JPH01156323A - 新規ポリカーボネート系重合体とその製法 - Google Patents
新規ポリカーボネート系重合体とその製法Info
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 53
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 title claims abstract description 27
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- -1 1-phenyl-4,4'-dihydroxybiphenyl Chemical group 0.000 description 10
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 4-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- ILQWYZZOCYARGS-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)sulfonyl-2-phenylphenol Chemical compound OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=C(C(O)=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=C1C1=CC=CC=C1 ILQWYZZOCYARGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- BAYSQTBAJQRACX-UHFFFAOYSA-N dodecyl 4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 BAYSQTBAJQRACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DFAXBVOHLIMORA-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-3-phenylphenyl)methyl]-2-phenylphenol Chemical compound C1=C(C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=C1CC(C=1)=CC=C(O)C=1C1=CC=CC=C1 DFAXBVOHLIMORA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZEBECRWRATTQK-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)-1-phenylethyl]-2-phenylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C(C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C=1C=C(C(O)=CC=1)C=1C=CC=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 GZEBECRWRATTQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWHKQJPPILAVDT-UHFFFAOYSA-N 4-decoxyphenol Chemical compound CCCCCCCCCCOC1=CC=C(O)C=C1 NWHKQJPPILAVDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- GMMXJVUYXPXLPY-UHFFFAOYSA-N decyl 4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 GMMXJVUYXPXLPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 2-propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGLNWHWBCINBS-UHFFFAOYSA-N 3-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 QWGLNWHWBCINBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEIDBLEDZNHPX-UHFFFAOYSA-N 3-octadecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 GWEIDBLEDZNHPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFTTTWKZLOQAFF-UHFFFAOYSA-N 3-octoxyphenol Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=CC(O)=C1 QFTTTWKZLOQAFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEVPNCHYTKOQMP-UHFFFAOYSA-N 3-octylphenol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 QEVPNCHYTKOQMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZNGBUBBHJRUDA-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylnonyl)phenol Chemical compound CCCCCCCC(C)CC1=CC=C(O)C=C1 HZNGBUBBHJRUDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRUUIOGMQXFBGB-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3-phenylphenoxy)-2-phenylphenol Chemical compound C1=C(C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=C1OC(C=1)=CC=C(O)C=1C1=CC=CC=C1 NRUUIOGMQXFBGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTSCPDDAOASPMM-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)-2-phenylphenol Chemical group OC1=CC=C(C=2C=C(C(O)=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=C1C1=CC=CC=C1 OTSCPDDAOASPMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJSYZLHOGGCIPZ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)sulfanyl-2-phenylphenol Chemical compound C1=C(C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=C1SC(C=1)=CC=C(O)C=1C1=CC=CC=C1 DJSYZLHOGGCIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJWMCPYEODZESQ-UHFFFAOYSA-N 4-Dodecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 KJWMCPYEODZESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYZZBONUUYZWRH-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)-1-phenylbutyl]-2-phenylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C(C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C=1C=C(C(O)=CC=1)C=1C=CC=CC=1)(CCC)C1=CC=CC=C1 BYZZBONUUYZWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDMUSQXSAXGHTD-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)ethyl]-2-phenylphenol Chemical compound C1=C(C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=C1CCC(C=1)=CC=C(O)C=1C1=CC=CC=C1 GDMUSQXSAXGHTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKTRENAPTCBBFA-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)propan-2-yl]-2-phenylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C(C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C(C=1)=CC=C(O)C=1C1=CC=CC=C1 BKTRENAPTCBBFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCBKOXAKNYCUDW-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)butyl]-2-phenylphenol Chemical compound C1=C(C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=C1CCCCC(C=1)=CC=C(O)C=1C1=CC=CC=C1 KCBKOXAKNYCUDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZBYSJDZABUYIG-UHFFFAOYSA-N 4-[8-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)octyl]-2-phenylphenol Chemical compound C1=C(C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=C1CCCCCCCCC(C=1)=CC=C(O)C=1C1=CC=CC=C1 WZBYSJDZABUYIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGTLMVREWQIWEC-UHFFFAOYSA-N 4-decylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 CGTLMVREWQIWEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHXJDKPJCDJBEM-UHFFFAOYSA-N 4-dodecoxyphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CC=C(O)C=C1 FHXJDKPJCDJBEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWTMUDGIRYDDHJ-UHFFFAOYSA-N 4-hexadecoxyphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC1=CC=C(O)C=C1 CWTMUDGIRYDDHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHCHQNXRVNQPHJ-UHFFFAOYSA-N 4-hexadecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 MHCHQNXRVNQPHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- IPOLGHIMIPSIJX-UHFFFAOYSA-N 4-nonoxyphenol Chemical compound CCCCCCCCCOC1=CC=C(O)C=C1 IPOLGHIMIPSIJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIZUBPHXHVWGHD-UHFFFAOYSA-N 4-octadecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 QIZUBPHXHVWGHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFRUPPHPJRZOCM-UHFFFAOYSA-N 4-octoxyphenol Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=C(O)C=C1 HFRUPPHPJRZOCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTDQQZYCCIDJRK-UHFFFAOYSA-N 4-octylphenol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 NTDQQZYCCIDJRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSTWJNRTDPVXOC-UHFFFAOYSA-N 4-pentadecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 MSTWJNRTDPVXOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVXYJDHHENXZLA-UHFFFAOYSA-N CC(CC1=CC=C(C=C1)O)CCCCCCCCCC Chemical compound CC(CC1=CC=C(C=C1)O)CCCCCCCCCC LVXYJDHHENXZLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- MUCRFDZUHPMASM-UHFFFAOYSA-N bis(2-chlorophenyl) carbonate Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1Cl MUCRFDZUHPMASM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXEPYWPKFIZYFO-UHFFFAOYSA-N bis(4-hydroxy-3-phenylphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(C(=O)C=2C=C(C(O)=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=C1C1=CC=CC=C1 YXEPYWPKFIZYFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004651 carbonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N chlorocarbonic acid Chemical class OC(Cl)=O AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- BIIPHRRRSVZMLK-UHFFFAOYSA-N decanoyl bromide Chemical compound CCCCCCCCCC(Br)=O BIIPHRRRSVZMLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPIVAXLHTVNRBS-UHFFFAOYSA-N decanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCC(Cl)=O IPIVAXLHTVNRBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQGIJDNPUZEBRU-UHFFFAOYSA-N dodecanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCCCC(Cl)=O NQGIJDNPUZEBRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJYBKFFVXWWBMY-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1O CJYBKFFVXWWBMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ARBOVOVUTSQWSS-UHFFFAOYSA-N hexadecanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(Cl)=O ARBOVOVUTSQWSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHLHASWXBVULGU-UHFFFAOYSA-N hexadecyl 2-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1O NHLHASWXBVULGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- BXZBGYJQEFZICM-UHFFFAOYSA-N icosanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(Cl)=O BXZBGYJQEFZICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 235000000396 iron Nutrition 0.000 description 1
- YAQXGBBDJYBXKL-UHFFFAOYSA-N iron(2+);1,10-phenanthroline;dicyanide Chemical compound [Fe+2].N#[C-].N#[C-].C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1.C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 YAQXGBBDJYBXKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LSEFCHWGJNHZNT-UHFFFAOYSA-M methyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 LSEFCHWGJNHZNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- RTQIXXGJUAQHLB-UHFFFAOYSA-N nonanoyl bromide Chemical compound CCCCCCCCC(Br)=O RTQIXXGJUAQHLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTQYXUJLILNTFH-UHFFFAOYSA-N nonanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCC(Cl)=O NTQYXUJLILNTFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNSKHJDYXPONL-UHFFFAOYSA-N nonyl 4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 MBNSKHJDYXPONL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTBAHSZERDXKKZ-UHFFFAOYSA-N octadecanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(Cl)=O WTBAHSZERDXKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITYCRFXTOMEQFF-UHFFFAOYSA-N octadecyl 4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 ITYCRFXTOMEQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAJACIZEQBXWOS-UHFFFAOYSA-N octyl 3-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC(O)=C1 LAJACIZEQBXWOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004023 quaternary phosphonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUKPJGZUFHCZQI-UHFFFAOYSA-N undecanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCCC(Cl)=O JUKPJGZUFHCZQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規なポリカーボネート系重合体とその製法
に関し、より詳しくは、溶融流動性に優れ、成形加工し
やすく成形後の残留歪みが小さいポリカーボネート系重
合体とその製造法に関する。
に関し、より詳しくは、溶融流動性に優れ、成形加工し
やすく成形後の残留歪みが小さいポリカーボネート系重
合体とその製造法に関する。
ポリカーボネート樹脂は、透明性、耐熱性、機械的強度
等に優れており、光学分野、電気分野、医療、化学分野
等の種々の分野に利用されている。
等に優れており、光学分野、電気分野、医療、化学分野
等の種々の分野に利用されている。
しかしながら、一般に用いられている2、2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパンを原料とするポリカー
ボネートは、射出成形等の成形加工時の溶融流動性が悪
いという欠点を有しており、特に超精密成形品等に用い
るには不適当である等の問題点があった。
−ヒドロキシフェニル)プロパンを原料とするポリカー
ボネートは、射出成形等の成形加工時の溶融流動性が悪
いという欠点を有しており、特に超精密成形品等に用い
るには不適当である等の問題点があった。
本発明は、透明性、耐熱性、機械的強度等の基本特性に
優れ、しかも成形時の溶融流動性が著しく向上しており
、成形時に発生する応力が著しく少ない新規ポリカーボ
ネート系重合体を提供することを目的とする。
優れ、しかも成形時の溶融流動性が著しく向上しており
、成形時に発生する応力が著しく少ない新規ポリカーボ
ネート系重合体を提供することを目的とする。
