JP3230415B2 - 磁性体コア及びインダクタ - Google Patents
磁性体コア及びインダクタInfo
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- JP3230415B2 JP3230415B2 JP18793095A JP18793095A JP3230415B2 JP 3230415 B2 JP3230415 B2 JP 3230415B2 JP 18793095 A JP18793095 A JP 18793095A JP 18793095 A JP18793095 A JP 18793095A JP 3230415 B2 JP3230415 B2 JP 3230415B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はコイルや変成器な
どの磁心に使用されているフェライト製の磁性体コア及
びインダクタに関するものである。
どの磁心に使用されているフェライト製の磁性体コア及
びインダクタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁性体コアの材料として使用されている
フェライトとしては、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−
Ｚｎ系フェライト又はＣｕ−Ｚｎ系フェライト等が知ら
れている。これらのフェライトの中で、Ｍｎ−Ｚｎ系フ
ェライトは大きな飽和磁気を持っており、初透磁率も大
きいなど、コイルや変成器の磁心として特性が優れてい
るので、多く使用されている。
フェライトとしては、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−
Ｚｎ系フェライト又はＣｕ−Ｚｎ系フェライト等が知ら
れている。これらのフェライトの中で、Ｍｎ−Ｚｎ系フ
ェライトは大きな飽和磁気を持っており、初透磁率も大
きいなど、コイルや変成器の磁心として特性が優れてい
るので、多く使用されている。
【０００３】フェライトからなる磁性体コアの製造方法
としては種々のものが知られているが、工業的には次に
説明する乾式法によって製造されている。
としては種々のものが知られているが、工業的には次に
説明する乾式法によって製造されている。
【０００４】まず、製造する磁性体コアのフェライト組
成に応じて原料を調製し、これらを充分に混合させる。
混合は乾式ミキサーでも行なえるが、ボールミルを用い
た湿式の方が良く混合できるので、通常はこちらの方で
行なわれる。この混合によって得られた原料混合物は乾
燥させてから８００〜９００℃程度の温度で仮焼させ
る。この仮焼は後の工程における反応を円滑に進めさせ
るために行なわれる。
成に応じて原料を調製し、これらを充分に混合させる。
混合は乾式ミキサーでも行なえるが、ボールミルを用い
た湿式の方が良く混合できるので、通常はこちらの方で
行なわれる。この混合によって得られた原料混合物は乾
燥させてから８００〜９００℃程度の温度で仮焼させ
る。この仮焼は後の工程における反応を円滑に進めさせ
るために行なわれる。
【０００５】次に、この仮焼によって得られた仮焼物を
微粉砕し、これにポリビニルアルコール等の結合剤を加
えて充分に混合し、これをスプレードライヤ中に強制的
に噴霧させ、低温で乾燥させてフェライトの顆粒を得
る。フェライトはこの操作により流動性の良い球状の顆
粒になり、次の成形工程における成形性が良くなる。
微粉砕し、これにポリビニルアルコール等の結合剤を加
えて充分に混合し、これをスプレードライヤ中に強制的
に噴霧させ、低温で乾燥させてフェライトの顆粒を得
る。フェライトはこの操作により流動性の良い球状の顆
粒になり、次の成形工程における成形性が良くなる。
【０００６】次に、このフェライトの顆粒を金型に入
れ、高圧を加えて成型し、所望の形状の成形体を得る。
そして、この成形体を多数、耐火物製の入れ物（以下、
匣鉢という）に入れ、この匣鉢を焼成炉内に入れ、１２
００〜１４００℃程度の高温で焼成する。成形体はこの
高温の焼成によって焼結し、磁性体コアになる。
れ、高圧を加えて成型し、所望の形状の成形体を得る。
そして、この成形体を多数、耐火物製の入れ物（以下、
匣鉢という）に入れ、この匣鉢を焼成炉内に入れ、１２
００〜１４００℃程度の高温で焼成する。成形体はこの
