JPH01155301A

JPH01155301A - 光学機器用素材

Info

Publication number: JPH01155301A
Application number: JP31426287A
Authority: JP
Inventors: Hideji Sakamoto; 坂元　秀治; Kazuyoshi Shigematsu; 重松　一吉; Shigenori Shiromizu; 重憲白水; Sanae Tagami; 早苗田上
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1987-12-14
Filing date: 1987-12-14
Publication date: 1989-06-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、光学機器用素材に関し、より詳しくは、レン
ズ、光ディスク、光ファイバー等の光学分野に好適に利
用できるポリカーボネート樹脂系の光学機器用素材に関
する。

〔従来の技術〕

ポリカーボネート樹脂は、透明性、耐熱性、機械的強度
等に優れており、光学機器用素材として適している。

しかしながら、一般に用いられている２、２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパンを原料とするポリカー
ボネートは溶融流動性に劣るため、射出成形等の成形加
工時に発生する応力により光学異方性が生じ易いという
欠点を有しており、特に超精密成形品に用いるには不適
当である等の問題点があった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、透明性、耐熱性、機械的強度等の基本特性に
優れ、しかも光弾性係数が小さく、かつ成形時の溶融流
動性が著しく向上しており、成形時に発生する応力が著
しく少なく光学異方性が著しく低減したポリカーボネー
ト系樹脂からなる光学機器用素材を提供することを目的
とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、特定の構造の繰
り返し単位を有し、かつ、特定の重合体末端構造を有す
るポリカーボネート系樹脂からなる光学機器用素材が上
記目的を満足することを見出し、この知見に基づいて本
発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、次の一般式（１）と一般式（ＩＩ
）〔但し、上記式中、Ｘｌおよびｘｔは、単結合、−〇−
意、−ｓ−、−５（ｈ−、−ｃｏ−１−〇−（ここで、Ｒ
３およ直びＲ４は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のア
ルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ３−Ｒ４であって
も、Ｒ３≠　Ｒ４であってもよい、）−（−ＣＨｚ−）
−（但し、Ｕは、２〜１０の整数を表〜８の整数を表す
、）を表し、Ｘｌ−ＸｌであってもＸＩ≠Ｘｔであって
もよ＜、Ｒ’およびＲ２は、ハロゲン原子、炭素数１〜
６のアルキル基、炭素数４〜８のシクロアルキル基ある
いはフェニル基を表し、Ｒ１，Ｈ！であってもＲＩ−Ｉ
−Ｒ２であってもよく、ｎおよびｍは、θ〜４の整数を
表す、〕で表される繰り返し単位を、前記一般式（Ｉ）で表され
る繰り返し単位のモル百分率が５０〜１００％の割合で
含有し、かつ重合体末端が、次の一般式（ＩＩＩ） −ＣＯ−Ｒ’　　　　　　　　　（Ｉ［［）〔但し、Ｈ
％は、炭素数８〜３０のアルキル基を表す、〕、次の一般式（ＩＶ）〔但し、Ｒ＆は、炭素数８〜３０のアルキル基を表し、
Ｙｌは、単結合、−〇−または−ＣＯＯ−を表す、〕、
次の一般式（Ｖ）〔但し、ＸＩおよびＲ５は、それぞれ前記同様の意味を
表す、〕、次の一般式（ＶＩ）〔但し、ｘ’、　ｙおよびＲ６は、それぞれ前記同様の
意味を表す、〕、次の一般式（■）〔但し、Ｒ７およびＲ１は、前記Ｒ′、Ｒ２と同様の意
味を表し、ｋおよびｊは、前記ｎ、ｍと同様の意味を表
し、Ｘｌ、ＲＩはそれぞれ前記同様の意味を表す、〕、
および次の一般式（■）〔但し、Ｒ７、Ｒ１、Ｒ６、Ｘ３、ＹＳｋおよびｊは、
それぞれ前記同様の意味を表す、〕のいずれかの構造を有するポリカーボネート系樹脂から
なる光学機器用素材を提供するものである。

