JPH0675113A - 位相差補償フィルム - Google Patents
位相差補償フィルムInfo
- Publication number
- JPH0675113A JPH0675113A JP4248858A JP24885892A JPH0675113A JP H0675113 A JPH0675113 A JP H0675113A JP 4248858 A JP4248858 A JP 4248858A JP 24885892 A JP24885892 A JP 24885892A JP H0675113 A JPH0675113 A JP H0675113A
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- Japan
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- bis
- hydroxyphenyl
- film
- polycarbonate
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 リターデーション値を適当な範囲に制御しや
すく、かつリターデーション値のばらつきを著しく低減
することのできるポリカーボネート系位相差補償フィル
ムを提供する。 【構成】 下記一般式［Ｉ］で表わされる繰り返し単位
［Ｉ］、又は、繰り返し単位［Ｉ］と下記式［ＩＩ］で
表わされる繰り返し単位［ＩＩ］とを有するポリカーボ
ネート系重合体からなる延伸されたフィルム又はシート
よりなる。 （式［Ｉ］中のＲ1及びＲ2は、各々独立に、ハロゲン原
子、炭素数１〜６のアルキル基等を示し、ａ及びｂは各
々独立に０〜４の整数を示し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、
−ＣＯ−、等を示す。）
すく、かつリターデーション値のばらつきを著しく低減
することのできるポリカーボネート系位相差補償フィル
ムを提供する。 【構成】 下記一般式［Ｉ］で表わされる繰り返し単位
［Ｉ］、又は、繰り返し単位［Ｉ］と下記式［ＩＩ］で
表わされる繰り返し単位［ＩＩ］とを有するポリカーボ
ネート系重合体からなる延伸されたフィルム又はシート
よりなる。 （式［Ｉ］中のＲ1及びＲ2は、各々独立に、ハロゲン原
子、炭素数１〜６のアルキル基等を示し、ａ及びｂは各
々独立に０〜４の整数を示し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、
−ＣＯ−、等を示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、位相差補償フィルムに
関し、より詳しく言うと、特に液晶パネル用位相差補償
フィルム等として有用な高性能の光学的位相差補償フィ
ルムに関する。
関し、より詳しく言うと、特に液晶パネル用位相差補償
フィルム等として有用な高性能の光学的位相差補償フィ
ルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリカーボネートは、一般に、機械的強
度、耐熱性等に優れ、また、透明性等の光学的性質、寸
法安定性等にも優れていることから、様々な分野で素材
として用いられている。それでもなお、近年の用途の拡
大に伴って更に性能の優れたものの開発が要求されてい
る。
度、耐熱性等に優れ、また、透明性等の光学的性質、寸
法安定性等にも優れていることから、様々な分野で素材
として用いられている。それでもなお、近年の用途の拡
大に伴って更に性能の優れたものの開発が要求されてい
る。
【０００３】ポリカーボネート（ＰＣ）の最も代表的な
ものとして、ビスフェノールＡとホスゲンとの反応によ
って得られるものがあり、またその他にも多種多様のも
のが知られている。しかしながら、用途によっては、ど
のような構造のポリカーボネートが好適に用いられるか
という基本的な点すら明らかにされていないのが現状で
ある。そこで、その用途開発という点では、それぞれの
用途において、より良く適合するポリカーボネートの種
類を選定し、更には、これを用途に見合った性能が発揮
できるようにすることが必要となる。
ものとして、ビスフェノールＡとホスゲンとの反応によ
って得られるものがあり、またその他にも多種多様のも
のが知られている。しかしながら、用途によっては、ど
のような構造のポリカーボネートが好適に用いられるか
という基本的な点すら明らかにされていないのが現状で
ある。そこで、その用途開発という点では、それぞれの
用途において、より良く適合するポリカーボネートの種
類を選定し、更には、これを用途に見合った性能が発揮
できるようにすることが必要となる。
【０００４】ところで、ポリカーボネートの用途のひと
つとして、最近、光学的位相差補償フィルム（シート状
や板状のものもあり、例えば位相差シート、位相差板な
ど様々な呼称があるが、本明細書では特にことわらない
限り、これらを含めて光学的位相差補償フィルムと総称
する。）としての用途が注目されている。光学的位相差
補償フィルムとは、複屈折性を有し、直線偏光の入射光
に直角方向に位相差を生じせしめ、透過光を円偏光ない
し楕円偏光に変換する機能を有するものであり、例え
ば、液晶パネル用等の種々の光学的器機やデバイスに用
いられている。
つとして、最近、光学的位相差補償フィルム（シート状
や板状のものもあり、例えば位相差シート、位相差板な
ど様々な呼称があるが、本明細書では特にことわらない
限り、これらを含めて光学的位相差補償フィルムと総称
する。）としての用途が注目されている。光学的位相差
補償フィルムとは、複屈折性を有し、直線偏光の入射光
に直角方向に位相差を生じせしめ、透過光を円偏光ない
し楕円偏光に変換する機能を有するものであり、例え
ば、液晶パネル用等の種々の光学的器機やデバイスに用
いられている。
【０００５】光学的位相差補償フィルムをこうした用途
に用いる場合、通常、その特性のひとつであるリターデ
ーション値（以下、これをＲ値と呼ぶ。なお、このＲ値
は、フィルム又はシートの厚みｔとその複屈折Δｎの
積、すなわち、Ｒ＝ｔ×Δｎ、をｎｍ単位の数値で表し
たものとして定義される。）が、１３５ｎｍ付近、いわ
ゆる１／４波長ないしそれ以上、例えば６００ｎｍ前後
の光路差を生ぜしめる位相差フィルムが適当である。ま
た、高性能の位相差フィルムを得るには、Ｒ値にばらつ
きがないように作製することも重要である。
に用いる場合、通常、その特性のひとつであるリターデ
ーション値（以下、これをＲ値と呼ぶ。なお、このＲ値
は、フィルム又はシートの厚みｔとその複屈折Δｎの
積、すなわち、Ｒ＝ｔ×Δｎ、をｎｍ単位の数値で表し
たものとして定義される。）が、１３５ｎｍ付近、いわ
ゆる１／４波長ないしそれ以上、例えば６００ｎｍ前後
の光路差を生ぜしめる位相差フィルムが適当である。ま
た、高性能の位相差フィルムを得るには、Ｒ値にばらつ
きがないように作製することも重要である。
【０００６】こうした光学的位相差補償フィルムには、
従来、酢酸セルロース系のフィルムやシートが用いられ
てきた。最近になって、寸法安定性、薄肉化の観点か
ら、ポリカーボネート系のフィルムやシートを光学的位
相差補償フィルムとして利用することが提案されている
（例えば、特開昭６３−１８９８０４号公報、特開平１
−２０１６０８号公報を参照）。
従来、酢酸セルロース系のフィルムやシートが用いられ
てきた。最近になって、寸法安定性、薄肉化の観点か
