JPS62199364A - 研磨テ−プ - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気記録再生装置の磁気ヘッドの研磨に用いる
研磨テープに関し、主として通常の磁気テープと同様に
2つのリール間を走行させて磁気ヘッドの研磨を行なう
研磨テープに関するものである。
研磨テープに関し、主として通常の磁気テープと同様に
2つのリール間を走行させて磁気ヘッドの研磨を行なう
研磨テープに関するものである。
(従来技術)
ビデオ用あるいは8級オーディオ用磁気ヘッド等はテー
プ摺動面の平滑性がとくに要求されるため、一般に磁気
ヘッドを製作する際、粗削りの後この磁気ヘッドを所定
の位置に配し、この磁気ヘッドを挾む2つのリール間に
研磨テープを走行させて磁気ヘッドのテープ摺動面を平
滑に仕上げることが行なわれている。このような研磨テ
ープは非磁性支持体上に薇細な研磨剤(粒子)、結合剤
(バインダ)および潤滑剤等を含む添加剤を塗着したも
のであり、可撓性を有しているので磁気ヘッドのテープ
W!IvJ面の曲面形状になじんでこの面を精密に研磨
仕上することができる。
プ摺動面の平滑性がとくに要求されるため、一般に磁気
ヘッドを製作する際、粗削りの後この磁気ヘッドを所定
の位置に配し、この磁気ヘッドを挾む2つのリール間に
研磨テープを走行させて磁気ヘッドのテープ摺動面を平
滑に仕上げることが行なわれている。このような研磨テ
ープは非磁性支持体上に薇細な研磨剤(粒子)、結合剤
(バインダ)および潤滑剤等を含む添加剤を塗着したも
のであり、可撓性を有しているので磁気ヘッドのテープ
W!IvJ面の曲面形状になじんでこの面を精密に研磨
仕上することができる。
従来このようなテープとしては、例えば、酸化亜鉛(Z
n O)からなる研磨剤と塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体やポリエステルポリオール等からなるバインダとポ
リインシアネート等の硬化剤やシリコーンオイル等の添
加剤とを混練した塗膜を支持体上に塗着したクリーニン
グテープが知られている。(特開昭53102017号
公報)しかしこのようなりリーニングテープでは、研磨
剤の分散性が悪く、研磨剤が固まりとなって一ケ所に集
中してしまうことがあり、研磨面を傷つける原因となっ
ていた。また研磨を目的とする研磨テープは、クリーニ
ングテープよりさらに高いモース高度の、硬い研磨剤を
含有していることが好ましいため、分散性が悪いと一層
傷が多く発生することになる。したがって研磨率の高い
硬い研磨剤を混練しても研磨面に傷を残すこ、となく研
磨することのできる研磨テープが要望されている。
n O)からなる研磨剤と塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体やポリエステルポリオール等からなるバインダとポ
リインシアネート等の硬化剤やシリコーンオイル等の添
加剤とを混練した塗膜を支持体上に塗着したクリーニン
グテープが知られている。(特開昭53102017号
公報)しかしこのようなりリーニングテープでは、研磨
剤の分散性が悪く、研磨剤が固まりとなって一ケ所に集
中してしまうことがあり、研磨面を傷つける原因となっ
ていた。また研磨を目的とする研磨テープは、クリーニ
ングテープよりさらに高いモース高度の、硬い研磨剤を
含有していることが好ましいため、分散性が悪いと一層
傷が多く発生することになる。したがって研磨率の高い
硬い研磨剤を混練しても研磨面に傷を残すこ、となく研
磨することのできる研磨テープが要望されている。
(発明の目的)
本発明は、このような要望に応え、モース高度の高い研
磨剤を混練しても研磨面を傷つけることなく研磨するこ
とのできる研磨テープの提供を目的とするものである。
磨剤を混練しても研磨面を傷つけることなく研磨するこ
とのできる研磨テープの提供を目的とするものである。
(発明の構成)
本発明の研磨テープは、側鎖に極性基を有する樹脂が結
合剤に含有されていることを特徴とする。
合剤に含有されていることを特徴とする。
すなわち前記結合剤には、側鎖に一般式:%式%
(但し、Mは水素原子、リチウム、ナトリウム又はカリ
ウムであり、Ml及びM2はそれぞれ水素原子、リチウ
ム、ナトリウム、カリウムまたはアルキル基である) からなる群より選ばれた少なくとも1種類の極性基を有
する樹脂が含まれる。前記一般式において、アルキル基
は、好ましくは炭素原子数が23以下である直鎖状また
