シート状
や板状のものもあり、例えば位相差シート、位相差板な
ど様々な呼称があるが、本明細書では特にことわらない
限り、これらを含めて光学的位相差補償フィルムと総称
する。）としての用途が注目されている。光学的位相差
補償フィルムとは、複屈折性を有し、直線偏光の入射光
に直角方向に位相差を生じせしめ、透過光を円偏光ない
し楕円偏光に変換する機能を有するものであり、例え
ば、液晶パネル用等の種々の光学的機器やデバイスに用
いられている。

【０００５】光学的位相差補償フィルムをこうした用途
に用いる場合、通常、その特性のひとつであるリターデ
ーション値（以下、これをＲ値と呼ぶ。なお、このＲ値
は、フィルム又はシートの厚みｔとその複屈折Δｎの
積、すなわち、Ｒ＝ｔ×Δｎ、をｎｍ単位の数値で表し
たものとして定義される。）が、１３５ｎｍ付近、いわ
ゆる１／４波長ないしそれ以上、例えば６００ｎｍ前後
の光路差を生ぜしめる位相差フィルムが適当である。ま
た、高性能の位相差フィルムを得るには、延伸フィルム
又は延伸シートの全部位においてＲ値にばらつきがない
ように作製することも重要である。

【０００６】こうした光学的位相差補償フィルムには、
従来、酢酸セルロース系のフィルムやシートが用いられ
てきた。最近になって、寸法安定性、薄肉化の観点か
ら、ポリカーボネート系のフィルムやシートを光学的位
相差補償フィルムとして利用することが提案されている
（例えば、特開昭６３−１８９８０４号公報、特開平１
−２０１６０８号公報を参照）。しかしながら、これら
従来の材料からなる延伸フィルムやシートにおいては、
一般に、延伸されたフィルムやシートの部位により、例
えば、中央部と両端部とで光学的な性質の差が大きく、
このため、延伸フィルム又はシートの中央部からしか製
品としての位相差補償フィルムを取り出せないという問
題があった。

【０００７】また、ポリカーボネート系のフィルムやシ
ートを光学的位相差補償フィルムとして用いるに際し
て、特に、均一なＲ値を得ることを目標として、ポリカ
ーボネート材料、その延伸方法及び延伸条件等も検討さ
れている（例えば、特開平４−８４１０７号公報参
照）。しかしながら、従来の技術では、十分に満足でき
る均一なＲ値を実現させるに致っておらず、特に、光学
的に直交ニコル下でのＲ値のばらつきの無い、すなわ
ち、色むらの無い、より高性能の位相差補償フィルムの
開発が求められているのが現状である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記事情に
基づいてなされたものである。本発明の目的は、前記問
題点を解決し、Ｒ値を適当な範囲に制御しやすい上に、
Ｒ値のばらつきを著しく低減することができるなどの利
点を有し、液晶パネル用位相差補償フィルム等として好
適に利用できる高性能のポリカーボネート系光学的位相
差補償フィルムを提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の一般式で表
される繰り返し単位を有するポリカーボネートからなる
素材を延伸してなるフィルム又はシートを用いることに
よって前記目的を満足する高性能の光学的位相差補償フ
ィルムが実現できることを見出した。本発明者らは、上
記知見に基づいて本発明を完成するに致った。

【００１０】すなわち、本発明は、下記一般式［Ｉ］

【００１１】

【化４】 ［ただし、式中、Ｒ¹及びＲ²は各々独立にハロゲン原
子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置
換若しくは無置換のアリール基を示し、ａ及びｂは各々
独立に０〜４の整数を示し、Ｘは

【００１２】

【化５】 （ただし、式中、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立にハロゲン原
子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜１２の置
換若しくは無置換のアリール基を示し、ｄ及びｅは各々
独立に０〜４の整数を示し、Ｚは単結合、−Ｏ−、−Ｃ
Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−又は−ＣＨ₂−を示
す。）である。］で表される繰り返し単位［Ｉ］、又
は、該繰り返し単位［Ｉ］と下記一般式［ＩＩ］