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、特定の構造の繰
り返し単位を有し、かつ、特定の重合体末端構造を有す
るポリカーボネート系重合体が上記目的を満足すること
を見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
り返し単位を有し、かつ、特定の重合体末端構造を有す
るポリカーボネート系重合体が上記目的を満足すること
を見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
すなわち、本発明は、次の一般式(I)〔但し、上記式
中、Xlは、単結合、−0−1−s−、−5o2−、−
co〜、−C−(ここで、R1およびR2は、水素原子
、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基またはフェ
ニル基を表し、R1=R2であっても、R1≠ R2で
あってもよい。)÷CH2斗、(但し、Uは、2〜10
の整数を表〜8の整数を表す。)を表し、nは、10〜
100の整数を表し、Zが、次の一般式(n)−CO−
R” (n )(但し、R3は、炭素
数8〜30のアルキル基を表す。)または次の一般式(
III) (但し、R4は、炭素数8〜30のアルキル基を表し、
Yは、単結合、−〇−または−COO−を表す。
中、Xlは、単結合、−0−1−s−、−5o2−、−
co〜、−C−(ここで、R1およびR2は、水素原子
、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基またはフェ
ニル基を表し、R1=R2であっても、R1≠ R2で
あってもよい。)÷CH2斗、(但し、Uは、2〜10
の整数を表〜8の整数を表す。)を表し、nは、10〜
100の整数を表し、Zが、次の一般式(n)−CO−
R” (n )(但し、R3は、炭素
数8〜30のアルキル基を表す。)または次の一般式(
III) (但し、R4は、炭素数8〜30のアルキル基を表し、
Yは、単結合、−〇−または−COO−を表す。
)〕で表される新規ポリカーボネート系重合体を提供す
るものである。
るものである。
本発明のポリカーボネート系重合体は、重合体の主鎖が
、前記−数式(I)で表され、重合体の両末端の各々が
、前記−数式(n)〜(II[)のいずれかによって表
される構造を有する末端変性ポリカーボネ−1・重合体
である。
、前記−数式(I)で表され、重合体の両末端の各々が
、前記−数式(n)〜(II[)のいずれかによって表
される構造を有する末端変性ポリカーボネ−1・重合体
である。
この−数式(I)で表される構造を有しているため成形
加工時における溶融流動性がよくなるとともに光学弾性
係数も小さくなる。
加工時における溶融流動性がよくなるとともに光学弾性
係数も小さくなる。
前記重合体は、XIの異なるモノマーを用いたランダム
重合体、交互重合体、ブロック重合体であってでもよく
、それらの混合物であってもよいが、通常、その製造の
容易さなどの点からホモ重合体が好適に使用される。
重合体、交互重合体、ブロック重合体であってでもよく
、それらの混合物であってもよいが、通常、その製造の
容易さなどの点からホモ重合体が好適に使用される。
前記重合体は、両末端が前記の如く、−数式(n)〜(
III)で表される基の中の少なくとも1種によって構
成される。
III)で表される基の中の少なくとも1種によって構
成される。
前記x1として用いられる前記−C−中のR1およびR
2の各々の具体例としては、たとえば水素原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、フ
ェニル基等を挙げることができ、「 これらR1およびR2から構成される一〇−の特に好「 を挙げることができる。
2の各々の具体例としては、たとえば水素原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、フ
ェニル基等を挙げることができ、「 これらR1およびR2から構成される一〇−の特に好「 を挙げることができる。
前記Xの特に好適なものとしては、たとえば、前記nは
、 10〜100の数を表すが、通常15〜80程度
が好ましい。 前記重合体末端基中のR3およびR4の
各々の具体例としては、たとえば、直鎖状または分岐状
のオクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペン
タデシル基、オクタデシル基等を挙げることができる。
、 10〜100の数を表すが、通常15〜80程度
が好ましい。 前記重合体末端基中のR3およびR4の
各々の具体例としては、たとえば、直鎖状または分岐状
のオクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペン
タデシル基、オクタデシル基等を挙げることができる。
本発明のポリカーボネート系重合体は、上記の如き特定
の重合体主鎖構造および特定の重合体末端構造を有する
ものであるが、このポリカーボネート系樹脂は、その塩
化メチレンを溶媒とする0゜5g/a濃度の溶液の20
°Cにおける還元粘度(ri sp/c)が0.2dl
/g以上、好ましくは0.25〜0.8d/gのものが
望ましい。
の重合体主鎖構造および特定の重合体末端構造を有する
ものであるが、このポリカーボネート系樹脂は、その塩
化メチレンを溶媒とする0゜5g/a濃度の溶液の20
°Cにおける還元粘度(ri sp/c)が0.2dl
/g以上、好ましくは0.25〜0.8d/gのものが
望ましい。
この還元粘度が、0 、2 dl / g未満のものは
、十分な強度が得られない。
、十分な強度が得られない。
本発明のポリカーボネート系重合体は、通常、直鎖状の
ポリカーボネートから成るものが好適であるが、本発明
の目的に支障のない範囲で所望により、部分的に分岐状
構造を有するものも使用可能であり、また、少量の末端
未変性の重合体分子をあるいは、前記−数式(II)〜
(In)以外の末端基を有する重合体を含有させてもよ
い。
ポリカーボネートから成るものが好適であるが、本発明
の目的に支障のない範囲で所望により、部分的に分岐状
構造を有するものも使用可能であり、また、少量の末端
未変性の重合体分子をあるいは、前記−数式(II)〜
(In)以外の末端基を有する重合体を含有させてもよ
い。
また、使用目的に応じて、通常用いられる種々の添加物
を添加したり、他のポリカーボネート等のポリマーとの
組成物として用いてもよい。
を添加したり、他のポリカーボネート等のポリマーとの
組成物として用いてもよい。
本発明のポリカーボネート系重合体は通常、次の一般式
(IV) で表される二価フェノールに、炭酸エステル形成性化合
物を反応させてポリカーボネート系重合体を製造するに
あたり、末端停止剤として、R’−COOH、R’−C
OX2、 またはH より製造することができる 〔但し、式中、×1、X2、R3、R4、Yは、ツレツ
レ前記同様の意味を表す。〕 なお、上記末端停止剤は、重合体末端の変性剤として作
用するものであり、本発明の目的に支障のない範囲で、
他の末端停止剤、たとえば、−官能性フェノール類、ナ
フタレン類等の公知の一官能性有機化合物等を併用する
ことも可能である。
(IV) で表される二価フェノールに、炭酸エステル形成性化合
物を反応させてポリカーボネート系重合体を製造するに
あたり、末端停止剤として、R’−COOH、R’−C
OX2、 またはH より製造することができる 〔但し、式中、×1、X2、R3、R4、Yは、ツレツ
レ前記同様の意味を表す。〕 なお、上記末端停止剤は、重合体末端の変性剤として作
用するものであり、本発明の目的に支障のない範囲で、
他の末端停止剤、たとえば、−官能性フェノール類、ナ
フタレン類等の公知の一官能性有機化合物等を併用する
ことも可能である。
前記−数式(IV)で表される化合物の具体例としては
、たとえば3,3′−ジフェニル−4,4′−ジヒドロ
キシビフェニル、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)メタン、1−フェニル−1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1.1−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン
、1.2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、1−フェニル−1,1−ビス(3−フェニ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、2゜2−ビス(
3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2
.2−ビス(3−フェニル−4=ヒドロキシフエニル)
ブタン、1.4−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)ブタン、1.1−ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)−1−フェニルブタン、2.2−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)オクタ
ン、1.8−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)オクタン、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)エーテル、ビス(3−フェニルー4−ヒドロ
キシフェニル)スルフィド、ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(3−フェニル−4
−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロペンクン、
1.1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル
)シクロヘキサン等を挙げることができ、これらの中で
特に、2.2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、1−フェニル−1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(3
−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1.
1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサン等が好ましい。
、たとえば3,3′−ジフェニル−4,4′−ジヒドロ
キシビフェニル、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)メタン、1−フェニル−1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1.1−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン
、1.2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、1−フェニル−1,1−ビス(3−フェニ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、2゜2−ビス(
3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2
.2−ビス(3−フェニル−4=ヒドロキシフエニル)
ブタン、1.4−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)ブタン、1.1−ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)−1−フェニルブタン、2.2−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)オクタ
ン、1.8−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)オクタン、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)エーテル、ビス(3−フェニルー4−ヒドロ
キシフェニル)スルフィド、ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(3−フェニル−4
−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロペンクン、
1.1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル
)シクロヘキサン等を挙げることができ、これらの中で
特に、2.2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、1−フェニル−1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(3
−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1.
1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサン等が好ましい。
なお、これらの化合物は、一種単独で用いてもよく、2
種以上を併用してもよい。
種以上を併用してもよい。
前記−数式R3−C0OH、R3−COClで表される
化合物としては、たとえば、ノナノイルクロリド、ノナ
ノイルプロミド、デカノイルクロリド、デカノイルプロ
ミド、ウンデカノイルクロリド、ドデカノイルクロリド
、ペンタデカノイルクロリド、ヘキサデカノイルクロリ
ド、オクタデカノイルクロリド、イコサノイルクロリド
、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、ペ
ンタデカン酸、ヘキサデカン酸、オクタデカン酸等を挙
げることができる。
化合物としては、たとえば、ノナノイルクロリド、ノナ
ノイルプロミド、デカノイルクロリド、デカノイルプロ
ミド、ウンデカノイルクロリド、ドデカノイルクロリド
、ペンタデカノイルクロリド、ヘキサデカノイルクロリ
ド、オクタデカノイルクロリド、イコサノイルクロリド
、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、ペ
ンタデカン酸、ヘキサデカン酸、オクタデカン酸等を挙
げることができる。
なお、これらの化合物は、1種単独で用いてもよく、2
種以上を併用してもよい。
種以上を併用してもよい。
前記−数式(V)で表される化合物としては、たとえば
、p−オクチルフェノール、m−オクチルフェノール、
0−オクチルフェノール、p−ノニルフェノール、m−
ノニルフェノール、p−デシルフェノール、p−(2−
メチルノニル)フェノール、p−ウンデシルフェール、
p−ドデシルフェノール、p−(2−メチルドデシル)
フェノール、p−ペンタデシルフェノール、p−ヘキサ
デシルフェノール、p−オクタデシルフェノール、m−
オクタデシルフェノール、p−オクチルオキシフェノー
ル、m−オクチルオキシフェノール、p−ノニルオキシ
フェノール、p−デシルオキシフェノール、p−ドデシ
ルオキシフェノール、p−ヘキザデシルオキシフェノー
ル、p−オククデシルオキシフェノール、P−オクチル
オキシカルボニルフェノール、m−オクチルオキシカル
ボニルフェノール、p−ノニルオキシカルボニルフェノ
ール、p−デシルオキシカルボニルフェノール(p−ヒ
ドロキシ安息香酸デシルLp−ドデシルオキシカルボニ
ルフェノール(P−ヒドロキシ安息香酸ドデシルLp−
ヘキザデシルオキシカルボニルフェノール、p−オクタ
デシルオキシカルボニルフェノール等を挙げることがで
きる。
、p−オクチルフェノール、m−オクチルフェノール、
0−オクチルフェノール、p−ノニルフェノール、m−
ノニルフェノール、p−デシルフェノール、p−(2−
メチルノニル)フェノール、p−ウンデシルフェール、
p−ドデシルフェノール、p−(2−メチルドデシル)
フェノール、p−ペンタデシルフェノール、p−ヘキサ