高温の焼成によって焼結し、磁性体コアになる。
【０００７】次に、焼成炉からこの磁性体コアを匣鉢と
ともに取り出し、匣鉢から網製のバットに空ける。この
とき、磁性体コアの一部を抜き取り、インダクタンス値
（以下、Ｌ値という。）を測定する。このＬ値の測定
は、その後の工程を進める上での目安になる。
ともに取り出し、匣鉢から網製のバットに空ける。この
とき、磁性体コアの一部を抜き取り、インダクタンス値
（以下、Ｌ値という。）を測定する。このＬ値の測定
は、その後の工程を進める上での目安になる。
【０００８】次に、磁性体コアを網製のバットごと超音
波洗浄器内に入れ、超音波洗浄して磁性体コアの表面の
不純物を洗浄除去する。超音波洗浄が終わった磁性体コ
アは乾燥させ、コイルを巻回してインダクタとする。
波洗浄器内に入れ、超音波洗浄して磁性体コアの表面の
不純物を洗浄除去する。超音波洗浄が終わった磁性体コ
アは乾燥させ、コイルを巻回してインダクタとする。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところで、磁性体コア
又はインダクタは衝撃等の外力を受けることによってＬ
値が低下し易く、例えば焼成後に磁性体コアを匣鉢から
網製のバットに空けたり、超音波洗浄をした場合、相互
の衝突や超音波等により、焼成直後のＬ値より１〜２割
程度低下してしまうという問題点があった。
又はインダクタは衝撃等の外力を受けることによってＬ
値が低下し易く、例えば焼成後に磁性体コアを匣鉢から
網製のバットに空けたり、超音波洗浄をした場合、相互
の衝突や超音波等により、焼成直後のＬ値より１〜２割
程度低下してしまうという問題点があった。
【００１０】この発明は、衝撃等の外力を受けてもＬ値
が低下し難い磁性体コア及びインダクタを提供すること
を目的とする。
が低下し難い磁性体コア及びインダクタを提供すること
を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め、請求項１記載の発明は、フェライトの焼結体からな
る磁性体コアにおいて、該焼結体の表面に歪みの逃げ場
を設けた。
め、請求項１記載の発明は、フェライトの焼結体からな
る磁性体コアにおいて、該焼結体の表面に歪みの逃げ場
を設けた。
【００１２】ここで、フェライトとしては、Ｍｎ−Ｚｎ
系フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト又はＣｕ−Ｚｎ
系フェライトを挙げることができるが、これは例示であ
り、これら以外のフェライトを除外するものではない。
系フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト又はＣｕ−Ｚｎ
系フェライトを挙げることができるが、これは例示であ
り、これら以外のフェライトを除外するものではない。
【００１３】歪みの逃げ場としては、焼結体の表面を複
数の区画に分割する溝、焼結体の表面に分散形成した複
数の小穴、焼結体の表面を複数の区画に分割する突条、
焼結体の表面に分散形成した複数の突起を挙げることが
できる。
数の区画に分割する溝、焼結体の表面に分散形成した複
数の小穴、焼結体の表面を複数の区画に分割する突条、
焼結体の表面に分散形成した複数の突起を挙げることが
できる。
【００１４】焼結体の表面に形成する溝又は小穴の深さ
は１〜１００μｍの範囲が好ましい。溝又は小穴の深さ
が１μｍ未満では効果が少なく、１００μｍを越えると
焼結体の抗折強度が劣化するという不都合があるからで
ある。
は１〜１００μｍの範囲が好ましい。溝又は小穴の深さ
が１μｍ未満では効果が少なく、１００μｍを越えると
焼結体の抗折強度が劣化するという不都合があるからで
ある。
【００１５】焼結体の表面に形成する突条又は突起の高
さは１〜１００μｍの範囲が好ましい。突条又は突起の
高さが１μｍ未満では効果が少なく、１００μｍを越え
ると焼結体の抗折強度が劣化するという不都合があるか
らである。
さは１〜１００μｍの範囲が好ましい。突条又は突起の
高さが１μｍ未満では効果が少なく、１００μｍを越え
ると焼結体の抗折強度が劣化するという不都合があるか
らである。
【００１６】なお、焼結体の表面に形成する溝、小穴、
突条又は突起は、焼結体を成形する金型の内側に突条、
突起、溝又は小穴を形成しておくことにより形成するこ
とができる。
