JP2987383B2 - 研磨シート - Google Patents
研磨シートInfo
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- JP2987383B2 JP2987383B2 JP1304217A JP30421789A JP2987383B2 JP 2987383 B2 JP2987383 B2 JP 2987383B2 JP 1304217 A JP1304217 A JP 1304217A JP 30421789 A JP30421789 A JP 30421789A JP 2987383 B2 JP2987383 B2 JP 2987383B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- modulus
- polishing sheet
- transition temperature
- glass transition
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- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はフレキシブル磁気ディスク、磁気テープ等
の表面研磨に使用する研磨シートに関し、さらに詳しく
は、フレキシブル磁気ディスク、磁気テープ等の磁性層
表面をスクラッチ傷を発生させることなく研磨する研磨
シートに関する。
の表面研磨に使用する研磨シートに関し、さらに詳しく
は、フレキシブル磁気ディスク、磁気テープ等の磁性層
表面をスクラッチ傷を発生させることなく研磨する研磨
シートに関する。
研磨シートは、通常、ポリエステルフィルム等の基体
上に、Al2O3粉末、Cr2O3粉末、SiO2粉末、SiC粉末等の
研磨砥粒を結合剤樹脂で結着してつくられ、たとえば、
フレキシブル磁気ディスク、磁気テープ等の表面に摺接
させ、磁性層表面の微小突起を研磨して、表面を平滑に
するときなどに広く使用されている。（特公昭53−4471
4号） 〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、この種の従来の研磨シートは、研磨層が硬
くて強靭であるため、研磨される微小突起のなかに研磨
されることなく塊のまま脱落されるものがあり、これが
研磨シートの表面に付着して、磁性層の表面にスクラッ
チ傷を発生しやすい。
上に、Al2O3粉末、Cr2O3粉末、SiO2粉末、SiC粉末等の
研磨砥粒を結合剤樹脂で結着してつくられ、たとえば、
フレキシブル磁気ディスク、磁気テープ等の表面に摺接
させ、磁性層表面の微小突起を研磨して、表面を平滑に
するときなどに広く使用されている。（特公昭53−4471
4号） 〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、この種の従来の研磨シートは、研磨層が硬
くて強靭であるため、研磨される微小突起のなかに研磨
されることなく塊のまま脱落されるものがあり、これが
研磨シートの表面に付着して、磁性層の表面にスクラッ
チ傷を発生しやすい。
この発明はかかる現状に鑑み種々検討を行った結果な
されたもので、研磨層の結合剤樹脂として100％モジュ
ラスが100kg/cm2以下のものを使用することによって、
フレキシブル磁気ディスク、磁気テープ等の磁性層表面
を、スクラッチ傷を発生させることなく平滑に研磨し、
磁気記録再生時にスクラッチ傷によるドロップアウトが
生じないようにしたものである。
されたもので、研磨層の結合剤樹脂として100％モジュ
ラスが100kg/cm2以下のものを使用することによって、
フレキシブル磁気ディスク、磁気テープ等の磁性層表面
を、スクラッチ傷を発生させることなく平滑に研磨し、
磁気記録再生時にスクラッチ傷によるドロップアウトが
生じないようにしたものである。
この発明において、研磨層に使用する結合剤樹脂とし
ては、100％モジュラスが100kg/cm2以下で、ガラス転移
温度が０〜−40℃のポリウレタン樹脂を用いる。この種
の結合剤樹脂は、比較的柔らかく強度もそれほど大きく
ないため、この種の樹脂を用いて研磨層を形成すると、
研磨層の強度が磁性層から微小突起を塊のまま脱落させ
るほど強靭にならず、砥粒を充分に保持して研磨機能を
発揮する。しかして、このような研磨層を設けた研磨シ
ートを用いて、フレキシブル磁気ディスク、磁気テープ
等の磁性層表面を研磨すると、磁性層表面の微小突起が
塊のまま脱落することもなく、徐々に微小突起の突起部
だけが研磨される。従って、微小突起の脱落物が研磨シ
ートの表面に付着することもなく、その微小突起の脱落
物によるフレキシブル磁気ディスク、磁気テープ等の磁
性層表面のスクラッチ傷の発生も無くて、磁性層表面を
平滑に研磨することができる。そして、磁気記録再生時
のスクラッチ傷によるドロップアウトの発生が防止され
る。
ては、100％モジュラスが100kg/cm2以下で、ガラス転移