本発明の光学機器用素材は、重合体の主鎖が、前記一般
式（１）で表される繰り返し単位の１種または２種以上
からなる構造を有し、かつ、その重合体の少な（とも一
方の末端、好ましくは両末端の各々が、前記一般式ＣＩ
［）〜（■）のいずれかによって表される構造を有する
末端変性ポリカーボネート単独重合体（Ａ１）または末
端変性ポリカーボネート共重合体（Ａ２）あるいは、重
合体の主鎖が、前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単
位の１種または２種以上と前記一般式（ｎ）で表される
繰り返し単位の１種または２種以上とからなる構造を有
し、かつ前記一般式（１）で表される繰り返し単位のモ
ル百分率が５０％以上、好ましくは６０％以上であり、
さらに、重合体の少なくとも一方の末端、好ましくは両
末端の各々が、前記一般式（Ｉ［Ｉ）〜（■）のいずれ
かによって表される構造を有する末端変性ポリカーボネ
ート共重合体（Ａ、）あるいは、これらの重合体の２種
以上の混合物あるいはこれら重合体を１種または２種以
上を含有する組成物からなるものである。

この一般式（１）で表される繰り返し単位のモル百分率
が、５０％未満であると光弾性係数が大きくなったり、
あるいは成形加工時における溶融流動性が十分に得られ
ず、光学的異方性の低減が不十分なものとなる。

前記共重合体（Ａ２）および共重合体（Ａ３）は、ラン
ダム重合体、交互重合体、ブロック重合体のいずれでも
よ（、それらの混合物であってもよいが、通常、その製
造の容易さなどの点からランダム重合体が好適に使用さ
れる。

前記単独重合体（ＡＩ）　、共重合体（Ａ２）および共
重合体（Ａ、）は、それぞれ少なくとも片末端、好まし
くは両末端が前記の如く、一般式（ＩＩＩ）〜（■）で
表される基の中の少なくとも１種によって構成されるも
のであるが、単独重合体（ＡＩ）および共重合体（Ａ２
）の末端基は、通常、前記一般式（Ｖ）または（Ｖｌ）
で表されるものが、製造の容易さ等の点から好適に使用
できる　　　Ｒ３前記ｘ１およびＸ：として用いられる
前記−Ｃ−中のＲ３およびＲ４の各々の具体例としては
、たとえば水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ペンチル基、フェニル基等を挙げること■ ができ、これらＲ３およびＲ４から構成される一Ｃ−７
Ｈ・の特に好適なものとして、たとえば　　−Ｃ−ＣＨコ（Ｒ３前記Ｘ１の特に好適なものとしては、たとえば、前記Ｘ
２の特に好適なものとしては、たとえば、ことができる
。

前記のＲ１，Ｈｌの具体例としては、たとえばフッ素原
子、塩素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、フェニル基などを挙げることができ
、中でも、たとえば、フッ素原子、メチル基、シクロヘ
キシル基、フェニル基等が好適である。

前記ｎおよびｍは、各々０〜４の整数を表すが、通常Ｏ
〜２程度、特にＯまたは１が好ましい。

前記重合体末端基中のＲ５およびＲ＆の各々の具体例と
しては、たとえば、直鎖状または分岐状のオクチル基、
ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オ
クタデシル基等を挙げることができる。

前記重合体末端基中のＸＩ、　ｇ２、Ｒ１およびＲ２は
、前記繰り返し単位中のそれぞれのものと同じ種類のも
のであっても異なった種類のものであってもよいが、通
常は同じ種類のものが好適に用いられる。また、前記一
般式（■）および（■）中のｋおよびｊは、各々前記一
般式（ｎ）中のｎ、ｍと同じであっても異なっていても
よいが、通常におよびｊを、それぞれｎおよびｍあるい
はｍおよびｎとするのが製造上の容易さ等の点から好適
である。

本発明の光学機器用素材は、上記の如き特定の重合体主
鎖構造および特定の重合体末端構造を有するポリカーボ
ネート系樹脂よりなるものであるが、このポリカーボネ
ート系樹脂は、その塩化メチレンを溶媒とする０、５ｇ
／ａ濃度の溶液の２０℃における還元粘度（ｙｙ　ｓｐ
／ｃ）が０．２ａ／ｇ以上、好ましくは０．２５〜０．
８ａ／ｇのものが望ましい。