デシルフェノール、p−オクタデシルフェノール、m−
オクタデシルフェノール、p−オクチルオキシフェノー
ル、m−オクチルオキシフェノール、p−ノニルオキシ
フェノール、p−デシルオキシフェノール、p−ドデシ
ルオキシフェノール、p−ヘキザデシルオキシフェノー
ル、p−オククデシルオキシフェノール、P−オクチル
オキシカルボニルフェノール、m−オクチルオキシカル
ボニルフェノール、p−ノニルオキシカルボニルフェノ
ール、p−デシルオキシカルボニルフェノール(p−ヒ
ドロキシ安息香酸デシルLp−ドデシルオキシカルボニ
ルフェノール(P−ヒドロキシ安息香酸ドデシルLp−
ヘキザデシルオキシカルボニルフェノール、p−オクタ
デシルオキシカルボニルフェノール等を挙げることがで
きる。
これらの中でも、p一体が好適であり、特に、p−ノニ
ルフェノール、p−デシルオキシフェノール、p−ドデ
シルオキシカルボニルフェノール等が好適に使用できる
。
ルフェノール、p−デシルオキシフェノール、p−ドデ
シルオキシカルボニルフェノール等が好適に使用できる
。
なお、これらの化合物は、1種単独で使用してもよく、
2種以上を併用してもよい。
2種以上を併用してもよい。
前記炭酸エステル形成性化合物としては、従来のビスフ
ェノールA等をモノマーとするポリカーボネートの製造
に用いるもの、たとえば、ハロゲン化カルボニル、炭酸
エステル、ハロホルメート類等が使用できる。
ェノールA等をモノマーとするポリカーボネートの製造
に用いるもの、たとえば、ハロゲン化カルボニル、炭酸
エステル、ハロホルメート類等が使用できる。
このハロゲン化カルボニルの具体例としては、たとえば
、三臭化カルボニル、二塩化カルボニル(ホスゲン)あ
るいはこれらの混合物を挙げることができる。
、三臭化カルボニル、二塩化カルボニル(ホスゲン)あ
るいはこれらの混合物を挙げることができる。
前記炭酸エステルとしては、たとえば、ジフェニルカー
ボネート、ジ(クロロフェニル)カーボネート、ジトリ
ルカーボネート、ジナフチルカーボネート等あるいはこ
れらの混合物を挙げることができる。
ボネート、ジ(クロロフェニル)カーボネート、ジトリ
ルカーボネート、ジナフチルカーボネート等あるいはこ
れらの混合物を挙げることができる。
前記ハロホルメート類としては、前記−数式(IV)で
表される化合物のクロロホルメートが使用できる。
表される化合物のクロロホルメートが使用できる。
前記モノマーと炭酸エステル形成性化合物との反応(重
合反応)および前記末端停止剤による重合体末端基変性
反応(停止反応)は、公知の重合方法、末端基変性反応
方法に準じて行うことができ、たとえば、次に示す如き
反応方法が好適に採用できる。
合反応)および前記末端停止剤による重合体末端基変性
反応(停止反応)は、公知の重合方法、末端基変性反応
方法に準じて行うことができ、たとえば、次に示す如き
反応方法が好適に採用できる。
すなわち、前記−数式(IV)で表される化合物に、ホ
スゲンを導入し、末端未変性オリゴマーもしくはポリマ
ーを形成せしめ、次いで、前記末端停止剤を適量添加し
て、上記重合反応を継続しつつ上記停止反応を行わしめ
る方法が特に好適に採用できる。
スゲンを導入し、末端未変性オリゴマーもしくはポリマ
ーを形成せしめ、次いで、前記末端停止剤を適量添加し
て、上記重合反応を継続しつつ上記停止反応を行わしめ
る方法が特に好適に採用できる。
上記重合反応および重合体末端基変性反応を行うに際し
ては、酸受容体、および触媒を適宜使用することができ
る。
ては、酸受容体、および触媒を適宜使用することができ
る。
この酸受容体としは、たとえば、トリエチルアミン、N
、N−ジメチルアニリン、トリプロピルアミン、トリブ
チルアミン、ピリジン等の第三級アミン等の有機系酸受
容体、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩などの無機系酸受容
体が使用できる。 これらの中でも通常、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等の強アルカリ化合物が好適に使
用できる。なお、これらの水酸化アルカリは、前記−数
式(IV)で表されるモノマーとの塩として用いること
も可能である。
、N−ジメチルアニリン、トリプロピルアミン、トリブ
チルアミン、ピリジン等の第三級アミン等の有機系酸受
容体、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩などの無機系酸受容
体が使用できる。 これらの中でも通常、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等の強アルカリ化合物が好適に使
用できる。なお、これらの水酸化アルカリは、前記−数
式(IV)で表されるモノマーとの塩として用いること
も可能である。
また、前記重合反応、末端基変性反応は、所望により溶
媒の存在下で行うことができる。
媒の存在下で行うことができる。
この溶媒としては、ビスフェノールA等をモノマーとす
る公知のポリカーボネートの製造に用いられるもの、す
なわち水系溶媒、非水系極性溶媒などが使用可能である
。
る公知のポリカーボネートの製造に用いられるもの、す
なわち水系溶媒、非水系極性溶媒などが使用可能である
。
前記触媒としては、公知のものが使用可能であり、具体
的にはたとえばトリエチルアミン、トリプロピルアミン
、N、N−ジメチルアニリン等の第3級アミン、テトラ
エチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウ
ムプロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド等の第4級アンモニ
ウム化合物、メチルトリフェニルホスホニウムプロミド
等の第4級ホスホニウム化合物等を挙げることができる
。これらの中でも、特にトリエチルアミン等の第3級ア
ミン等が好適に使用できる。
的にはたとえばトリエチルアミン、トリプロピルアミン
、N、N−ジメチルアニリン等の第3級アミン、テトラ
エチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウ
ムプロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド等の第4級アンモニ
ウム化合物、メチルトリフェニルホスホニウムプロミド
等の第4級ホスホニウム化合物等を挙げることができる
。これらの中でも、特にトリエチルアミン等の第3級ア
ミン等が好適に使用できる。
また、上記重合反応を行うに際して、所望により、但し
、本発明の目的に支障のない範囲で公知の三官能性化合
物などの多官能性化合物を適量添加し、部分的に分枝状
構造を有するポリカーボネート系樹脂としたり、公知の
他のモノマーを添加して、重合体の主鎖に他の繰り返し
単位を導入することも可能である。
、本発明の目的に支障のない範囲で公知の三官能性化合
物などの多官能性化合物を適量添加し、部分的に分枝状
構造を有するポリカーボネート系樹脂としたり、公知の
他のモノマーを添加して、重合体の主鎖に他の繰り返し
単位を導入することも可能である。
このようにして得られたポリカーボネートは、公知の分
離方法等による分離操作、公知の洗浄方法などの精製操
作等の後処理を施して、所望の純度のものとすることが
できる。
離方法等による分離操作、公知の洗浄方法などの精製操
作等の後処理を施して、所望の純度のものとすることが
できる。
上記のようにして得られたポリカーボネート系重合体は
、そのまま、あるいは所望により、使用目的に応じて添
加物や他のポリカーボネート等のポリマー等を配合して
組成物とし、各種の用途に使用することができる。
、そのまま、あるいは所望により、使用目的に応じて添
加物や他のポリカーボネート等のポリマー等を配合して
組成物とし、各種の用途に使用することができる。
このようにして得ることができるポリカーボネート系樹
脂からなる本発明の光学機器用素材は、射出成形等の成
形加工時における溶融流動性に著しく優れ1、成形加工
が容易であり、しかもポリカーボネートが有する透明性
、耐熱性、機械的強度等の基本特性に優れることはもと
