JPH10296642A - 研磨テープ - Google Patents

研磨テープ

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JPH10296642A
JPH10296642A JP9123198A JP12319897A JPH10296642A JP H10296642 A JPH10296642 A JP H10296642A JP 9123198 A JP9123198 A JP 9123198A JP 12319897 A JP12319897 A JP 12319897A JP H10296642 A JPH10296642 A JP H10296642A
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polishing
polishing layer
solvent
polishing tape
tape
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JP9123198A
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Kesao Okada
今朝男 岡田
Shigeo Kurose
茂夫 黒瀬
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気ヘッドや、磁気ディスク等の表面を研磨
するに際して、研磨対象表面に研磨傷が発生するのを極
力防止することができ、研磨テープの研磨層の削れが少
なく、かつ、研磨能力に優れた研磨テープを提供する。 【解決手段】 可撓性支持体の上に、無機質粉体、結合
剤および溶剤を含む研磨層形成用塗料を塗設後、乾燥さ
せて形成された研磨層を備える研磨テープにおいて、前
記研磨層形成用塗料に含有される溶剤は、沸点120℃
以上の有機溶剤が全有機溶剤量に対して20〜60重量
%の割合で含有されており、前記研磨層の膜厚が3〜2
5μmであり、前記研磨層中の残留溶剤量が、500g
/m3 以下であるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドや磁気
ディスク等の表面の研磨に用いられる研磨テープに関す
る。
【0002】
【従来の技術】磁気ヘッドの精密仕上げ加工や磁気記録
媒体の表面仕上げ加工には、可撓性支持体の上に研磨層
を有する研磨テープが用いられる。研磨層は、研磨層形
成用塗料を可撓性支持体の上に塗設した後、乾燥させる
ことによって形成され、研磨層形成用塗料中には、例え
ば、酸化アルミニウム、酸化クロム、炭化珪素、酸化
鉄、窒化珪素、ダイアモンド等の無機質粉体;塩化ビニ
ル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等
の有機質結合剤(バインダ);およびその他の配合剤な
どが混練・分散された状態で含有されている。
【0003】従来より知られている研磨テープの製造方
法としては、特公昭53−44714号公報に記載の方
法があり、当該方法は、研磨剤微粒子を加熱後、飽和ポ
リエステル樹脂接着剤の溶液と混合、攪拌し、次いで前
記混合物をフィルタでろ過し、このろ過の前または後で
硬化剤を添加し、その後、前記混合物をポリエステルに
均一に塗布し、更に、このフィルムを乾燥して巻き取
り、最後に前記フィルムをキュアする研磨テープの製造
方法である。この製造方法によれば、研磨微粒子がフィ
ルム面から脱落しなくなるいう効果が発現されると報告
されているものの、研磨テープとしての研磨能は十分で
あるとは言えない。
【0004】また、特開平7−276246号公報に
は、可撓性支持体の上に研磨剤粒子と結合剤樹脂を主体
とする研磨層を設けてなる研磨テープであって、該研磨
層からテトラヒドロフラン(THF)により抽出される
抽出量が研磨層に対して0.1〜3.0重量%である研
磨テープの提案がなされている。また、当該公報中、塗
布膜の残留溶剤量を0.1〜40mg/m2 とする旨の
記載もなされている。しかしながら、特開平7−276
246号公報記載のものは、複写機用電子写真感光ドラ
ム表面に均一な削条痕をつけ、感光ドラムの寿命の大幅