突条又は突起は、焼結体を成形する金型の内側に突条、
突起、溝又は小穴を形成しておくことにより形成するこ
とができる。
【００１７】また、上記問題点を解決するため、請求項
１１記載の発明は、フェライトの焼結体と、該焼結体の
表面又は内部に設けられたコイルとを備えたインダクタ
において、該焼結体の表面に歪みの逃げ場を設けた。
１１記載の発明は、フェライトの焼結体と、該焼結体の
表面又は内部に設けられたコイルとを備えたインダクタ
において、該焼結体の表面に歪みの逃げ場を設けた。
【００１８】ここで、フェライトとしては、Ｍｎ−Ｚｎ
系フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト又はＣｕ−Ｚｎ
系フェライトを挙げることができるが、これは例示であ
り、これら以外のフェライトを除外するものではない。
系フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト又はＣｕ−Ｚｎ
系フェライトを挙げることができるが、これは例示であ
り、これら以外のフェライトを除外するものではない。
【００１９】歪みの逃げ場としては、焼結体の表面を複
数の区画に分割する溝、焼結体の表面に分散形成した複
数の小穴、焼結体の表面を複数の区画に分割する突条、
焼結体の表面に分散形成した複数の突起を挙げることが
できる。
数の区画に分割する溝、焼結体の表面に分散形成した複
数の小穴、焼結体の表面を複数の区画に分割する突条、
焼結体の表面に分散形成した複数の突起を挙げることが
できる。
【００２０】焼結体の表面に形成する溝又は小穴の深さ
は１〜１００μｍの範囲が好ましい。溝又は小穴の深さ
が１μｍ未満では効果が少なく、１００μｍを越えると
焼結体の抗折強度が劣化するという不都合があるからで
ある。
は１〜１００μｍの範囲が好ましい。溝又は小穴の深さ
が１μｍ未満では効果が少なく、１００μｍを越えると
焼結体の抗折強度が劣化するという不都合があるからで
ある。
【００２１】焼結体の表面に形成する突条又は突起の高
さは１〜１００μｍの範囲が好ましい。突条又は突起の
高さが１μｍ未満では効果が少なく、１００μｍを越え
ると焼結体の抗折強度が劣化するという不都合があるか
らである。
さは１〜１００μｍの範囲が好ましい。突条又は突起の
高さが１μｍ未満では効果が少なく、１００μｍを越え
ると焼結体の抗折強度が劣化するという不都合があるか
らである。
【００２２】焼結体の表面に形成する溝、小穴、突条又
は突起は、焼結体を成形する金型の内側に突条、突起、
溝又は小穴を形成しておくことにより形成することがで
きる。
は突起は、焼結体を成形する金型の内側に突条、突起、
溝又は小穴を形成しておくことにより形成することがで
きる。
【００２３】なお、インダクタは磁性体コアにコイルを
巻回したもののみならず、積層タイプのチップインダク
タも含むものである。
巻回したもののみならず、積層タイプのチップインダク
タも含むものである。
【００２４】
実施例１ まず、磁性体コアの原料粉末として、表１に示す量のＦ
ｅ2 Ｏ3 ，ＭｎＯ2 ，ＺｎＯを秤量し、これらを水とと
もにボールミル内に入れ、４時間混合してスラリー状の
原料混合物を得た。
ｅ2 Ｏ3 ，ＭｎＯ2 ，ＺｎＯを秤量し、これらを水とと
もにボールミル内に入れ、４時間混合してスラリー状の
原料混合物を得た。
【００２５】
【表１】
【００２６】次に、このスラリー状の原料混合物を熱風
乾燥機内に入れ、１５０℃で１０時間乾燥させて乾燥状
態の原料混合物を得た。そして、この乾燥状態の原料混
合物を仮焼炉内に入れ、９００℃で２時間仮焼して仮焼
物を得た。
乾燥機内に入れ、１５０℃で１０時間乾燥させて乾燥状
態の原料混合物を得た。そして、この乾燥状態の原料混
合物を仮焼炉内に入れ、９００℃で２時間仮焼して仮焼
物を得た。
【００２７】次に、この仮焼物を微粉砕し、これにポリ
ビニルアルコール等の結合剤を加えて混合し、スラリー
状になったものをスプレードライヤ中で強制的に霧化
し、低温乾燥させてフェライトの顆粒を得た。
ビニルアルコール等の結合剤を加えて混合し、スラリー
状になったものをスプレードライヤ中で強制的に霧化
し、低温乾燥させてフェライトの顆粒を得た。
【００２８】次に、このフェライトの顆粒を金型内に入
れ、圧力１トン／ｃｍ2 て成形し、磁性体コアの成形体
を多数得た。ここで、金型の内側には高さ１０μｍの突