は分校状の飽和脂肪族炭化水素残基であり、例えばトリ
コシル基、トコシル基、コイコシル基、ノナデシル基、
オクタデシル基、へキナデシル基、トリデシル基、ウン
デシル基、デシル基、ノニル基、オクチル基、ヘキシル
基、ペンチル基、ブチル基、t−ブチル基、プロピル基
。
ウムであり、Ml及びM2はそれぞれ水素原子、リチウ
ム、ナトリウム、カリウムまたはアルキル基である) からなる群より選ばれた少なくとも1種類の極性基を有
する樹脂が含まれる。前記一般式において、アルキル基
は、好ましくは炭素原子数が23以下である直鎖状また
は分校状の飽和脂肪族炭化水素残基であり、例えばトリ
コシル基、トコシル基、コイコシル基、ノナデシル基、
オクタデシル基、へキナデシル基、トリデシル基、ウン
デシル基、デシル基、ノニル基、オクチル基、ヘキシル
基、ペンチル基、ブチル基、t−ブチル基、プロピル基
。
イソプロピル基、エチル基、メチル基などが挙げられる
。またMl及びM2は互いに同一であっても互いに異な
っていても差支えない。側鎖にこれらの極性基をもつ樹
脂は優れた分散能をもつため研磨剤を、研磨塗膜内で充
分に分散させた研磨層を得ることが可能となる。
。またMl及びM2は互いに同一であっても互いに異な
っていても差支えない。側鎖にこれらの極性基をもつ樹
脂は優れた分散能をもつため研磨剤を、研磨塗膜内で充
分に分散させた研磨層を得ることが可能となる。
(発明の効果)
本発明による研磨テープは、研磨塗膜内の結合剤が、側
鎖に前記の様な極性基を有する樹脂を少なくとも1種類
は含有するため、研磨剤の分散性が高まり、研磨剤が一
ケ所に固まる(凝集する)ことなく分散される。したが
って、研磨面をむらなく均一に精密研磨することが可能
となり、さらに研磨表面での傷の発生も防止できる。ま
た、このように安定した研磨ができるため従来より高い
モース硬度の研磨効率の高い研磨剤を混練させることが
できる。このため、研削量がアップし同時間内での研削
量があがるため、研削時間の短縮につながり能率を向上
することができる。
鎖に前記の様な極性基を有する樹脂を少なくとも1種類
は含有するため、研磨剤の分散性が高まり、研磨剤が一
ケ所に固まる(凝集する)ことなく分散される。したが
って、研磨面をむらなく均一に精密研磨することが可能
となり、さらに研磨表面での傷の発生も防止できる。ま
た、このように安定した研磨ができるため従来より高い
モース硬度の研磨効率の高い研磨剤を混練させることが
できる。このため、研削量がアップし同時間内での研削
量があがるため、研削時間の短縮につながり能率を向上
することができる。
(実施態様)
以下、本発明の実施H様について詳細に説明する。
本発明の実施態様による研磨テープは、図面に示すよう
に可撓性を有する非磁性支持体1と、この支持体1上に
形成された塗布層2から構成されている。研磨層ll!
2は、研磨剤と、結合剤(バインダ)と、潤滑剤等を含
む添加剤とを混練して形成したものである。
に可撓性を有する非磁性支持体1と、この支持体1上に
形成された塗布層2から構成されている。研磨層ll!
2は、研磨剤と、結合剤(バインダ)と、潤滑剤等を含
む添加剤とを混練して形成したものである。
磁気ヘッド3のテープ摺動面を研磨づ゛る際は、磁気ヘ
ッド3を挾む2つの位置に配されたリール(図示されて
いない)の一方から使方へこの研磨テープを定速で走行
させ、磁気ヘッド3に研磨層WA2を摺動させる。この
とき研磨塗膜2表面から突出した硬い研磨剤により、磁
気ヘッド3のテープ摺動面が平滑にv1磨される。この
研磨剤はその目的に応じて粒子径を調節すればよく、例
えば荒仕上であれば16μTrL〜1μ而程度、最終仕
上であれば1μTrL〜0.1μπ程度の粒子径とすれ
ばよい。
ッド3を挾む2つの位置に配されたリール(図示されて
いない)の一方から使方へこの研磨テープを定速で走行
させ、磁気ヘッド3に研磨層WA2を摺動させる。この
とき研磨塗膜2表面から突出した硬い研磨剤により、磁
気ヘッド3のテープ摺動面が平滑にv1磨される。この
研磨剤はその目的に応じて粒子径を調節すればよく、例
えば荒仕上であれば16μTrL〜1μ而程度、最終仕
上であれば1μTrL〜0.1μπ程度の粒子径とすれ
ばよい。
また、ここで研磨剤は、モース硬度6以上のもので、従
来のクリーニングテープに使用されていたものより硬い
ものを使用することが好ましい。
来のクリーニングテープに使用されていたものより硬い
ものを使用することが好ましい。
例えば酸化クロム(C「203)、モースlf!度8.