この還元粘度が、０．２ａ／ｇ未満のものは、光学機器
用素材として用いた時に十分な機械的強度が得られない
ことがある。

本発明の光学機器用素材に係るポリカーボネート系樹脂
は、通常、直鎖状のポリカーボネートから成るものが好
適であるが、本発明の目的に支障のない範囲で所望によ
り、部分的に分岐状構造を有するものも使用可能であり
、また、少量の末端未変性の重合体分子をあるいは、前
記一般式（■）〜（■）以外の末端基を有する重合体を
含有するものであってもよく、さらには、本発明の目的
に支障のない範囲で、前記一般式（１）および一般式（
ＩＩ）で表される繰り返し単位の他の繰り返し単位を含
有するものであってもよい、また、使用目的に応じて、
通常用いられる種々の挿加物を添加したり、他のポリカ
ーボネート等のポリマーとの組成物として用いてもよい
。

本発明の光学機器用素材に係る前記ポリカーボネート系
樹脂もしくはその成分として用いる前記末端変性ポリカ
ーボネート単独重合体（ＡＩ）および前記末端変性ポリ
カードネート共重合体（Ａｘ）は、通常、次の一般式（
ＩＸ）〔但し、式中ＸＩは、前記同様の意味を表す、〕で表さ
れる化合物の１種または２種以上をモノマーとして用い
、このモノマーとカーボネート前駆体とを反応させ、次
の一般式（Ｘ）Ｚ’−Ｒ’　　　（Ｘ　）〔但し、式中Ｒ％は、前記同様の意味を表し、Ｚｌは、
ｃＩ！、−ｃｏ−または１Ｏ−ＣＯ−を表す、〕で表さ
れる化合物の１種または２種以上または次の一般式（Ｘ
Ｉ）〔但し、式中、Ｒ６およびＹは、それぞれ前記同様の意
味を表す、〕で表される化合物の１種または２種以上、あるいはこれ
らの混合物を分子量調節剤として用いて製造することが
でき、また、前記末端変性ポリカーボネート共重合体（
Ａ３）は、上記一般式（ＩＸ）で表される化合物の１種
または２種以上と次の一般式（ＸＩ［）〔但し、式中、Ｘ３、Ｒ’％　Ｒ”％　ｎ及びｍは、前
記同様の意味を表す、〕で表される化合物の１種または２種以上とをモノマーと
して用い、これらの七ツマ−とカーボネート前駆体とを
反応させ、上記一般式（Ｘ）で表される化合物の１種ま
たは２種以上、または上記−般式（ＸＩ）で表される化
合物の１種または２種以上、またはそれらの混合物を分
子量調節剤として用いて製造することができる。

なお、上記分子ｍ調節剤は重合体末端の変性剤として作
用するものであり、本発明の目的に支障のない範囲で、
他の分子量調節剤、たとえば、−官能性フェノール類、
ナフタレン類等の公知の一官能性有機化合物等を併用す
ることも可能である。

前記一般式（ＩＸ）で表される化合物の具体例としては
、たとえば３，３′−ジフェニル−４，４′−ジヒドロ
キシビフエニル、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシ
フェニル）メタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−
フェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１．１−
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン
、１．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）エタン、１−、フェニル−１，１−ビス（３−フェ
ニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、２．２−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）ブタン、１．４−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、１．１−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルブタン、２．２
−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）オク
タン、１．８−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）オクタン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキ
シフェニル）エーテル、ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１．１−ビス（３
−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンクン
、１．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン等を挙げることができ、これらの中
で特に、２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、１−フェニル−１，１−ビス（３
−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン等が好ま
しい。

