JPH0545395B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野） 本発明は磁気記録再生装置の磁気ヘツドの研磨
に用いる研磨テープに関し、主として通常の磁気
テープと同様に２つのリール間を走行させて磁気
ヘツドの研磨を行なう研磨テープに関するもので
ある。 （従来技術） ビデオ用あるいは高級オーデイオ用磁気ヘツド
等はテープ摺動面の平滑性がとくに要求されるた
め、一般に磁気ヘツドを製作する際、粗削りの後
この磁気ヘツドを所定の位置に配し、この磁気ヘ
ツドを挾む２つのリール間に研磨テープを走行さ
せて磁気ヘツドのテープ摺動面を平滑に仕上げる
ことが行なわれている。このような研磨テープは
非磁性支持体に微細な研磨剤（粒子）、結合剤
（バインダ）および潤滑剤等を含む添加剤を塗着
したものであり、可撓性を有しているので磁気ヘ
ツドのテープ摺動面の曲面形状になじんでこの面
を精密に研磨仕上することができる。 従来このようなテープとしては、例えば、酸化
亜鉛（ZnO）からなる研磨剤と塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体やポリエステルポリオール等から
なるバインダとポリイソシアネート等の硬化剤や
シリコーンオイル等の添加剤とを混練した塗膜を
支持体上に塗着したクリーニングテープが知られ
ている。（特開昭53−102017号公報） しかしこのようなクリーニングテープでは、研
磨剤の分散性が悪く、研磨剤が固まりとなつて一
ケ所に集中してしまうことがあり、研磨面を傷つ
ける原因となつていた。また研磨を目的とする研
磨テープは、クリーニングテープよりさらに高い
モース高度の、硬い研磨剤を含有していることが
好ましいため、分散性が悪いと一層傷が多く発生
することになる。したがつて研磨率の高い硬い研
磨剤を混練しても研磨面に傷を残すことなく研磨
することのできる研磨テープが要望されている。 （発明の目的） 本発明は、このような要望に応え、モース高度
の高い研磨剤を混練しても研磨面を傷つけること
なく研磨することのできる研磨テープの提供を目
的とするものである。 （発明の構成） 本発明の研磨テープは、側鎖に極性基を有する
樹脂が結合剤に含有されていることを特徴とす
る。 すなわち前記結合剤には、側鎖に一般式： −SO₃M、−OSO₃M、−OSO₂M、 −COOMおよび

【式】 （但し、Ｍは水素原子、リチウム、ナトリウム又
はカリウムであり、M₁及びM₂はそれぞれ水素原
子、リチウム、ナトリウム、カリウムまたはアル
キル基である） からなる群より選ばれた少なくとも１種類の極性
基を有する樹脂を含まれる。前記一般式におい
て、アルキル基は、好ましくは炭素原子数が23以
下である直鎖状または分枝状の飽和脂肪族炭化水
素残基であり、例えばトリコシル基、ドコシル
基、コイコシル基、ノナデシル基、オクタデシル
基、ヘキサデシル基、トリデシル基、ウンデシル
基、デシル基、ノニル基、オクチル基、ヘキシル
基、ベンチル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、エチル基、メチル基な
どが挙げられる。またM₁及びM₂は互いに同一で
あつても互いに異なつていても差支えない。側鎖
にこれらの極性基をもつ樹脂は優れた分散能をも
つため研磨剤を、研磨塗膜内で充分に分散させた
研磨層を得ることが可能となる。 （発明の効果） 本発明による研磨テープは、研磨塗膜内の結合
剤が、側鎖に前記の様な極性基を有する樹脂を少
なくとも１種類は含有するため、研磨剤の分散性
が高まり、研磨剤が一ケ所に固まる（凝集する）
ことなく分散される。したがつて、研磨面をむら
なく均一に精密研磨することが可能となり、さら
に研磨表面での傷の発生も防止できる。また、こ
のように安定した研磨ができるため従来より高い
モース硬度の研磨効率の高い研磨剤を混練させる
ことができる。このため、研削量がアツプし同時
間内での研削量があがるため、研削時間の短縮に
つながり能率を向上することができる。 （実施態様） 以下、本発明の実施態様について詳細に説明す
る。 本発明の実施態様による研磨テープは、図面に
示すように可撓性を有する非磁性支持体１と、こ
の支持体１上に形成された塗布層２から構成され
ている。研磨塗膜２は、研磨剤と、結合剤（バイ
ンダ）と、潤滑剤等を含む添加剤とを混練して形
成したものである。 磁気ヘツド３のテープ摺動面を研磨する際は、
磁気ヘツド３を挾む２つの位置に配されたリール
（図示されていない）の一方から他方へこの研磨
テープを定速で走行させ、磁気ヘツド３に研磨塗
膜２を摺動させる。このとき研磨塗膜２表面から
突出した硬い研磨剤により、磁気ヘツド３のテー
プ摺動面が平滑に研磨される。その研磨剤はその