温度が０〜−40℃のポリウレタン樹脂を用いる。この種
の結合剤樹脂は、比較的柔らかく強度もそれほど大きく
ないため、この種の樹脂を用いて研磨層を形成すると、
研磨層の強度が磁性層から微小突起を塊のまま脱落させ
るほど強靭にならず、砥粒を充分に保持して研磨機能を
発揮する。しかして、このような研磨層を設けた研磨シ
ートを用いて、フレキシブル磁気ディスク、磁気テープ
等の磁性層表面を研磨すると、磁性層表面の微小突起が
塊のまま脱落することもなく、徐々に微小突起の突起部
だけが研磨される。従って、微小突起の脱落物が研磨シ
ートの表面に付着することもなく、その微小突起の脱落
物によるフレキシブル磁気ディスク、磁気テープ等の磁
性層表面のスクラッチ傷の発生も無くて、磁性層表面を
平滑に研磨することができる。そして、磁気記録再生時
のスクラッチ傷によるドロップアウトの発生が防止され
る。
また、100％モジュラスが100kg/cm2以下で、ガラス転
移温度が０〜−４℃のポリウレタン樹脂としては、たと
えば、大日本インキ化学工業社製；パンデックスＴ−52
01、大日インキ化学工業社製；パンデックスHI−2000、
日本ポリウレタン工業社製;N−2304、日本ポリウレタン
工業社製;N−3113などが好適なものとして使用される。
移温度が０〜−４℃のポリウレタン樹脂としては、たと
えば、大日本インキ化学工業社製；パンデックスＴ−52
01、大日インキ化学工業社製；パンデックスHI−2000、
日本ポリウレタン工業社製;N−2304、日本ポリウレタン
工業社製;N−3113などが好適なものとして使用される。
このような100％モジュラスが100kg/cm2以下で、ガラ
ス転移温度が０〜−40℃のポリウレタン樹脂は、単独で
使用する他、従来から汎用されている塩化ビニル−酢酸
ビニル系共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、繊維
素系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ
エーテル系樹脂、イソシアネート化合物、放射線硬化型
樹脂等と併用してもよく、併用する場合の配合割合は、
併用する他の結合剤樹脂より多くなるようにするのが好
ましい。
ス転移温度が０〜−40℃のポリウレタン樹脂は、単独で
使用する他、従来から汎用されている塩化ビニル−酢酸
ビニル系共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、繊維
素系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ
エーテル系樹脂、イソシアネート化合物、放射線硬化型
樹脂等と併用してもよく、併用する場合の配合割合は、
併用する他の結合剤樹脂より多くなるようにするのが好
ましい。
研磨層に使用される研磨砥粒としては、適度な硬度を
有し、磁性層表面を平滑に研磨できるものが好ましく使
用され、たとえば、Al2O3粉末、Cr2O3粉末、SiO2粉末、
SiC粉末などが、単独または２種以上混合して使用され
る。使用量は、充分な研磨効果を発揮させるため、研磨
層中の全固形成分に対して20〜90重量％の範囲内で使用
するのが好ましく、50〜90重量％の範囲内で使用するの
がより好ましい。
有し、磁性層表面を平滑に研磨できるものが好ましく使
用され、たとえば、Al2O3粉末、Cr2O3粉末、SiO2粉末、
SiC粉末などが、単独または２種以上混合して使用され
る。使用量は、充分な研磨効果を発揮させるため、研磨
層中の全固形成分に対して20〜90重量％の範囲内で使用
するのが好ましく、50〜90重量％の範囲内で使用するの
がより好ましい。
有機溶剤としては、アセトン、メチルイソブチルケト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエ
ン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルム
アミドなど従来一般に使用される有機溶剤がいずれも単
独で、或いは二種以上混合して使用される。
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエ
ン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルム
アミドなど従来一般に使用される有機溶剤がいずれも単
独で、或いは二種以上混合して使用される。
なお、研磨層中には、通常使用されている各種添加
剤、たとえば、潤滑剤、分散剤、充填剤などを適宜に添
加使用してもよい。
剤、たとえば、潤滑剤、分散剤、充填剤などを適宜に添
加使用してもよい。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１ α−Al2O3粉末 80重量部 （粒子径１μｍ） パンデックスＴ−5201（大日本インキ化学工業社製；
ポリウレタン樹脂、100％モジュラス70kg/cm2、ガラス