なお、これらの化合物は、一種単独で用いてもよく、２
種以上を併用してもよい。

前記一般式（Ｘ　Ｉｔ）で表される化合物の具体例とし
ては、たとえば、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エタン、１．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパン、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オク
タン、４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へブタ
ン、２．２−　（３，５，３’　、５’　−テトラブロ
モ−４，４′−ジヒドロキシジフェニル）メタン、（３
，３’−ジクロロ−４，４’−ジヒドロキシジフェニル
）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド
、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ケトン、１．１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロペンタン、１．１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２．２−ビス
（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２．２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２．２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２゜２−ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２．２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、１．１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（３−フル
オロ−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン
、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スル
フィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
）ケトン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
）メタン、１．１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン、１．１−ビス（３−シクロ
ヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
４．４’−ジヒドロキシビフェニル、３゜３′−ジフル
オロ−４，４′−ジヒドロキシビフェニル等を挙げるこ
とができ、中でも特に、２゜２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、ｌ、１−ビス（３−シクロヘキシ
ル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等カ好ま
しい、　なお、これらの化合物、１種単独で用いてもよ
く、２種以上を併用してもよい。

前記一般式（Ｘ）で表される化合物としては、たとえば
、ノナノイルクロリド、デカノイルクロリド、ウンデカ
ノイルクロリド、ドデカノイルクロリド、ペンタデカノ
イルクロリド、ヘキサデカノイルクロリド、オクタデカ
ノイルクロリド、イコサノイルクロリド、ノナン酸、デ
カン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、ペンタデカン酸、
ヘキサデカン酸、オクタデカン酸等を挙げることができ
る。

なお、これらの化合物は、１種単独で用いてもよく、２
種以上を併用してもよい。

前記一般式（ＸＩ）で表される化合物としては、たとえ
ば、Ｐ−オクチルフェノール、ｍ−オクチルフェノール
、Ｏ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｍ
−ノニルフェノール、ｐ−デシルフェノール、ｐ−（２
−メチルノニル）フェノール、ｐ−ウンデシルフェール
、ｐ−ドデシルフェノール、ｐ−（２−メチルドデシル
）フェノール、ｐ−ペンタデシルフェノール、ｐ−ヘキ
サデシルフェノール、ｐ−オクタデシルフェノール、ｍ
−オクタデシルフェノール、ｐ−オクチルオキシフェノ
ール、ｍ−オクチルオキシフェノール、ｐ−ノニルオキ
シフェノール、ｐ−デシルオキシフェノール、ｐ−ヘキ
サデシルオキシフェノール、ｐ−オクタデシルオキシフ
ェノール、ｐ−オクチルオキシカルボニルフェノール、
ｍ−オクチルオキシカルボニルフェノール、ｐ−ノニル
オキシカルボニルフェノール、ｐ−デシルオキシカルボ
ニルフェノール、（ｐ−ヒドロキシ安息香酸デシル）、
ｐ−ヘキサデシルオキシカルボニルフェノール、ｐ−オ
クタデシルオキシカルボニルフェノール等を挙げること
ができる。

これらの中でも、ｐ一体が好適であり、特に、ｐ−ノニ
ルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−デシルフ
ェノール、ｐ−オクチルオキシフェノール、ｐ−デシル
オキシフェノール、ｐ−オクチルオキシカルボニルフェ
ノール、ｐ−デシルオキシカルボニルフェノール等が好
適に使用できる。

なお、これらの化合物は、１種単独で使用してもよく、
２種以上を併用してもよい。

前記カーボネート前駆体としては、従来のビスフェノー
ルＡ等をモノマーとするポリカーボネートの製造に用い
るもの、たとえば、ハロゲン化カルボニル、炭酸エステ
ル、ハロホルメート類等が使用できる。

このハロゲン化カルボニルの具体例としては、たとえば
、二臭化カルボニル、二塩化カルボニル（ホスゲン）あ
るいはこれらの混合物を挙げることができる。

前記炭酸エステルとしては、たとえば、ジフェニルカー
ボネート、ジ（クロロフェニル）カーボネート、ジトリ
ルカーボネート、ジナフチルカーボネート等あるいはこ
れらの混合物を挙げることができる。

前記ハロホルメート類としては、前記一般弐（ＩＸ）で
表される化合物のクロロホルメート、前記一般式（ＸＩ
［）で表される化合物のクロロホルメート等あるいはこ
れらの混合物が使用できる。

前記モノマーと前記カーボネート前駆体との反応（重合
反応）および前記末端停止剤による重合体末端基変性反
応（停止反応）は、公知の重合方法、末端基変性反応方
法に準じて行うことができ、たとえば、次に示す如き反
応方法が好適に採用できる。