ら、ポリカーボネート系のフィルムやシートを光学的位
相差補償フィルムとして利用することが提案されている
（例えば、特開昭６３−１８９８０４号公報、特開平１
−２０１６０８号公報を参照）。
【０００７】また、ポリカーボネート系のフィルムやシ
ートを光学的位相差補償フィルムとして用いるに際し
て、特に、均一なＲ値を得ることを目標として、ポリカ
ーボネート材料、その延伸方法及び延伸条件等も検討さ
れている（例えば、特開平４−８４１０７号公報参
照）。しかしながら、従来の技術では、十分に満足でき
る均一なＲ値を実現させるに至っておらず、特に、光学
的に直交ニコル下でのＲ値のばらつきの無い、すなわ
ち、色むらの無い、より高性能の位相差補償フィルムの
開発が求められているのが現状である。
ートを光学的位相差補償フィルムとして用いるに際し
て、特に、均一なＲ値を得ることを目標として、ポリカ
ーボネート材料、その延伸方法及び延伸条件等も検討さ
れている（例えば、特開平４−８４１０７号公報参
照）。しかしながら、従来の技術では、十分に満足でき
る均一なＲ値を実現させるに至っておらず、特に、光学
的に直交ニコル下でのＲ値のばらつきの無い、すなわ
ち、色むらの無い、より高性能の位相差補償フィルムの
開発が求められているのが現状である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記事情に
基づいてなされたものである。
基づいてなされたものである。
【０００９】本発明の目的は、前記問題点を解決し、Ｒ
値を適当な範囲に制御しやすい上に、Ｒ値のばらつきを
著しく低減することができるなどの利点を有し、液晶パ
ネル用位相差補償フィルム等として好適に利用できる高
性能のポリカーボネート系光学的位相差補償フィルムを
提供することにある。
値を適当な範囲に制御しやすい上に、Ｒ値のばらつきを
著しく低減することができるなどの利点を有し、液晶パ
ネル用位相差補償フィルム等として好適に利用できる高
性能のポリカーボネート系光学的位相差補償フィルムを
提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の一般式で表
される繰り返し単位を有する特定のポリカーボネート重
合体からなる素材を延伸してなるフィルム又はシートを
用いることによって前記目的を満足する高性能の光学的
位相差補償フィルムが実現できることを見いだした。
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の一般式で表
される繰り返し単位を有する特定のポリカーボネート重
合体からなる素材を延伸してなるフィルム又はシートを
用いることによって前記目的を満足する高性能の光学的
位相差補償フィルムが実現できることを見いだした。
【００１１】本発明者らは、上記の知見に基づいて本発
明を完成するに至った。
明を完成するに至った。
【００１２】すなわち、本発明は、次の一般式［Ｉ］
【００１３】
【化３】 （ただし、式［Ｉ］中のＲ1及びＲ2は、各々独立に、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７
のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは
無置換のアリール基を示し、ａ及びｂは各々独立に０〜
４の整数を示し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−
Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＲ3Ｒ4−（ここで、
Ｒ3及びＲ4は、各々独立に、水素原子、トリフルオロメ
チル基、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２
の置換若しくは無置換のアリール基を示す。）、炭素数
５〜８のシクロアルキリデン基又は炭素数２〜１２の
α，ω−アルキレン基を示し、但し、上記においてａ＝
ｂ＝０の場合にはＸが−Ｃ（ＣＨ3）2−になることはな
いものとする。）で表される繰り返し単位［Ｉ］、又
は、該繰り返し単位［Ｉ］と次の式［ＩＩ］
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７
のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは
無置換のアリール基を示し、ａ及びｂは各々独立に０〜
４の整数を示し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−
Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＲ3Ｒ4−（ここで、
Ｒ3及びＲ4は、各々独立に、水素原子、トリフルオロメ
チル基、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２
の置換若しくは無置換のアリール基を示す。）、炭素数
５〜８のシクロアルキリデン基又は炭素数２〜１２の
α，ω−アルキレン基を示し、但し、上記においてａ＝
ｂ＝０の場合にはＸが−Ｃ（ＣＨ3）2−になることはな
いものとする。）で表される繰り返し単位［Ｉ］、又
は、該繰り返し単位［Ｉ］と次の式［ＩＩ］
【００１４】
【化４】 で表される繰り返し単位［ＩＩ］とを有するポリカーボ
ネート系重合体からなる延伸されたフィルム又はシート
よりなることを特徴とする位相差補償フィルムを提供す
るものである。
ネート系重合体からなる延伸されたフィルム又はシート
よりなることを特徴とする位相差補償フィルムを提供す
るものである。
【００１５】本発明の位相差補償フィルムには、ポリカ
ーボネート系重合体からなる延伸されたフィルム若しく
はシートが使用されるが、該ポリカーボネート系重合体
としては、前記一般式［Ｉ］で表される繰り返し単位
［Ｉ］からなるポリカーボネート系重合体及び前記繰り
返し単位［Ｉ］と前記一般式［ＩＩ］で表される繰り返
し単位［ＩＩ］とからなるポリカーボネート系重合体の
うちの少なくとも１種を使用することが重要である。こ
のポリカーボネート系重合体としては、前記繰り返し単
位［Ｉ］のうちの１種又は２種以上のみからなる各種の
ポリカーボネート単独重合体や共重合体、繰り返し単位
［Ｉ］のうちの１種又は２種以上と繰り返し単位［Ｉ
Ｉ］とからなる各種のポリカーボネート共重合体を用い
ることができる。また、本発明の目的の達成を阻害しな
い範囲で、更に他の繰り返し単位を含有していてもよ
い。特に、繰り返し単位［Ｉ］と繰り返し単位［ＩＩ］
を有する共重合体の場合、通常、繰り返し単位［Ｉ］と
繰り返し単位［ＩＩ］の合計含量に対する該繰り返し単
位［Ｉ］の含有割合が、通常、１モル％以上の範囲にあ
るものが好ましい。
ーボネート系重合体からなる延伸されたフィルム若しく
はシートが使用されるが、該ポリカーボネート系重合体
としては、前記一般式［Ｉ］で表される繰り返し単位
［Ｉ］からなるポリカーボネート系重合体及び前記繰り
返し単位［Ｉ］と前記一般式［ＩＩ］で表される繰り返
し単位［ＩＩ］とからなるポリカーボネート系重合体の
うちの少なくとも１種を使用することが重要である。こ
のポリカーボネート系重合体としては、前記繰り返し単
位［Ｉ］のうちの１種又は２種以上のみからなる各種の
ポリカーボネート単独重合体や共重合体、繰り返し単位
［Ｉ］のうちの１種又は２種以上と繰り返し単位［Ｉ