な改善を図るものであり、用途はそれ専用のものと考え
られ、磁気記録媒体や磁気ヘッド等の研磨には適合する
ものとは言えない。また、残留溶剤量は、単なる数値の
記載にすぎず、この量を規定することによって発現する
具体的作用効果の記載はまったくなされていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような実
状のもとに創案されたものであって、その目的は、磁気
ヘッドや、磁気ディスク等の表面を研磨するに際して、
研磨対象表面に研磨傷が発生するのを極力防止すること
ができ、研磨テープの研磨層の削れが少なく、かつ、研
磨能力に優れた研磨テープを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明は、可撓性支持体の上に、無機質粉
体、結合剤および溶剤を含む研磨層形成用塗料を塗設
後、乾燥させて形成された研磨層を備える研磨テープに
おいて、前記研磨層形成用塗料に含有される溶剤は、沸
点120℃以上の有機溶剤が全有機溶剤量に対して20
〜60重量%の割合で含有されており、前記研磨層の膜
厚が3〜25μmであり、前記研磨層中の残留溶剤量
が、500g/m3 以下であるように構成される。
【0007】また、本発明の好ましい態様として、前記
研磨層中の残留溶剤量は、20〜500g/m3 の範囲
に設定される。
【0008】また、本発明の好ましい態様として、沸点
120℃以上の有機溶剤が、シクロヘキサノンであるよ
うに構成される。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を図1を参照しつつ説明する。
【0010】図1には本発明の研磨テープの実施の形態
を模式的に示した断面図が表されている。
【0011】本発明の研磨テープ1は、可撓性支持体2
の上に、磁気ヘッドや磁気ディスク等の表面(以下、単
に『被研磨物』と称す)を研磨(クリーニング)するた
めの研磨層3を備えている。そして、この研磨層3に
は、研磨材としての無機質粉体と、この無機質粉体をバ
インドさせるための結合剤を必須成分として含有してい
る。
【0012】本発明における研磨層3は、上記必須成分
と、必要に応じて用いられる各種添加剤等を(有機)溶
剤とともに混合分散した研磨層形成用塗料を、可撓性支
持体2の上に塗設し、乾燥させて形成させたものであ
る。
【0013】このような研磨層3の膜厚は、3〜25μ
m、好ましくは5〜20μmに設定される。この値が3
μm未満となると、塗膜の弾性が失われ、研磨の対象と
なる被研磨物を傷つける原因となってしまう。また、こ
の値が25μmを超えると、研磨層の削れが発生しやす
くなるという不都合が生じてしまう。なお、このような
研磨層3の膜厚の設定は、これ単独のみでは本発明の顕
著な効果は発現せず、後述する研磨層3中の残留溶剤量
の設定と、塗料中に使用する所定溶剤との組み合わされ
が実現されて初めて、本願発明の相乗的効果が発現する
のである。なお、研磨層3の膜厚は、乾燥後の厚さであ
る。また、研磨層3は、通常単独で塗布形成されるが、
2層以上の複数層とすることもできる。
【0014】研磨層3に含有される無機質粉体は、モー
ス硬度5以上のものを用いるのが好ましく、例えば、炭
化珪素、酸化アルミニウム、窒化珪素、酸化ジルコニウ
ム、酸化クロム、ダイモンド、エメリー等の微粉末が単
独または2種以上混合して使用される。中でも特に、炭
化珪素、あるいは酸化アルミニウムを用いるのが好適で
ある。無機質粉体の粒径は、0.1〜20μm程度の範
囲のものが好ましく、実用に供する具体的粒径は、粗削
りあるいは仕上げ研磨用のごとく実際の目的に合致する
ように適宜選定して用いればよい。0.1μm未満の粒
径では、仕上げ研磨用としての研磨能が不十分となる傾
向にあり、また、20μmを超えると被研磨物に傷を付
ける等の不都合が生じやすくなる。
【0015】研磨層3に含有される結合剤(結合剤樹
脂)としては、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系共重合
体、繊維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル
系樹脂、ポリエーテル系樹脂等が挙げられ、これらは単