【００１３】

【化６】 ［ただし、式中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は各々独立に、ハロゲン
原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシク
ロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換
のアリール基を示し、ｊ及びｋは各々独立に０〜４の整
数を示し、Ｙは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−
ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−（式中、Ｒ¹³及び
Ｒ¹⁴は各々独立に水素原子、トリフルオロメチル基、炭
素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若し
くは無置換のアリール基を示す。）、炭素数５〜８のシ
クロアルキリデン基又は炭素数２〜１２のα、ω−アル
キレン基を示す。］で表される繰り返し単位［ＩＩ］と
を有し、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌ
の溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/c］が０．５〜
２．５ｄｌ／ｇの範囲にあるポリカーボネートの延伸フ
ィルム又は延伸シートからなることを特徴とする位相差
補償フィルムを提供するものである。

【００１４】本発明の位相差補償フィルムには、上記ポ
リカーボネートからなる延伸されたフィルム又はシート
が使用されるが、該ポリカーボネートとしては、前記一
般式［Ｉ］で表される繰り返し単位［Ｉ］からなるポリ
カーボネート及び前記繰り返し単位［Ｉ］と前記一般式
［ＩＩ］で表される繰り返し単位［ＩＩ］とからなるポ
リカーボネートのうちの少なくとも一種を使用すること
が重要である。このポリカーボネートとしては、前記繰
り返し単位［Ｉ］のうちの１種又は２種以上のみからな
る各種のポリカーボネート単独重合体や共重合体、繰り
返し単位［Ｉ］の１種又は２種以上と繰り返し単位［Ｉ
Ｉ］の１種又は２種以上とからなる各種のポリカーボネ
ート共重合体を用いることができる。また、本発明の目
的の達成を阻害しない範囲で、更に他の繰り返し単位を
含有していてもよい。特に、繰り返し単位［Ｉ］と繰り
返し単位［ＩＩ］を有する共重合体の場合、通常、繰り
返し単位［Ｉ］と繰り返し単位［ＩＩ］の合計含量に対
する繰り返し単位［Ｉ］の含有割合が、１モル％以上の
範囲にあるものが好ましい。

【００１５】なお、これらのポリカーボネートは１種単
独で使用してもよく、あるいは、必要に応じて、２種以
上を混合物等として併用することもできる。また、これ
らポリカーボネートを延伸する場合に、必要に応じて適
宜、他のポリマー成分や添加剤等の所望の成分を添加し
て組成物として用いることもできる。

【００１６】一般式［Ｉ］において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵及
びＲ⁶は各々独立にハロゲン原子、炭素数１〜６のアル
キル基又は炭素数１〜１２の置換若しくは無置換のアリ
ール基を示す。

【００１７】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵及びＲ⁶の具体例とし
ては、次のようなものを例示することができる。

【００１８】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子及びヨウ素原子を挙げることができ、ア
ルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブ
チル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペン
チル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒ
ｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イ
ソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシ
ル基、ネオヘキシル基、シクロペンチルメチル基等を挙
げることができ、置換若しくは無置換のアリール基とし
ては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、エチル
フェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、
ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、シクロヘ
キシルフェニル基、ｐ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニ
リル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、メチルナフ
チル基、ジメチルナフチル基、エチルナフチル基等を挙
げることができる。

【００１９】一般式［ＩＩ］において、Ｒ¹¹及びＲ¹²は
各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又は炭素数６〜１
２の置換若しくは無置換のアリール基を示し、ハロゲン
原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２のア
リール基の具体例としては、上記一般式［Ｉ］の説明に
おいて例示したものを挙げることができる。炭素数５〜
７のシクロアルキルとしては、シクロヘキシル基が好適
に好ましい。

【００２０】一般式［ＩＩ］において、Ｙは単結合、−
Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
Ｒ¹³Ｒ¹⁴−、炭素数５〜８のシクロアルキリデン基又は
炭素数２〜１２のα、ω−アルキレン基を示す。

【００２１】ここで、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−中のＲ¹³及びＲ¹⁴
は、各々独立に水素原子、トリフルオロメチル基、炭素
数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しく
は無置換のアリール基を示すが、アルキル基、アリール
基の例としては、前記例示のものを挙げることができ
る。