Ｉ］とからなる各種のポリカーボネート共重合体を用い
ることができる。また、本発明の目的の達成を阻害しな
い範囲で、更に他の繰り返し単位を含有していてもよ
い。特に、繰り返し単位［Ｉ］と繰り返し単位［ＩＩ］
を有する共重合体の場合、通常、繰り返し単位［Ｉ］と
繰り返し単位［ＩＩ］の合計含量に対する該繰り返し単
位［Ｉ］の含有割合が、通常、１モル％以上の範囲にあ
るものが好ましい。
【００１６】なお、これらのポリカーボネート系重合体
は１種単独で使用してもよく、あるいは、必要に応じ
て、２種以上を混合物等として併用することもできる。
また、これらポリカーボネート系重合体を延伸する場合
に、必要に応じて適宜、他のポリマー成分や添加剤等の
所望の成分を添加して組成物として用いることができ
る。
は１種単独で使用してもよく、あるいは、必要に応じ
て、２種以上を混合物等として併用することもできる。
また、これらポリカーボネート系重合体を延伸する場合
に、必要に応じて適宜、他のポリマー成分や添加剤等の
所望の成分を添加して組成物として用いることができ
る。
【００１７】前記一般式［Ｉ］において、置換基Ｒ1及
びＲ2は、各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６の
アルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又は炭素
数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表し、
これら置換基の数ａ及びｂは、各々独立に、０〜４の整
数のうちの任意の値をとることができる。ただし、Ｘが
−Ｃ（ＣＨ3）2−である場合に限り、ａ＝ｂ＝０の場合
が除外される。
びＲ2は、各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６の
アルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又は炭素
数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基を表し、
これら置換基の数ａ及びｂは、各々独立に、０〜４の整
数のうちの任意の値をとることができる。ただし、Ｘが
−Ｃ（ＣＨ3）2−である場合に限り、ａ＝ｂ＝０の場合
が除外される。
【００１８】すなわち、繰り返し単位［Ｉ］としては、
置換基Ｒ1及びＲ2のいずれをも持たない無置換のもの
（ａ＝ｂ＝０；ただし、この場合のみ、前記したように
Ｘは−Ｃ（ＣＨ 3）2−でないものとする。）、Ｒ1及び
Ｒ2のうち前者のみを１〜４個有するもの（ａ＝１〜４
かつｂ＝０）、後者のみを１〜４個有するもの（ａ＝０
かつｂ＝１〜４）及びその両方を有するもの（ａ＝１〜
４かつｂ＝１〜４）があるが、いずれでもよい。また、
これら置換基の数の合計が２以上（ａ＋ｂ≧２）の場
合、これら置換基の種類はすべて同じでもよく、すべて
異なっていてもよく、一部のみが異なっていてもよく、
いずれでもよい。更に、繰り返し単位［Ｉ］には、置換
基Ｒ1、Ｒ2の置換位置の違いによっても様々なものがあ
り、いずれでもよい。
置換基Ｒ1及びＲ2のいずれをも持たない無置換のもの
（ａ＝ｂ＝０；ただし、この場合のみ、前記したように
Ｘは−Ｃ（ＣＨ 3）2−でないものとする。）、Ｒ1及び
Ｒ2のうち前者のみを１〜４個有するもの（ａ＝１〜４
かつｂ＝０）、後者のみを１〜４個有するもの（ａ＝０
かつｂ＝１〜４）及びその両方を有するもの（ａ＝１〜
４かつｂ＝１〜４）があるが、いずれでもよい。また、
これら置換基の数の合計が２以上（ａ＋ｂ≧２）の場
合、これら置換基の種類はすべて同じでもよく、すべて
異なっていてもよく、一部のみが異なっていてもよく、
いずれでもよい。更に、繰り返し単位［Ｉ］には、置換
基Ｒ1、Ｒ2の置換位置の違いによっても様々なものがあ
り、いずれでもよい。
【００１９】置換基Ｒ1及びＲ2の具体例としては、次の
ようなものを例示することができる。
ようなものを例示することができる。
【００２０】すなわち、Ｒ1及びＲ2について、前記ハロ
ゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及
びヨウ素原子を挙げることができ、前記アルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、イ
ソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチ
ル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル
基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ネオ
ヘキシル基、シクロペンチルメチル基などを挙げること
ができ、前記シクロアルキル基としては、例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロペンチ
ル基、シクロヘプチル基、メチルシクロヘキシル基、ジ
メチルシクロペンチル基、エチルシクロペンチル基など
を挙げることができ、前記アリール基としては、例え
ば、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル
基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ジメチル
フェニル基、トリメチルフェニル基、シクロヘキシルフ
ェニル基、ｐ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、
１−ナフチル基、２−ナフチル基、メチルナフチル基、
ジメチルナフチル基、エチルナフチル基などを挙げるこ
とができる。
ゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及
びヨウ素原子を挙げることができ、前記アルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、イ
ソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチ
ル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル
基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ネオ
ヘキシル基、シクロペンチルメチル基などを挙げること
ができ、前記シクロアルキル基としては、例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロペンチ
ル基、シクロヘプチル基、メチルシクロヘキシル基、ジ
メチルシクロペンチル基、エチルシクロペンチル基など
を挙げることができ、前記アリール基としては、例え
ば、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル
基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ジメチル
フェニル基、トリメチルフェニル基、シクロヘキシルフ
ェニル基、ｐ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、
１−ナフチル基、２−ナフチル基、メチルナフチル基、
ジメチルナフチル基、エチルナフチル基などを挙げるこ
とができる。