条が全面にわたって網目状に形成されているものを使用
した。
れ、圧力１トン／ｃｍ2 て成形し、磁性体コアの成形体
を多数得た。ここで、金型の内側には高さ１０μｍの突
条が全面にわたって網目状に形成されているものを使用
した。
【００２９】次に、この成形体を多数、匣鉢に入れ、こ
の匣鉢を焼成炉内に入れ、酸素分圧２％の酸化性雰囲気
中において１３５０℃で３時間焼成し、その後、Ｎ2 雰
囲気中において冷却した。成形体はこの焼成によって焼
結し、フェライト製の磁性体コアになった。
の匣鉢を焼成炉内に入れ、酸素分圧２％の酸化性雰囲気
中において１３５０℃で３時間焼成し、その後、Ｎ2 雰
囲気中において冷却した。成形体はこの焼成によって焼
結し、フェライト製の磁性体コアになった。
【００３０】次に、焼成炉から磁性体コアを匣鉢ととも
に取り出し、匣鉢から１００個の磁性体コアを抜き取
り、そのＬ値を測定したところ、図１に示す通りとなっ
た。
に取り出し、匣鉢から１００個の磁性体コアを抜き取
り、そのＬ値を測定したところ、図１に示す通りとなっ
た。
【００３１】また、これらの磁性体コアの１つについ
て、その表面の状態を電子顕微鏡で観察したところ、図
２及び図３に示す通り、磁性体コア１０が多数の結晶粒
１２によって形成されており、更に、磁性体コア１０の
表面には結晶粒１２を横切る溝１４が形成されていた。
て、その表面の状態を電子顕微鏡で観察したところ、図
２及び図３に示す通り、磁性体コア１０が多数の結晶粒
１２によって形成されており、更に、磁性体コア１０の
表面には結晶粒１２を横切る溝１４が形成されていた。
【００３２】次に、磁性体コアを匣鉢から網製のバット
内に空け、バット内から１００個の磁性体コアを抜き取
り、そのＬ値を測定したところ、図１に示す通りとなっ
た。
内に空け、バット内から１００個の磁性体コアを抜き取
り、そのＬ値を測定したところ、図１に示す通りとなっ
た。
【００３３】次に、磁性体コアをバレル研磨装置内に入
れて１０分間研磨した。そして、これらの磁性体コアか
ら１００個を抜き取り、そのＬ値を測定したところ、Ｌ
値は図１に示す通りであった。
れて１０分間研磨した。そして、これらの磁性体コアか
ら１００個を抜き取り、そのＬ値を測定したところ、Ｌ
値は図１に示す通りであった。
【００３４】次に、バレル研磨した磁性体コアをバット
とともに超音波洗浄機内に入れ、超音波洗浄した。そし
て、これらの磁性体コアから１００個を抜き取り、その
Ｌ値を測定したところ、図１に示す通りとなった。
とともに超音波洗浄機内に入れ、超音波洗浄した。そし
て、これらの磁性体コアから１００個を抜き取り、その
Ｌ値を測定したところ、図１に示す通りとなった。
【００３５】比較例１ 金型の内側に多数の突条を形成せず、従って、磁性体コ
アの表面に溝を形成しなかった他は、実施例１と同様に
して磁性体コアを作成し、実施例１と同様にして各工程
におけるＬ値を測定したところ、各工程におけるＬ値は
図４に示す通りであった。
アの表面に溝を形成しなかった他は、実施例１と同様に
して磁性体コアを作成し、実施例１と同様にして各工程
におけるＬ値を測定したところ、各工程におけるＬ値は
図４に示す通りであった。
【００３６】実施例１及び比較例１から、図１及び図４
に示す通り、実施例１に係る磁性体コアは各工程の衝撃
を受けても比較例１による磁性体コアよりＬ値の低下が
少ないことがわかる。
に示す通り、実施例１に係る磁性体コアは各工程の衝撃
を受けても比較例１による磁性体コアよりＬ値の低下が
少ないことがわかる。
【００３７】実施例２ 実施例１によって得られた焼成直後の磁性体コアをバレ
ル研磨装置内に入れ、０分、１０分、２０分、３０分、
４０分、５０分、６０分と研磨し、各研磨時間ごとに磁
性体コアを抜き出してそのＬ値を測定したところ、図５
に示す通りとなった。
ル研磨装置内に入れ、０分、１０分、２０分、３０分、
４０分、５０分、６０分と研磨し、各研磨時間ごとに磁
性体コアを抜き出してそのＬ値を測定したところ、図５
に示す通りとなった。
【００３８】比較例２ 比較例１によって得られた焼成直後の磁性体コアをバレ
ル研磨装置内に入れ、０分、１０分、２０分、３０分、
４０分、５０分、６０分と研磨し、各研磨時間ごとに磁
性体コアを抜き出してそのＬ値を測定したところ、図５
に示す通りとなった。
ル研磨装置内に入れ、０分、１０分、２０分、３０分、