すなわち、前記一般式（ＩＸ）で表される化合物、ある
いはこれと前記一般式（Ｘｎ）で表される化金物の所定
モル百分率の混合物に、ホスゲンを導入し、末端未変性
オリゴマーもしくはポリマーを形成せしめ、次いで、前
記一般式（Ｘ）または−般式（ＸＩ）で表される化合物
あるいは、これらの混合物を適量添加して、上記重合反
応を継続しつつ上記停止反応を行わしめる方法が特に好
適に採用できる。このほか、所定分子量の末端未変性ポ
リマーもしくは、他の末端基で末端が変性されたポリマ
ーを得た後、重合体の末端水酸基に上記の末端停止剤を
反応せしめ所望の末端基を導入したり、所望の末端基を
交換反応等により導入する方法も適用可能である。

上記重合反応および重合体末端基変性反応を行うに際し
ては、酸受容体、および触媒を適宜使用することができ
る。

この酸受容体としは、たとえば、トリエチルアミン、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアニリン、トリプロピルアミン、トリブ
チルアミン、ピリジン等の第三級アミン等の有機系酸受
容体、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩などの無機系酸受容
体が使用できる。　これらの中でも通常、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等の強アルカリ化合物が好適に使
用できる。なお、これらの水酸化アルカリは、前記一般
式（■）、一般式（Ｘ　Ｉｆ）で表される七ツマ−との
塩として用いることも可能である。

また、前記重合反応、末端基変性反応は、所望により溶
媒の存在下で行うことができる。

この溶媒としては、ビスフェノールＡ等をモノマーとす
る公知のポリカーボネートの製造に用いられるもの、す
なわち水系溶媒、非水系極性溶媒などが使用可能である
。

前記触媒としては、公知のものが使用可能であり、具体
的にはたとえばトリエチルアミン、トリプロピルアミン
、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の第３級アミン、テトラ
エチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウ
ムプロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド等の第４級アンモニ
ウム化合物、メチルトリフェニルホスホニウムプロミド
等の４級ホスホニウム化合物等を挙げることができる。

これらの中ても、特にトリエチルアミン等の第３級アミ
ン等が好適に使用できる。

また、上記重合反応を行うに際して、所望により、但し
、本発明の目的に支障のない範囲で公知の三官能性化合
物などの多官能性化合物を適量添加し、部分的に分校状
構造を有するポリカーボネート系樹脂としたり、公知の
他のモノマーを添加して、重合体の主鎖に他の繰り返し
単位を導入することも可能である。

このようにして得られたポリカーボネートは、公知の分
離方法等による分離操作、公知の洗浄方法などの精製操
作等の後処理を施して、所望の純度のものとすることが
できる。

上記のようにして得られたポリカーボネート樹脂は、そ
のまま、あるいは所望により、使用目的に応じて添加物
や他のポリカーボネート等のポリマー等を配合して組成
物とし、本発明の光学機器用素材として使用することが
できる。

このようにして得ることができるポリカーボネート系樹
脂からなる本発明の光学機器用素材は、射出成形等の成
形加工時における溶融流動性に著しく優れ、かつ光弾性
係数が著しく低減しており、成形加工が容易であり、し
かもポリカーボネートが有する透明性、耐熱性、機械的
強度等の基本特性に優れることはもとより、特に複屈折
等の光学異方性が著しく低減した成形品を得ることがで
きる優れた光学機器用素材であり、たとえば、レンズ、
光ディスク、光ファイバー等の種々の光学機器用成形品
、特に超精密光学機器用成形品として好適に利用できる
。

（実施例１）内容１１ｊ！のフラスコに２．２−ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、９５ｇ　　（０
，２５＋＊ｏｌ）を３規定濃度の水酸化カリウム水溶液
６００ｄに溶解させた溶液と塩化メチレン２５０ｄを加
え、外部冷却により液温を１０℃付近に保ちながらホス
ゲンを３４０ｄ／分の割合で３０分吹き込んだ、その後
、ｐ−ノニルフェノール１ｇと０．５　Ｍ　）リエチル
アミン水溶液２ｍとを加え１時間かく拌し、重合させた
。