【００２１】前記一般式［Ｉ］において、Ｘは、単結
合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ
2−、−ＣＲ3Ｒ4−、炭素数５〜８のシクロアルキリデ
ン基又は炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基を示
す。
合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ
2−、−ＣＲ3Ｒ4−、炭素数５〜８のシクロアルキリデ
ン基又は炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基を示
す。
【００２２】ここで、−ＣＲ3Ｒ4−中のＲ3及びＲ4は、
各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数
１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは
無置換のアリール基を示すが、該アルキル基、アリール
基の例としては、前記例示のものを挙げることができ
る。なお、Ｒ3とＲ4は、互いに同じ種類の基でもよい
し、相違していてもよい。
各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数
１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは
無置換のアリール基を示すが、該アルキル基、アリール
基の例としては、前記例示のものを挙げることができ
る。なお、Ｒ3とＲ4は、互いに同じ種類の基でもよい
し、相違していてもよい。
【００２３】Ｘとしての前記シクロアルキリデン基とし
ては、１，１−シクロペンチリデン基、１，１−シクロ
ヘキシリデン基、１，１−シクロヘプチリデン基及び
１，１−シクロオクチリデン基がある。これらの中で
も、特に、１，１−シクロヘキシリデン基が好ましい。
ては、１，１−シクロペンチリデン基、１，１−シクロ
ヘキシリデン基、１，１−シクロヘプチリデン基及び
１，１−シクロオクチリデン基がある。これらの中で
も、特に、１，１−シクロヘキシリデン基が好ましい。
【００２４】Ｘとしての前記炭素数２〜１２のα，ω−
アルキレン基としては、ジメチレン基からデカメチレン
基に至る各種のポリメチレン基を挙げることができる。
アルキレン基としては、ジメチレン基からデカメチレン
基に至る各種のポリメチレン基を挙げることができる。
【００２５】これら各種の繰り返し単位［Ｉ］及び繰り
返し単位［ＩＩ］は、それぞれに対応する構造を有する
モノマーから形成することができ、例えば、対応する構
造を有するビスフェノール類（二価フェノール類）とホ
スゲンを反応させることによって形成することができ
る。そこで、これら各種の繰り返し単位［Ｉ］及び繰り
返し単位［ＩＩ］の具体例を直接示す代わりに、それら
に対応するビスフェノール類の具体例を挙げることにす
る。
返し単位［ＩＩ］は、それぞれに対応する構造を有する
モノマーから形成することができ、例えば、対応する構
造を有するビスフェノール類（二価フェノール類）とホ
スゲンを反応させることによって形成することができ
る。そこで、これら各種の繰り返し単位［Ｉ］及び繰り
返し単位［ＩＩ］の具体例を直接示す代わりに、それら
に対応するビスフェノール類の具体例を挙げることにす
る。
【００２６】繰り返し単位［Ｉ］を形成するビスフェノ
ール類の具体例として、例えば、ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘプタン、４，４′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１
−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ス
ルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フ
ェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４′−ジヒ
ドロキシビフェニル、２，２−ビス（２−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１
−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタ
ン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジ
ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビ
ス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−
ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−
ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェ
ニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシ
フェニル）エーテル、３，３′−ジフルオロ−４，４′
−ヒドロキシビフェニル、１，１−ビス（３−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フ
ェニル−２，２，２−トリフルオロエタン、２，２−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）スルホン、４，４′−ジヒドロキシベ
ンゾフェノンなどを例示することができる。
ール類の具体例として、例えば、ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘプタン、４，４′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１
−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ス
ルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フ
ェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４′−ジヒ
ドロキシビフェニル、２，２−ビス（２−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１
−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタ
ン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジ
ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビ
ス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−
ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−
ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェ
ニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシ
フェニル）エーテル、３，３′−ジフルオロ−４，４′
−ヒドロキシビフェニル、１，１−ビス（３−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フ
ェニル−２，２，２−トリフルオロエタン、２，２−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）スルホン、４，４′−ジヒドロキシベ
ンゾフェノンなどを例示することができる。
【００２７】これらの中でも、特に、モノマーとして、
４，４′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、４，４′−ジヒドロキシビフェニル、２，２
−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パンなどを用いて得られる各種のポリカーボネート系重
合体、及びこれらモノマーと、繰り返し単位［ＩＩ］に
対応する２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パンとを用いて得られるポリカーボネート系重合体が好
適に適用される。
４，４′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、４，４′−ジヒドロキシビフェニル、２，２
−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パンなどを用いて得られる各種のポリカーボネート系重
合体、及びこれらモノマーと、繰り返し単位［ＩＩ］に
対応する２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パンとを用いて得られるポリカーボネート系重合体が好
適に適用される。
【００２８】なお、繰り返し単位［ＩＩ］のみからなる
もの（ビスフェノールＡポリカーボネート）は、後述の
ように添加成分等として併用可能ではあるが、このもの
を単独で用いても本発明におけるようなＲ値のばらつき
が低減した位相差補償フィルムを得ることはできない。
もの（ビスフェノールＡポリカーボネート）は、後述の
ように添加成分等として併用可能ではあるが、このもの
を単独で用いても本発明におけるようなＲ値のばらつき
が低減した位相差補償フィルムを得ることはできない。
【００２９】本発明に用いられるポリカーボネート系重
合体としては、直鎖状のもの、分岐状のものあるいは分
岐構造を有するもの、環状のものあるいは環状構造を有
するもの、更には、ポリマー末端に特殊な構造が導入さ
れているものなど種々の分子構造を有するものが適用可
能である。
合体としては、直鎖状のもの、分岐状のものあるいは分
岐構造を有するもの、環状のものあるいは環状構造を有
するもの、更には、ポリマー末端に特殊な構造が導入さ
れているものなど種々の分子構造を有するものが適用可
能である。
【００３０】本発明に用いられるポリカーボネート系重
合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌ
の溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．１
〜３ｄｌ／ｇの範囲にあることが好ましい。０．１ｄｌ
／ｇ未満であるとフィルム又はシートの強度が低下し、
３ｄｌ／ｇを超えると成形等が困難になることがある。
合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌ
の溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．１
〜３ｄｌ／ｇの範囲にあることが好ましい。０．１ｄｌ
／ｇ未満であるとフィルム又はシートの強度が低下し、
３ｄｌ／ｇを超えると成形等が困難になることがある。
【００３１】また、これらのポリカーボネート系重合体
の製造方法としても特に制限はなく、例えば、前記例示
の各種のビスフェノール類（二価フェノール類）をモノ
マーとして用いてアルカリ金属化合物やピリジン等の酸
受容体の存在下で（必要に応じて適当な溶媒中で）ホス
ゲンガスと反応させるホスゲン法（界面重縮合法、ピリ
ジン法等）、あるいはクロロホルメート法、エステル交
換法など、公知の重合方法等の各種の方法で製造された
ものが適用可能である。なお、このホスゲン法の場合、
原料のビスフェノール類とホスゲンを一度に反応させて
所望のポリカーボネートとしてもよいし、あるいは、予
め反応原料のビスフェノール類の一部とホスゲンとを反
応させて分子末端にクロロホルメート基を有するオリゴ
マーを生成せしめ、次いで残りの反応原料を添加して重
縮合を完結させ所望のポリカーボネートを得るという２
段階法などを用いてもよい。
の製造方法としても特に制限はなく、例えば、前記例示
の各種のビスフェノール類（二価フェノール類）をモノ
マーとして用いてアルカリ金属化合物やピリジン等の酸
受容体の存在下で（必要に応じて適当な溶媒中で）ホス
ゲンガスと反応させるホスゲン法（界面重縮合法、ピリ
ジン法等）、あるいはクロロホルメート法、エステル交
換法など、公知の重合方法等の各種の方法で製造された
ものが適用可能である。なお、このホスゲン法の場合、
原料のビスフェノール類とホスゲンを一度に反応させて
所望のポリカーボネートとしてもよいし、あるいは、予
め反応原料のビスフェノール類の一部とホスゲンとを反
応させて分子末端にクロロホルメート基を有するオリゴ
マーを生成せしめ、次いで残りの反応原料を添加して重
縮合を完結させ所望のポリカーボネートを得るという２
段階法などを用いてもよい。
【００３２】本発明の位相差補償フィルムは、前記繰り
返し単位［Ｉ］又は繰り返し単位［Ｉ］と繰り返し単位
［ＩＩ］からなるポリカーボネート系重合体のうちの少
なくとも１種からなる素材を成形・延伸してなるフィル
ムやシートを用いることによって構成される。その際、
該ポリカーボネート系重合体は、単独であるいは任意の
割合の混合物として使用することができるし、更には必
要に応じて、他のポリマー（例えば、ビスフェノールＡ
ポリカーボネートやポリエーテル等）との混合物など、
他の成分との混合物としても利用することができる。
返し単位［Ｉ］又は繰り返し単位［Ｉ］と繰り返し単位
［ＩＩ］からなるポリカーボネート系重合体のうちの少
なくとも１種からなる素材を成形・延伸してなるフィル
ムやシートを用いることによって構成される。その際、
該ポリカーボネート系重合体は、単独であるいは任意の
割合の混合物として使用することができるし、更には必
要に応じて、他のポリマー（例えば、ビスフェノールＡ
ポリカーボネートやポリエーテル等）との混合物など、
他の成分との混合物としても利用することができる。
【００３３】ここで、フィルム又はシートへの成形は、
公知の各種の製膜方法によって行うことができ、例え
ば、溶媒キャスト法、押し出し法、カレンダー法などに
よって好適に実施することができる。なお、この成形と
同時にあるいは連続して延伸を行い、所望の延伸フィル
ム若しくはシートとしてもよい。また、こうして成形さ
れたフィルム又はシートを延伸して用いてもよい。
公知の各種の製膜方法によって行うことができ、例え
ば、溶媒キャスト法、押し出し法、カレンダー法などに
よって好適に実施することができる。なお、この成形と
同時にあるいは連続して延伸を行い、所望の延伸フィル
ム若しくはシートとしてもよい。また、こうして成形さ
れたフィルム又はシートを延伸して用いてもよい。