5等が好ましい。
5等が好ましい。
前記研磨剤は、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、
塩化ビニル系樹脂に一803M等の極性基を導入したも
のを結合剤中に混練させることにより分散される。これ
らの樹脂は種々の方法で得ることができるが、ポリエス
テルの出発材料の1つとしてジカルボン酸成分の一部に
スルホン鍍金Wj4塩基を有するものを用い、これをス
ルホン酸金属塩基を有しないジカルボン酸及びジオール
と共に縮合反応させて得る方法(ポリエステル樹脂)、
あるいはこれらの4種類のポリエステル樹脂の出発材料
とジイソシアネートとを用いて縮合反応及び付加反応さ
せて得る方法(ポリウレタン樹脂)、更にポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル系樹脂に含まれて
いる活性水素基と、C応CH2CH2SO3M、C9,
CH2CH20802M、 CQ、 CHz
C00M 、(0M2) C9,CH2P (OMt) 等の塩素を含有する化合物との脱塩酸反応により極性基
を導入する方法が考えられる。
塩化ビニル系樹脂に一803M等の極性基を導入したも
のを結合剤中に混練させることにより分散される。これ
らの樹脂は種々の方法で得ることができるが、ポリエス
テルの出発材料の1つとしてジカルボン酸成分の一部に
スルホン鍍金Wj4塩基を有するものを用い、これをス
ルホン酸金属塩基を有しないジカルボン酸及びジオール
と共に縮合反応させて得る方法(ポリエステル樹脂)、
あるいはこれらの4種類のポリエステル樹脂の出発材料
とジイソシアネートとを用いて縮合反応及び付加反応さ
せて得る方法(ポリウレタン樹脂)、更にポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル系樹脂に含まれて
いる活性水素基と、C応CH2CH2SO3M、C9,
CH2CH20802M、 CQ、 CHz
C00M 、(0M2) C9,CH2P (OMt) 等の塩素を含有する化合物との脱塩酸反応により極性基
を導入する方法が考えられる。
ポリエステル樹脂を得るためにこの発明において使用す
るスルホン酸金属塩基を有しないカルボン酸成分として
は、テレフタル酸、イソフタル酸。
るスルホン酸金属塩基を有しないカルボン酸成分として
は、テレフタル酸、イソフタル酸。
オルソフタル酸、1.5−ナフタル酸などの芳香族ジカ
ルボン酸、p−オキシ安息香酸、 p −(、ヒドロキ
シエトキシ)安息香酸などの芳香族オキシカルボン酸、
コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ド
デカンジカルボン酸などの脂肪族ジカルボン酸、トリメ
リット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などのトリお
よびテトラカルボン酸などを挙げることができる。特に
テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸
が好ましい。また、スルホン酸金属塩基を有するジカル
ボン酸成分としては、5−・ナトリウムスルホイソフタ
ル酸、5−カリウムスルホイソフタル酸。
ルボン酸、p−オキシ安息香酸、 p −(、ヒドロキ
シエトキシ)安息香酸などの芳香族オキシカルボン酸、
コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ド
デカンジカルボン酸などの脂肪族ジカルボン酸、トリメ
リット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などのトリお
よびテトラカルボン酸などを挙げることができる。特に
テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸
が好ましい。また、スルホン酸金属塩基を有するジカル
ボン酸成分としては、5−・ナトリウムスルホイソフタ
ル酸、5−カリウムスルホイソフタル酸。
2−ナトリウムスルボテレフタル酸、2−カリウムスル
ホテレフタル酸等が使用可能である。
ホテレフタル酸等が使用可能である。
ポリエステル樹脂を得るためにこの発明において使用す
るジオール成分としては、エチレングリコール、ブOピ
レングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−
ブタンジオール、1.5−ベンタンジオール、1,6−
ヘキサンジオール。
るジオール成分としては、エチレングリコール、ブOピ
レングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−
ブタンジオール、1.5−ベンタンジオール、1,6−
ヘキサンジオール。
ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール。
ジプロピレングリコール、2.2.4−トリメチル−1
,3−ベンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメ
タツール、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加
物、水素化ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物
およびプロピレンオキシド付加物、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレン
グリコールなどがある。またトリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリ]
・−ルなどのトリおよびテトラオールを併用してもよい
。
,3−ベンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメ
タツール、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加
物、水素化ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物
およびプロピレンオキシド付加物、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレン
グリコールなどがある。またトリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリ]
・−ルなどのトリおよびテトラオールを併用してもよい
。
ポリウレタン樹脂を得るためにこの発明において使用す
るジイソシアネート成分としては、2゜4−トリレンジ
イソシアネート、2.6−トリレンジイソシアネート、
p−フェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジ
イソシアネート、ll1−フェニレンジイソシアネート
、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジ
イソシアネi−,3,3’−ジメトキシ−4,4′−ビ
フェニレンジイソシアネート、2.4−ナフタレンジイ
ソシアネート、3.3’−ジメチル−4,4′−ビフェ
ニレンジイソシアネート、4.4’ −ジフェニレンジ
イソシアネート、4.4’ −ジイソシアネート−ジフ
ェニルエーテル、1,3−ナフタレンジイソシアネート
、p−キシリレンジイソシアネート、 m −羊シリレ
ンジイソシアネート。
るジイソシアネート成分としては、2゜4−トリレンジ
イソシアネート、2.6−トリレンジイソシアネート、
p−フェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジ
イソシアネート、ll1−フェニレンジイソシアネート
、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジ
イソシアネi−,3,3’−ジメトキシ−4,4′−ビ
フェニレンジイソシアネート、2.4−ナフタレンジイ
ソシアネート、3.3’−ジメチル−4,4′−ビフェ
ニレンジイソシアネート、4.4’ −ジフェニレンジ
イソシアネート、4.4’ −ジイソシアネート−ジフ
ェニルエーテル、1,3−ナフタレンジイソシアネート
、p−キシリレンジイソシアネート、 m −羊シリレ
ンジイソシアネート。
1.3−ジイソシアネートメチルシクロヘキサン。
1.4−ジイソシアネートメチルシクロヘキサン。
4.4′−ジイソシアネートジシクロヘキシルメタン、
イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。
イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。
塩化ビニル系樹脂を変性してスルホン酸金属塩基を導入
する場合には、塩化ビニル系樹脂として塩化ビニル・酢
酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル・プ
ロピオン酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニル・酢酸ビニル・マレイン酸ビニル・ビニルアルコー
ル共重合体、塩化ビニル・プロピオン酸ビニル・マレイ
ン酸ビニル・ビニルアルコール共重合体等を用いること
ができる。そしてこれらの塩化ビニル系樹脂に含まれて
いるビニルアルコールのOHMと、ci−C112CH
2803M%C9,803M等の塩素を含むスルホン酸
金属塩とをジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の極性有機溶媒中でピリジン、ピコリン、トリエチ
ルアミン等のアミン類、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド等の脱塩酸剤のもとに反応させればよい。
する場合には、塩化ビニル系樹脂として塩化ビニル・酢
酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル・プ
ロピオン酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニル・酢酸ビニル・マレイン酸ビニル・ビニルアルコー
ル共重合体、塩化ビニル・プロピオン酸ビニル・マレイ
ン酸ビニル・ビニルアルコール共重合体等を用いること
ができる。そしてこれらの塩化ビニル系樹脂に含まれて
いるビニルアルコールのOHMと、ci−C112CH
2803M%C9,803M等の塩素を含むスルホン酸
金属塩とをジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の極性有機溶媒中でピリジン、ピコリン、トリエチ
ルアミン等のアミン類、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド等の脱塩酸剤のもとに反応させればよい。
この発明において、上述の極性基を有する樹脂は結合剤
中に全結合剤成分の30重mm以上含まれているのが好
ましく、これより少ないと十分な分散効果を期待できな
い。また極性基を有する樹脂としてはその分子量がso
、ooo以下のものが用いられる。
中に全結合剤成分の30重mm以上含まれているのが好
ましく、これより少ないと十分な分散効果を期待できな
い。また極性基を有する樹脂としてはその分子量がso
、ooo以下のものが用いられる。
さらに、前記樹脂の分子量は好ましくは2,000以上
である。これは上記分子量が2 、000以下であると
、極性塗料を支持体上に形成してから硬化剤を用いて硬
化させる際に未反応分が生じ、低分子m成分が残存して
いると研磨1膜の物性を劣化させるからである。更にこ
の極性基を有する樹脂の°分子量は10.000以上で
あるのが更に好ましい。従ってこの分子量の更に好まし
い範囲はio、ooo〜50.000で°ある。また、
この樹脂に含まれる極性基の苗は極性11つあたりの分
子量が2 、000〜50,000以上の範囲であるの
が好ましい。これは、so、oo。
である。これは上記分子量が2 、000以下であると
、極性塗料を支持体上に形成してから硬化剤を用いて硬
化させる際に未反応分が生じ、低分子m成分が残存して
いると研磨1膜の物性を劣化させるからである。更にこ
の極性基を有する樹脂の°分子量は10.000以上で
あるのが更に好ましい。従ってこの分子量の更に好まし
い範囲はio、ooo〜50.000で°ある。また、
この樹脂に含まれる極性基の苗は極性11つあたりの分
子量が2 、000〜50,000以上の範囲であるの
が好ましい。これは、so、oo。
以上では分散性の向上が充分期待出来ないし、2.00
0以下では非極性溶媒にとけにくくなる傾向があるから
である。
0以下では非極性溶媒にとけにくくなる傾向があるから
である。
また、研磨塗膜には従来より普及しているクリーニング
テープにみられるようにl11滑剤等を添加剤として加
えるこ・とにより研磨テープの走行の安定性をさらに得
ることができる。また可撓性を有する非磁性支持体1と
しては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)
、ポリエチレン−2゜6−ナフタレートが使用される。
テープにみられるようにl11滑剤等を添加剤として加
えるこ・とにより研磨テープの走行の安定性をさらに得
ることができる。また可撓性を有する非磁性支持体1と
しては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)
、ポリエチレン−2゜6−ナフタレートが使用される。
さらに、研磨塗1!2の厚みは、磁気ヘッド3の形状、
材質にもよるが、この厚みが厚すぎると磁気ヘッド3と
研磨テープの接触が悪くなるので50μm以下にするの
が好ましい。
材質にもよるが、この厚みが厚すぎると磁気ヘッド3と
研磨テープの接触が悪くなるので50μm以下にするの
が好ましい。
つぎに実施例を挙げてさらに詳細に説明する。
実施例1
厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)
支持体上に下記の組成の塗布液を5μmの厚さで塗布し
て研磨テープを作った。なお、以下の説明において部は
すべて?!!m部(固形分型!!&)を示す。
支持体上に下記の組成の塗布液を5μmの厚さで塗布し
て研磨テープを作った。なお、以下の説明において部は
すべて?!!m部(固形分型!!&)を示す。
塗布液組成
°Cr2O3・・・・・・ 300部
(粒状、サイズ0.3μ、モース硬度8.5)・塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体・・・・・・・・・34.7
部(共重合比87:13.ffi合度350)・スルホ
ン酸基含有ポリウレタン樹脂・・・・・・・・・21部
(分子量25,000 一803H’1つあたりの分子f1125,000)・
大豆レシチン ・・・・・・2.4
部・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・・・
・18部(3モルの2.4−トリレンジイソシアネート
化合物と1モルのトリメチロー ルプロパンの反応生成物の75wt%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・40
0部・トルエン ・・・・
・・ 400部実施例2 実施例1のスルホンlI!基含有ポリウレタン樹脂のか
わりに他の樹脂を使用し、他は実施例1と同様にして研
磨テープを作った。
ニル−酢酸ビニル共重合体・・・・・・・・・34.7
部(共重合比87:13.ffi合度350)・スルホ
ン酸基含有ポリウレタン樹脂・・・・・・・・・21部
(分子量25,000 一803H’1つあたりの分子f1125,000)・
大豆レシチン ・・・・・・2.4
部・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・・・
・18部(3モルの2.4−トリレンジイソシアネート
化合物と1モルのトリメチロー ルプロパンの反応生成物の75wt%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・40
0部・トルエン ・・・・
・・ 400部実施例2 実施例1のスルホンlI!基含有ポリウレタン樹脂のか
わりに他の樹脂を使用し、他は実施例1と同様にして研
磨テープを作った。
・C「203 ・・・・・
・ 300部(粒状、サイズ0.3μ9モ一ス硬度8.