転移温度−30℃ 20重量部 メチルエチルケトン 20重量部 トルエン 80重量部 この組成物をボールミル中で48時間混合分散して研磨
塗料を調製し、この研磨塗料を厚さ38μｍのポリエステ
ルフィルム上に、乾燥厚が約15μｍとなるように塗布、
乾燥して研磨層を形成した。次いで、これを所定の幅に
裁断して研磨シートを作製した。
ポリウレタン樹脂、100％モジュラス70kg/cm2、ガラス
転移温度−30℃ 20重量部 メチルエチルケトン 20重量部 トルエン 80重量部 この組成物をボールミル中で48時間混合分散して研磨
塗料を調製し、この研磨塗料を厚さ38μｍのポリエステ
ルフィルム上に、乾燥厚が約15μｍとなるように塗布、
乾燥して研磨層を形成した。次いで、これを所定の幅に
裁断して研磨シートを作製した。
実施例２ 実施例１における研磨塗料の組成において、パンデッ
クスＴ−5201に代えて、パンデックスHI−2000（大日本
インキ化学工業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュ
ラス25kg/cm2、ガラス転移温度−５℃）を同量使用した
以外は、実施例１と同様にして研磨シートを作製した。
クスＴ−5201に代えて、パンデックスHI−2000（大日本
インキ化学工業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュ
ラス25kg/cm2、ガラス転移温度−５℃）を同量使用した
以外は、実施例１と同様にして研磨シートを作製した。
実施例３ 実施例１における研磨塗料の組成において、パンデッ
クスＴ−5201に代えて、Ｎ−2304（日本ポリウレタン工
業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス15〜30kg/
cm2、ガラス転移温度−23℃）を同量使用した以外は、
実施例１と同様にして研磨シートを作製した。
クスＴ−5201に代えて、Ｎ−2304（日本ポリウレタン工
業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス15〜30kg/
cm2、ガラス転移温度−23℃）を同量使用した以外は、
実施例１と同様にして研磨シートを作製した。
実施例４ 実施例１における研磨塗料の組成において、パンデッ
クスＴ−5201に代えて、Ｎ−3113（日本ポリウレタン工
業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス66kg/c
m2、ガラス転移温度−37℃）を同量使用した以外は、実
施例１と同様にして研磨シートを作製した。
クスＴ−5201に代えて、Ｎ−3113（日本ポリウレタン工
業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス66kg/c
m2、ガラス転移温度−37℃）を同量使用した以外は、実
施例１と同様にして研磨シートを作製した。
比較例１ 実施例１における研磨塗料の組成において、パンデッ
クスＴ−5201に代えて、Ｎ−2301（日本ポリウレタン工
業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス170〜230k
g/cm2、ガラス転移温度22℃）を同量使用した以外は、
実施例１と同様にして研磨シートを作製した。
クスＴ−5201に代えて、Ｎ−2301（日本ポリウレタン工
業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス170〜230k
g/cm2、ガラス転移温度22℃）を同量使用した以外は、
実施例１と同様にして研磨シートを作製した。
比較例２ 実施例１における研磨塗料の組成において、パンデッ
クスＴ−5201に代えて、パラプレン26S（日本ポリウレ
タン工業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス120
kg/cm2、ガラス転移温度−26℃）を同量使用した以外
は、実施例１と同様にして研磨シートを作製した。
クスＴ−5201に代えて、パラプレン26S（日本ポリウレ
タン工業社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス120
kg/cm2、ガラス転移温度−26℃）を同量使用した以外
は、実施例１と同様にして研磨シートを作製した。
比較例３ 実施例１における研磨塗料の組成において、パンデッ
クスＴ−5201に代えて、CA−310（モートン社製；ポリ
ウレタン樹脂、100％モジュラス195kg/cm2、ガラス転移
温度43℃）を同量使用した以外は、実施例１と同様にし
て研磨シートを作製した。
クスＴ−5201に代えて、CA−310（モートン社製；ポリ
ウレタン樹脂、100％モジュラス195kg/cm2、ガラス転移
温度43℃）を同量使用した以外は、実施例１と同様にし
て研磨シートを作製した。
比較例４ 実施例１における研磨塗料の組成において、パンデッ