目的に応じて粒子径を調節すればよく、例えば荒
仕上であれば16μｍ〜1μｍ程度、最終仕上であれ
ば1μｍ〜0.1μｍ程度の粒子径とすればよい。 また、ここで研磨剤は、モース硬度６以上のも
ので、従来のクリーニングテープに使用されてい
たものより硬いものを使用することが好ましい。
例えば酸化クロム（Cr₂O₃、モース硬度8.5）等が
好ましい。 前記研磨剤は、ポリエステル樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、塩化ビニル系樹脂に−SO₃M等の極性基
を導入したものを結合剤中に混練させることによ
り分散される。これらの樹脂は種々の方法で得る
ことができるが、ポリエステルの出発材料の１つ
としてジカルボン酸成分の一部にスルホン酸金属
塩基を有するものを用い、これをスルホン酸金属
塩基を有しないジカルボン酸及びジオールと共に
縮合反応させて得る方法（ポリエステル樹脂）、
あるいはこれらの４種類のポリエステル樹脂の出
発材料とジイソシアネートとを用いて縮合反応及
び付加反応させて得る方法（ポリウレタン樹脂）、
更にポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化
ビニル系樹脂に含まれている活性水素基と、Cl−
CH₂CH₂SO₃M、Cl−CH₂CH₂OSO₂M、Cl−
CH₂COOM、

【式】 等の塩素を含有する化合物との脱塩酸反応により
極性基を導入する方法が考えられる。 ポリエステル樹脂を得るためにこの発明におい
て使用するスルホン酸金属塩基を有しないカルボ
ン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル
酸、オルソフタル酸、１，５−ナフタル酸などの
芳香族ジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−
（ヒドロキシエトキシ）安息香酸などの芳香族オ
キシカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼラ
イン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸など
の脂肪族ジカルボン酸、トリメリツト酸、トリメ
シン酸、ピロメリツト酸などのトリおよびテトラ
カルボン酸などを挙げることができる。特にテレ
フタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン
酸が好ましい。また、スルホン酸金属塩基を有す
るジカルボン酸成分としては、５−ナトリウムス
ルホイソフタル酸、５−カリウムスルホイソフタ
ル酸、２−ナトリウムスルホテレフタル酸、２−
カリウムスルホテレフタル酸等が使用可能であ
る。 ポリエステル樹脂を得るためにこの発明におい
て使用するジオール成分としては、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、１，３−プロパ
ンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−
ベンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、
ネオベンチルグリコール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、２，２，４−トリ
メチル−１，３−ベンタンジオール、１，４−シ
クロヘキサンジメタノール、ビスフエノールＡの
エチレンオキサイド付加物、水素化ビスフエノー
ルＡとエチレンオキシド付加物およびプロピレン
オキシド付加物、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリ
コールなどがある。またトリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、グリセリン、ベンタエ
リスリトールなどのトリおよびテトラオールを併
用してもよい。 ポリウレタン樹脂を得るためにこの発明におい
て使用するジイソシアネート成分としては、２，
４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレ
ンジイソシアネート、ｐ−フエニレンジイソシア
ネート、ジフエニルメタンジイソシアネート、ｍ
−フエニレンジイソシアネート、ヘキサンメチレ
ンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシア
ネート、３，3′−ジメトキシ−４，4′−ビフエニ
レンジイソシアネート、２，４−ナフタレンジイ
ソシアネート、３，3′−ジメチル−４，4′−ビフ
エニレンジイソシアネート、４，4′−ジフエニレ