より、特に複屈折等の光学異方性が著しく低減した成形
品を得ることができる優れた光学機器用素材であり、た
とえば、レンズ、光ディスク、光ファイバー等の種々の
光学機器用成形品、特に超精密光学機器用成形品として
好適に利用できる。
脂からなる本発明の光学機器用素材は、射出成形等の成
形加工時における溶融流動性に著しく優れ1、成形加工
が容易であり、しかもポリカーボネートが有する透明性
、耐熱性、機械的強度等の基本特性に優れることはもと
より、特に複屈折等の光学異方性が著しく低減した成形
品を得ることができる優れた光学機器用素材であり、た
とえば、レンズ、光ディスク、光ファイバー等の種々の
光学機器用成形品、特に超精密光学機器用成形品として
好適に利用できる。
さらに、電気アイロンの水タンク、電子レンジ用品、液
晶表示用基板、プリント基板、高周波用回路基板、透明
導電性シート・フィルム等の電気分野、注射器、ピペッ
ト、アニマルゲージ等の医療、化学分野、カメラボディ
、各種計器類ハウジング、フィルム、シート、ヘルメッ
ト等各種の分野で好適に利用できる。
晶表示用基板、プリント基板、高周波用回路基板、透明
導電性シート・フィルム等の電気分野、注射器、ピペッ
ト、アニマルゲージ等の医療、化学分野、カメラボディ
、各種計器類ハウジング、フィルム、シート、ヘルメッ
ト等各種の分野で好適に利用できる。
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
実施例1
内容量1!のフラスコに2,2−ビス(3−フェニル−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン95g (0,25
mol)を3規定濃度の水酸化カリウム水溶液600威
に溶解させた溶液と塩化メチレン250m1を加え、外
部冷却により液温を10゛C付近に保ちながらホ只ゲン
を340mR1分の割合で30分吹き込んだ。その後、
p−ノニルフェノール1gと0.5M)リエチルアミン
水溶液2dとを加え1時間か(拌し、重合させた。
4−ヒドロキシフェニル)プロパン95g (0,25
mol)を3規定濃度の水酸化カリウム水溶液600威
に溶解させた溶液と塩化メチレン250m1を加え、外
部冷却により液温を10゛C付近に保ちながらホ只ゲン
を340mR1分の割合で30分吹き込んだ。その後、
p−ノニルフェノール1gと0.5M)リエチルアミン
水溶液2dとを加え1時間か(拌し、重合させた。
重合終了後、有機層に塩化メチレン500−を加えて希
釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した後、メタノール中
に投入してポリカーボネートを得た。
釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した後、メタノール中
に投入してポリカーボネートを得た。
この重合体は塩化メチレンを溶媒とする濃度0゜5g/
aの溶液の20″Cにおける還元粘度〔ηsp/c)が
0.56dl/gであった。
aの溶液の20″Cにおける還元粘度〔ηsp/c)が
0.56dl/gであった。
この重合体のIH−NMRスペクトル分析から、フェニ
ル基(6,7〜7.6 ppm)、分子末端のノニル基
のメチレン5it(I,3pKの吸収が認められ、下記
の繰り返し単位および末端構造を有するものと認められ
た。
ル基(6,7〜7.6 ppm)、分子末端のノニル基
のメチレン5it(I,3pKの吸収が認められ、下記
の繰り返し単位および末端構造を有するものと認められ
た。
C9情の−
L
得られた重合体の物性を第1表に示す。
実施例2
実施例1においてp−ノニルフェノールの代わりにp−
ヒドロキシ安息香酸n−ドデシル1.39gを用いた以
外は同様にして重合体を得た。
ヒドロキシ安息香酸n−ドデシル1.39gを用いた以
外は同様にして重合体を得た。
ここで得られた重合体は、’H−NMR分析より、下記
の繰り返し単位および末端構造を有するものと認、めら
れた。
の繰り返し単位および末端構造を有するものと認、めら
れた。
実施例3
実施例1において2.2−ビス(3−フェニル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンの代わりに1−フェニル−
1,1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキジフェニル
)エタン110g(0,25mol)を用いた以外は同
様にして、重合体を得た。
ドロキシフェニル)プロパンの代わりに1−フェニル−
1,1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキジフェニル
)エタン110g(0,25mol)を用いた以外は同
様にして、重合体を得た。
ここで得られた重合体は、l)(−NMR分析より、下
記の繰り返し単位および末端構造を有するものと認めら
れた。
記の繰り返し単位および末端構造を有するものと認めら
れた。
実施例4
実施例1において2.2−ビス(3−フェニル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンの代わりにビス(3−フェ
ニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン100 g
(0,25mol)を用い、さらにp−ノニルフェノー
ルの代わりにp−ヒドロキシ安息香酸n−ドデシル1.
39 gを用いた以外は同様にして、重合体を得た。
ドロキシフェニル)プロパンの代わりにビス(3−フェ
ニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン100 g
(0,25mol)を用い、さらにp−ノニルフェノー
ルの代わりにp−ヒドロキシ安息香酸n−ドデシル1.
39 gを用いた以外は同様にして、重合体を得た。
ここで得られた重合体は、’H−NMR分析より、下記
の繰り返し単位および末端構造を有するものと認められ
た。
の繰り返し単位および末端構造を有するものと認められ
た。
得られた重合体の物性を第1表に示す。
実施例5
実施例1において2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンの代ワリに1.1−ビス(
3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン105g(0,25mol)を用い、p−ノニルフェ
ノールの代わりにp−ドブシロキシフェノール1.26
g(0,25mol)を用いた以外は同様にして重合体
を得た。
ドロキシフェニル)プロパンの代ワリに1.1−ビス(
3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン105g(0,25mol)を用い、p−ノニルフェ
ノールの代わりにp−ドブシロキシフェノール1.26
g(0,25mol)を用いた以外は同様にして重合体
を得た。
ここで得られた重合体は、’H−NMR分析より、下記
の繰り返し単位および末端構造を有するものと認められ
た。
の繰り返し単位および末端構造を有するものと認められ
た。
得られた重合体の物性を第1表に示す。
比較例1
実施例1において2.2−ビス(3−フェニル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンの代わりに2.2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、p−ノニルフェノ
ールの代わりにp−tert−ブチルフェノールを用い
た以外は同様にして重合体を得た。
ドロキシフェニル)プロパンの代わりに2.2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、p−ノニルフェノ
ールの代わりにp−tert−ブチルフェノールを用い
た以外は同様にして重合体を得た。
得られた重合体の物性を第1表に示す。
第1表
ηsp/c Tg 溶融粘度(di/g)
(’C) η。(poise)at 280″
C 実施例1 0.56 145 14,0002
0.60 143 B、2003 0.