クスＴ−5201に代えて、エスタン5740X0691（グッドリ
ッヂ社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス240kg/c
m2、ガラス転移温度42℃）を同量使用した以外は、実施
例１と同様にして研磨シートを作製した。
クスＴ−5201に代えて、エスタン5740X0691（グッドリ
ッヂ社製；ポリウレタン樹脂、100％モジュラス240kg/c
m2、ガラス転移温度42℃）を同量使用した以外は、実施
例１と同様にして研磨シートを作製した。
各実施例および比較例で得られた研磨シートを用いて
フレキシブル磁気ディスクを研磨し、磁性層表面のスク
ラッチ傷の有無および脱落物の付着を調べた。
フレキシブル磁気ディスクを研磨し、磁性層表面のスク
ラッチ傷の有無および脱落物の付着を調べた。
下記第１表はその結果である。
〔発明の効果〕 上記第１表から明らかなように、この発明で得られた
研磨シート実施例１ないし４）は、比較例１ないし４で
得られた研磨シートに比し、スクラッチ傷がなくて、脱
落物の付着もなく、このことからこの発明で得られた研
磨シートは、スクラッチ傷を発生させることなく磁気記
録媒体などの磁性層表面を平滑に研磨できることがでわ
かる。
研磨シート実施例１ないし４）は、比較例１ないし４で
得られた研磨シートに比し、スクラッチ傷がなくて、脱
落物の付着もなく、このことからこの発明で得られた研
磨シートは、スクラッチ傷を発生させることなく磁気記
録媒体などの磁性層表面を平滑に研磨できることがでわ
かる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B24D 3/02 B24D 3/28 B24D 11/00
Claims (1)
- 【請求項１】基体上に、結合剤樹脂を研磨砥粒等ととも
に含む研磨層を設けてあり、 結合剤樹脂が、100％モジュラスが100kg/cm2以下で、ガ
ラス転移温度が０〜−40℃のポリウレタン樹脂である研
磨シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1304217A JP2987383B2 (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 研磨シート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1304217A JP2987383B2 (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 研磨シート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03166061A JPH03166061A (ja) | 1991-07-18 |
| JP2987383B2 true JP2987383B2 (ja) | 1999-12-06 |
Family
ID=17930418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1304217A Expired - Fee Related JP2987383B2 (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 研磨シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2987383B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006231429A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Inoac Corp | 研磨パッドおよびその製造方法 |
| JP5519943B2 (ja) * | 2009-03-03 | 2014-06-11 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨テープ |
| CN105651654B (zh) * | 2015-12-30 | 2018-08-28 | 平顶山易成新材料有限公司 | 一种精密研磨用碳化硅粉体的划伤程度检测方法 |
-
1989
- 1989-11-21 JP JP1304217A patent/JP2987383B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03166061A (ja) | 1991-07-18 |
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Legal Events
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081008 Year of fee payment: 9 |
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