独または2種以上混合して使用される。これらの中でも
特に、フェノキシ樹脂とポリウレタン系樹脂の組み合わ
せが好適である。
【0016】研磨層3に含有される結合剤の含有量は、
無機質粉体100重量部に対して、5〜50重量部、特
に10〜40重量部とするのがよい。結合剤の含有量が
5重量部未満となり少なくなり過ぎると研磨層の塗膜強
度が低下するため、研磨塗膜の脱落が発生する。この一
方で、結合剤の含有量が50重量部を超えて多くなり過
ぎると相対的に無機質粉体の含有量が低下するため、十
分な研磨能が得られなくなるという不都合が生じる。
【0017】さらに、このような結合剤を硬化させるた
めに、通常、架橋剤が含有される。架橋剤としては、各
種ポリイソシアナート、特に、ジイソシアナートを用い
ることができ、特に、トリレンジイソシアナート、ヘキ
サメチレンジイソシアナート、メチレンジイソシアナー
トの中から選定される1種以上を用いるのがよい。これ
らの架橋剤は、トリメチロールプロパン等の水酸基を複
数有するものに変性した架橋剤、またはジイソシアナー
ト化合物3分子が結合したイソシアヌレート型の架橋剤
として用いることが特に好ましい。このような架橋剤
は、前記結合剤樹脂に含有される官能基等と結合して樹
脂を架橋する作用をする。架橋剤の含有量は、結合剤1
00重量部に対し、10〜30重量部とすることが好ま
しい。また、熱硬化性樹脂を硬化させるには、通常、加
熱オーブン中で50〜70℃の温度にて、12〜48時
間加熱すればよい。
【0018】また、本発明の研磨層には、必要に応じて
添加剤として潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑
効果等を有するものを添加して使用することができる。
具体的には、公知の種々の脂肪酸、脂肪酸エステル、シ
リコーンオイル類、フッ素オイル、界面活性剤、カーボ
ンブラック等が添加され得る。
【0019】このような研磨層を形成するために、予め
調製される研磨層形成用塗料には、有機溶剤が含有され
る。
【0020】本発明で使用される有機溶剤としては、例
えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステ
ル類等を単一溶剤またはこれらの任意比率の混合溶剤と
して用いられる。この中でも、沸点120℃以上の高沸
点溶剤は必須成分であり、塗料の全有機溶剤に対して2
0〜60重量%、好ましくは25〜50重量%含まれる
ことを必要とする。沸点120℃以上の高沸点溶剤の含
有量が、20重量%未満では、3〜25μmという比較
的膜厚の厚い研磨層塗膜においては、研磨層塗膜中より
有機溶剤が急速に気化するため、研磨層の表面性が悪化
してしまう。これを用いた研磨操作は、被研磨物に傷を
つけることになる。沸点120℃以上の高沸点溶剤の含
有量が、60重量%を超えると、研磨層中の残留溶剤量
が増加し、研磨能の低下および研磨層の削れの発生を引
き起こす。沸点120℃以上の高沸点溶剤としては、シ
クロヘキサノン、キシレン、酢酸ブチル、酢酸アミル等
が挙げられる。これらの中でも、特にシクロヘキサノン
を用いることが最も好適である。
【0021】本発明においては、研磨層中の残留溶剤量
が、500g/m3 以下(特に、20〜500g/m
3 )、好ましくは450g/m3 以下(特に、20〜4
50g/m3 )、さらに好ましくは400g/m3 以下
(特に、20〜400g/m3)に設定することが要求
される。残留溶剤量が、500g/m3 を超えると、研
磨層塗膜の可塑性および結合剤(樹脂)の架橋反応の阻
害等の不都合が発生し、その結果、研磨能の著しい低下
および研磨塗膜の削れの発生等の不都合が生じる。残留
溶剤量は、理論的にはゼロが可能であるが、実際の実験
ではゼロにすることはできない。なお、残留溶剤量が、
ゼロに近づくにつれて、被研磨物に傷をつけるという傾
向が生じるために、下限値は、20g/m3 が好適であ
ると考えられる。実験的に求められた好適な下限値は、
20g/m3 である。なお、本発明の研磨層中の残留溶
剤量(g/m3 )は、もちろん研磨層が乾燥された後の
値であり、以下のように定義される。また、その具体的
測定方法は以下のとおりである。