４０分、５０分、６０分と研磨し、各研磨時間ごとに磁
性体コアを抜き出してそのＬ値を測定したところ、図５
に示す通りとなった。
【００３９】実施例２及び比較例２から、図５に示す通
り、実施例２に係る磁性体コアは比較例２に係る磁性体
コアよりバレル研磨の衝撃によるＬ値の低下が少ないこ
とがわかる。
り、実施例２に係る磁性体コアは比較例２に係る磁性体
コアよりバレル研磨の衝撃によるＬ値の低下が少ないこ
とがわかる。
【００４０】実施例３ 金型の内側に多数の突起を形成して、表面に複数の小穴
を分散形成した磁性体コアを形成した以外、実施例１と
同様にして実験したところ、Ｌ値について実施例１と同
様の結果が得られた。
を分散形成した磁性体コアを形成した以外、実施例１と
同様にして実験したところ、Ｌ値について実施例１と同
様の結果が得られた。
【００４１】実施例４ 金型の内側に多数の溝を形成して、表面に該表面を複数
の区画に分割する突条を設けた磁性体コアを形成した以
外、実施例１と同様にして実験したところ、Ｌ値につい
て実施例１と同様の結果が得られた。
の区画に分割する突条を設けた磁性体コアを形成した以
外、実施例１と同様にして実験したところ、Ｌ値につい
て実施例１と同様の結果が得られた。
【００４２】実施例５ 金型の内側に多数の小穴を形成して、表面に複数の突起
を分散形成した磁性体コアを形成した以外、実施例１と
同様にして実験したところ、Ｌ値について実施例１と同
様の結果が得られた。
を分散形成した磁性体コアを形成した以外、実施例１と
同様にして実験したところ、Ｌ値について実施例１と同
様の結果が得られた。
【００４３】実施例６ 積層チップインダクタについて、実施例１〜５と同様の
実験をしたところ、実施例１〜５と同様の結果が得られ
た。
実験をしたところ、実施例１〜５と同様の結果が得られ
た。
【００４４】
【発明の効果】この発明によれば、表面に衝突等の外力
が加えられてもＬ値が低下し難い磁性体コア及びインダ
クタを提供することができるという効果がある。
が加えられてもＬ値が低下し難い磁性体コア及びインダ
クタを提供することができるという効果がある。
【図１】実施例１の各工程における磁性体コアのＬ値の
変化を示すグラフである。
変化を示すグラフである。
【図２】実施例１に係る磁性体コアのうちで、焼成直後
の磁性体コアの表面を正面側から電子顕微鏡で見た状態
を模式的に示す説明図である。
の磁性体コアの表面を正面側から電子顕微鏡で見た状態
を模式的に示す説明図である。
【図３】実施例１に係る磁性体コアのうちで、焼成直後
の磁性体コアの表面を断面側から電子顕微鏡で見た状態
を模式的に示す説明図である。
の磁性体コアの表面を断面側から電子顕微鏡で見た状態
を模式的に示す説明図である。
【図４】比較例１の各工程における磁性体コアのＬ値の
変化を示すグラフである。
変化を示すグラフである。
【図５】実施例２及び比較例２についてバレル研磨の時
間とＬ値との関係を示したグラフである。
間とＬ値との関係を示したグラフである。
１０ 磁性体コア １２ 結晶粒 １４ 溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−336660（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−86702（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−168860（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−226140（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−182286（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−4003（ＪＰ，Ａ) 実開 平５−95191（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01F 1/34 - 1/37 H01F 17/04,27/32,41/02 C04B 35/26
Claims (10)
- 【請求項１】 フェライトの焼結体からなる磁性体コア
において、該焼結体の表面に、該焼結体の表面を複数の
区画に分割する、深さが１〜１００μｍの溝からなる歪