【００２２】Ｙとしてのシクロアルキリデン基として
は、１，１−シクロペンチリデン基、１，１−シクロヘ
キシリデン基、１，１−シクロヘプチリデン基がある。
これらの中でも、１，１−シクロヘキシリデン基が好ま
しい。

【００２３】Ｙとしての炭素数２〜１２のα，ω−アル
キレン基としては、ジメチレン基からデカメチレン基に
至る各種のポリメチレン基を挙げることができる。

【００２４】これら各種の繰り返し単位［Ｉ］及び繰り
返し単位［ＩＩ］は、それぞれに対応する構造を有する
モノマーから形成することができ、例えば、対応する構
造を有するビスフェノール類（二価フェノール類）とホ
スゲンを反応させることによって形成することができ
る。そこで、これら各種の繰り返し単位［Ｉ］及び繰り
返し単位［ＩＩ］の具体例を直接示す代りに、それらに
対応するビスフェノール類の具体例を以下に挙げる。

【００２５】繰り返し単位［Ｉ］を形成するビスフェノ
ール類は、下記一般式［ＩＩＩ］

【００２６】

【化７】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、ａ、ｂ及びＸは、上記と同じ意味を
有する。）で表され、その具体例としては、例えば、下
記のものが挙げられる。

【００２７】

【化８】 繰り返し単位［ＩＩ］を形成するビスフェノール類は、
下記一般式［ＩＶ］

【００２８】

【化９】 （式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、ｊ、ｋ及びＹは、上記と同じ意味
を有する。）で表され、その具体例としては、例えば、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ヘプタン、４，４′−ジヒドロキ
シテトラフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシ
フェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，
１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イ
ソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−
ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス
（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチル
フェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシ
フェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒド
ロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３
−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，
２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジク
ロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５
−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−
ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−
ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブ
タン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４
−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−
４−ヒドロキシフェニル）エーテル、３，３′−ジフル
オロ−４，４′−ジヒドロキシビフェニル、１，１−ビ
ス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シ
クロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−１−フェニル−２，２，２−トリフ
ルオロエタン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フェニ
ル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、
４，４′−ジヒドロキシベンゾフェノノン、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）スルホキシド、４，４′−ジヒド
ロキシビフェニル、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′
−ジメチルビフェニル、４，４′−ジヒドロキシ−２，
２′−ジメチルビフェニル、４，４′−ジヒドロキシ−
３，３′−ジシクロヘキシルビフェニル等が挙げられ
る。

【００２９】これら一般式［ＩＶ］で表されるビスフェ
ノール類の中でも、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、４，４−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン、１−フェニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、４，４−ジヒドロキシビフェニ
ル、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン等が好適である。

【００３０】本発明に用いられるポリカーボネートとし
ては、直鎖状のもの、分岐状のもの、あるいは分岐構造
を有するもの、環状のものあるいは環状構造を有するも
の、更には、ポリカーボネート末端に特殊な構造が導入
されているものなど種々の分子構造を有するものが適用
可能である。

【００３１】本発明に用いられるポリカーボネートは、
塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の
２０℃における還元粘度［η_sp/c］が０．５〜２．５ｄ
ｌ／ｇの範囲にある。還元粘度が０．５ｄｌ／ｇ未満で
あるとフィルム又はシートの強度が低下し、２．５ｄｌ
／ｇを超えると成形等が困難になることがある。

【００３２】また、これらのポリカーボネートの製造方
法としては特に制限はなく、例えば、前記例示の各種の
ビスフェノール類をモノマーとして用いてアルカリ金属
化合物やピリジン等の酸受容体の存在下で（必要に応じ
て適当な溶媒中で）ホスゲンガスと反応させるホスゲン
法（界面重縮合法、ピリジン法等）、あるいはクロロホ
ルメート法、エステル交換法等、公知の重合方法等の各
種の方法で製造されたものが適用可能である。なお、こ
のホスゲン法の場合、原料のビスフェノール類とホスゲ
ンを一度に反応させて所望のポリカーボネートとしても
よいし、あるいは、予め反応原料のビスフェノール類の
一部とホスゲンとを反応させて分子末端にクロロホルメ
ート基を有するオリゴマーを生成せしめ、次いで残りの
反応原料を添加して重縮合を完結させ所望のポリカーボ
ネートを得るという２段階法などを用いてもよい。