【００３４】いずれにしても、この延伸は、公知の延伸
若しくは成形延伸方法等の各種の方法によって行うこと
ができる。
若しくは成形延伸方法等の各種の方法によって行うこと
ができる。
【００３５】このフィルム若しくはシートの延伸は、通
常、一軸方向への延伸を行えばよく、その一軸方向への
延伸倍率（元の長さに対する延伸分長さの百分率）とし
ては、通常、１〜１０％、好ましくは、２．５〜５％の
範囲に選定するのが好適である。
常、一軸方向への延伸を行えばよく、その一軸方向への
延伸倍率（元の長さに対する延伸分長さの百分率）とし
ては、通常、１〜１０％、好ましくは、２．５〜５％の
範囲に選定するのが好適である。
【００３６】こうして得られる延伸フィルム又はシート
の厚みとしては、使用したポリカーボネート系重合体の
特性（特に複屈折などの光学的特性）や延伸の程度等に
よって最適値が異なるので一律に定めることができない
が、通常、５０〜３００μｍの範囲に選定するのが好ま
しい。
の厚みとしては、使用したポリカーボネート系重合体の
特性（特に複屈折などの光学的特性）や延伸の程度等に
よって最適値が異なるので一律に定めることができない
が、通常、５０〜３００μｍの範囲に選定するのが好ま
しい。
【００３７】すなわち、延伸フィルム又はシートの複屈
折Δｎを考慮し、その厚みｔを適宜選定することによっ
て所望のＲ値を有する位相差補償フィルムを容易に実現
することができる。
折Δｎを考慮し、その厚みｔを適宜選定することによっ
て所望のＲ値を有する位相差補償フィルムを容易に実現
することができる。
【００３８】本発明の位相差補償フィルムは、以上のよ
うにして作製した延伸フィルム又はシートを、所望の大
きさに切断するなどして適宜形状を整えて、単独で構成
してもよいし、あるいは、複数を組合せて構成してもよ
いし、更には、必要に応じて適宜他の構成要素と組合せ
て構成することもできる。
うにして作製した延伸フィルム又はシートを、所望の大
きさに切断するなどして適宜形状を整えて、単独で構成
してもよいし、あるいは、複数を組合せて構成してもよ
いし、更には、必要に応じて適宜他の構成要素と組合せ
て構成することもできる。
【００３９】以上のようにして得られる本発明の位相差
補償フィルムは、特にＲ値のばらつきが少なく（例え
ば、このばらつきは、通常、３％以内、更には２％以内
という著しく小さい範囲に容易に納めることができ
る。）、高性能の光学的位相差補償フィルムであり、液
晶パネル用をはじめとする各種の用途に有利に利用する
ことができる。
補償フィルムは、特にＲ値のばらつきが少なく（例え
ば、このばらつきは、通常、３％以内、更には２％以内
という著しく小さい範囲に容易に納めることができ
る。）、高性能の光学的位相差補償フィルムであり、液
晶パネル用をはじめとする各種の用途に有利に利用する
ことができる。
【００４０】
【実施例】以下に、本発明の実施例及びその比較例によ
って本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら
の実施例に限定されるものではない。
って本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら
の実施例に限定されるものではない。
【００４１】実施例１ 原料モノマーとして２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン４６．７ｇ（０．２０５モル）及び２，
２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン１３．１ｇ（０．０５１モル）、濃度８％の水酸化
ナトリウム水溶液５５０ｍｌ、塩化メチレン４００ｍ
ｌ、末端停止剤（分子量調節剤）としてｐ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノール０．１５ｇ、触媒として１０％トリエ
チルアミン水溶液３ｍｌを邪魔板付き反応器内に導入
し、反応液の温度を１０℃付近に保持しながら激しく攪
拌しつつ、ホスゲンガスを１００ｍｌ／分の割合で１５
分間吹き込んで重縮合反応を行った。
ニル）プロパン４６．７ｇ（０．２０５モル）及び２，
２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン１３．１ｇ（０．０５１モル）、濃度８％の水酸化
ナトリウム水溶液５５０ｍｌ、塩化メチレン４００ｍ
ｌ、末端停止剤（分子量調節剤）としてｐ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノール０．１５ｇ、触媒として１０％トリエ
チルアミン水溶液３ｍｌを邪魔板付き反応器内に導入
し、反応液の温度を１０℃付近に保持しながら激しく攪
拌しつつ、ホスゲンガスを１００ｍｌ／分の割合で１５
分間吹き込んで重縮合反応を行った。
【００４２】反応終了後、有機層に塩化メチレン１リッ
トルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した
後、メタノール中に投入してポリカーボネート重合体を
得た。
トルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した
後、メタノール中に投入してポリカーボネート重合体を
得た。
【００４３】このようにして得られた重合体は塩化メチ
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．７８ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の繰り返し単
位［Ｉ a］及び［ＩＩ ］からなり、［Ｉ a］：［ＩＩ ］が
モル比で約１：４であるポリカーボネートであることが
確認された。
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．７８ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の繰り返し単
位［Ｉ a］及び［ＩＩ ］からなり、［Ｉ a］：［ＩＩ ］が
モル比で約１：４であるポリカーボネートであることが
確認された。
【００４４】
【化５】 上記のポリカーボネートを押し出しによって厚さ１２０
μｍ、幅５００ｍｍの透明フィルムとし、このフィルム
を１６０℃で一軸で５％延伸し、厚さ１００μｍの均一
な位相差補償フィルムを得た。得られた位相差補償フィ
ルムを幅４００ｍｍ長さ１ｍに切断し、縦横各々５０ｍ
ｍ間隔で８×２０＝１６０箇所を偏光顕微鏡に取付けた
セナルモンコンペンセーターを用いて測定した。光源と
してはハロゲンランプを用いた。測定結果は表１に示し
た。また、このフィルムは直交ニコル下で均一な色調を
示した。
μｍ、幅５００ｍｍの透明フィルムとし、このフィルム
を１６０℃で一軸で５％延伸し、厚さ１００μｍの均一
な位相差補償フィルムを得た。得られた位相差補償フィ
ルムを幅４００ｍｍ長さ１ｍに切断し、縦横各々５０ｍ
ｍ間隔で８×２０＝１６０箇所を偏光顕微鏡に取付けた
セナルモンコンペンセーターを用いて測定した。光源と
してはハロゲンランプを用いた。測定結果は表１に示し
た。また、このフィルムは直交ニコル下で均一な色調を
示した。
【００４５】実施例２ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン７
３．０ｇ（０．３２モル）を６％濃度の水酸化ナトリウ