【0022】残留溶剤量(g/m3 )の定義 塗布、乾燥後の研磨層塗膜単位体積(1m3 )中に残留
する有機溶剤の重量(g)で定義される。
【0023】残留溶剤量の測定方法 塗膜厚を精密マイクロメーターにて測定し、3/4イン
チ幅×1m長に裁断した研磨テープサンプルを20mL
のバイアルビンに密封し、120℃にて1時間ホールド
(放置)した後、発生したガスをヘッドスペーサーガス
クロマトグラフ(島津製作所製、HSS−2A,GC−
9A)にて測定する(サンプルの全残留溶剤量)。そし
て、塗膜厚とサンプルのサイズより求めた塗膜体積とか
ら単位体積当たりの残留溶剤量を求める。
【0024】上記の残留溶剤量の調整は、用いる溶剤
種、溶剤混合比率、研磨層形成用塗料の固形分濃度およ
び乾燥条件等を適宜コントロールすることにより、行え
ばよい。
【0025】ところで上記の研磨層形成用塗料の固形分
濃度は、好ましくは30〜70重量%、より好ましくは
40〜60重量%とされる。この値が30重量%未満と
なると、研磨層中の残留溶剤量が増加したり、ベナード
セル現象により均一な厚さの塗膜が得られなくなる等の
不都合が生じる。この一方で、固形分濃度が70重量%
を超えると、塗料粘度の上昇および研磨層塗膜の乾燥速
度が速くなることにより、均一な塗膜が得られなくなる
という不都合が生じる。
【0026】本発明に用いられる可撓性支持体2は、ポ
リエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナ
フタレート(PEN)、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド等のフィルムを使用することができる。必
要に応じ、フィラーとしてAl、Ca、Si、Ti等の
酸化物や炭酸塩等の無機化合物、アクリル樹脂系微粉末
等の有機化合物等を添加してもよい。上記フィルムの中
では、PET、PEN、芳香族ポリアミドが好ましく、
さらには、PETないしPENの2種ないし3種による
多層共押出しによる複合化フィルムが好ましい。このよ
うな可撓性支持体には予め、コロナ放電処理、プラズマ
放電および/または重合処理、易接着剤塗布処理、防塵
処理、熱および/または調湿による緩和処理等を行って
もよい。可撓性支持体2の厚さは、通常、5〜100μ
m程度とされる。
【0027】本発明の研磨層形成用塗料を製造するに際
しては、分散機として、ボールミル、アトライター、サ
ンドミルを使用することが好ましい。分散後の塗料に
は、濾過工程を設けることが好ましい。研磨層形成用塗
料に無機質粉体の未分散物や凝集物あるいは樹脂不溶物
などが存在すると、研磨層塗膜を形成したときに欠陥と
なり、被研磨物に傷をつける原因となる、なお、濾過工
程は、研磨層形成用塗料の中の異物の除去を目的として
いる。
【0028】研磨テープの製造に際して、巻き出しロー
ルから引き出された長尺・フィルム状の可撓性支持体の
上には、必要に応じて硬化剤を混合しながら(あるいは
混合した)塗料を、濾過工程によって所定濾過精度の濾
過フィルターによって濾過した後、グラビアコート、リ
バースロールコート、エクストルージョンノズルコート
等の公知の種々の塗布手段によって研磨層形成用塗料が
塗布される。
【0029】一般に、塗料の塗布前には可撓性支持体2
に対して、クリーニングおよび表面調整等の目的で、水
や溶剤等を使用する湿式クリーニング;不織布や極微細
繊維織物等をワイパーとして使用する乾式クリーニン
グ;圧搾空気やバキューム、イオン化空気等を使用する
非接触式クリーニング等の公知の種々の手段によって可
撓性支持体の前処理が行われる。塗料と可撓性支持体2
との密着性や塗布面を向上させる目的等で、コロナ放
電、紫外線照射、電子線照射等の公知の種々の非接触表
面処理が行なわれることもある。
【0030】可撓性支持体2に塗設された研磨層形成用
塗料は、通常、乾燥炉等の内部に設けられた熱風、遠赤
外線、電気ヒーター、真空装置等の公知の乾燥および蒸
発手段によって、乾燥される。乾燥温度は、40〜20
0℃、好ましくは60〜180℃、さらに好ましくは、
80〜150℃の範囲で、可撓性支持体の耐熱性や溶剤
種、濃度等によって適宜選定すればよい。乾燥温度が4