【００３３】本発明の位相差補償フィルムは、前記繰り
返し単位［Ｉ］又は繰り返し単位［Ｉ］と繰り返し単位
［ＩＩ］からなるポリカーボネートのうちの少なくとも
１種からなる素材を成形・延伸してなるフィルムやシー
トを用いることによって構成される。その際、該ポリカ
ーボネートは、単独であるいは任意の割合の混合物とし
て使用することができるし、更には必要に応じて、他の
ポリマーとの混合物など、他の成分との混合物としても
利用することができる。

【００３４】上記ポリカーボネートのフィルム又はシー
トへの成形は、公知の各種の製膜方法によって行うこと
ができ、例えば、溶媒キャスト法、押し出し法、カレン
ダー法などによって好適に実施することができる。な
お、この成形と同時にあるいは連続して延伸を行い、所
望の延伸フィルム又はシートとしてもよい。また、こう
して成形されたフィルム又はシートを延伸して用いても
よい。いずれにしても、この延伸は、延伸ロールを用い
る方法等、公知の延伸、又は公知の成形延伸方法等の各
種の方法によって行うことができる。

【００３５】延伸時の温度は、ポリカーボネートのガラ
ス転移温度より幾分高い温度が適当である。

【００３６】このフィルム又はシートの延伸は、通常、
１軸方向への延伸を行えばよく、その１軸方向への延伸
倍率（元の長さに対する延伸分長さの百分率）として
は、通常、１〜１０％、好ましくは３〜５％の範囲が好
適である。この延伸は一段で行ってもよく、また、多段
で延伸してもよい。

【００３７】こうして得られる延伸フィルム又はシート
の厚みとしては、使用したポリカーボネートの特性（特
に複屈折などの光学的特性）や延伸の程度等によって最
適値が異なるので一律に定めることはできないが、通
常、５０〜３００μｍ程度とすることが好ましい。すな
わち、延伸フィルム又はシートの複屈折Δｎを考慮し、
その厚みｔを適宜選定することによって所望のＲ値を有
する位相差補償フィルムを容易に製造することができ
る。

【００３８】以上のようにして得られる本発明の位相差
補償フィルムは、特にＲ値のばらつきが少なく（例え
ば、このばらつきは、通常、３％以内、更には２％以内
という著しく小さい範囲に容易に納めることができ
る。）、高性能の光学的位相差補償フィルムであり、液
晶パネル用をはじめとする各種の用途に有利に利用する
ことができる。

【００３９】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。

【００４０】実施例１ 原料モノマーとして下記構造

【００４１】

【化１０】 のビスフェノール化合物２０．０ｇ（０．０５１モル）
及び４，４′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン７
２．２ｇ（０．２０５モル）、濃度８％の水酸化ナトリ
ウム水溶液５５０ｍｌ、塩化メチレン４００ｍｌ、末端
停止剤（分子量調節剤）としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノール０．１５ｇ及び触媒として１０％トリエチルア
ミン水溶液３ｍｌを邪魔板付き反応器内に導入し、反応
液の温度を１０℃付近に保持しながら激しく攪拌しつ
つ、ホスゲンガスを１００ｍｌ／分の割合で１５分間吹
き込んで重縮合反応を行った。

【００４２】反応終了後、有機層に塩化メチレン１リッ
トルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した
後、メタノール中に投入してポリカーボネートを得た。

【００４３】このようにして得られたポリカーボネート
は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶
液の２０℃における還元粘度［η_sp/c］が０．８２ｄｌ
／ｇであった。¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析により、得
られたポリカーボネートは下記の繰り返し単位［Ｉc］
及び［ＩＩc］を下記モル比で有するポリカーボネート
であることが確認された。