ンジイソシアネート、４，4′−ジイソシアネート
−ジフエニルエーテル、１，３−ナフタレンジイ
ソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネー
ト、ｍ−キシリレンジイソシアネート、１，３−
ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、１，４
−ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、４，
4′−ジイソシアネートジシクロヘキシルメタン、
イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。 塩化ビニル系樹脂を変性してスルホン酸金属塩
基を導入する場合には、塩化ビニル系樹脂として
塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体、塩化ビニル・プロピオン酸ビニル・ビニル
アルコール共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・
マレイン酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル・プロピオン酸ビニル・マレイン酸ビ
ニル・ビニルアルコール共重合体等を用いること
ができる。そしてこれらの塩化ビニル系樹脂に含
まれているビニルアルコールのOH基と、Cl−
CH₂CH₂SO₃M、Cl−SO₃M等の塩素を含むスル
ホン酸金属塩とをジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の極性有機溶媒中でピリジン、
ピコリン、トリエチルアミン等のアミン類、エチ
ルンオキサイド、プロピレンオキサイド等の脱塩
酸剤のもとに反応させればよい。 この発明において、上述の極性基を有する樹脂
は結合剤中に全結合剤成分の30重量％以上含まれ
ているのが好ましく、これより少ないと十分な分
散効果を期待できない。また極性基を有する樹脂
としてはその分子量が50000以下のものが用いら
れる。 さらに、前記樹脂の分子量は好ましくは2000以
上である。これは上記分子量が2000以下である
と、極性塗料を支持体上に形成してから硬化剤を
用いて硬化させる際に未反応分が生じ、低分子量
成分が残存していると研磨塗膜と物性を劣化させ
るからである。更にこの極性基を有する樹脂の分
子量は10000以上であるのが更に好ましい。従つ
てこの分子量の更に好ましい範囲は10000〜50000
である。また、この樹脂に含まれる極性基の量は
極性基の１つあたりの分子量が2000〜50000以上
の範囲であるのが好ましい。これは、50000以上
では分散性の向上が充分期待出来ないし、2000以
下では非極性溶媒にとけにくくなる傾向があるか
らである。 また、研磨塗膜には従来より普及しているクリ
ーニングテープにみられるように潤滑剤等を添加
剤として加えることにより研磨テープの走行の安
定性をさらに得ることができる。また可撓性を有
する非磁性支持体１としては、例えばポリエチレ
ンテレフタレート（PET）、ポリエチレン−２，
６−ナフタレートが使用される。 さらに、研磨塗膜２の厚みは、磁気ヘツド３の
形状、材質にもよるが、この厚みが厚すぎると磁
気ヘツド３と研磨テープの接触が悪くなるので
50μｍ以下にするのが好ましい。 つぎに実施例を挙げてさらに詳細に説明する。 実施例 １ 厚さ12μｍのポリエチレンテレフタレート
（PET）支持体上に下記の組成の塗布液を5μｍの
厚さで塗布して研磨テープを作つた。なお、以下
の説明において部はすべて重量部（固形分重量）
を示す。 塗布液組成 ●Cr₂O₃（粒状、サイズ0.3μ、モース硬度8.5）
……300部 ●塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（共重合比
87：13、重合度350） ……34.7部 ●スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂（分子量
25000−SO₃H １つあたりの分子量25000）
……21部 ●大豆レシチン ……2.4部 ●シリコーン油（ジメチルポリシロキサン）
0.1部 ●ポリイソシアネート（３モルの２，４−トリレ
ンジイソシアネート化合物と１モルのトリメチ
ロールプロパンの反応生成物の75wt％酢酸エ
チル溶液） ……18部 ●メチルエチルケトン ……400部 ●トルエン ……400部 実施例 ２ 実施例１のスルホン酸基含有ポリウレタン樹脂
のかわりに他の樹脂を使用し、他は実施例１と同
様にして研磨テープを作つた。 ●Cr₂O₃（粒状、サイズ0.3μ、モース硬度8.5）
