JP3211007B2 - 研磨テ−プの製造方法 - Google Patents

研磨テ−プの製造方法

Info

Publication number
JP3211007B2
JP3211007B2 JP13966791A JP13966791A JP3211007B2 JP 3211007 B2 JP3211007 B2 JP 3211007B2 JP 13966791 A JP13966791 A JP 13966791A JP 13966791 A JP13966791 A JP 13966791A JP 3211007 B2 JP3211007 B2 JP 3211007B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
cationic surfactant
polishing layer
tape
polishing tape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP13966791A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04343675A (ja
Inventor
正俊 寺沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Maxell Energy Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Energy Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Maxell Energy Ltd filed Critical Hitachi Maxell Energy Ltd
Priority to JP13966791A priority Critical patent/JP3211007B2/ja
Publication of JPH04343675A publication Critical patent/JPH04343675A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3211007B2 publication Critical patent/JP3211007B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は研磨テ−プの製造方法
に関し、さらに詳しくは、長期にわたり帯電が小さく
て、クリ−ニング性に優れた研磨テ−プの製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】研磨テ−プは、通常、ポリエステルフィ
ルム等の基体上に、Al2 3 粉末、Cr2 3 粉末、
SiO2 粉末、SiC粉末等の研磨砥粒を結合剤樹脂で
結着してつくられ、たとえば、磁気記録再生装置におけ
る磁気ヘッド等に摺接させて、磁気ヘッドに付着した塵
埃や離脱した磁性粉末を取り除くなど、被研磨物に付着
した付着異物を取り除くときなどに広く使用されてい
る。しかしながら、これらの研磨テ−プに使用するAl
2 3 粉末、Cr2 3粉末、SiO2 粉末、SiC粉
末等の研磨砥粒は、いずれも電気抵抗が大きく、これら
を使用して得られる研磨テ−プは帯電が大きい。このた
め、塵埃が多量に付着しやすく、これらの付着した塵埃
によって磁気ヘッド等の被研磨物に傷(スクラッチ)が
発生しやすい。このような研磨テ−プの研磨層の帯電を
防止するため、界面活性剤を揮発性溶剤に溶解した溶液
を、研磨層上に噴霧塗布し、界面活性剤の吸水性によっ
て、帯電を防止することが行われている(特開昭62−
130181号)が、この方法では、研磨層の表面にの
み界面活性剤が存在するため、研磨層表面の界面活性剤
が使用中に消失しやすく、また、研磨層を形成する以外
に界面活性剤の噴霧塗布工程が増える上、この工程中に
走行する研磨シ−トに帯電が生じて火花が生じたりする
場合があり、工程中における帯電を防止しなければなら
ないため製造が容易でない。そこで、本発明者らは、カ
チオン界面活性剤を、研磨砥粒、結合剤成分、有機溶剤
等とともに混合分散して研磨塗料を調製し、次いで、こ
れを基体上に塗布し、乾燥して研磨層を形成することに
よって、研磨テ−プの電気抵抗を長期間持続して低下さ
せ、長期間にわたり帯電を小さくする方法(特開平1−
293155号)を既に提案した。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、研磨層中に
カチオン界面活性剤が含有されると、研磨テ−プの電気
抵抗が長期間持続して低下される反面、研磨層中に添加
されるカチオン界面活性剤により研磨層の塗膜強度が低
下するという問題があり、このためカチオン界面活性剤
の使用量が研磨層の塗膜強度の低下が少ない程度に制限
され、帯電防止効果が充分でない場合がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明はかかかる現状
に鑑み種々検討を行った結果なされたもので、カチオン
界面活性剤を、研磨砥粒、結合剤成分、有機溶剤等とと
もに混合分散して研磨塗料を調製し、次いで、これを基
体上に塗布し、乾燥した後、カレンダ処理を施すことに
よって、添加量の少ないカチオン界面活性剤でもって研
磨テ−プの電気抵抗を充分に長期間持続して低下させ、
研磨層の塗膜強度を低下させることなく長期間にわたり
帯電を小さくさせたものである。
【0005】この発明によれば、カチオン界面活性剤
を、研磨砥粒、結合剤成分、有機溶剤等とともに混合分
散して調製した研磨塗料を、基体上に塗布し、乾燥した
後、カレンダ処理を施しているため、このカレンダ処理
により研磨層中に含有されたカチオン界面活性剤が研磨
層の表面にブリ−ドアウトし、また、カチオン界面活性
剤は、アニオン界面活性剤や非イオン界面活性剤と違っ
て、空気中の水分を吸着するため導電性に優れる。
【0006】従って、研磨層中のカチオン界面活性剤の
添加量を少なくしても、カレンダ処理により導電性に優
れたカチオン界面活性剤が研磨層の表面にブリ−ドアウ
トされ、導電性が発揮されて、電気抵抗が充分に低下さ
れ、帯電が充分に小さくなって、帯電による塵埃の付着
が充分に抑制される。また、カチオン界面活性剤の添加
量を少なくすることができるため、研磨層の塗膜強度が