重合終了後、有機相に塩化メチレン５００１ｄを加えて
希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した後、メタノール
中に投入してポリカーボネートを得た。

この重合体は塩化メチレンを溶媒とする濃度０゜５ｇ／
ｄの溶液の２０℃における還元粘度（η３ｐ／ｃ）が０
．５６ａ／ｇで、Ｔｇは１４５℃であった。

また、この重合体の’Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析から、
分子末端ノニル基のメチレン鎖による吸収（１，３ｐｐ
ｍ）が確認され、下記の繰り返し単位および末端構造か
らなるものと認められる。さらに射出成形品に現れる複
屈折のパラメータである溶融時の光弾性係数（Ｃｓ＋ａ
ｌｔ）を後記の方法により測定したところ１　、　１０
０　Ｘ　１０−′３ｄ／ｄｙｎｅであった。

（実施例２）実ｍ例１において２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパンの代わりに、２．２−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン７
６ｇ　（０，２ｍｏｌ）と２．２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン１１．４ｇ（０，０５■ｏｆ）を
用いた以外は同様にして共重合体を得た。　　Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトル分析から、下記の共重合組成を有し、末端
構造は実施例１と同様であることがわかった。

得られた重合体の物性および射出成形品の光弾性係数（
Ｃｍｅｌｔ）は第１表に示す。

（実施例３）実施例１において２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパンの代わりに１−フェニル−
１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）エタン７７ｇ（０，１７４ｓｏｌ）とビス（４−ヒド
ロキシフェニル）スルホン１６．５　ｇ　（０，０７６
ｍｏｌ）を用い、さらにｐ−ノニルフェノールに変えて
ｐ−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ドデシル１．３９　ｇを用
いた以外は同様にして、共重合体を得た。この共重合体
の組成および末端構造（Ｈ−ＮＭＲ分析）は、次の通り
であった。

−Ｇ−０＠５Ｏｚ−＠）−ｏｃ＋０．３ｃ、山５−ｏｃｏ−＠得られた重合体の物性および光弾性係数（Ｃｍｅｌｔ）
は第１表に示す。

（実施例４）実施例１においてｐ−ノニルフェノール換えてｐ−ヒド
ロキシ安息香酸ｎ−ドデシル１．３９　ｇを用いた以外
は同様にして重合体を得た。

得られた重合体の物性および光弾性係数（Ｃｍｅｌｔ）
は、第１表に示す。

（実施例５）実施例１において２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパンの代わりに２．２−ビス（
３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン７６
　ｇ　（０，２０ｍｏｌ）と１．ｌ−ビス（３−シクロ
ヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン２
１．６　ｇ　（０，０５ｍｏｌ）を用い、さらにｐ−ノ
ニルフェノールに代えてドデシルオキシフェノール、１
．２６ｇを用いた以外は同様にして共重合体を得た。こ
の共重合体の組成および末端構造（’Ｈ−ＮＭＲ分析）
は次の通りであった。

（実施例６）実施例１において２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパンの代わりに１．１−ビス（
３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン１０５　ｇ　（０，２５ｍｏｌ）を用いた以外は同様
にして重合体を得た。

得られた重合体の物性および射出成形品の光弾性係数（
Ｃａｆｅ　１　ｔ）は、第１表に示す。

（比較例１）実施例１において、２，２−ビス（３−）二ニルー４−
ヒドロキシフェニル）プロパンに代えて２．２−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）プロパンを用い、かつｐ−ノ
ニルフェノールに代えてｐ−ｔａｒｔ−ブチルフェノー
ルを用いた他は同様にして実施した。

得られた重合体の物性および射出成形品の光弾性係数（
Ｃｍａｌｔ）を、第１表に示す。

第１表（ηｓｐ／ｃ）　　Ｔｇ　　　Ｃｍｅｔｔ（ｄｉ／ｇ）
　　（”Ｃ）、　　（／１０−　”　ｄ／ｄｙｎｅ）実
施例１　　０．５６　　１４５　　１．１００２　０．
５７　　１４６　　１．７００３　０．５３　　１７２
　　１．３００４　０．６０　　１４４　　１．２００
５　０．５５　　１４５　　１．１００　　　　　’６
　　　０．５６　　　１５６　　　１．０００比較例１
　　０．５６　　１４８　　４，４００樹脂をキャビロ
グラフで溶融紡糸してまき取り、その時、糸にかかる応
力を横軸に、その糸の複屈折をたて軸にとって直線の傾
きをＣｍｅｌ　ｔと定義した。この値は、射出成形品に
現れる複屈折の大きさに影響を与えるものであり、樹脂
固有の定数である。