ム水溶液５５０ｍｌに溶解した溶液と、塩化メチレン２
５０ｍｌとを混合しながら、冷却下、液中にホスゲンガ
スを９５０ｍｌ／分の割合で１５分吹き込んだ。次い
で、この反応液を静置分離し、有機相に重合度が２〜４
であり、分子末端にクロロホルメート基を有するオリゴ
マーの塩化メチレン溶液を得た。
３．０ｇ（０．３２モル）を６％濃度の水酸化ナトリウ
ム水溶液５５０ｍｌに溶解した溶液と、塩化メチレン２
５０ｍｌとを混合しながら、冷却下、液中にホスゲンガ
スを９５０ｍｌ／分の割合で１５分吹き込んだ。次い
で、この反応液を静置分離し、有機相に重合度が２〜４
であり、分子末端にクロロホルメート基を有するオリゴ
マーの塩化メチレン溶液を得た。
【００４６】得られたオリゴマー溶液に塩化メチレンを
加えて全量を４５０ｍｌとした後、２，２−ビス（３−
フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン３０．４
ｇ（０．０８モル）、８％濃度の水酸化ナトリウム水溶
液１５０ｍｌと混合し、これに末端停止剤（分子量調節
剤）としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．８ｇを
加えた。
加えて全量を４５０ｍｌとした後、２，２−ビス（３−
フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン３０．４
ｇ（０．０８モル）、８％濃度の水酸化ナトリウム水溶
液１５０ｍｌと混合し、これに末端停止剤（分子量調節
剤）としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．８ｇを
加えた。
【００４７】次いでこの混合液を激しく攪拌しながら触
媒として１０％トリエチルアミン水溶液１ｍｌを加え、
室温で攪拌下、１時間反応を行った。反応終了後、有機
層に塩化メチレン１リットルを加えて希釈し、水、希塩
酸、水の順に洗浄した後、メタノール中に投入してポリ
カーボネート重合体を得た。
媒として１０％トリエチルアミン水溶液１ｍｌを加え、
室温で攪拌下、１時間反応を行った。反応終了後、有機
層に塩化メチレン１リットルを加えて希釈し、水、希塩
酸、水の順に洗浄した後、メタノール中に投入してポリ
カーボネート重合体を得た。
【００４８】このようにして得られた重合体は塩化メチ
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．７８ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より次の繰り返し単位
［Ｉ b］及び［ＩＩ ］からなり、［Ｉ b］：［ＩＩ ］がモ
ル比で約１：４であるポリカーボネートであることが確
認された。
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．７８ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より次の繰り返し単位
［Ｉ b］及び［ＩＩ ］からなり、［Ｉ b］：［ＩＩ ］がモ
ル比で約１：４であるポリカーボネートであることが確
認された。
【００４９】
【化６】 この重合体を用いて、実施例１と同様にして位相差補償
フィルムを作製し、Ｒ値の測定を行った。測定結果は表
１に示したようになった。またこのフィルムは直交ニコ
ル下で均一な色調を示した。
フィルムを作製し、Ｒ値の測定を行った。測定結果は表
１に示したようになった。またこのフィルムは直交ニコ
ル下で均一な色調を示した。
【００５０】実施例３ オリゴマー溶液を調製する際に４，４′−ジヒドロキシ
テトラフェニルメタン１１２．５ｇ（０．３２モル）
を、ポリマー重合の際に後添加モノマーとして更に４，
４′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン２８．２ｇ
（０．０８モル）を用いた以外は実施例２と同様に行っ
た。
テトラフェニルメタン１１２．５ｇ（０．３２モル）
を、ポリマー重合の際に後添加モノマーとして更に４，
４′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン２８．２ｇ
（０．０８モル）を用いた以外は実施例２と同様に行っ
た。
【００５１】このようにして得られた重合体は塩化メチ
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．７８ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の繰り返し単
位［Ｉc］からなるポリカーボネートであることが確認
された。
レンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃に
おける還元粘度［ηsp／ｃ］が０．７８ｄｌ／ｇであ
り、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の繰り返し単
位［Ｉc］からなるポリカーボネートであることが確認
された。
【００５２】
【化７】 この重合体を用いて、実施例１と同様にして位相差補償
フィルムを作製し、Ｒ値の測定を行った。測定結果は表
１に示したようになった。またこのフィルムは直交ニコ
ル下で均一な色調を示した。
フィルムを作製し、Ｒ値の測定を行った。測定結果は表
１に示したようになった。またこのフィルムは直交ニコ
ル下で均一な色調を示した。
【００５３】比較例１ 市販のポリマーである２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンとホスゲンとの反応（末端停止剤はｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）によって製造された下
記の繰り返し単位［ＩＩ ］からなるポリカーボネート
（［ηsp／ｃ］＝０．７６ｄｌ／ｇ）を用いて、実施例
１と同様にして位相差補償フィルムの製作を試み、得ら
れたフィルムについて実施例１と同様にしてＲ値の測定
を行った。
ェニル）プロパンとホスゲンとの反応（末端停止剤はｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）によって製造された下
記の繰り返し単位［ＩＩ ］からなるポリカーボネート
（［ηsp／ｃ］＝０．７６ｄｌ／ｇ）を用いて、実施例
１と同様にして位相差補償フィルムの製作を試み、得ら
れたフィルムについて実施例１と同様にしてＲ値の測定
を行った。
【００５４】またこのフィルムは直交ニコル下で顕著な
色調のムラを示した。
色調のムラを示した。
【００５５】
【化８】
【００５６】
【表１】
【００５７】
【発明の効果】本発明によると、特定の構造のポリカー
ボネート系重合体からなる延伸フィルム又はシートを用
いているので、Ｒ値を適当な範囲に制御しやすい上に、
Ｒ値のばらつきを例えば３％以内、更には２％以内とい
う著しく低い範囲に容易に低減することができ、したが
って、液晶パネル用位相差補償フィルム等として好適に
かつ有利に利用できる高性能の位相差補償フィルムを提
供することができる。
ボネート系重合体からなる延伸フィルム又はシートを用
いているので、Ｒ値を適当な範囲に制御しやすい上に、
Ｒ値のばらつきを例えば３％以内、更には２％以内とい
う著しく低い範囲に容易に低減することができ、したが
って、液晶パネル用位相差補償フィルム等として好適に