54 174 1B、0004 0.57 1
65 13,0005 0.55 156 1
2.000比較例1 0.57 148 20
,000〔発明の効果〕 本発明のポリカーボネート系重合体は透明性、耐熱性、
機械的強度等の一般のポリカーボネート樹脂が有する基
本的特性に優れていることはもとより、従来のものに比
較して、射出成形等の成形加工時における溶融流動性に
著しく優れ、成形加工が容易で、特に超精密成形品を容
易に得ることができる実用上著しく有利な効果を有して
いる。
(’C) η。(poise)at 280″
C 実施例1 0.56 145 14,0002
0.60 143 B、2003 0.
54 174 1B、0004 0.57 1
65 13,0005 0.55 156 1
2.000比較例1 0.57 148 20
,000〔発明の効果〕 本発明のポリカーボネート系重合体は透明性、耐熱性、
機械的強度等の一般のポリカーボネート樹脂が有する基
本的特性に優れていることはもとより、従来のものに比
較して、射出成形等の成形加工時における溶融流動性に
著しく優れ、成形加工が容易で、特に超精密成形品を容
易に得ることができる実用上著しく有利な効果を有して
いる。
さらに、光学異方性が小さく、光学用の材料として好適
である。
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表される新規ポリカーボネート系重合体。 〔但し、上記式中、X^1は単結合、 −O−、−S−、−SO_2−、−CO−、▲数式、化
学式、表等があります▼(ここで、R^1およびR^2
は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル
基またはフェニル基を表し、R^1=R^2であっても
、R^1≠R^2であってもよい。)■CH_2■(但
し、uは、2〜10の整数を表す。)、あるいは ▲数式、化学式、表等があります▼(但し、rは、4〜
8の整数を表す。 )を表し、nは、10〜100の数を表し、Zは、次の
一般式(II) −CO−R^3(II) (但し、R^3は、炭素数8〜30のアルキル基を表す
。)または次の一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (但し、R^4は、炭素数8〜30のアルキル基を表し
、Yは、単結合、−O−または−COO−を表す。)を
表す。〕 2、 式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 で表される二価フェノールに、炭酸エステル形成性化合
物を反応させてポリカーボネート系重合体を製造するに
あたり、末端停止剤として、R^3−COOH、R^3
−COX^2、または ▲数式、化学式、表等があります▼(V) のいずれかを用いることを特徴とするポリカーボネート
系重合体の製法。 〔但し、上記式中、X^1は、単結合、−O−、−S−
、−SO_2−、−CO−、▲数式、化学式、表等があ
ります▼(ここで、R^1およびR^2は、水素原子、
ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基またはフェニ
ル基を表し、R^1=R^2であっても、R^1≠R^
2であってもよい。)、■CH_2■(但し、uは、2
〜10の整数を表す。)あるいは ▲数式、化学式、表等があります▼(但し、rは、4〜
8の整数を表す。 )を表し、R^3、R^4は、炭素数8〜30のアルキ
ル基を表し、X^2はハロゲン原子を表し、Yは単結合
、−O−、または−COO−を表す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31426487A JP2574825B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規ポリカーボネート系重合体とその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31426487A JP2574825B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規ポリカーボネート系重合体とその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01156323A true JPH01156323A (ja) | 1989-06-19 |
JP2574825B2 JP2574825B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=18051263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31426487A Expired - Fee Related JP2574825B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規ポリカーボネート系重合体とその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2574825B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05241020A (ja) * | 1992-02-28 | 1993-09-21 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 位相差補償フィルム |
JPH05339390A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネートフィルム |
JPH0675113A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-03-18 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 位相差補償フィルム |
WO2007132874A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | ポリカーボネート樹脂およびそれを用いた光学用材料 |
JP2016079276A (ja) * | 2014-10-15 | 2016-05-16 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂、及びそれを用いて形成されたシート、フィルム及び熱成形体 |
WO2017119262A1 (ja) * | 2016-01-08 | 2017-07-13 | 本州化学工業株式会社 | ビスフェノール化合物及び芳香族ポリカーボネート |
-
1987
- 1987-12-14 JP JP31426487A patent/JP2574825B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05241020A (ja) * | 1992-02-28 | 1993-09-21 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 位相差補償フィルム |
JPH05339390A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネートフィルム |
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WO2007132874A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | ポリカーボネート樹脂およびそれを用いた光学用材料 |
JPWO2007132874A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2009-09-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂およびそれを用いた光学用材料 |
JP2016079276A (ja) * | 2014-10-15 | 2016-05-16 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂、及びそれを用いて形成されたシート、フィルム及び熱成形体 |
WO2017119262A1 (ja) * | 2016-01-08 | 2017-07-13 | 本州化学工業株式会社 | ビスフェノール化合物及び芳香族ポリカーボネート |
JPWO2017119262A1 (ja) * | 2016-01-08 | 2018-11-01 | 本州化学工業株式会社 | ビスフェノール化合物及び芳香族ポリカーボネート |
US10759755B2 (en) | 2016-01-08 | 2020-09-01 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Bisphenol compound and aromatic polycarbonate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2574825B2 (ja) | 1997-01-22 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |