JP3049451B2 - 研磨テ−プ - Google Patents
研磨テ−プInfo
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- JP3049451B2 JP3049451B2 JP3177112A JP17711291A JP3049451B2 JP 3049451 B2 JP3049451 B2 JP 3049451B2 JP 3177112 A JP3177112 A JP 3177112A JP 17711291 A JP17711291 A JP 17711291A JP 3049451 B2 JP3049451 B2 JP 3049451B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polished
- tape
- polishing tape
- magnetic head
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は研磨テ−プに関し、さ
らに詳しくは、被研磨物を円滑な研磨で均一に研磨する
研磨性に優れた研磨テ−プに関する。
らに詳しくは、被研磨物を円滑な研磨で均一に研磨する
研磨性に優れた研磨テ−プに関する。
【０００２】
【従来の技術】研磨テ−プは、通常、ポリエステルフィ
ルム等の基体上に、Ａｌ2 Ｏ3 粉末、Ｃｒ2 Ｏ3 粉末、
ＳｉＯ2 粉末、ＳｉＣ粉末等の研磨砥粒を結合剤樹脂で
結着してつくられ、たとえば、磁気記録再生装置におけ
る磁気ヘッド等に摺接させて、磁気ヘッドに付着した塵
埃や離脱した磁性粉末などを取り除くとともに、磁気ヘ
ッドを高精度、高出力に仕上げるときなどに広く使用さ
れている。（特公昭５３−４４７１４号）
ルム等の基体上に、Ａｌ2 Ｏ3 粉末、Ｃｒ2 Ｏ3 粉末、
ＳｉＯ2 粉末、ＳｉＣ粉末等の研磨砥粒を結合剤樹脂で
結着してつくられ、たとえば、磁気記録再生装置におけ
る磁気ヘッド等に摺接させて、磁気ヘッドに付着した塵
埃や離脱した磁性粉末などを取り除くとともに、磁気ヘ
ッドを高精度、高出力に仕上げるときなどに広く使用さ
れている。（特公昭５３−４４７１４号）
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の研磨
テ−プでは、研磨層の表面粗さが小さくなるほど、また
研磨時の摩擦力が大きくなるほど研磨テ−プと被研磨物
との間でスリップが発生して、研磨がスム−ズでなくな
るという問題があり、また、ＶＴＲ用磁気ヘッドのよう
に複合材で構成されたものを従来の研磨テ−プで研磨す
るときは、それぞれの材質により異なった摩擦抵抗が発
生し、円滑な研磨が行えずに研磨面に波状模様が発生し
たり、異なった材料間に段差が発生したりする。
テ−プでは、研磨層の表面粗さが小さくなるほど、また
研磨時の摩擦力が大きくなるほど研磨テ−プと被研磨物
との間でスリップが発生して、研磨がスム−ズでなくな
るという問題があり、また、ＶＴＲ用磁気ヘッドのよう
に複合材で構成されたものを従来の研磨テ−プで研磨す
るときは、それぞれの材質により異なった摩擦抵抗が発
生し、円滑な研磨が行えずに研磨面に波状模様が発生し
たり、異なった材料間に段差が発生したりする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明はかかる現状に
鑑み種々検討を行った結果なされたもので、研磨砥粒お
よび結合剤樹脂等を含む研磨層中にステアリン酸ｎブチ
ルを含有させることによって、研磨テ−プの摩擦力を制
御し、被研磨物を、円滑な研磨で、研磨面に波状模様が
発生したり、異なった材料間に段差が発生したりするこ
となく、均一に研磨することができるようにしたもので
ある。
鑑み種々検討を行った結果なされたもので、研磨砥粒お
よび結合剤樹脂等を含む研磨層中にステアリン酸ｎブチ
ルを含有させることによって、研磨テ−プの摩擦力を制
御し、被研磨物を、円滑な研磨で、研磨面に波状模様が
発生したり、異なった材料間に段差が発生したりするこ
となく、均一に研磨することができるようにしたもので
ある。
【０００５】この発明によれば、ステアリン酸ｎブチル
を研磨層中に含有しているため、このステアリン酸ｎブ
チルの優れた潤滑効果により、研磨テ−プの摩擦力が良
好に制御され、円滑な研磨が行えて、たとえば、ＶＴＲ
用磁気ヘッドのようにフェライトとガラスとの複合材で
構成されたものを研磨する場合、フェライトと研磨テ−
プとの間の摩擦力およびガラスと研磨テ−プとの間の摩
擦力が近づけられ、かつ充分に低下される。
を研磨層中に含有しているため、このステアリン酸ｎブ
チルの優れた潤滑効果により、研磨テ−プの摩擦力が良
好に制御され、円滑な研磨が行えて、たとえば、ＶＴＲ
用磁気ヘッドのようにフェライトとガラスとの複合材で
構成されたものを研磨する場合、フェライトと研磨テ−
プとの間の摩擦力およびガラスと研磨テ−プとの間の摩
擦力が近づけられ、かつ充分に低下される。
【０００６】従って、このようなステアリン酸ｎブチル
を含有させた研磨テ−プを使用すれば、フェライトとガ
ラスのように異なった材料の複合物であっても、これら
異なった材料から構成された複合材の研磨面に波状模様