……300部 ●塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（共重合比
87：13、重合度350） ……34.7部 ●カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂（分子量
10000−COOH １つあたりの分子量10000）
……2.4部 ●大豆レシチン ……0.1部 ●シリコーン油（ジメチルポリシロキサン）
……0.1部 ●ポリイソシアネート（３モルの２，４−トリレ
ンジイソシアネート化合物と１モルのトリメチ
ロールプロパンの反応生成物の75wt％酢酸エ
チル溶液） ……18部 ●メチルエチルケトン ……400部 ●トルエン ……400部 比較例 １ 上記実施例に対する比較例として前記実施例と
略同様の支持体上に下記の組成の混合塗布液を塗
布して研磨テープを作つた。なお、本比較例は特
開昭53−102017号公報に開示されたサンプルNo.24
と同様のものである。 塗布液組成 ●ZnO（サイズ120μｍ径、モース硬度4.5）
……300部 ●塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（共重合比
87：13、重合度350） ……34.7部 ●ポリエステルポリオール（アジピン酸１モルと
ジエチレングリコール１モルとトリメチロールプ
ロパン0.06モルの反応生成物粘度（75℃）
1000CP、比重1.18OH価60、酸価＜２） ……21部 ●大豆レシチン ……2.4部 ●シリコーン油（ジメチルポリシロキサン）
……0.1部 ●ポリイソシアネート（３モルの２，４−トリレ
ンジイソシアネート化合物と１モルのトリメチ
ロールプロパンの反応生成物の75wt％酢酸エ
チル溶液） ……18部 ●メチルエチルケトン ……400部 ●トルエン ……400部 比較例 ２ 実施例１において、塗布液の組成を以下のもの
にした以外は、実施例１と同一の条件で研磨テー
プの作つた。 ●Cr₂O₃（粒状、サイズ0.3μ、モース硬度8.5）
……300部 ●塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（共重合比
87：13、重合度350） ……34.7部 ●ポリアミド（富士化成(株)製「トーマイド
225X」） ……30部 ●エポシキ樹脂（シエル(株)製「エピコート1001」）
……７部 ●大豆レシチン ……0.1部 ●シリコーン油（ジメチルポリシロキサン）
……0.1部 ●メチルエチルケトン ……100部 ●キシロール ……100部 ●ブタノール ……20部 比較例 ３ 比較例１の研磨剤のZnO300部をCr₂O₃（粒状、
サイズ0.3μ、モース硬度8.5）300部に替えた以外
は比較例１と同一の条件で研磨テープを作つた。 以上の実施例１、２と比較例１、２、３の各研
磨テープについて、ヘツド研削時間、研削後にお
けるヘツド表面傷の状態を調べその結果を第１表
に示す。

【表】

【表】 前記第１表において、ヘツド研削時間はフエラ
イトヘツド1μｍを研削するのに必要な時間であ
る。またヘツド表面の傷は研削後の磁気ヘツドの
ギヤツプ面を顕微鏡で見て確認された幅2μｍ以
上の傷である。 第１表に示すように、比較例２および比較例３
の研磨テープにおいては、研磨剤粒子が均一に分
散されず、研磨塗膜の表面に研磨剤の凝集粒子が
数多くできるためか、ヘツド研磨時間は少ないも
ののヘツド表面傷はかなり多くなつてしまつた。
このように、比較例１および比較例３における水
酸基や、比較例２におけるアミノ基を極性基とし
て有する樹脂を結合剤に混入しても、充分な効果
は得ることができなかつた。これに対し、本実施
例においては結合剤における分散性が向上し、従
来例と比べ高いモース硬度の研磨剤の使用が可能
となつたため、研削時間が大幅に短くなり研磨効
果が上がつていると共にこのような硬い研磨剤で
研磨しても表面の傷は大幅に減少していることが
わかる。

【図面の簡単な説明】

図面は磁気ヘツドの研磨時における、本発明の
一実施態様による研磨テープの拡大断面図であ
る。 １……非磁性支持体（PET）、２……研磨塗
膜、３……磁気ヘツド。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 研磨剤、結合剤および添加剤を混練した研磨
   塗膜を、可撓性を有する非磁性支持体上に塗着し
   てなる研磨テープにおいて、該結合剤が、側鎖に
   一般式： −SO₃M、−OSO₃M、−OSO₂M、 −COOMおよび【式】 （但し、Ｍ：Ｈ、Li、NaまたはＫ M₁：Ｈ、Li、Na、Ｋまたはアルキル基 M₂：Ｈ、Li、Na、Ｋまたはアルキル基） から成る群より選ばれた少なくとも１種類の極性
   基を有する樹脂を含むことを特徴とする研磨テー
   プ。