かつ有利に利用できる高性能の位相差補償フィルムを提
供することができる。
【００５８】また、本発明によると、各種製品間につい
てもＲ値のばらつき等の品質のむらやばらつきを著しく
低減することができるので、製品の歩留り及び生産性を
も著しく改善することができる。
てもＲ値のばらつき等の品質のむらやばらつきを著しく
低減することができるので、製品の歩留り及び生産性を
も著しく改善することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長尾 知浩 千葉県袖ケ浦市上泉1280番地 出光興産株 式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 次の一般式［Ｉ］ 【化１】 （ただし、式［Ｉ］中のＲ1及びＲ2は、各々独立に、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７
のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若しくは
無置換のアリール基を示し、ａ及びｂは各々独立に０〜
４の整数を示し、Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−
Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2 −、−ＣＲ3Ｒ4 −（ここで、
Ｒ3及びＲ4は、各々独立に、水素原子、トリフルオロメ
チル基、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２
の置換若しくは無置換のアリール基を示す。）、炭素数
５〜８のシクロアルキリデン基又は炭素数２〜１２の
α，ω−アルキレン基を示し、ただし、上記においてａ
＝ｂ＝０の場合にはＸが−Ｃ（ＣＨ3）2−になることは
ないものとする。）で表される繰り返し単位［Ｉ］、又
は、該繰り返し単位［Ｉ］と次の式［ＩＩ］ 【化２】 で表される繰り返し単位［ＩＩ］とを有するポリカーボ
ネート系重合体からなる延伸されたフィルム又はシート
よりなることを特徴とする位相差補償フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4248858A JPH0675113A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 位相差補償フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4248858A JPH0675113A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 位相差補償フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0675113A true JPH0675113A (ja) | 1994-03-18 |
Family
ID=17184476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4248858A Pending JPH0675113A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 位相差補償フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0675113A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06194520A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 位相差フィルム |
| GB2394718A (en) * | 2002-09-05 | 2004-05-05 | Merck Patent Gmbh | Polymerised liquid crystal film with retardation pattern and method of making |
| JP2008169384A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-24 | Kaneka Corp | コーティング用樹脂、光学補償用薄膜、光学補償用積層体、光学補償用偏光板、及び液晶表示装置。 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01156323A (ja) * | 1987-12-14 | 1989-06-19 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 新規ポリカーボネート系重合体とその製法 |
| JPH01201328A (ja) * | 1988-02-04 | 1989-08-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
| JPH01201329A (ja) * | 1988-02-04 | 1989-08-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
-
1992
- 1992-08-26 JP JP4248858A patent/JPH0675113A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01156323A (ja) * | 1987-12-14 | 1989-06-19 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 新規ポリカーボネート系重合体とその製法 |
| JPH01201328A (ja) * | 1988-02-04 | 1989-08-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
| JPH01201329A (ja) * | 1988-02-04 | 1989-08-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06194520A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 位相差フィルム |
| GB2394718A (en) * | 2002-09-05 | 2004-05-05 | Merck Patent Gmbh | Polymerised liquid crystal film with retardation pattern and method of making |
| GB2394718B (en) * | 2002-09-05 | 2007-03-07 | Merck Patent Gmbh | Polymerised liquid crystal film with retardation pattern |
| JP2008169384A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-24 | Kaneka Corp | コーティング用樹脂、光学補償用薄膜、光学補償用積層体、光学補償用偏光板、及び液晶表示装置。 |
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