〔発明の効果〕

本発明の光学機器用素材は、特定の主鎖構造を有し、か
つ特定の重合体末端構造を有するポリカーボネート系樹
脂からなるので、透明性、耐熱性、機械的強度等の一般
のポリカーボネート樹脂が有する基本的特性に優れてい
ることはもとより、従来のものに比較して、射出成形等
の成形加工時における溶融流動性に著しく優れ、かつ光
弾性係数が充分に低いので、成形加工が容易で、しかも
複屈折等の光学異方性の発生を著しく低減することがで
きる優れた光学機器用素材である。

すなわち、本発明によると、光学機器用成形品としての
基本的特性に優れ、特に光学的異方性が著しく低減した
レンズ、光ディスク、光ファイバー等の光学機器用成形
品、特に超精密成形品を容易に得ることができる実用上
著しく有利な光学機器用素材を提供することができる。

Claims

【特許請求の範囲】１、次の一般式（ I ）と一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）〔但し、上記式中、Ｘ＾１およびＸ＾２は、単結合、−
Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ＿２−、−ＣＯ−、▲数式、化学
式、表等があります▼（ここで、Ｒ＾３およびＲ＾４は
、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基
またはフェニル基を表し、Ｒ＾３＝Ｒ＾４であっても、
Ｒ＾３≠Ｒ＾４であってもよい。）−（ＣＨ＿２）−＿
ｕ（但し、ｕは、２〜１０の整数を表す。）、あるいは ▲数式、化学式、表等があります▼（但し、ｒは、４〜
８の整数を表す。）を表し、Ｘ＾１＝Ｘ＾２であってもＸ＾１≠Ｘ＾２で
あってもよく、Ｒ＾１およびＲ＾２は、ハロゲン原子、
炭素数１〜６のアルキル基、炭素数４〜８のシクロアル
キル基あるいはフェニル基を表し、Ｒ＾１＝Ｒ＾２であ
ってもＲ＾１≠Ｒ＾２であってもよく、ｎおよびｍは、
０〜４の整数を表す。〕で表される繰り返し単位を、前記一般式（ I ）で表される繰り返し単位のモル百分率が５０〜１
００％の割合で含有し、かつ重合体末端が、次の一般式
（III） −ＣＯ−Ｒ＾５（III）〔但し、Ｒ＾５は、炭素数８〜３０のアルキル基を表す
。〕２、次の一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）〔但し、Ｒ＾６は、炭素数８〜３０のアルキル基を表し
、Ｙ＾１は、単結合、−Ｏ−または−ＣＯＯ−を表す。〕、次の一般式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）〔但し、Ｘ＾１およびＲ＾５は、それぞれ前記同様の意
味を表す。〕、次の一般式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）〔但し、Ｘ＾１、ＹおよびＲ＾６は、それぞれ前記同様
の意味を表す。〕、次の一般式（VII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII）〔但し、Ｒ＾７およびＲ＾８は前記Ｒ＾１およびＲ＾２
と同様の意味を表し、ｋおよびｊは、前記ｎ、ｍと同様
の意味を表し、Ｘ＾２、Ｒ＾５はそれぞれ前記同様の意
味を表す。〕、次の一般式（VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII）〔但し、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ｒ＾６、Ｘ＾２、Ｙ、ｋおよ
びｊは、それぞれ前記同様の意味を表す。〕のいずれかの構造を有するポリカーボネート系樹脂から
なることを特徴とする光学機器用素材。２、ポリカーボネート系樹脂が、塩化メチレンを溶媒と
する０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元粘
度〔ηｓｐ／ｃ〕が、０．２ｄｌ／ｇ以上のものである
特許請求の範囲第１項記載の光学機器用素材。