0℃未満となると、乾燥効率が低く残留溶剤量が増加し
てしまう。この一方で、乾燥温度が200℃を超えると
研磨層塗膜中の溶剤の蒸発が急激すぎるために研磨層の
表面粗さの悪化を招いてしまう。なお、乾燥炉内に温度
勾配をもたせてもよく、乾燥炉内のガス雰囲気は、一般
の空気または不活性ガス等を用いればよい。
【0031】このようにして研磨層3を乾燥した後、研
磨層の硬化を促進するために、40℃〜80℃の熱硬化
処理および/または電子線照射処理を施してもよい。
【0032】次いで、所定の形状に切断加工し、さらに
二次加工を行い、本発明の研磨テープが製造される。
【0033】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。ただし、本発明は、これらの
実施例に限定されるものではない。
【0034】(実験例1)まず、最初に、以下の要領
で、研磨層形成用塗料を作製した。 〈研磨層形成用塗料〉 (1)バインダー(結合剤)溶液の調整 ・フェノキシ樹脂(Phenoxy Associates社製 PKHH) … 20重量部 ・ポリエステルポリウレタン樹脂(大日本インキ化学工業社製 T-5206 ) … 80重量部 ・MEK(メチルエチルケトン) … 140重量部 ・トルエン … 120重量部 ・シクロヘキサノン … 140重量部 上記の組成物をハイパーミキサー中に投入し、6時間混
合攪拌を行い、バインダー溶液とした。上記バインダー
溶液を95%カット濾過精度=15.0μmのデプスフ
ィルターを用いて8時間の循環濾過を行った。
【0035】 (2)分散処理 ・無機質粉体(炭化珪素,TNNKフジミインコーポレーテッド 社製 GC#4000) … 500重量部 ・バインダー溶液(上記のもの) … 500重量部 上記組成物をアトライターに投入し、3時間の分散を行
った。
【0036】(3)粘度調整 上記の分散処理を完了した後、さらに下記の溶剤を投入
し、さらに1時間の分散を行った。
【0037】 ・MEK(メチルエチルケトン) … 80重量部 ・トルエン … 60重量部 ・シクロヘキサノン … 80重量部 上記粘度調整後の研磨層形成用塗料を95%カット濾過
精度=25.0μmのデプスフィルターを用いて8時間
の循環濾過を行った。
【0038】(4)最終塗料 濾過後の塗料1220重量部にイソシアネート化合物
(日本ポリウレタン工業社製、コロネートL)20重量
部を加え、攪拌混合し、研磨層形成用塗料とした。
【0039】〈研磨テープの作製〉75μm厚さのポリ
エチレンテレフタレートフィルムからなる可撓性支持体
の片側表面に上記の研磨層形成用塗料を所定の厚さに塗
布、乾燥させ、ロール状に巻き取った。
【0040】乾燥済のロールを60℃の加熱オーブンに
て24時間硬化させた後、3/4インチ幅に切断して研
磨テープサンプルを作製した。なお、上記研磨層形成用
塗料を可撓性支持体の上に塗設するに際しては、塗膜厚
さを変え、下記表1に示されるような種々の研磨層厚さ
を備える研磨テープサンプル1〜7を作製した。
【0041】このように作製した各研磨テープサンプル
1〜7について、下記に示す要領で、残留溶剤量の測
定、並びに相対研磨能、ヘッド研磨傷、および研磨テー
プ削れの特性を、それぞれ評価した。
【0042】残留溶剤量の測定 塗膜厚を精密マイクロメーターにて測定し、3/4イン
チ幅×1m長に裁断した研磨テープサンプルを20mL
のバイアルビンに密封し、120℃にて1時間ホールド
(放置)した後、発生したガスをヘッドスペーサーガス
クロマトグラフ(島津製作所製、HSS−2A,GC−
9A)にて測定した(サンプルの全残留溶剤量)。そし
て、塗膜厚とサンプルのサイズより求めた塗膜体積とか
ら単位体積当たりの残留溶剤量を求めた。
【0043】相対研磨能 フェライトヘッドを研磨テープサンプルを用いて研磨
し、フェライトヘッド1μmを研磨するのに要する時間
を求めた。この研磨時間を、サンプルNo.4の研磨時
間に対する相対値で示した。すなわち、基準となるサン
プルNo.4の研磨能を100とし、これに対する相対
表示とした。100よりも値が小さくなればなるほど、
研磨能が優れる。
【0044】ヘッド研磨傷 フェライトヘッドを研磨テープサンプルを用いて研磨し
た時、ヘッド表面に形成される傷の状態を、光学顕微鏡