【００４４】

【化１１】 上記のポリカーボネートを押し出しによって厚さ１２０
μｍ、幅５００ｍｍの透明フィルムとし、このフィルム
を１６０℃で一軸で５％延伸し、厚さ１００μｍの均一
な位相差補償フィルムを得た。得られた位相差補償フィ
ルムを幅４００ｍｍ長さ１ｍに切断し、縦横各々５０ｍ
ｍ間隔で８×２０＝１６０箇所で複屈折を偏光顕微鏡に
取付けたセナルモンコンペンセーターを用いて測定し、
Ｒ値を算出した。光源としてはハロゲンランプを用い
た。測定結果は表１に示した。また、このフィルムは直
交ニコル下で均一な色調を示した。

【００４５】比較例１ 市販のポリマーである２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンとホスゲンとの反応（末端停止剤はｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）によって製造された下
記の繰り返し単位［ＩＩa］からなるポリカーボネート
（［η_sp/c］＝０．７６ｄｌ／ｇ）を用いて、実施例１
と同様にして位相差補償フィルムの作製を試み、得られ
たフィルムについて実施例１と同様にしてＲ値の測定を
行った。測定結果は表１に示したようになった。このフ
ィルムは直交ニコル下で顕著な色調のムラを示した。

【００４６】

【化１２】

【００４７】

【表１】

【００４８】

【発明の効果】本発明によると、特定の構造のポリカー
ボネートからなる延伸フィルム又は延伸シートを用いて
いるので、Ｒ値を適当な範囲に制御しやすい上に、Ｒ値
のばらつきを例えば３％以内、更には２％以内という著
しく低い範囲に容易に低減することができ、したがっ
て、液晶パネル用位相差補償フィルム等として好適にか
つ有利に利用できる高性能の位相差補償フィルムを提供
することができる。

【００４９】また、本発明によると、同一フィルム内の
みならず各種製品間においてもＲ値のばらつき等品質の
むらを著しく低減することができるので、製品の歩留り
及び生産性をも著しく改善することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長尾 知浩 千葉県袖ケ浦市上泉1280番地 出光興産 株式会社内 (56)参考文献 特開 平６−25398（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 5/30

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式［Ｉ］ 【化１】 ［ただし、式中、Ｒ¹及びＲ²は各々独立にハロゲン原
   子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置
   換若しくは無置換のアリール基を示し、ａ及びｂは各々
   独立に０〜４の整数を示し、Ｘは 【化２】 （ただし、式中、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立にハロゲン原
   子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜１２の置
   換若しくは無置換のアリール基を示し、ｄ及びｅは各々
   独立に０〜４の整数を示し、Ｚは単結合、−Ｏ−、−Ｃ
   Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−又は−ＣＨ₂−を示
   す。）である。］で表される繰り返し単位［Ｉ］、又
   は、該繰り返し単位［Ｉ］と下記一般式［ＩＩ］ 【化３】 ［ただし、式中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は各々独立に、ハロゲン
   原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシク
   ロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換
   のアリール基を示し、ｊ及びｋは各々独立に０〜４の整
   数を示し、Ｙは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−
   ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−（式中、Ｒ¹³及び
   Ｒ¹⁴は各々独立に水素原子、トリフルオロメチル基、炭
   素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若し
   くは無置換のアリール基を示す。）、炭素数５〜８のシ
   クロアルキリデン基又は炭素数２〜１２のα、ω−アル
   キレン基を示す。］で表される繰り返し単位［ＩＩ］と
   を有し、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌ
   の溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/c］が０．５〜
   ２．５ｄｌ／ｇの範囲にあるポリカーボネートの一軸方
   向に１〜１０％延伸した延伸フィルム又は延伸シートか
   らなることを特徴とする位相差補償フィルム。
2. 【請求項２】 繰り返し単位［Ｉ］と繰り返し単位［Ｉ
   Ｉ］の合計含量に対する繰り返し単位［Ｉ］の含有割合
   が、１〜２０モル％であるポリカーボネートからなる請
   求項１記載の位相差補償フィルム。