5)・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体・・・・・・・
・・34.7部(共重合比87 : 13.重合度35
0)・カルボキシル基含有ポリウレタン@脂・・・2.
4部(分子量10,000 −COOI−11−)アタF)(7)分子ff1lO,
000)・大豆レシチン ・・・
0.1部・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)・
・・・・・0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・・・
・18部(3モルの2.4−1−リレンジイソシアネー
ト化合物と1モルのトリメチロー ルプロパンの反応生成物の75wt%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・40
0部・トルエン ・・・・
・・ 400部比較例1 上記実施例に対する比較例として前記実施例と略同様の
支持体上に下記の組成の混合塗布液を塗布して研磨テー
プを作った。なお、本比較例は特開昭53−10201
γ号公報に開示されたサンプルNQ24と同様のもので
ある。
・ 300部(粒状、サイズ0.3μ9モ一ス硬度8.
5)・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体・・・・・・・
・・34.7部(共重合比87 : 13.重合度35
0)・カルボキシル基含有ポリウレタン@脂・・・2.
4部(分子量10,000 −COOI−11−)アタF)(7)分子ff1lO,
000)・大豆レシチン ・・・
0.1部・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)・
・・・・・0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・・・
・18部(3モルの2.4−1−リレンジイソシアネー
ト化合物と1モルのトリメチロー ルプロパンの反応生成物の75wt%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・40
0部・トルエン ・・・・
・・ 400部比較例1 上記実施例に対する比較例として前記実施例と略同様の
支持体上に下記の組成の混合塗布液を塗布して研磨テー
プを作った。なお、本比較例は特開昭53−10201
γ号公報に開示されたサンプルNQ24と同様のもので
ある。
塗布液組成
・ZnO・・・・・・ 300部
(サイズ120μm径、モース硬度4.5)・塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体・・・・・・・・・34.7部
(共重合比87:13.重合度350)・ポリエステル
ポリオール ・・・・・・21部(アジピン
w11モルとジエチレングリコール1モルとトリメチロ
ールプロ パン0.06モルの反応生成物 粘度(75℃) 1oooc p 、比重1.18oH
価60、酸価く2) ・大豆レシチン ・・・2.4部
・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)・・・・・
・0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・・・
」18部(3モルの2.4−トリレンジイソシアネート
化合物と1モルのトリメチロー ルプロパンの反応生成物の75wt%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・40
0部・トルエン ・・・・
・・ 400部以上の実施例1.2と比較例1の各研磨
テープについて、ヘッド研削時間、rIFl削後にお(
プるヘッド表面傷の状態を調べその結果を第1表に示す
。
ル−酢酸ビニル共重合体・・・・・・・・・34.7部
(共重合比87:13.重合度350)・ポリエステル
ポリオール ・・・・・・21部(アジピン
w11モルとジエチレングリコール1モルとトリメチロ
ールプロ パン0.06モルの反応生成物 粘度(75℃) 1oooc p 、比重1.18oH
価60、酸価く2) ・大豆レシチン ・・・2.4部
・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)・・・・・
・0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・・・
」18部(3モルの2.4−トリレンジイソシアネート
化合物と1モルのトリメチロー ルプロパンの反応生成物の75wt%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・40
0部・トルエン ・・・・
・・ 400部以上の実施例1.2と比較例1の各研磨
テープについて、ヘッド研削時間、rIFl削後にお(
プるヘッド表面傷の状態を調べその結果を第1表に示す
。
前記第1表において、ヘッド研削時間はフェライトヘッ
ド1μmを研削するのに必要な時間である。またヘッド
表面の傷はrIII削後の磁気ヘッドのギャップ面を顕
微鏡で見て確認された幅2部風以上の傷である。
ド1μmを研削するのに必要な時間である。またヘッド
表面の傷はrIII削後の磁気ヘッドのギャップ面を顕
微鏡で見て確認された幅2部風以上の傷である。
第1表から、本実施例においては結合剤における分散性
が向上し、従来例と比べ高いモース硬度の研磨剤の使用
が可能となったため、研削時間が大幅に短くなり研磨効
率が上がっていると共にこのような硬い研磨剤で研磨し
ても表面の傷は大幅に減少していることがわかる。
が向上し、従来例と比べ高いモース硬度の研磨剤の使用
が可能となったため、研削時間が大幅に短くなり研磨効
率が上がっていると共にこのような硬い研磨剤で研磨し
ても表面の傷は大幅に減少していることがわかる。
図面は磁気ヘッドの研磨時における、本発明の一実施態
様による研磨テープの拡大断面図である。 1・・・非磁性支持体(PET) 2・・・研磨塗III 3・・・磁気ヘッド
(自 発)手続ネ甫正書 特許庁長官 殿 昭和61年11月
18日2、発明の名称 研磨テープ 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称
富士写真フィルム株式会社4、代理人 〒160東京都港区六本木5−2−1 はうらいやビル 7階 四(479) 2367(73
18)弁理士 柳 1)征 史 (ばか2名)5、補正
命令の日付 な し 6、補正により増加する発明の数 な し7、補
正の対象 明18書の「発明の詳細な説明」の欄8、
補正の内容 1)明細書第7頁第5〜6行
様による研磨テープの拡大断面図である。 1・・・非磁性支持体(PET) 2・・・研磨塗III 3・・・磁気ヘッド
(自 発)手続ネ甫正書 特許庁長官 殿 昭和61年11月
18日2、発明の名称 研磨テープ 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称