にて観察し、下記の判断基準に基づいて評価した。
【0045】 ◎…全く傷のないもの ○…1〜2本の傷は有るものの、製品としてOKレベル
のもの △…3〜5本の傷は有るものの、製品としてOKレベル
のもの ×…6本以上の傷が有り、製品としてNGレベルのもの研磨テープ削れ フェライトヘッドを研磨テープサンプルを用いて研磨し
た時、研磨テープの研磨層に削れが発生している否かの
状態を、光学顕微鏡にて観察し、下記の判断基準に基づ
いて評価した。
【0046】 ○…削れ発生なし △…軽度の削れは有るものの、製品としてOKレベルの
もの ×…大きな削れが有り、製品としてNGレベルのもの これらの測定結果を下記表1に示した。
【0047】
【表1】 (実験例2)上記実験例1で行った乾燥条件を変えるこ
とによって、下記表2に示すごとく残留溶剤量を種々変
えた研磨テープサンプル8〜14を作製した。研磨層の
乾燥厚さは、すべて15.0μmとした。
【0048】このように作製した研磨テープサンプル8
〜14について、上記と同じ要領で、残留溶剤量の測
定、並びに相対研磨能、ヘッド研磨傷、および研磨テー
プ削れの特性を評価した。
【0049】これらの測定結果を下記表2に示した。な
お、参考のため上記実験例1における研磨テープサンプ
ル4の結果も併記した。
【0050】
【表2】 (実験例3)上記実験例1の研磨テープサンプル4にお
いて、研磨層形成用塗料中のシクロヘキサノンの含有比
率を変えた塗料を用いて、下記表3に示すごとく種々の
研磨テープサンプル15〜20を作製した。
【0051】このように作製した研磨テープサンプル1
5〜20について、上記と同じ要領で、残留溶剤量の測
定、並びに相対研磨能、ヘッド研磨傷、および研磨テー
プ削れの特性を評価した。
【0052】これらの測定結果を下記表3に示した。な
お、参考のため上記実験例1における研磨テープサンプ
ル4の結果も併記した。
【0053】
【表3】 上記表3に示される結果より、研磨層形成用塗料のシク
ロヘキサノン比率が15重量%と低い場合には、研磨層
塗膜中より溶剤が急速に気化するために、研磨層の表面
性が悪化し、被研磨物に傷をつけてしまうことがわか
る。
【0054】(実験例4)上記の実験例における研磨テ
ープサンプル4および13を用いて、予め準備しておい
たフレキシブル磁気ディスクを研磨し、ディスク表面の
傷および研磨テープ削れの特性を評価し、その結果を下
記表4に示した磁気ディスク研磨傷 フレキシブル磁気ディスクを研磨テープサンプルを用い
て研磨した時、磁気ディスク表面に形成される傷の状態
を、光学顕微鏡にて観察し、下記の判断基準に基づいて
評価した。
【0055】 ○…全く傷のないもの ×…傷が発生し、製品としてNGレベルのもの研磨テープ削れ フレキシブル磁気ディスクを研磨テープサンプルを用い
て研磨した時、研磨テープの研磨層に削れが発生したか
どうかを光学顕微鏡にて観察し、下記の判断基準に基づ
いて評価した。
【0056】 ○…削れ発生なし ×…削れが発生し、製品としてNGレベルのもの これらの測定結果を下記表4に示した。
【0057】
【表4】
【0058】
【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明の研磨テープは、可撓性支持体
の上に、無機質粉体、結合剤および溶剤を含む研磨層形
成用塗料を塗設後、乾燥させて形成された研磨層を備え
る研磨テープであって、研磨層形成用塗料に含有される
溶剤は、沸点120℃以上の有機溶剤が全有機溶剤量に
対して20〜60重量%の割合で含有されており、研磨
層の膜厚が3〜25μmであり、前記研磨層中の残留溶
剤量が、500g/m3 以下であるように構成されてい
るので、被研磨物(研磨対象)表面に研磨傷が発生する
のを極力防止することができ、研磨テープの研磨層の削
れが少なく、かつ、研磨能力に優れるという極めて優れ
た効果を発現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の研磨テープの断面図を模式的に示した
図である。
【符号の説明】
1…研磨テープ 2…可撓性支持体 3…研磨層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可撓性支持体の上に、無機質粉体、結合