みの逃げ場を設けたことを特徴とする磁性体コア。 - 【請求項２】 フェライトの焼結体からなる磁性体コア
において、該焼結体の表面に深さが１〜１００μｍの小
穴からなる歪みの逃げ場を複数個、分散形成したことを
特徴とする磁性体コア。 - 【請求項３】 フェライトの焼結体からなる磁性体コア
において、該焼結体の表面に、該焼結体の表面を複数の
区画に分割する、高さが１〜１００μｍの突条からなる
歪みの逃げ場を設けたことを特徴とする磁性体コア。 - 【請求項４】 フェライトの焼結体からなる磁性体コア
において、前記焼結体の表面に高さが１〜１００μｍの
突起からなる歪みの逃げ場を複数個、分散形成したこと
を特徴とする磁性体コア。 - 【請求項５】 前記フェライトがＭｎ−Ｚｎ系フェライ
ト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト又はＣｕ−Ｚｎ系フェライ
トであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記
載の磁性体コア。 - 【請求項６】 フェライトの焼結体と、該焼結体の表面
又は内部に設けられたコイルとを備えたインダクタにお
いて、該焼結体の表面に、該焼結体の表面を複数の区画
に分割する、深さが１〜１００μｍの溝からなる歪みの
逃げ場を設けたことを特徴とするインダクタ。 - 【請求項７】 フェライトの焼結体と、該焼結体の表面
又は内部に設けられたコイルとを備えたインダクタにお
いて、該焼結体の表面に深さが１〜１００μｍの小穴か
らなる歪みの逃げ場を複数個、分散形成したことを特徴
とするインダクタ。 - 【請求項８】 フェライトの焼結体と、該焼結体の表面
又は内部に設けられたコイルとを備えたインダクタにお
いて、該焼結体の表面に、該焼結体の表面を複数の区画
に分割する、高さが１〜１００μｍの突条からなる歪み
の逃げ場を設けたことを特徴とするインダクタ。 - 【請求項９】 フェライトの焼結体と、該焼結体の表面
又は内部に設けられたコイルとを備えたインダクタにお
いて、該焼結体の表面に高さが１〜１００μｍの突起か
らなる歪みの逃げ場を複数個、分散形成したことを特徴
とするインダクタ。 - 【請求項１０】 前記フェライトがＭｎ−Ｚｎ系フェラ
イト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト又はＣｕ−Ｚｎ系フェラ
イトであることを特徴とする請求項６〜９のいずれかに
記載のインダクタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18793095A JP3230415B2 (ja) | 1995-07-01 | 1995-07-01 | 磁性体コア及びインダクタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18793095A JP3230415B2 (ja) | 1995-07-01 | 1995-07-01 | 磁性体コア及びインダクタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0917637A JPH0917637A (ja) | 1997-01-17 |
| JP3230415B2 true JP3230415B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=16214683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18793095A Expired - Fee Related JP3230415B2 (ja) | 1995-07-01 | 1995-07-01 | 磁性体コア及びインダクタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3230415B2 (ja) |
-
1995
- 1995-07-01 JP JP18793095A patent/JP3230415B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0917637A (ja) | 1997-01-17 |
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