富士写真フィルム株式会社4、代理人 〒160東京都港区六本木5−2−1 はうらいやビル 7階 四(479) 2367(73
18)弁理士 柳 1)征 史 (ばか2名)5、補正
命令の日付 な し 6、補正により増加する発明の数 な し7、補
正の対象 明18書の「発明の詳細な説明」の欄8、
補正の内容 1)明細書第7頁第5〜6行
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 研磨剤、結合剤および添加剤を混練した研磨塗膜を、可
撓性を有する非磁性支持体上に塗着してなる研磨テープ
において、該結合剤が、側鎖に一般式: −SO_3M、−OSO_3M、−OSO_2M、−C
OOMおよび▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、M:H、Li、NaまたはK M_1:H、Li、Na、Kまたはアルキル基M_2:
H、Li、Na、Kまたはアルキル基)から成る群より
選ばれた少なくとも1種類の極性基を有する樹脂を含む
ことを特徴とする研磨テープ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61042742A JPS62199364A (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | 研磨テ−プ |
US07/020,842 US4822672A (en) | 1986-02-27 | 1987-02-27 | Abasive tape |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61042742A JPS62199364A (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | 研磨テ−プ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62199364A true JPS62199364A (ja) | 1987-09-03 |
JPH0545395B2 JPH0545395B2 (ja) | 1993-07-09 |
Family
ID=12644469
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61042742A Granted JPS62199364A (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | 研磨テ−プ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4822672A (ja) |
JP (1) | JPS62199364A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5199227A (en) * | 1989-12-20 | 1993-04-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Surface finishing tape |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5271964A (en) * | 1991-06-26 | 1993-12-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for manufacturing abrasive tape |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53102017A (en) * | 1977-02-18 | 1978-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Cleaning tape |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4047232A (en) * | 1971-04-20 | 1977-09-06 | Sony Corporation | Leader tape |
JPS6037969B2 (ja) * | 1976-09-06 | 1985-08-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気テ−プ用リ−ダ−またはトレ−ラ−テ−プ |
JPS5522239A (en) * | 1978-08-02 | 1980-02-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Leader or trailer tape |
JPS578917A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-18 | Tdk Corp | Cleaning tape for magnetic recorder |
JPS5712411A (en) * | 1980-06-24 | 1982-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Cleaning tape |
JPS595424A (ja) * | 1982-07-01 | 1984-01-12 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0736210B2 (ja) * | 1985-05-15 | 1995-04-19 | 富士写真フイルム株式会社 | クリ−ニングテ−プ |
-
1986
- 1986-02-27 JP JP61042742A patent/JPS62199364A/ja active Granted
-
1987
- 1987-02-27 US US07/020,842 patent/US4822672A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53102017A (en) * | 1977-02-18 | 1978-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Cleaning tape |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5199227A (en) * | 1989-12-20 | 1993-04-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Surface finishing tape |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0545395B2 (ja) | 1993-07-09 |
US4822672A (en) | 1989-04-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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