低下することもない。さらに、適度にブリ−ドアウトし
たカチオン界面活性剤による空気中の水分の吸着によ
り、研磨テ−プと被研磨物の研磨面で発生する摩擦力の
低下を防止することができ、研磨力の低下しない研磨テ
−プが得られる。
【0007】しかして、このようなカチオン界面活性剤
を研磨層表面に適度にブリ−ドアウトさせた研磨層を形
成した研磨テ−プを使用すれば、帯電を長期間持続して
低減しながら、磁気ヘッド等の被研磨物上に傷を発生さ
せることなく、磁気ヘッド等の被研磨物から付着異物の
みを良好に除去することができる。
【0008】このように少ない添加量のカチオン界面活
性剤を研磨層の表面にブリ−ドアウトさせた研磨層は、
カチオン界面活性剤を、結合剤樹脂、有機溶剤等ととも
に混合分散して研磨塗料を調製し、この研磨塗料を基体
上に塗布し、乾燥した後、カレンダ処理を施すことによ
って形成される。
【0009】ここで、カレンダ処理は、カチオン界面活
性剤を研磨層の表面に良好にブリ−ドアウトさせるた
め、線圧50〜200kg/m、温度50〜100℃の条
件下で行うのが好ましく、線圧が小さすぎたり、温度が
低すぎたりすると所期の効果が得られず、線圧が高すぎ
たり、温度が高すぎたりすると、研磨層の表面が平滑に
なりすぎてチップポケットが減少し、研磨力および研磨
寿命が低下する。
【0010】このようにして形成される研磨層に使用さ
れるカチオン界面活性剤としては、第4級アンモニウム
塩、第4級アンモニウム塩ポリマ−、脂肪酸アマイド誘
導体、ポリアミン誘導体などが好適なものとして使用さ
れ、市販品の具体例としては、たとえば、東邦化学社製
アンステックスC−200X、アンステックスKM−1
50、吉村油化学社製パ−マックスAW−1、松本油脂
社製TB−115などが挙げられる。
【0011】このようなカチオン界面活性剤の含有量
は、研磨層中の研磨砥粒に対して 0.5〜5重量%の範囲
内にするのが好ましく、界面活性剤が少なすぎると、研
磨層の電気抵抗を充分に小さくすることができず、多す
ぎると研磨層の表面にカチオン界面活性剤が多くブリ−
ドアウトしすぎて、研磨力が低下する。
【0012】研磨層に使用される研磨砥粒としては、適
度な硬度を有し、被研磨物に付着した塵埃などの付着異
物を良好に取り除くことができるものが好ましく使用さ
れ、例えば、Al2 3 粉末、Cr2 3 粉末、SiO
2 粉末、SiC粉末などが、単独または2種以上混合し
て使用される。使用量は、充分なクリ−ニング効果を発
揮させるため、研磨層中の全固形成分に対して20〜9
0重量%の範囲内で使用するのが好ましく、50〜90
重量%の範囲内で使用するのがより好ましい。
【0013】また、結合剤成分としては、塩化ビニル−
酢酸ビニル系共重合体、ポリビニルブチラ−ル樹脂、繊
維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹
脂、エポキシ系樹脂、ポリエ−テル系樹脂、イソシアネ
−ト化合物、放射線硬化型樹脂など従来から汎用されて
いる結合剤樹脂がいずれも好適に使用される。
【0014】有機溶剤としては、アセトン、メチルイソ
ブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミドなど、従来一般に使用される有機溶剤
がいずれも単独で、或いは2種以上混合して使用され
る。
【0015】なお、研磨層中には、通常使用されている
各種添加剤、たとえば、潤滑剤、分散剤、充填剤などを
適宜に添加使用してもよい。
【0016】
【実施例】次に、この発明の実施例について説明する。 実施例1 α−Al2 3 粉末(粒子径 0.5μm) 100重量部 飽和ポリエステル樹脂 15 〃 アンステックスC−200X(東邦化学社製:第4級アン 2 〃 モニウム塩) メチルエチルケトン 25 〃 トルエン 75 〃 この組成物をボ−ルミル中で24時間混合分散して研磨
塗料を調製し、この研磨塗料を厚さ25μmのポリエス
テルフィルム上に、乾燥厚が約30μmとなるように塗
布して研磨層を形成した。次いで、これを90℃で3分
間乾燥して、さらに120℃で1分間乾燥し、線圧10
0kg/m、温度80℃でカレンダ処理を行った後、所定
の幅に裁断して研磨テ−プを作製した。
【0017】実施例2 実施例1における研磨塗料の組成において、アンステッ
クスC−200Xに代えて、アンステックスKM−15
0(東邦化学社製:第4級アンモニウム塩)を同量使用
した以外は、実施例1と同様にして研磨テ−プを作製し
た。
【0018】比較例1 実施例1における研磨塗料の組成において、カレンダ処
理を行わなかった以外は、実施例1と同様にして研磨テ
−プを作製した。
【0019】比較例2 実施例1における研磨塗料の組成において、アンステッ
クスC−200Xの使用量を2重量部から1重量部に変
更し、カレンダ処理を行わなかった以外は、実施例1と
同様にして研磨テ−プを作製した。
【0020】比較例3 実施例1における研磨塗料の組成において、アンステッ
クスC−200Xの使用量を2重量部から4重量部に変
更し、カレンダ処理を行わなかった以外は、実施例1と
同様にして研磨テ−プを作製した。
【0021】各実施例および比較例で得られた研磨テ−
プについて、オネストメ−タ−で帯電させた後、15秒
間放電させた後の帯電量を調べた。また、各研磨テ−プ
をセンダスト磁気ヘッドを搭載した8mmVTRにかけ、
1時間走行させて磁気ヘッドの研磨量を調べ、磁気ヘッ
ド表面のスクラッチ傷の有無を観察した。さらに、JI
S K 5401に基づき、塗膜用鉛筆引っかき試験機
を用いて鉛筆硬度を調べた。下記表1はその結果であ
る。
【0022】
【0023】
【発明の効果】上記表1から明らかなように、この発明
で得られた研磨テ−プ(実施例1および2)は、比較例
1ないし3で得られた研磨テ−プに比し、研磨量が多
く、スクラッチ傷がなくて、帯電量が小さく、また鉛筆
硬度が硬く、このことからこの発明で得られた研磨テ−
プは、帯電防止効果および研磨層の塗膜強度に優れ、被
研磨物を傷つけたりすることなく、被研磨物を付着した
付着異物のみを良好に除去することができることがわか
る。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B24D 11/00 B24D 3/02 B24D 3/34 G11B 5/187