    剤および溶剤を含む研磨層形成用塗料を塗設後、乾燥さ
    せて形成された研磨層を備える研磨テープにおいて、 前記研磨層形成用塗料に含有される溶剤は、沸点120
    ℃以上の有機溶剤が全有機溶剤量に対して20〜60重
    量%の割合で含有されており、 前記研磨層の膜厚が3〜25μmであり、前記研磨層中
    の残留溶剤量が、500g/m3 以下であることを特徴
    とする研磨テープ。
  2. 【請求項2】 前記研磨層中の残留溶剤量が、20〜5
    00g/m3 である請求項1記載の研磨テープ。
  3. 【請求項3】 前記沸点120℃以上の有機溶剤がシク
    ロヘキサノンである請求項1または請求項2記載の研磨
    テープ。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001045900A1 (en) * 1999-12-23 2001-06-28 Rodel Holdings, Inc. Self-leveling pads and methods relating thereto
JP2003007579A (ja) * 2001-06-19 2003-01-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機薄膜形成方法
US6916227B2 (en) 2002-11-04 2005-07-12 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Method and apparatus for processing sliders for use in disk drives and the like
CN100476951C (zh) * 2003-05-12 2009-04-08 新科实业有限公司 边缘倒圆硬盘驱动器头滑块的系统和方法
US20060027542A1 (en) * 2004-04-28 2006-02-09 Niraj Mahadev Method to eliminate defects on the periphery of a slider due to conventional machining processes
US6960117B1 (en) 2004-04-28 2005-11-01 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Method to eliminate defects on the periphery of a slider due to conventional machining processes

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5344714A (en) * 1976-10-06 1978-04-21 Toyota Motor Corp Valve lift continuously measuring apparatus
JP2640352B2 (ja) * 1988-02-09 1997-08-13 東京磁気印刷株式会社 研磨材、研磨具及び研磨方法
US5512350A (en) * 1992-07-31 1996-04-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Magnetic recording medium having a magnetic layer with a specified surface roughness and which contains ferromagnetic powder, binder, and an abrasive
JPH07276246A (ja) * 1994-03-31 1995-10-24 Fuji Photo Film Co Ltd 研磨テープ
JPH08267363A (ja) * 1995-03-30 1996-10-15 Fuji Photo Film Co Ltd 研磨体

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