が発生したり、また異なった材料間に段差が発生したり
することなく、円滑な研磨で均一に研磨することがで
き、複合材で構成された磁気ヘッドなどの場合、磁気ヘ
ッドを良好に研磨し、付着異物のみを良好に除去して、
磁気テ−プに対するヘッドタッチが良好な高精度、高出
力の磁気ベッドが得られる。
を含有させた研磨テ−プを使用すれば、フェライトとガ
ラスのように異なった材料の複合物であっても、これら
異なった材料から構成された複合材の研磨面に波状模様
が発生したり、また異なった材料間に段差が発生したり
することなく、円滑な研磨で均一に研磨することがで
き、複合材で構成された磁気ヘッドなどの場合、磁気ヘ
ッドを良好に研磨し、付着異物のみを良好に除去して、
磁気テ−プに対するヘッドタッチが良好な高精度、高出
力の磁気ベッドが得られる。
【０００７】このようにステアリン酸ｎブチルを含有さ
せた研磨層は、ステアリン酸ｎブチルを、結合剤樹脂、
有機溶剤等とともに混合分散して研磨塗料を調製し、こ
の研磨塗料を基体上に塗布し、乾燥することによって形
成される。
せた研磨層は、ステアリン酸ｎブチルを、結合剤樹脂、
有機溶剤等とともに混合分散して研磨塗料を調製し、こ
の研磨塗料を基体上に塗布し、乾燥することによって形
成される。
【０００８】このようにして形成される研磨層中におけ
るステアリン酸ｎブチルは、研磨層中の研磨砥粒に対し
て 0.1重量％より少ないと所期の効果が得られず、 2.0
重量％より多くすると研磨層の表面にステアリン酸ｎブ
チルがブリ−ドアウトしてかえって研磨力が低下するた
め、研磨層中の研磨砥粒に対して 0.1〜2.0 重量％の範
囲内にするのが好ましい。
るステアリン酸ｎブチルは、研磨層中の研磨砥粒に対し
て 0.1重量％より少ないと所期の効果が得られず、 2.0
重量％より多くすると研磨層の表面にステアリン酸ｎブ
チルがブリ−ドアウトしてかえって研磨力が低下するた
め、研磨層中の研磨砥粒に対して 0.1〜2.0 重量％の範
囲内にするのが好ましい。
【０００９】研磨層に使用される研磨砥粒としては、適
度な硬度を有し、被研磨物に付着した塵埃などの付着異
物を良好に取り除くとともに、磁気ヘッドなどを高精
度、高出力に仕上げることができるものが好ましく使用
され、たとえば、Ａｌ2 Ｏ3 粉末、Ｃｒ2 Ｏ3 粉末、Ｓ
ｉＯ2 粉末、ＳｉＣ粉末などが、単独または２種以上混
合して使用される。
度な硬度を有し、被研磨物に付着した塵埃などの付着異
物を良好に取り除くとともに、磁気ヘッドなどを高精
度、高出力に仕上げることができるものが好ましく使用
され、たとえば、Ａｌ2 Ｏ3 粉末、Ｃｒ2 Ｏ3 粉末、Ｓ
ｉＯ2 粉末、ＳｉＣ粉末などが、単独または２種以上混
合して使用される。
【００１０】このような研磨砥粒の使用量は、充分な研
磨効果を発揮させるため、研磨層中の全固形成分に対し
て２０〜９０重量％の範囲内で使用するのが好ましく、
５０〜９０重量％の範囲内で使用するのがより好まし
い。
磨効果を発揮させるため、研磨層中の全固形成分に対し
て２０〜９０重量％の範囲内で使用するのが好ましく、
５０〜９０重量％の範囲内で使用するのがより好まし
い。
【００１１】また、結合剤樹脂としては、塩化ビニル−
酢酸ビニル系共重合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、
繊維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹
脂、エポキシ系樹脂、ポリエ−テル系樹脂、イソシアネ
−ト化合物、放射線硬化型樹脂など従来から汎用されて
いる結合剤樹脂がいずれも好適に使用される。
酢酸ビニル系共重合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、
繊維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹
脂、エポキシ系樹脂、ポリエ−テル系樹脂、イソシアネ
−ト化合物、放射線硬化型樹脂など従来から汎用されて
いる結合剤樹脂がいずれも好適に使用される。
【００１２】有機溶剤としては、アセトン、メチルイソ
ブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミドなど、従来一般に使用される有機溶剤
がいずれも単独で、あるいは二種以上混合して使用され
る。
ブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミドなど、従来一般に使用される有機溶剤
がいずれも単独で、あるいは二種以上混合して使用され
る。
【００１３】なお、研磨層中には、通常使用されている
各種添加剤、たとえば、分散剤、充填剤などを適宜に添
加使用してもよい。
各種添加剤、たとえば、分散剤、充填剤などを適宜に添
加使用してもよい。
【００１４】
【実施例】次に、この発明の実施例について説明する。 実施例１ Ｃｒ2 Ｏ3 粉末（粒子径 0.5μｍ） 80 重量部 ポリエステル樹脂 20 〃 ステアリン酸ｎブチル 0.5 〃 メチルエチルケトン 20 〃 トルエン 80 〃 この組成物をボ−ルミル中で４８時間混合分散して研磨
塗料を調製し、この研磨塗料を厚さ１１μｍのポリエス
テルフィルム上に、乾燥後の厚さが５μｍとなるように
塗布、乾燥して研磨層を形成した。次いで、これを所定
の幅に裁断して研磨テ−プを作製した。
塗料を調製し、この研磨塗料を厚さ１１μｍのポリエス
テルフィルム上に、乾燥後の厚さが５μｍとなるように
塗布、乾燥して研磨層を形成した。次いで、これを所定
の幅に裁断して研磨テ−プを作製した。
【００１５】実施例２ 実施例１における研磨塗料の組成において、ステアリン
酸ｎブチルの使用量を0.5 重量部から 0.3重量部に変更
した以外は、実施例１と同様にして研磨テ−プを作製し
た。
酸ｎブチルの使用量を0.5 重量部から 0.3重量部に変更
した以外は、実施例１と同様にして研磨テ−プを作製し
た。
【００１６】実施例３ 実施例１における研磨塗料の組成において、ステアリン
酸ｎブチルの使用量を0.5 重量部から 1.0重量部に変更
した以外は、実施例１と同様にして研磨テ−プを作製し
た。
酸ｎブチルの使用量を0.5 重量部から 1.0重量部に変更
した以外は、実施例１と同様にして研磨テ−プを作製し
た。
【００１７】比較例１ 実施例１における研磨塗料の組成において、ステアリン
酸ｎブチルを省いた以外は、実施例１と同様にして研磨
テ−プを作製した。
酸ｎブチルを省いた以外は、実施例１と同様にして研磨
テ−プを作製した。
【００１８】各実施例および比較例で得られた研磨テ−
プを、センダスト磁気ヘッドを搭載した８mmＶＴＲにか
け、１分間走行させて磁気ヘッドの研磨面を観察し、磁
気ヘッド表面における段差の有無を調べた。下記表１は
その結果である。
プを、センダスト磁気ヘッドを搭載した８mmＶＴＲにか
け、１分間走行させて磁気ヘッドの研磨面を観察し、磁
気ヘッド表面における段差の有無を調べた。下記表１は
その結果である。
【００１９】
【００２０】
【発明の効果】上記表１から明らかなように、従来の研
磨テ−プ（比較例１）を使用した場合は磁気ヘッド表面
に段差が認められるが、この発明で得られた研磨テ−プ
（実施例１ないし３）を使用した場合は、磁気ヘッド表
面に段差がなく、このことからこの発明で得られた研磨
テ−プは、研磨面に波状模様が発生したり、異なった材
料間に段差が発生したりすることなく、円滑な研磨で被
研磨物を均一に研磨することができ、研磨性に優れてい
ることがわかる。
磨テ−プ（比較例１）を使用した場合は磁気ヘッド表面
に段差が認められるが、この発明で得られた研磨テ−プ
（実施例１ないし３）を使用した場合は、磁気ヘッド表
面に段差がなく、このことからこの発明で得られた研磨
テ−プは、研磨面に波状模様が発生したり、異なった材
料間に段差が発生したりすることなく、円滑な研磨で被
研磨物を均一に研磨することができ、研磨性に優れてい
ることがわかる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B24D 11/00 B24D 3/02 310 B24D 3/24 B24D 3/34 G11B 5/41
Claims (1)
- 【請求項１】 基体上に研磨砥粒および結合剤樹脂を含
む研磨層を設けた研磨テ−プにおいて、研磨層中にステ
アリン酸ｎブチルを研磨砥粒に対して 0.1〜2.0 重量％
含有させたことを特徴とする研磨テ−プ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3177112A JP3049451B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 研磨テ−プ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3177112A JP3049451B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 研磨テ−プ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04372370A JPH04372370A (ja) | 1992-12-25 |
| JP3049451B2 true JP3049451B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=16025371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3177112A Expired - Lifetime JP3049451B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 研磨テ−プ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3049451B2 (ja) |
-
1991
- 1991-06-20 JP JP3177112A patent/JP3049451B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04372370A (ja) | 1992-12-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000201 |