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磨砥粒、結合剤成分、有機溶剤等とと
    もにカチオン界面活性剤を研磨砥粒に対して0.5〜5重
    量%の範囲内で混合分散して研磨塗料を調製し、次い
    で、これを基体上に塗布し、乾燥した後、線圧50〜2
    00kg/m、温度50〜100℃の条件下でカレンダ処
    理を行って研磨層を形成することを特徴とする研磨テー
    プの製造方法。
  2. 【請求項2】 カチオン界面活性剤が、第4級アンモニ
    ウム塩である請求項1記載の研磨テープの製造方法。
JP13966791A 1991-05-15 1991-05-15 研磨テ−プの製造方法 Expired - Lifetime JP3211007B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13966791A JP3211007B2 (ja) 1991-05-15 1991-05-15 研磨テ−プの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13966791A JP3211007B2 (ja) 1991-05-15 1991-05-15 研磨テ−プの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04343675A JPH04343675A (ja) 1992-11-30
JP3211007B2 true JP3211007B2 (ja) 2001-09-25

Family

ID=15250617

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13966791A Expired - Lifetime JP3211007B2 (ja) 1991-05-15 1991-05-15 研磨テ−プの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3211007B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4885364B2 (ja) * 2001-01-10 2012-02-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ワイピングフィルム

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04343675A (ja) 1992-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1161313A (en) Magnetic recording medium
JP3135741B2 (ja) 研磨体
US4547425A (en) Magnetic recording media
JP3211007B2 (ja) 研磨テ−プの製造方法
EP0154827B1 (en) Magnetic recording medium comprising an undercoating made of a mixture of thermosetting polyurethane and polyester resins
JPH01252366A (ja) ラッピングテープ
JPH10296642A (ja) 研磨テープ
JP2987383B2 (ja) 研磨シート
JP2989626B2 (ja) 走行性の向上した研磨テープの製造方法
JPH03154782A (ja) 研磨テープおよびその製造方法
JPH02106275A (ja) 研磨テープ
JP2673574B2 (ja) 研磨テープの製造方法
JP3049451B2 (ja) 研磨テ−プ
JPH05266460A (ja) 磁気記録媒体及びその製造方法
JPS63122014A (ja) 磁気記録媒体
JPS62176771A (ja) 研磨テ−プ
JPS6398832A (ja) 回転ブレ−ド体および磁気記録媒体の製法
JP2820696B2 (ja) 磁気記録媒体の製造方法
JPS60229235A (ja) 磁気記録媒体の製法
JPH0568766B2 (ja)
JP2843159B2 (ja) 磁気ディスク
JPH0545395B2 (ja)
JPH0573549B2 (ja)
JPS6098526A (ja) 磁気記録媒体
JPH0481263B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20010530

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080719

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090719

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100719

Year of fee payment: 9